JPH10216975A - ダムバー加工方法およびその装置 - Google Patents
ダムバー加工方法およびその装置Info
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- JPH10216975A JPH10216975A JP9020802A JP2080297A JPH10216975A JP H10216975 A JPH10216975 A JP H10216975A JP 9020802 A JP9020802 A JP 9020802A JP 2080297 A JP2080297 A JP 2080297A JP H10216975 A JPH10216975 A JP H10216975A
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 160
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 63
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 17
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 4
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 claims 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 abstract description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 8
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ICパッケージのダムバーをレーザ光の照射を
利用して切断、除去するに際し、常に高い位置決め精度
でかつ高速に所望の加工位置での加工を実施することが
できるダムバー加工方法及びその装置を提供する。 【解決手段】実際にダムバー2をレーザ加工するに先立
ち、スキャナユニット73でダムバー2近傍の画像を取
り込んで適正な加工位置データの演算を行い、それらを
バッファ32に一時的に記憶しておき、ワーク1をレー
ザ加工ユニット71に搬送し、上記のデータを用いてダ
ムバー2のレーザ加工を行なう。また、或るワーク1
(ICパッケージ)のダムバー2をレーザ加工する動作
と並行して、次に加工すべきワークに対するサンプリン
グ(検出光照射から適正な加工位置データの一時記憶ま
での一連の動作)を行っておき、加工能率を向上させ
る。
利用して切断、除去するに際し、常に高い位置決め精度
でかつ高速に所望の加工位置での加工を実施することが
できるダムバー加工方法及びその装置を提供する。 【解決手段】実際にダムバー2をレーザ加工するに先立
ち、スキャナユニット73でダムバー2近傍の画像を取
り込んで適正な加工位置データの演算を行い、それらを
バッファ32に一時的に記憶しておき、ワーク1をレー
ザ加工ユニット71に搬送し、上記のデータを用いてダ
ムバー2のレーザ加工を行なう。また、或るワーク1
(ICパッケージ)のダムバー2をレーザ加工する動作
と並行して、次に加工すべきワークに対するサンプリン
グ(検出光照射から適正な加工位置データの一時記憶ま
での一連の動作)を行っておき、加工能率を向上させ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームお
よび半導体チップを樹脂モールドで封止したICパッケ
ージのダムバーを、レーザ光照射により切断するダムバ
ーのレーザ加工に係わり、特にダムバーの所望の加工位
置を高速かつ精度よく加工することができるダムバー加
工方法およびその装置に関する。
よび半導体チップを樹脂モールドで封止したICパッケ
ージのダムバーを、レーザ光照射により切断するダムバ
ーのレーザ加工に係わり、特にダムバーの所望の加工位
置を高速かつ精度よく加工することができるダムバー加
工方法およびその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】パルス状のレーザ光(以下、適宜、パル
スレーザ光という)を利用した加工としては、切断、穴
あけ、溶接等の加工方法が機械、電子、半導体装置など
の多方面の分野の製造過程で利用されている。従来のレ
ーザ加工装置の構成を図10及び図11を参照しながら
説明する。
スレーザ光という)を利用した加工としては、切断、穴
あけ、溶接等の加工方法が機械、電子、半導体装置など
の多方面の分野の製造過程で利用されている。従来のレ
ーザ加工装置の構成を図10及び図11を参照しながら
説明する。
【0003】従来のパルスレーザ加工装置は、図10に
その一例を示すように、レーザヘッド51、加工光学系
52、レーザ電源53から構成されるレーザ発振器5
0、被加工物であるワーク60を搭載し水平面内(XY
平面内)に移動可能なXYテーブル61、レーザヘッド
51及び加工光学系52を上下方向(Z軸方向)に移動
させるZテーブル62、XYテーブル61の水平面内の
移動動作とZテーブル62の上下方向の移動動作とレー
ザ発振器50の発振動作を自動又は手動で制御するメイ
ンコントローラ63を備える。
その一例を示すように、レーザヘッド51、加工光学系
