JPH10216697A - 脱臭剤 - Google Patents
脱臭剤Info
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- JPH10216697A JPH10216697A JP9021516A JP2151697A JPH10216697A JP H10216697 A JPH10216697 A JP H10216697A JP 9021516 A JP9021516 A JP 9021516A JP 2151697 A JP2151697 A JP 2151697A JP H10216697 A JPH10216697 A JP H10216697A
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- acid
- deodorant
- hydrogen sulfide
- peroxide
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- Treatment Of Sludge (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】硫化水素、メルカプタン類の一種類以上の臭気
を含む廃水、汚泥を少量で効果的に脱臭する脱臭剤組成
物を提供する。 【解決手段】過酸化物、亜鉛塩およびキレート剤を含有
することを特徴とする脱臭剤。
を含む廃水、汚泥を少量で効果的に脱臭する脱臭剤組成
物を提供する。 【解決手段】過酸化物、亜鉛塩およびキレート剤を含有
することを特徴とする脱臭剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、脱臭剤に関するも
のである。更に詳しくは、硫化水素、メルカプタン類の
一種類以上の臭気を含む廃水、汚泥を少量で効果的に脱
臭する脱臭剤組成物である。
のである。更に詳しくは、硫化水素、メルカプタン類の
一種類以上の臭気を含む廃水、汚泥を少量で効果的に脱
臭する脱臭剤組成物である。
【０００２】
【従来の技術】最近の都市及び近郊への人口の密集は、
水資源の大量消費につながっている。そこで使用された
水資源はさまざまな有機、無機物を含有する廃水となっ
て公共下水道やビル中の滞留槽等へ排出される。さらに
これらは下水処理場にて処理される過程で、大量の生汚
泥、余剰汚泥、消化汚泥を産出する。
水資源の大量消費につながっている。そこで使用された
水資源はさまざまな有機、無機物を含有する廃水となっ
て公共下水道やビル中の滞留槽等へ排出される。さらに
これらは下水処理場にて処理される過程で、大量の生汚
泥、余剰汚泥、消化汚泥を産出する。
【０００３】また、工場等の事業所も河川、海洋等の深
刻な環境汚染に伴い排水規制が強化され所定の水質まで
処理することが義務づけられているが、この事業所での
凝集沈殿処理や活性汚泥処理の過程等でも大量の汚泥が
産出する。
刻な環境汚染に伴い排水規制が強化され所定の水質まで
処理することが義務づけられているが、この事業所での
凝集沈殿処理や活性汚泥処理の過程等でも大量の汚泥が
産出する。
【０００４】以上のような廃水および汚泥中には硫酸還
元菌が存在し汚泥中の硫酸塩を硫化水素に還元して生産
活動を行っている。そして硫化水素を生成することによ
り廃水および汚泥は更に嫌気化し、硫酸還元菌は増殖し
硫化水素の生成量は更に増大する。そして生成された硫
化水素は気相へ放散される。硫化水素は、毒性のある不
快な臭気を持つ物質で、マンホールやビルの地下から漏
洩し、周辺住民への悪臭問題の原因となったり、汚泥の
処理時には作業者に対する危険性が危惧される。また、
硫化水素は、コンクリート施設中に付着する硫黄酸化菌
や空気により酸化を受け、ミスト中に溶け込み硫酸を生
成する。こうして生成した硫酸はコンクリートや金属を
腐蝕し建築物の構造に致命的な欠陥をもたらす原因とな
っている。
元菌が存在し汚泥中の硫酸塩を硫化水素に還元して生産
活動を行っている。そして硫化水素を生成することによ
り廃水および汚泥は更に嫌気化し、硫酸還元菌は増殖し
硫化水素の生成量は更に増大する。そして生成された硫
化水素は気相へ放散される。硫化水素は、毒性のある不
快な臭気を持つ物質で、マンホールやビルの地下から漏
洩し、周辺住民への悪臭問題の原因となったり、汚泥の
処理時には作業者に対する危険性が危惧される。また、
硫化水素は、コンクリート施設中に付着する硫黄酸化菌
