JPH1021537A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH1021537A JPH1021537A JP17350496A JP17350496A JPH1021537A JP H1021537 A JPH1021537 A JP H1021537A JP 17350496 A JP17350496 A JP 17350496A JP 17350496 A JP17350496 A JP 17350496A JP H1021537 A JPH1021537 A JP H1021537A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 製膜工程前に表面加工処理を有する磁気
記録媒体の製造方法において、表面加工処理後の基板表
面の接触角が８５度以下になるように制御する。 【効果】 データの書き込み／読み出しエラーの少ない
磁気記録媒体が実現できる。
記録媒体の製造方法において、表面加工処理後の基板表
面の接触角が８５度以下になるように制御する。 【効果】 データの書き込み／読み出しエラーの少ない
磁気記録媒体が実現できる。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製
造方法に関し、特にその表面加工処理工程を有する磁気
記録媒体の製造方法に関する。
造方法に関し、特にその表面加工処理工程を有する磁気
記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】非磁性基板上に磁性層が設けられた磁気
記録媒体は、磁気ディスク装置に組み込まれ、コンピュ
ータ装置の外部記憶手段として広く用いられている。こ
のような磁気記録媒体においては、磁性層の異方性制御
や記録再生ヘッドの貼り付き（吸着）防止を目的とし
て、テキスチャ加工と呼ばれる表面加工処理が行われる
ことが多い。
記録媒体は、磁気ディスク装置に組み込まれ、コンピュ
ータ装置の外部記憶手段として広く用いられている。こ
のような磁気記録媒体においては、磁性層の異方性制御
や記録再生ヘッドの貼り付き（吸着）防止を目的とし
て、テキスチャ加工と呼ばれる表面加工処理が行われる
ことが多い。
【０００３】テキスチャ加工は基板表面に微少な凹凸を
形成する処理であるが、その加工方法及び加工パターン
については従来多くの検討がなされている。すなわち、
加工方法としては遊離砥粒を用いる方法、砥粒が塗布さ
れた研磨テープを用いる方法が、加工パターンとしては
同心円状のもの、交差するものなどをそれぞれ挙げるこ
とができる。そしてこのような検討の結果、加工方法や
加工パターン、凹凸の大きさが最終的な磁気記録媒体の
特性に影響を与えることが判明している。
形成する処理であるが、その加工方法及び加工パターン
については従来多くの検討がなされている。すなわち、
加工方法としては遊離砥粒を用いる方法、砥粒が塗布さ
れた研磨テープを用いる方法が、加工パターンとしては
同心円状のもの、交差するものなどをそれぞれ挙げるこ
とができる。そしてこのような検討の結果、加工方法や
加工パターン、凹凸の大きさが最終的な磁気記録媒体の
特性に影響を与えることが判明している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな表面加工処理後、磁性層等の薄膜をスパッタリング
するまでの過程における基板の表面状態と、磁気記録媒
体の特性との関係についてはこれまで検討されておら
ず、製造ラインの配置や、製造日程などの要因により決
まる状態になっていた。
うな表面加工処理後、磁性層等の薄膜をスパッタリング
するまでの過程における基板の表面状態と、磁気記録媒
体の特性との関係についてはこれまで検討されておら
ず、製造ラインの配置や、製造日程などの要因により決
まる状態になっていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は表面加工処理
後の基板表面状態と磁気記録媒体のデータ欠陥との間に
関係があることを見いだした。そして表面状態の中でも
特に接触角の大きさが関係することを突き止め、本発明
に到達した。
後の基板表面状態と磁気記録媒体のデータ欠陥との間に
関係があることを見いだした。そして表面状態の中でも
特に接触角の大きさが関係することを突き止め、本発明
に到達した。
【０００６】すなわち、本発明の要旨は、非磁性基板上
に少なくとも磁性層が設けられる磁気記録媒体の製造方
法であって、製膜処理前に表面加工処理工程を含み、か
つこの表面加工処理後の基板表面における純水接触角が
８５°以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法にある。
に少なくとも磁性層が設けられる磁気記録媒体の製造方
法であって、製膜処理前に表面加工処理工程を含み、か
つこの表面加工処理後の基板表面における純水接触角が
８５°以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法にある。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明につき詳細に説明す
る。本発明において、非磁性基板としては、通常、シリ