52、レーザ電源53から構成されるレーザ発振器5
0、被加工物であるワーク60を搭載し水平面内(XY
平面内)に移動可能なXYテーブル61、レーザヘッド
51及び加工光学系52を上下方向(Z軸方向)に移動
させるZテーブル62、XYテーブル61の水平面内の
移動動作とZテーブル62の上下方向の移動動作とレー
ザ発振器50の発振動作を自動又は手動で制御するメイ
ンコントローラ63を備える。
【0004】またレーザ電源53は、図示しないレーザ
コントローラ、安定化電源、コンデンサ部及びスイッチ
部等から構成される。レーザコントローラから指令され
た電圧値に従って、供給された交流電源を安定化電源に
より直流に変えられ、コンデンサ部に供給され、コンデ
ンサ部に蓄積された電荷がスイッチ部を介してスイッチ
部の所定の開閉タイミングに基づきレーザヘッド部の図
示しない励起ランプに放電される。前記スイッチ部の開
閉はレーザコントローラからパルス幅及びパルス周波数
を指令するトリガ信号に従って行われる。以上のように
して、レーザヘッド51よりパルス状のレーザ光が射出
される。
コントローラ、安定化電源、コンデンサ部及びスイッチ
部等から構成される。レーザコントローラから指令され
た電圧値に従って、供給された交流電源を安定化電源に
より直流に変えられ、コンデンサ部に供給され、コンデ
ンサ部に蓄積された電荷がスイッチ部を介してスイッチ
部の所定の開閉タイミングに基づきレーザヘッド部の図
示しない励起ランプに放電される。前記スイッチ部の開
閉はレーザコントローラからパルス幅及びパルス周波数
を指令するトリガ信号に従って行われる。以上のように
して、レーザヘッド51よりパルス状のレーザ光が射出
される。
【0005】また、レーザヘッド51には図示しないビ
ームシャッタが内蔵されており、このビームシャッタが
開閉することによって、ワーク60へのパルスレーザ光
の照射を制御する。すなわちワーク60を加工する場合
には上記ビームシャッタを開き、加工しない場合には上
記ビームシャッタを閉じる。このビームシャッタの開閉
動作時間は100〜300ms程度であり、その制御は
前述のレーザコントローラから行うが、前記メインコン
トローラ63からレーザコントローラを介して行うこと
も可能である。
ームシャッタが内蔵されており、このビームシャッタが
開閉することによって、ワーク60へのパルスレーザ光
の照射を制御する。すなわちワーク60を加工する場合
には上記ビームシャッタを開き、加工しない場合には上
記ビームシャッタを閉じる。このビームシャッタの開閉
動作時間は100〜300ms程度であり、その制御は
前述のレーザコントローラから行うが、前記メインコン
トローラ63からレーザコントローラを介して行うこと
も可能である。
【0006】上記のようなレーザ加工装置を用いて、例
えばICパッケージのダムバーの除去を行う場合を説明
する。図11(a)はICパッケージの平面図、図11
(b)は図11(a)のB部の拡大図である。図11
(b)に示すように、ダムバー2は、ICに使用される
リードフレームのピン(以下、リードともいう)を連結
しており、ICのモールド時に樹脂をせき止める役割
と、リードフレームのピンを補強する役割を持ち、製造
過程の最後に除去される部分である。前記ダムバー2を
パルスレーザ光で除去する加工手順を、図11(b)の
K点の除去(切断)が終了し、続いてL点の加工(除
去)を行う場合を例として説明すると、以下のようにな
る。
えばICパッケージのダムバーの除去を行う場合を説明
する。図11(a)はICパッケージの平面図、図11
(b)は図11(a)のB部の拡大図である。図11
(b)に示すように、ダムバー2は、ICに使用される
リードフレームのピン(以下、リードともいう)を連結
しており、ICのモールド時に樹脂をせき止める役割
と、リードフレームのピンを補強する役割を持ち、製造
過程の最後に除去される部分である。前記ダムバー2を
パルスレーザ光で除去する加工手順を、図11(b)の
K点の除去(切断)が終了し、続いてL点の加工(除
去)を行う場合を例として説明すると、以下のようにな
る。
【0007】(1)XYテーブル61により、ワーク6
0上へのパルスレーザ光照射位置を図11(b)中K点
からL点の方向(X軸の正方向)に移動させる。 (2)L点で位置決めし、XYテーブル61を停止す
る。 (3)ビームシャッタを開く。 (4)パルスレーザ光を照射してL点のダムバーを除去
する。 (5)ビームシャッタを閉じる。
0上へのパルスレーザ光照射位置を図11(b)中K点
からL点の方向(X軸の正方向)に移動させる。 (2)L点で位置決めし、XYテーブル61を停止す
る。 (3)ビームシャッタを開く。 (4)パルスレーザ光を照射してL点のダムバーを除去
する。 (5)ビームシャッタを閉じる。
【0008】以上(1)から(5)の加工手順を繰り返
すことにより、図11(a)に示すICパッケージの4
辺にあるダムバー2を順次除去していく。このとき、X
Yテーブルの移動及び停止、ビームシャッタの開閉は、
メインコントローラ63に予め入力したプログラムに従
って実行される。また、この間、パルスレーザ光は常時
パルス状に発振するか、またはビームシャッタの開いた
のと同期して発振し、これらの制御は前述のレーザコン
トローラで行われる。
すことにより、図11(a)に示すICパッケージの4
辺にあるダムバー2を順次除去していく。このとき、X