や空気により酸化を受け、ミスト中に溶け込み硫酸を生
成する。こうして生成した硫酸はコンクリートや金属を
腐蝕し建築物の構造に致命的な欠陥をもたらす原因とな
っている。
【０００５】さらに硫化水素と同様に廃水および汚泥の
腐敗の過程でメチルメルカプタン、エチルメルカプタン
等のメルカプタン類を産出し悪臭問題の原因となってい
る。これら臭気の発生や構造物の腐蝕を防止する手段と
しては、苛性ソーダ等を用いてｐＨをアルカリ性にし硫
化水素の放散を抑制する方法もあるが、これは硫化水素
そのものを分解もしくは除去するわけではないので、中
和した際、硫化水素が再発生したり、アルカリスケール
が発生するなど充分な処理とは言えない。
腐敗の過程でメチルメルカプタン、エチルメルカプタン
等のメルカプタン類を産出し悪臭問題の原因となってい
る。これら臭気の発生や構造物の腐蝕を防止する手段と
しては、苛性ソーダ等を用いてｐＨをアルカリ性にし硫
化水素の放散を抑制する方法もあるが、これは硫化水素
そのものを分解もしくは除去するわけではないので、中
和した際、硫化水素が再発生したり、アルカリスケール
が発生するなど充分な処理とは言えない。
【０００６】また悪臭成分を酸化する方法として過酸化
水素を添加する方法があり硫化水素、メルカプタン類の
除去ができる。しかし、添加量が少量であると硫酸還元
菌の殺菌を充分に行うことができず、汚泥を長時間放置
しておく場合などは酸化された硫黄もしくは硫酸イオン
が、硫酸還元菌により再び硫化水素を生成してしまうと
いう問題があり、大量の過酸化水素の添加が必要であっ
た。
水素を添加する方法があり硫化水素、メルカプタン類の
除去ができる。しかし、添加量が少量であると硫酸還元
菌の殺菌を充分に行うことができず、汚泥を長時間放置
しておく場合などは酸化された硫黄もしくは硫酸イオン
が、硫酸還元菌により再び硫化水素を生成してしまうと
いう問題があり、大量の過酸化水素の添加が必要であっ
た。
【０００７】硫化水素を金属塩として固定化してしまう
方法として下記の反応式のように塩化亜鉛を添加する方
法があるが、この方法は、式（１）のように硫化水素と
亜鉛イオンが等モルで反応するため、亜鉛を多量に添加
しなければならないという欠点があった。更に亜鉛化合
物では、メルカプタン類が除去できないという問題があ
った。
方法として下記の反応式のように塩化亜鉛を添加する方
法があるが、この方法は、式（１）のように硫化水素と
亜鉛イオンが等モルで反応するため、亜鉛を多量に添加
しなければならないという欠点があった。更に亜鉛化合
物では、メルカプタン類が除去できないという問題があ
った。
【０００８】
【化１】
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術における上記したような課題を解決し、硫化水素お
よびメルカプタン類を温和な条件で効率良く分解除去
し、悪臭の拡散及び施設の腐蝕を防止する脱臭剤の提供
を目的とするものである。
技術における上記したような課題を解決し、硫化水素お
よびメルカプタン類を温和な条件で効率良く分解除去
し、悪臭の拡散及び施設の腐蝕を防止する脱臭剤の提供
を目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、硫化水素
またはメルカプタン類等からなる臭気を除去する脱臭剤
組成を鋭意研究した結果、過酸化物と亜鉛塩およびキレ
ート剤よりなる組成の脱臭剤が安定で、廃水および汚泥
中の硫化水素、メルカプタン類を迅速にかつ効率的に除
去でき、なおかつその除去に持続性が付与できることを
見いだし、本発明を完成した。すなわち、本発明は、過
酸化物と亜鉛塩およびキレート剤よりなる脱臭剤であ
る。
またはメルカプタン類等からなる臭気を除去する脱臭剤
組成を鋭意研究した結果、過酸化物と亜鉛塩およびキレ
ート剤よりなる組成の脱臭剤が安定で、廃水および汚泥
中の硫化水素、メルカプタン類を迅速にかつ効率的に除
去でき、なおかつその除去に持続性が付与できることを
見いだし、本発明を完成した。すなわち、本発明は、過
酸化物と亜鉛塩およびキレート剤よりなる脱臭剤であ
る。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明による脱臭剤における過酸
化物としては、過酸化水素、過酢酸、過硫酸塩、過炭酸
塩、過ホウ素酸塩、その他無機、有機の過酸化物が使用
し得るが、好ましくは過酸化水素、過炭酸ナトリウムが
使用される。過酸化水素は３５重量％、６０重量％の濃