コン基板、アルミニウム合金板またはガラス基板が用い
られるが、銅、チタン等の金属基板、セラミック基板、
樹脂基板等を用いることもできる。
る。本発明において、非磁性基板としては、通常、シリ
コン基板、アルミニウム合金板またはガラス基板が用い
られるが、銅、チタン等の金属基板、セラミック基板、
樹脂基板等を用いることもできる。
【０００８】基板上には通常下地層が設けられる。下地
層は、通常、非磁性体からなり、好ましくはＮｉＰ合金
層であり、通常、無電解メッキ法またはスパッタ法によ
り形成される。また、その厚みは、好ましくは５０〜２
０，０００ｎｍ、特に好ましくは１００〜１５，０００
ｎｍである。本発明でいう基板は、これら下地層を設け
た状態のものを指す。
層は、通常、非磁性体からなり、好ましくはＮｉＰ合金
層であり、通常、無電解メッキ法またはスパッタ法によ
り形成される。また、その厚みは、好ましくは５０〜２
０，０００ｎｍ、特に好ましくは１００〜１５，０００
ｎｍである。本発明でいう基板は、これら下地層を設け
た状態のものを指す。
【０００９】表面加工処理は薄膜を堆積させる前に行
う。加工方法は遊離砥粒を用いる方法、砥粒が塗布され
た研磨テープを用いる方法など、いかなる方法でも良
い。また、処理前と処理後の表面粗さの大小関係も問わ
ない。すなわち、処理前よりも平滑に研磨する場合であ
っても、表面を粗くする場合でも良い。さらに、加工パ
ターンについても同心円状、交差状など、任意である。
う。加工方法は遊離砥粒を用いる方法、砥粒が塗布され
た研磨テープを用いる方法など、いかなる方法でも良
い。また、処理前と処理後の表面粗さの大小関係も問わ
ない。すなわち、処理前よりも平滑に研磨する場合であ
っても、表面を粗くする場合でも良い。さらに、加工パ
ターンについても同心円状、交差状など、任意である。
【００１０】下地層と磁性層の間には、Ｃｒ層、あるい
はＣｕ層等の中間層を設けるのが好ましく、その膜厚
は、通常、２０〜２００ｎｍ、好ましくは５０〜１００
ｎｍである。
はＣｕ層等の中間層を設けるのが好ましく、その膜厚
は、通常、２０〜２００ｎｍ、好ましくは５０〜１００
ｎｍである。
【００１１】磁性層は、無電解メッキ、電気メッキ、ス
パッタ、蒸着等の方法によって形成され、Ｃｏ−Ｐ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ、
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔ
ａ−Ｐｔ系合金等の強磁性合金薄膜が形成され、その膜
厚は通常３０〜７０ｎｍ程度である。
パッタ、蒸着等の方法によって形成され、Ｃｏ−Ｐ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ、
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔ
ａ−Ｐｔ系合金等の強磁性合金薄膜が形成され、その膜
厚は通常３０〜７０ｎｍ程度である。
【００１２】この磁性層上には必要に応じて保護層が設
けられるが、保護層としては蒸着、スパッタ、プラズマ
ＣＶＤ、イオンプレーティング、湿式法等の方法によ
り、炭素膜、水素化カーボン膜、ＴｉＣ、ＳｉＣ等の炭
化物膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜、ＳｉＯ、ＡｌＯ、
ＺｒＯ等の酸化物膜等が成膜される。これらのうち、特
に好ましくは、炭素膜、水素化カーボン膜である。ま
た、保護層上には通常、潤滑剤層が設けられる。
けられるが、保護層としては蒸着、スパッタ、プラズマ
ＣＶＤ、イオンプレーティング、湿式法等の方法によ
り、炭素膜、水素化カーボン膜、ＴｉＣ、ＳｉＣ等の炭
化物膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜、ＳｉＯ、ＡｌＯ、
ＺｒＯ等の酸化物膜等が成膜される。これらのうち、特
に好ましくは、炭素膜、水素化カーボン膜である。ま
た、保護層上には通常、潤滑剤層が設けられる。
【００１３】本発明による製造方法においては、表面加
工処理後の基板の接触角が８５度以下であることを特徴
とする。基板の接触角は表面の洗浄度合いに大きく影響
を受けるため、接触角を８５度以下にするためには、表
面加工処理後の基板洗浄方法を考慮する必要がある。
工処理後の基板の接触角が８５度以下であることを特徴
とする。基板の接触角は表面の洗浄度合いに大きく影響
を受けるため、接触角を８５度以下にするためには、表
面加工処理後の基板洗浄方法を考慮する必要がある。
【００１４】具体的には、洗浄能力の高い洗剤を用い
る、洗浄液の温度を上げる、洗浄の時間を延ばす、スク
ラブを用いて洗浄する等、洗浄の度合いを高めると接触
角は小さくなる。
る、洗浄液の温度を上げる、洗浄の時間を延ばす、スク
ラブを用いて洗浄する等、洗浄の度合いを高めると接触
角は小さくなる。
【００１５】接触角が８５度を超えると、表面加工処理
後の製膜工程に至るまでに基板表面が乾燥しやすくな
る。乾燥した部分には汚れが集まって固着し、落ちにく
くなる。このような汚れが固着した部分は、製膜後の剥
離原因となる。よって本発明においては接触角を８５度