Yテーブルの移動及び停止、ビームシャッタの開閉は、
メインコントローラ63に予め入力したプログラムに従
って実行される。また、この間、パルスレーザ光は常時
パルス状に発振するか、またはビームシャッタの開いた
のと同期して発振し、これらの制御は前述のレーザコン
トローラで行われる。
【0009】なお、上記したダムバーの除去に用いて好
適なレーザ加工装置または方法に関する従来技術として
は、例えば特開平4−41092号公報や特開平6−1
42968号公報に記載されたものがある。前者の特開
平4−41092号公報に記載の装置は、予め記憶して
おいた複数の加工位置情報とXYテーブルの移動量との
比較結果に応じてレーザ光のON/OFFや照射タイミ
ングを制御するものであり、後者の特開平6−1429
68号公報に記載の装置は、加工位置近傍における被加
工物の有無を検出してそれに対応する検出信号を発生さ
せ、その検出信号に基づいてパルスレーザ光の発振タイ
ミングを制御するものである。
適なレーザ加工装置または方法に関する従来技術として
は、例えば特開平4−41092号公報や特開平6−1
42968号公報に記載されたものがある。前者の特開
平4−41092号公報に記載の装置は、予め記憶して
おいた複数の加工位置情報とXYテーブルの移動量との
比較結果に応じてレーザ光のON/OFFや照射タイミ
ングを制御するものであり、後者の特開平6−1429
68号公報に記載の装置は、加工位置近傍における被加
工物の有無を検出してそれに対応する検出信号を発生さ
せ、その検出信号に基づいてパルスレーザ光の発振タイ
ミングを制御するものである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記ICパッケージの
ダムバーの寸法は幅が0.1〜0.3mm程度、厚さが
0.15mm程度であるので、ダムバーを除去する場合
にはレーザ光の1パルスで十分除去可能である。従っ
て、実際の加工に要する時間はパルスレーザ光のパルス
幅の時間に相当し、0.1〜1ms程度である。ところ
が、前述の(1)〜(5)の加工手順においてはビーム
シャッタの開閉動作時間である200〜600msとテ
ーブルの移動時間とにより、一つのダムバーを除去する
ために1s程度の時間を費やし、ダムバーの切断個数や
ICパッケージの製造個数を考慮すると加工時間がかか
り過ぎることになる。
ダムバーの寸法は幅が0.1〜0.3mm程度、厚さが
0.15mm程度であるので、ダムバーを除去する場合
にはレーザ光の1パルスで十分除去可能である。従っ
て、実際の加工に要する時間はパルスレーザ光のパルス
幅の時間に相当し、0.1〜1ms程度である。ところ
が、前述の(1)〜(5)の加工手順においてはビーム
シャッタの開閉動作時間である200〜600msとテ
ーブルの移動時間とにより、一つのダムバーを除去する
ために1s程度の時間を費やし、ダムバーの切断個数や
ICパッケージの製造個数を考慮すると加工時間がかか
り過ぎることになる。
【0011】また、一般的にピン(リード)のピッチは
等ピッチであることが多いが、リードフレームの製造誤
差や、レジンでモールドする時の温度履歴による歪み
や、ハンドリングによる外力などで変形し、ダムバーの
除去時には必ずしも等ピッチになっていない場合があ
る。前述の(1)〜(5)で説明したダムバー除去方法
では、ダムバーを除去する箇所をプログラムとして予め
メインコントローラに登録しておくが、この方法では上
記ピンが等ピッチになっていないことには対応できず、
さらに製造誤差や変形が累積して誤差が増大するような
最悪の場合には、残しておくべきリードフレームの部分
にダメージを与える可能性もある。
等ピッチであることが多いが、リードフレームの製造誤
差や、レジンでモールドする時の温度履歴による歪み
や、ハンドリングによる外力などで変形し、ダムバーの
除去時には必ずしも等ピッチになっていない場合があ
る。前述の(1)〜(5)で説明したダムバー除去方法
では、ダムバーを除去する箇所をプログラムとして予め
メインコントローラに登録しておくが、この方法では上
記ピンが等ピッチになっていないことには対応できず、
さらに製造誤差や変形が累積して誤差が増大するような
最悪の場合には、残しておくべきリードフレームの部分
にダメージを与える可能性もある。
【0012】また、特開平4−41092号公報に記載
された従来技術を応用する場合、予め記憶(想定)した
所定の形状に従う制御しかできないため、ピンが不規則
な配列になってしまった時には対応できず、同様の問題
が生じる。
された従来技術を応用する場合、予め記憶(想定)した
所定の形状に従う制御しかできないため、ピンが不規則
な配列になってしまった時には対応できず、同様の問題
が生じる。
【0013】これに対し、特開平6−142968号公
報に記載の従来技術によれば、加工位置が等間隔である
場合のみならず等間隔でない場合にも所望の加工位置を
高速で加工することができるため、ピンが等ピッチでな
く不規則な配列になった場合でもダムバーの除去にある
程度対応できる。しかしながら、被加工物の有無を検出
するために用いる検出光の反射光量は、検出光源自体の
光量の変動、或いは被加工物の表面状態による反射光量
の変動に大きく左右されるため、ダムバーの除去時のよ
うな数ミクロン程度の位置決め精度を得るためには、検