度のものが市販されているが、これをそのまま使用して
も良く、希釈して使用しても良い。
化物としては、過酸化水素、過酢酸、過硫酸塩、過炭酸
塩、過ホウ素酸塩、その他無機、有機の過酸化物が使用
し得るが、好ましくは過酸化水素、過炭酸ナトリウムが
使用される。過酸化水素は３５重量％、６０重量％の濃
度のものが市販されているが、これをそのまま使用して
も良く、希釈して使用しても良い。
【００１２】亜鉛塩としては、硫酸塩、硝酸塩、ハロゲ
ン化物、過塩素酸塩、水酸化物、等の無機塩、シュウ酸
塩、蟻酸塩等の有機酸塩、酸化物等が例示され、無水
塩、含水塩の何れでも良い。
ン化物、過塩素酸塩、水酸化物、等の無機塩、シュウ酸
塩、蟻酸塩等の有機酸塩、酸化物等が例示され、無水
塩、含水塩の何れでも良い。
【００１３】キレート剤としては、カルボン酸基を２個
以上有する酸および／またはその塩、もしくはホスホン
酸基を２個以上有する酸および／またはその塩が用いれ
る。ここで、カルボン酸基を２個以上有する酸および／
またはその塩のキレート剤として、エチレンジアミン四
酢酸、ニトリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、ポリヒドロキシカルボ
ン酸等が挙げられ、ホスホン酸基を２個以上有する酸お
よび／またはその塩のキレート剤として、１−ヒドロキ
シエチリデン−１，１−ジホスホン酸、アミノトリ（メ
チレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレ
ンホスホン酸）、１，２−プロピレンジアミンテトラ
（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ
（メチレンホスホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテト
ラ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンへ
キサ（メチレンホスホン酸）、トリアミノトリエチルア
ミンへキサ（メチレンホスホン酸）、トランス−１，２
−シクロヘキサンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）、グリコールエーテルジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）、テトラエチレンヘプタ（メチレンホスホン
酸）等のが挙げられ、これを一種類以上使用する。また
これらは遊離酸でも良く、塩の形でも良い。塩の形で使
用する場合は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、
アンモニウム塩および有機アミン塩等が使用できるが、
ナトリウム塩、アンモニウム塩が好適に使用される。
以上有する酸および／またはその塩、もしくはホスホン
酸基を２個以上有する酸および／またはその塩が用いれ
る。ここで、カルボン酸基を２個以上有する酸および／
またはその塩のキレート剤として、エチレンジアミン四
酢酸、ニトリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、ポリヒドロキシカルボ
ン酸等が挙げられ、ホスホン酸基を２個以上有する酸お
よび／またはその塩のキレート剤として、１−ヒドロキ
シエチリデン−１，１−ジホスホン酸、アミノトリ（メ
チレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレ
ンホスホン酸）、１，２−プロピレンジアミンテトラ
（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ
（メチレンホスホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテト
ラ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンへ
キサ（メチレンホスホン酸）、トリアミノトリエチルア
ミンへキサ（メチレンホスホン酸）、トランス−１，２
−シクロヘキサンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）、グリコールエーテルジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）、テトラエチレンヘプタ（メチレンホスホン
酸）等のが挙げられ、これを一種類以上使用する。また