以下とすることにより、搬送中に基板が乾燥することを
防ぎ、ひいては欠陥の少ない磁気記録媒体を実現してい
る。
後の製膜工程に至るまでに基板表面が乾燥しやすくな
る。乾燥した部分には汚れが集まって固着し、落ちにく
くなる。このような汚れが固着した部分は、製膜後の剥
離原因となる。よって本発明においては接触角を８５度
以下とすることにより、搬送中に基板が乾燥することを
防ぎ、ひいては欠陥の少ない磁気記録媒体を実現してい
る。
【００１６】
【実施例】直径３．５インチのアルミニウム合金板にＮ
ｉ−Ｐメッキを施し、鏡面研磨後洗浄した基板を２４枚
用意した。次に、日立電子エンジニアリング社製テキス
チャーマシンを用い、ゴムローラーにより基板の両面に
ＭＩＰＯＸ社製アルミナテープ（商品名WA8000SFOY）を
押しつけ、クーラントを滴下しながら平均表面粗さが５
０Å程度となるように表面加工処理を行った。
ｉ−Ｐメッキを施し、鏡面研磨後洗浄した基板を２４枚
用意した。次に、日立電子エンジニアリング社製テキス
チャーマシンを用い、ゴムローラーにより基板の両面に
ＭＩＰＯＸ社製アルミナテープ（商品名WA8000SFOY）を
押しつけ、クーラントを滴下しながら平均表面粗さが５
０Å程度となるように表面加工処理を行った。
【００１７】次に、表１に示す条件で基板を洗浄し、接
触角の異なるサンプルを４枚ずつ製造した。
触角の異なるサンプルを４枚ずつ製造した。
【００１８】
【表１】
【００１９】これらサンプルにおいて、接触角は協和界
面科学株式会社製 ＦＡＣＥ接触角計ＣＡ−Ｓ１５０型
を用い、純水による液適法で測定した。
面科学株式会社製 ＦＡＣＥ接触角計ＣＡ−Ｓ１５０型
を用い、純水による液適法で測定した。
【００２０】次に、実施例及び比較例で得られた基板上
にスパッタリング法によってＣｒ下地層（１０００
Å）、ＣｏＣｒＴａ磁性膜（５００Å）、カーボン保護
膜（２００Å）を順に製膜し、さらに保護層上に潤滑剤
を塗布して磁気ディスクを製造した。得られた磁気ディ
スクに対し、表面欠陥個数（ＣＭ個数）を以下の方法で
評価した。
にスパッタリング法によってＣｒ下地層（１０００
Å）、ＣｏＣｒＴａ磁性膜（５００Å）、カーボン保護
膜（２００Å）を順に製膜し、さらに保護層上に潤滑剤
を塗布して磁気ディスクを製造した。得られた磁気ディ
スクに対し、表面欠陥個数（ＣＭ個数）を以下の方法で
評価した。
【００２１】Guzik社製テスター RWA501型 回転数 ５５００ｒｐｍ テストヘッド 薄膜ヘッド(G.W.=5μｍ） テストピッチ ５．０μｍ ミッシングスライス ７０％ 周波数 ゾーンビットにて１３．７〜２３．７ＭＨ
ｚで実施 各実施例及び比較例につき評価結果を表２に示す。
ｚで実施 各実施例及び比較例につき評価結果を表２に示す。
【００２２】
【表２】
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による磁気
記録媒体の製造方法によれば、テキスチャ加工後の基板
の接触角を特定範囲に制御することにより、欠陥の少な
い磁気記録媒体を実現できるという効果を有する。
記録媒体の製造方法によれば、テキスチャ加工後の基板
の接触角を特定範囲に制御することにより、欠陥の少な
い磁気記録媒体を実現できるという効果を有する。
Claims (1)
- 【請求項１】 非磁性基板上に少なくとも磁性層が設け
られる磁気記録媒体の製造方法であって、製膜工程前に
表面加工処理工程を含み、かつこの表面加工処理後の基
板表面における純水接触角が８５°以下であることを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17350496A JPH1021537A (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17350496A JPH1021537A (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1021537A true JPH1021537A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=15961756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17350496A Pending JPH1021537A (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1021537A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001286835A (ja) * | 2000-04-10 | 2001-10-16 | Jeol Ltd | 洗浄装置 |
-
1996
- 1996-07-03 JP JP17350496A patent/JPH1021537A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001286835A (ja) * | 2000-04-10 | 2001-10-16 | Jeol Ltd | 洗浄装置 |
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