出光には光量の変動の小さい(数%以下の)ものが要求
される。また、表面反射率が大きく変わる被加工物に対
しては位置決め精度が悪くなる場合があり、被加工物に
よっては実加工には適さない場合がある。
報に記載の従来技術によれば、加工位置が等間隔である
場合のみならず等間隔でない場合にも所望の加工位置を
高速で加工することができるため、ピンが等ピッチでな
く不規則な配列になった場合でもダムバーの除去にある
程度対応できる。しかしながら、被加工物の有無を検出
するために用いる検出光の反射光量は、検出光源自体の
光量の変動、或いは被加工物の表面状態による反射光量
の変動に大きく左右されるため、ダムバーの除去時のよ
うな数ミクロン程度の位置決め精度を得るためには、検
出光には光量の変動の小さい(数%以下の)ものが要求
される。また、表面反射率が大きく変わる被加工物に対
しては位置決め精度が悪くなる場合があり、被加工物に
よっては実加工には適さない場合がある。
【0014】また、リードフレームにおけるダムバー付
近やリードの表面に樹脂の一部やその他の異物が付着し
たり、付着した異物等が突出したりすることがあり、こ
のような場合に上記のような検出光による検出を行う
と、それら異物に伴った検出信号に基づいて所定位置以
外にレーザ光が誤照射される可能性があり、所望の寸法
での加工が出来ない恐れがある。さらに、樹脂による封
止時などにリードフレームが変形(熱変形)する場合が
あり、これによる影響でレーザ光が誤照射される可能性
もある。つまり、リードフレームの実寸に基づいたレー
ザ光照射位置の位置決めが出来なくなる可能性がある。
さらにこの場合には、ダムバーをレーザ光で加工する際
にはそのダムバーの長手方向の制御、即ち一次元方向の
制御しかできず、レーザ光照射位置のダムバー幅方向へ
の相対的なずれによってICパッケージの本体(樹脂モ
ールド部分)を損傷する恐れもある。
近やリードの表面に樹脂の一部やその他の異物が付着し
たり、付着した異物等が突出したりすることがあり、こ
のような場合に上記のような検出光による検出を行う
と、それら異物に伴った検出信号に基づいて所定位置以
外にレーザ光が誤照射される可能性があり、所望の寸法
での加工が出来ない恐れがある。さらに、樹脂による封
止時などにリードフレームが変形(熱変形)する場合が
あり、これによる影響でレーザ光が誤照射される可能性
もある。つまり、リードフレームの実寸に基づいたレー
ザ光照射位置の位置決めが出来なくなる可能性がある。
さらにこの場合には、ダムバーをレーザ光で加工する際
にはそのダムバーの長手方向の制御、即ち一次元方向の
制御しかできず、レーザ光照射位置のダムバー幅方向へ
の相対的なずれによってICパッケージの本体(樹脂モ
ールド部分)を損傷する恐れもある。
【0015】本発明の目的は、ICパッケージのダムバ
ーをレーザ光の照射を利用して切断、除去するに際し、
常に高い位置決め精度でかつ高速に所望の加工位置での
加工を実施することができるダムバー加工方法及びその
装置を提供することである。
ーをレーザ光の照射を利用して切断、除去するに際し、
常に高い位置決め精度でかつ高速に所望の加工位置での
加工を実施することができるダムバー加工方法及びその
装置を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、リードフレームおよび半導体チッ
プを樹脂モールドで封止したICパッケージを移動さ
せ、そのICパッケージのダムバーにおける加工位置を
決定し、レーザ発振器より発生させたパルス状のレーザ
光照射により前記ダムバーを切断するダムバー加工方法
において、前記ダムバーへのレーザ光照射に先立って、
検出光を上記ダムバーに照射しながらその検出光による
検出位置をダムバーに沿って走査し、その検出光の反射
光を検出してダムバー近傍における材料の有無に対応す
る検出信号を発生させ、その検出信号に基づいて前記ダ
ムバー近傍の画像を取り込み、取り込んだ画像をデータ
化しそのデータをもとに前記ダムバー近傍の形状を分析
して適正な加工位置データを演算し、上記加工位置デー
タを一時的に記憶し、一時的に記憶された前記加工位置
データに基づき前記ダムバーの所望の加工位置にレーザ
光が順次照射されるようそのレーザ光の発振を制御する
ことを特徴とするダムバー加工方法が提供される。
め、本発明によれば、リードフレームおよび半導体チッ
プを樹脂モールドで封止したICパッケージを移動さ
せ、そのICパッケージのダムバーにおける加工位置を
決定し、レーザ発振器より発生させたパルス状のレーザ
光照射により前記ダムバーを切断するダムバー加工方法
において、前記ダムバーへのレーザ光照射に先立って、
検出光を上記ダムバーに照射しながらその検出光による
検出位置をダムバーに沿って走査し、その検出光の反射
光を検出してダムバー近傍における材料の有無に対応す
る検出信号を発生させ、その検出信号に基づいて前記ダ
ムバー近傍の画像を取り込み、取り込んだ画像をデータ
化しそのデータをもとに前記ダムバー近傍の形状を分析
して適正な加工位置データを演算し、上記加工位置デー
タを一時的に記憶し、一時的に記憶された前記加工位置
データに基づき前記ダムバーの所望の加工位置にレーザ
光が順次照射されるようそのレーザ光の発振を制御する
ことを特徴とするダムバー加工方法が提供される。
【0017】このようなダムバー加工方法において好ま
しくは、或るICパッケージのダムバーを前述の加工位