これらは遊離酸でも良く、塩の形でも良い。塩の形で使
用する場合は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、
アンモニウム塩および有機アミン塩等が使用できるが、
ナトリウム塩、アンモニウム塩が好適に使用される。
【００１４】過酸化物に対する亜鉛塩の量は特に制限は
ないが、通常は過酸化物１００％換算に対して亜鉛金属
として０．１〜５０重量％程度使用される。キレート剤
の使用量は、亜鉛塩に依存するが過酸化物と亜鉛塩の混
合物に対し１０〜５００００ｐｐｍ程度が好適に使用さ
れる。このキレート剤の使用量は、過酸化物の濃度とは
無関係である。さらに、必要に応じて他の安定剤を併用
することを妨げない。本発明の脱臭剤は、過酸化水素、
亜鉛塩及びキレート剤を混合したままでも使用できる
が、安定化のためにさらにｐＨを下げることが好まし
い。この時使用する酸としては、硫酸、硝酸、塩酸、燐
酸等の無機酸、蟻酸、酢酸、シュウ酸等の有機酸が使用
できるが、好適には無機酸が単独もしくはそれらの組み
合わせで使用できる。
ないが、通常は過酸化物１００％換算に対して亜鉛金属
として０．１〜５０重量％程度使用される。キレート剤
の使用量は、亜鉛塩に依存するが過酸化物と亜鉛塩の混
合物に対し１０〜５００００ｐｐｍ程度が好適に使用さ
れる。このキレート剤の使用量は、過酸化物の濃度とは
無関係である。さらに、必要に応じて他の安定剤を併用
することを妨げない。本発明の脱臭剤は、過酸化水素、
亜鉛塩及びキレート剤を混合したままでも使用できる
が、安定化のためにさらにｐＨを下げることが好まし
い。この時使用する酸としては、硫酸、硝酸、塩酸、燐
酸等の無機酸、蟻酸、酢酸、シュウ酸等の有機酸が使用
できるが、好適には無機酸が単独もしくはそれらの組み
合わせで使用できる。
【００１５】
【実施例】次に本発明の方法を実施例により更に具体的
に説明する。但し、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。
に説明する。但し、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。
【００１６】実施例１ 下水汚泥１０００ｍｌに３５重量％過酸化水素１１４．
２ｇ、硝酸亜鉛六水和物３６．４ｇ、１，２−プロピレ
ンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）０．１１４ｇ
よりなる組成の脱臭剤を０．３８ｇ（過酸化水素１００
ｍｇ／Ｌ、亜鉛２０ｍｇ／Ｌ相当）添加、攪拌混合し処
理５分後と１２時間放置しておいた後、硫化水素とメチ
ルメルカプタンをガス検知管を用いてヘッドスペース法
により測定した結果を表１に示した。またこの脱臭剤の
過酸化水素を１００℃の温浴に５時間浸漬した後の加熱
安定性は９８．３％であった。
２ｇ、硝酸亜鉛六水和物３６．４ｇ、１，２−プロピレ
ンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）０．１１４ｇ
よりなる組成の脱臭剤を０．３８ｇ（過酸化水素１００
ｍｇ／Ｌ、亜鉛２０ｍｇ／Ｌ相当）添加、攪拌混合し処
理５分後と１２時間放置しておいた後、硫化水素とメチ
ルメルカプタンをガス検知管を用いてヘッドスペース法
により測定した結果を表１に示した。またこの脱臭剤の
過酸化水素を１００℃の温浴に５時間浸漬した後の加熱
安定性は９８．３％であった。
【００１７】
【式１】
【００１８】比較例１ ３５重量％過酸化水素を０．５７ｇ（過酸化水素２００
ｍｇ／Ｌ相当）添加した以外は実施例１と同様の処理を
行った。結果を表１に示した。
ｍｇ／Ｌ相当）添加した以外は実施例１と同様の処理を
行った。結果を表１に示した。
【００１９】比較例２ 硝酸亜鉛を０．２７ｇ（亜鉛６０ｍｇ／Ｌ相当）添加し
た以外は実施例１と同様の処理を行った。結果を表１に
示した。
た以外は実施例１と同様の処理を行った。結果を表１に
示した。
【００２０】
【表１】
【００２１】過酸化水素のみでの硫化水素の除去は、速
効性はあるが、硫化水素が再復活してしまった。また硝
酸亜鉛のみではメチルメルカプタンの除去が充分でなか
った。本発明品は少ない使用量で、硫化水素、メチルメ
ルカプタンの除去が行え脱臭能力の持続性が得られる。
効性はあるが、硫化水素が再復活してしまった。また硝
酸亜鉛のみではメチルメルカプタンの除去が充分でなか
った。本発明品は少ない使用量で、硫化水素、メチルメ