置データに基づくレーザ光照射によって切断する動作と
並行して、次に加工すべきICパッケージのダムバーに
対する検出光照射から適正な加工位置データの一時記憶
までの一連の動作を行っておく。
しくは、或るICパッケージのダムバーを前述の加工位
置データに基づくレーザ光照射によって切断する動作と
並行して、次に加工すべきICパッケージのダムバーに
対する検出光照射から適正な加工位置データの一時記憶
までの一連の動作を行っておく。
【0018】また本発明によれば、パルス状のレーザ光
を発振するレーザ発振器と、上記レーザ光を被加工物の
加工位置まで誘導する加工光学系と、前記被加工物を移
動させその加工位置を決定する加工用移動手段とを備
え、リードフレームおよび半導体チップを樹脂モールド
で封止したICパッケージのダムバーを切断するダムバ
ー加工装置において、前記ダムバー近傍における材料の
有無を検出するための検出光を発生する検出光発生手段
と、上記ICパッケージを載置しかつ移動させて前記検
出光による検出位置を決定する検出用移動手段と、上記
検出光の反射光を検出して対応する検出信号を発生する
検出信号発生手段と、その検出信号に基づいてダムバー
近傍の画像を取り込む撮像手段と、その撮像手段で取り
込んだ画像をデータ化しそのデータをもとにダムバー近
傍の形状を分析して適正な加工位置データを演算する画
像処理手段と、上記加工位置データを一時的に記憶して
おく記憶手段と、上記ICパッケージを前記検出用移動
手段から前記加工用移動手段の所定位置に搬送し位置決
めする搬送手段と、前記記憶手段に記憶された加工位置
データに基づき前記加工用移動手段に位置決めされたダ
ムバーの所望の加工位置にレーザ光が照射されるようそ
のレーザ光の発振を制御する制御手段とを有することを
特徴とするダムバー加工装置が提供される。
を発振するレーザ発振器と、上記レーザ光を被加工物の
加工位置まで誘導する加工光学系と、前記被加工物を移
動させその加工位置を決定する加工用移動手段とを備
え、リードフレームおよび半導体チップを樹脂モールド
で封止したICパッケージのダムバーを切断するダムバ
ー加工装置において、前記ダムバー近傍における材料の
有無を検出するための検出光を発生する検出光発生手段
と、上記ICパッケージを載置しかつ移動させて前記検
出光による検出位置を決定する検出用移動手段と、上記
検出光の反射光を検出して対応する検出信号を発生する
検出信号発生手段と、その検出信号に基づいてダムバー
近傍の画像を取り込む撮像手段と、その撮像手段で取り
込んだ画像をデータ化しそのデータをもとにダムバー近
傍の形状を分析して適正な加工位置データを演算する画
像処理手段と、上記加工位置データを一時的に記憶して
おく記憶手段と、上記ICパッケージを前記検出用移動
手段から前記加工用移動手段の所定位置に搬送し位置決
めする搬送手段と、前記記憶手段に記憶された加工位置
データに基づき前記加工用移動手段に位置決めされたダ
ムバーの所望の加工位置にレーザ光が照射されるようそ
のレーザ光の発振を制御する制御手段とを有することを
特徴とするダムバー加工装置が提供される。
【0019】上記のように構成した本発明においては、
ダムバーへのレーザ光照射に先立って、予めダムバー近
傍の形状分析と適正な加工位置データの演算を行ってお
く。即ち、まず検出光をダムバーに照射しながらその検
出位置をダムバーに沿って走査し、検出光の反射光を検
出して検出信号を発生させる。この検出信号はダムバー
近傍における材料の有無に対応する信号となる。そし
て、上記検出信号に基づいてダムバー近傍の画像を取り
込み、その取り込んだ画像をデータ化する。さらにその
データをもとにダムバー近傍の形状を分析し、適正な加
工位置データを演算する。このように、ダムバー近傍の
実際の画像を取り込んで、そのデータをもとに形状分
析、および適正な加工位置データの演算を行うため、検
出光源自体の光量の変動やダムバー近傍の表面状態によ
る反射光量の変動が有る場合や、さらにダムバー近傍に
異物が付着している場合でも、それらを考慮した加工位
置の補正が可能となり、適正な加工位置データを演算す
ることが可能となる。
ダムバーへのレーザ光照射に先立って、予めダムバー近
傍の形状分析と適正な加工位置データの演算を行ってお
く。即ち、まず検出光をダムバーに照射しながらその検
出位置をダムバーに沿って走査し、検出光の反射光を検
出して検出信号を発生させる。この検出信号はダムバー
近傍における材料の有無に対応する信号となる。そし
て、上記検出信号に基づいてダムバー近傍の画像を取り
込み、その取り込んだ画像をデータ化する。さらにその
データをもとにダムバー近傍の形状を分析し、適正な加
工位置データを演算する。このように、ダムバー近傍の
実際の画像を取り込んで、そのデータをもとに形状分
析、および適正な加工位置データの演算を行うため、検
出光源自体の光量の変動やダムバー近傍の表面状態によ
る反射光量の変動が有る場合や、さらにダムバー近傍に
異物が付着している場合でも、それらを考慮した加工位
置の補正が可能となり、適正な加工位置データを演算す
ることが可能となる。
【0020】上述の加工位置データは一旦記憶され、そ
の一時記憶された加工位置データに基づいてレーザ光の
発振が制御され、ダムバーの所望の加工位置にレーザ光
が順次照射される。これにより、常に高い位置決め精度