ルカプタンの除去が行え脱臭能力の持続性が得られる。
【００２２】実施例２ ３５重量％過酸化水素１００ｇに硫酸亜鉛七水和物７．
７ｇ、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン
酸）２５重量％水溶液０．０１ｇよりなる組成の脱臭剤
を１００℃の温浴に５時間浸漬した後の過酸化水素の濃
度を測定し加熱安定性を求めた。結果を表２に示した。
７ｇ、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン
酸）２５重量％水溶液０．０１ｇよりなる組成の脱臭剤
を１００℃の温浴に５時間浸漬した後の過酸化水素の濃
度を測定し加熱安定性を求めた。結果を表２に示した。
【００２３】
【式２】
【００２４】実施例３ ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）２
５％水溶液の添加量を０．０５ｇにした以外は実施例２
と同じ組成の脱臭剤を実施例２と同様の処理を行った。
結果を表２に示した。
５％水溶液の添加量を０．０５ｇにした以外は実施例２
と同じ組成の脱臭剤を実施例２と同様の処理を行った。
結果を表２に示した。
【００２５】比較例３ キレート剤を使用しなかった以外は実施例２と同じ組成
の脱臭剤を実施例２と同様の処理を行った。結果を表２
に示した。
の脱臭剤を実施例２と同様の処理を行った。結果を表２
に示した。
【００２６】 キレート剤を添加することにより過酸化水素の安定性は
格段に向上する。
格段に向上する。
【００２７】実施例４ ３５重量％過酸化水素１００ｇに硝酸亜鉛６水和物１
５．８ｇ、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホス
ホン酸６０重量％水溶液０．０１ｇよりなる組成の脱臭
剤を１００℃の温浴に５時間浸漬した後の過酸化水素の
濃度を測定し加熱安定性を求めた。結果を表３に示し
た。
５．８ｇ、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホス
ホン酸６０重量％水溶液０．０１ｇよりなる組成の脱臭
剤を１００℃の温浴に５時間浸漬した後の過酸化水素の
濃度を測定し加熱安定性を求めた。結果を表３に示し
た。
【００２８】実施例５ 硫酸を加えてｐＨを１．０にした以外は実施例４と同組
成にし加熱試験を行った。結果を表３に示した。
成にし加熱試験を行った。結果を表３に示した。
【００２９】実施例６ 硫酸を加えてｐＨを０．５にした以外は実施例４と同組
成にし加熱試験を行った。結果を表３に示した。
成にし加熱試験を行った。結果を表３に示した。
【００３０】 ｐＨは低い方が本脱臭剤の主成分である過酸化水素の安
定性が高かった。
定性が高かった。
【００３１】実施例７ ３５重量％過酸化水素１００ｇに硝酸亜鉛６水和物１
５．８ｇ、キレート剤としてエチレンジアミン四酢酸／
四ナトリウム塩・四水和物０．０１ｇよりなる組成の脱
臭剤を室温にて１ヶ月放置した後の過酸化水素の濃度を
測定し常温安定性を求めた。結果を表４に示した。
５．８ｇ、キレート剤としてエチレンジアミン四酢酸／
四ナトリウム塩・四水和物０．０１ｇよりなる組成の脱
臭剤を室温にて１ヶ月放置した後の過酸化水素の濃度を
測定し常温安定性を求めた。結果を表４に示した。
【００３２】
【式３】
【００３３】実施例８ キレート剤としてジエチレントリアミン五酢酸を使用し
た以外は実施例７と同組成にし常温安定性を求めた。結
果を表４に示した。
た以外は実施例７と同組成にし常温安定性を求めた。結
果を表４に示した。
【００３４】比較例５ キレート剤を使用しなかった以外は実施例７と同組成に
し常温安定性を求めた。結果を表４に示した。
し常温安定性を求めた。結果を表４に示した。
【００３５】
【００３６】
【発明の効果】本発明の脱臭剤は、少ない添加量で硫化
水素、メルカプタン類を迅速にそして持続性をもって除
去できる。
水素、メルカプタン類を迅速にそして持続性をもって除
去できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０８ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０８Ｂ １０８Ｅ (72)発明者 下村 正 東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 過酸化物、亜鉛塩およびキレート剤を含