でかつ高速に所望の加工位置での加工を実施することが
可能となる。しかも、実際の画像を取り込むため、ダム
バーの長手方向のみならず、ダムバーの幅方向の移動制
御も可能となり、レーザ光照射位置のずれによってIC
パッケージの本体(樹脂モールド部分)を損傷する心配
がない。
の一時記憶された加工位置データに基づいてレーザ光の
発振が制御され、ダムバーの所望の加工位置にレーザ光
が順次照射される。これにより、常に高い位置決め精度
でかつ高速に所望の加工位置での加工を実施することが
可能となる。しかも、実際の画像を取り込むため、ダム
バーの長手方向のみならず、ダムバーの幅方向の移動制
御も可能となり、レーザ光照射位置のずれによってIC
パッケージの本体(樹脂モールド部分)を損傷する心配
がない。
【0021】また、或るICパッケージのダムバーをレ
ーザ光照射によって切断する動作と並行して、次に加工
すべきICパッケージのダムバーに対する検出光照射か
ら適正な加工位置データの一時記憶までの一連の動作を
行っておくことにより、加工能率が大幅に向上する。
ーザ光照射によって切断する動作と並行して、次に加工
すべきICパッケージのダムバーに対する検出光照射か
ら適正な加工位置データの一時記憶までの一連の動作を
行っておくことにより、加工能率が大幅に向上する。
【0022】
【発明の実施の形態】本発明の第1の実施形態につい
て、図1〜図8を参照しながら説明する。但し、以下で
は、主に等間隔のピンを有する半導体装置(ICパッケ
ージ)をワークとし、そのダムバーの切断、除去につい
て説明する。
て、図1〜図8を参照しながら説明する。但し、以下で
は、主に等間隔のピンを有する半導体装置(ICパッケ
ージ)をワークとし、そのダムバーの切断、除去につい
て説明する。
【0023】図1に示すように、本実施形態で用いるレ
ーザ加工装置は、レーザ加工ユニット71、搬送ユニッ
ト72、スキャナユニット73から構成されており、基
本的には、被加工物であるワーク1をスキャナユニット
73に設置してダムバー近傍の形状分析と適正な加工位
置データの演算を行い、そのワーク1を搬送ユニット7
2でレーザ加工ユニット71に搬送し、そのレーザ加工
ユニット71においてレーザ光照射によるダムバーの切
断除去を行う。
ーザ加工装置は、レーザ加工ユニット71、搬送ユニッ
ト72、スキャナユニット73から構成されており、基
本的には、被加工物であるワーク1をスキャナユニット
73に設置してダムバー近傍の形状分析と適正な加工位
置データの演算を行い、そのワーク1を搬送ユニット7
2でレーザ加工ユニット71に搬送し、そのレーザ加工
ユニット71においてレーザ光照射によるダムバーの切
断除去を行う。
【0024】レーザ加工ユニット71には、レーザヘッ
ド11、レーザ光源13、加工ヘッド12、ワーク1を
搭載し水平面内(XY平面内)に移動させる搬送手段と
してのXYテーブル21、レーザヘッド11及び加工ヘ
ッド12を上下方向(Z軸方向)に移動させるZテーブ
ル22、メインコントローラ23とディレイ回路24を
有するコントロールユニット25が備えられている。メ
インコントローラ23は、XYテーブル21の水平面内
の移動動作とZテーブル22の上下方向の移動動作とレ
ーザヘッド11及びレーザ光源13によるレーザ光の発
振動作を自動的に制御する。また、XYテーブル21に
はロータリエンコーダ27が取り付けられ、ロータリエ
ンコーダ27からのパルス信号がメインコントローラ2
3に入力されるようになっている。
ド11、レーザ光源13、加工ヘッド12、ワーク1を
搭載し水平面内(XY平面内)に移動させる搬送手段と
してのXYテーブル21、レーザヘッド11及び加工ヘ
ッド12を上下方向(Z軸方向)に移動させるZテーブ
ル22、メインコントローラ23とディレイ回路24を
有するコントロールユニット25が備えられている。メ
インコントローラ23は、XYテーブル21の水平面内
の移動動作とZテーブル22の上下方向の移動動作とレ
ーザヘッド11及びレーザ光源13によるレーザ光の発
振動作を自動的に制御する。また、XYテーブル21に
はロータリエンコーダ27が取り付けられ、ロータリエ
ンコーダ27からのパルス信号がメインコントローラ2
3に入力されるようになっている。
【0025】レーザ電源13は、交流電源部133、安
定化電源部130、コンデンサ部131、スイッチ部1
32、レーザコントローラ26、及びディレイ回路24
を有する。このレーザ電源13では、まず、交流電源部
133から供給された交流電流が安定化電源部130に
供給され、レーザコントローラ26から指令された電圧
値に従って直流に変えられ、コンデンサ部131に供給
される。コンデンサ部131に上記電圧値で供給された
電荷は、ディレイ回路24からのトリガ信号TP1iによ
る所定のパルス幅でのスイッチ部132の開閉動作によ
り、レーザヘッド11に備えられたレーザ励起ランプ1
10に供給される。このパルス状の電荷により上記励起
ランプ110が発光し、これによりレーザ媒体が励起さ
れパルス状のレーザ光が射出される。なお、レーザコン
トローラ26には入出力部260および中央演算部26
1が備えられている。
定化電源部130、コンデンサ部131、スイッチ部1
32、レーザコントローラ26、及びディレイ回路24
を有する。このレーザ電源13では、まず、交流電源部
133から供給された交流電流が安定化電源部130に
供給され、レーザコントローラ26から指令された電圧
値に従って直流に変えられ、コンデンサ部131に供給
される。コンデンサ部131に上記電圧値で供給された
電荷は、ディレイ回路24からのトリガ信号TP1iによ
る所定のパルス幅でのスイッチ部132の開閉動作によ
り、レーザヘッド11に備えられたレーザ励起ランプ1
10に供給される。このパルス状の電荷により上記励起
ランプ110が発光し、これによりレーザ媒体が励起さ
れパルス状のレーザ光が射出される。なお、レーザコン
トローラ26には入出力部260および中央演算部26
1が備えられている。
【0026】図1に示すレーザヘッド11にはビームシ
ャッタ111が内蔵されている。このビームシャッタ1
11は、開閉することによってレーザヘッド11より放
出されるパルス状のレーザ光をON/OFFし、ワーク
1へのレーザ光の照射を制御する。即ちワーク1を加工
する場合にはビームシャッタ111を開き、加工しない
場合にはビームシャッタ111を閉じる。このビームシ
ャッタ111の開閉動作時間は100〜300ms程度
である。またビームシャッタ111の開閉動作の制御
は、レーザコントローラ26から行うが、メインコント
ローラ23からレーザコントローラ26を介して行うこ
とも可能である。また、加工ヘッド12内部には、レー
ザ光の波長に対し高い反射率特性を持つダイクロミラー
や集光レンズ等が備えられており、この部分の構成は従
来のレーザ加工装置の構成と同様である。
ャッタ111が内蔵されている。このビームシャッタ1
11は、開閉することによってレーザヘッド11より放
出されるパルス状のレーザ光をON/OFFし、ワーク
1へのレーザ光の照射を制御する。即ちワーク1を加工
する場合にはビームシャッタ111を開き、加工しない
場合にはビームシャッタ111を閉じる。このビームシ
ャッタ111の開閉動作時間は100〜300ms程度
である。またビームシャッタ111の開閉動作の制御
は、レーザコントローラ26から行うが、メインコント
ローラ23からレーザコントローラ26を介して行うこ
とも可能である。また、加工ヘッド12内部には、レー
ザ光の波長に対し高い反射率特性を持つダイクロミラー
や集光レンズ等が備えられており、この部分の構成は従
来のレーザ加工装置の構成と同様である。
【0027】次に、スキャナユニット73は、スキャナ
コントローラ30、スキャナヘッド31、バッファ3
2、XYテーブル33を備えており、さらにXYテーブ
ル33にはロータリエンコーダ34が取り付けられ、ロ
ータリエンコーダ34からのパルス信号がスキャナコン
トローラ30に入力されるようになっている。スキャナ
ヘッド31には、図2に示すように、ダムバー検出用の
レーザ光を発振するレーザダイオード320、レーザダ
イオード320の電源320a、レーザダイオード32
0からのレーザ光をコリメートするコリメータレンズ3
21、レーザダイオード320の反射光を検出するフォ
トダイオード330、フォトダイオード330の検出信
号を増幅するアンプ331、アンプ331からのトリガ
信号に基づいてワーク1表面に照明光を照射する単波長
ランプ333、単波長ランプ333の電源332、ワー
ク1表面の画像を撮像する撮像素子326およびCCD
カメラ327、CCDカメラ327からの画像情報を画
像処理する画像処理装置335、および光路上の光学部
品である集光レンズ323,334,329,328、
ベンディングミラー322,324、ハーフミラー32
5が備えられている。
コントローラ30、スキャナヘッド31、バッファ3
2、XYテーブル33を備えており、さらにXYテーブ
ル33にはロータリエンコーダ34が取り付けられ、ロ
ータリエンコーダ34からのパルス信号がスキャナコン
トローラ30に入力されるようになっている。スキャナ
ヘッド31には、図2に示すように、ダムバー検出用の
レーザ光を発振するレーザダイオード320、レーザダ
イオード320の電源320a、レーザダイオード32
0からのレーザ光をコリメートするコリメータレンズ3
21、レーザダイオード320の反射光を検出するフォ
トダイオード330、フォトダイオード330の検出信
号を増幅するアンプ331、アンプ331からのトリガ
信号に基づいてワーク1表面に照明光を照射する単波長
ランプ333、単波長ランプ333の電源332、ワー
ク1表面の画像を撮像する撮像素子326およびCCD
カメラ327、CCDカメラ327からの画像情報を画
像処理する画像処理装置335、および光路上の光学部
品である集光レンズ323,334,329,328、
ベンディングミラー322,324、ハーフミラー32
5が備えられている。
【0028】また、ワーク1をスキャナユニット73か
らレーザ加工ユニット71に搬送するための搬送ユニッ
ト72には、搬送装置40、搬送装置40先端に設けら
れた吸着ヘッド41、吸着ヘッド41および搬送装置4
0の動作を制御するPLC(プログラマブルロジックコ
ントローラ)42が備えられている。上記コントロール
ユニット25内部、バッファ32、スキャナコントロー
ラ30の各機器のデータのやりとりの関係を図3に示
す。特に、スキャナコントローラ30からバッファ32
へ、およびバッファ32からメインコントローラ23へ
はそれぞれデータが送られ、逆にメインコントローラ2
3からバッファ32へ、およびバッファ32からスキャ