有することを特徴とする脱臭剤。 - 【請求項２】 過酸化物が過酸化水素または過炭酸ナト
リウムである請求項１記載の脱臭剤。 - 【請求項３】 キレート剤がカルボン酸基を２個以上有
する酸および／またはその塩である請求項１記載の脱臭
剤。 - 【請求項４】 キレート剤がホスホン酸基を２個以上有
する酸および／またはその塩である請求項１記載の脱臭
剤。 - 【請求項５】 硫化水素またはメルカプタン類を含む廃
水または汚泥に請求項１記載の脱臭剤を添加する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02151697A JP4102943B2 (ja) | 1997-02-04 | 1997-02-04 | 脱臭剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02151697A JP4102943B2 (ja) | 1997-02-04 | 1997-02-04 | 脱臭剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10216697A true JPH10216697A (ja) | 1998-08-18 |
| JP4102943B2 JP4102943B2 (ja) | 2008-06-18 |
Family
ID=12057140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02151697A Expired - Lifetime JP4102943B2 (ja) | 1997-02-04 | 1997-02-04 | 脱臭剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4102943B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001321428A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 消臭剤 |
| JP2002045893A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-12 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 消臭方法 |
| JP2003094093A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-02 | Kurita Water Ind Ltd | 汚泥の臭気発生防止方法 |
| KR100803503B1 (ko) * | 2001-01-23 | 2008-02-14 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 소취제 및 소취 방법 |
| GB2479712A (en) * | 2010-04-08 | 2011-10-26 | 2Pure Products Ltd | Aqueous composition for suppressing malodour |
| US8834939B2 (en) | 2009-02-13 | 2014-09-16 | Probe Industries Limited | Aqueous compositions of copper salts and hydrogen peroxide |
| CN106139204A (zh) * | 2014-08-22 | 2016-11-23 | 穗晔实业股份有限公司 | 具有臭味净化功能的水性溶液 |
| CN113247974A (zh) * | 2021-05-10 | 2021-08-13 | 德蓝水技术股份有限公司 | 一种用于石油石化废水处理的脱硫剂及其制备方法 |
| CN115252863A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-11-01 | 上海康恒环境修复有限公司 | 一种用于垃圾填埋场的除臭剂、制备方法及其应用 |
-
1997
- 1997-02-04 JP JP02151697A patent/JP4102943B2/ja not_active Expired - Lifetime
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