ナコントローラ30へはそれぞれ同期信号が送られ、各
機器の同期がとられている。
らレーザ加工ユニット71に搬送するための搬送ユニッ
ト72には、搬送装置40、搬送装置40先端に設けら
れた吸着ヘッド41、吸着ヘッド41および搬送装置4
0の動作を制御するPLC(プログラマブルロジックコ
ントローラ)42が備えられている。上記コントロール
ユニット25内部、バッファ32、スキャナコントロー
ラ30の各機器のデータのやりとりの関係を図3に示
す。特に、スキャナコントローラ30からバッファ32
へ、およびバッファ32からメインコントローラ23へ
はそれぞれデータが送られ、逆にメインコントローラ2
3からバッファ32へ、およびバッファ32からスキャ
ナコントローラ30へはそれぞれ同期信号が送られ、各
機器の同期がとられている。
【0029】次に、本実施形態の動作を図4〜図8を用
いて説明する。まず、スキャナユニット73のXYテー
ブル33の所定の位置にワーク1をセットし、そのワー
ク1がセットされた状態でXYテーブル33に備えつけ
られたロータリーエンコーダ34のカウントパルス数を
イニシャライズ(リセット)する。この位置が、図4
(a)のサンプリング開始点Iとなる。そしてXYテー
ブル33を動かすと同時にスキャナコントローラ30か
ら電源320aに指令を送りレーザダイオード320を
ONにする。レーザダイオード320からの検出用レー
ザ光はワーク1のダムバー近傍に照射されるが、ワーク
1をXYテーブル33によって、例えばX軸の正方向に
一定速度Vsで移動させると、検出用レーザ光の照射位
置はワーク1上を図4(a)に示す軌跡5に沿って移動
し、反射した検出用レーザ光はフォトダイオード330
で検出され、フォトダイオード330からはワーク1の
ダムバー近傍のリード配列(リードの有無)に基づく検
出信号が出力され、さらにアンプ331で増幅される。
なお、以下では、図4のダムバー2の長手方向をX軸、
リード4の長手方向をY軸とする。
いて説明する。まず、スキャナユニット73のXYテー
ブル33の所定の位置にワーク1をセットし、そのワー
ク1がセットされた状態でXYテーブル33に備えつけ
られたロータリーエンコーダ34のカウントパルス数を
イニシャライズ(リセット)する。この位置が、図4
(a)のサンプリング開始点Iとなる。そしてXYテー
ブル33を動かすと同時にスキャナコントローラ30か
ら電源320aに指令を送りレーザダイオード320を
ONにする。レーザダイオード320からの検出用レー
ザ光はワーク1のダムバー近傍に照射されるが、ワーク
1をXYテーブル33によって、例えばX軸の正方向に
一定速度Vsで移動させると、検出用レーザ光の照射位
置はワーク1上を図4(a)に示す軌跡5に沿って移動
し、反射した検出用レーザ光はフォトダイオード330
で検出され、フォトダイオード330からはワーク1の
ダムバー近傍のリード配列(リードの有無)に基づく検
出信号が出力され、さらにアンプ331で増幅される。
なお、以下では、図4のダムバー2の長手方向をX軸、
リード4の長手方向をY軸とする。
【0030】上記において、検出用レーザ光の光軸がダ
ムバー2よりも若干外側のリード4を横切るように光学
系を調整しておくことにより、フォトダイオード330
で検出された検出信号の変化はリードで高くスリット部
3で低い出力のフォトダイオード電圧信号となる。この
時、ワーク1のリード4とスリット部3が等ピッチで並
んでいれば、XYテーブル33が一定速度Vsで移動す
ればフォトダイオード330からの検出信号は図のよう
な一定周期の波形として検出されるが、等ピッチで並ん
でいない場合には、検出信号はそのピッチの変化に比例
した時間変化を持つ波形として検出される。
ムバー2よりも若干外側のリード4を横切るように光学
系を調整しておくことにより、フォトダイオード330
で検出された検出信号の変化はリードで高くスリット部
3で低い出力のフォトダイオード電圧信号となる。この
時、ワーク1のリード4とスリット部3が等ピッチで並
んでいれば、XYテーブル33が一定速度Vsで移動す
ればフォトダイオード330からの検出信号は図のよう
な一定周期の波形として検出されるが、等ピッチで並ん
でいない場合には、検出信号はそのピッチの変化に比例
した時間変化を持つ波形として検出される。
【0031】アンプ331で増幅された検出信号はスキ
ャナコントローラ30に入力される。スキャナコントロ
ーラ30は上記検出信号のパルスの立ち下がりエッジに
同期するように画像トリガ信号GTPを発生させ、この
画像トリガ信号GTPに基づいて単波長ランプ333の
電源332をONに、また画像処理装置335の機能を
有効にする。単波長ランプ332がONされると、それ
と同時に照明光に照らされたスキャナヘッド31に対面
する画像がCCDカメラ327を介して画像処理装置3
35に取り込まれ、デジタルデータ化(例えば256階
調のフレームデータに変換)され(図4(b)参照)、
一旦画像処理装置335に内蔵の記憶部に記憶された
後、さらにある所定のスレッシュホールド(敷居値)に
よって二値化される(図4(c))。図4(c)ではH
IGHとLOWで分けている。画像処理装置335にお
ける1画像当たりの取り込み時間は10ms程度、単波
長ランプ332の発光時間は数ms程度とする。ここ
で、XYテーブル33の速度を増加して画像のサンプリ
ング速度を増加するためには、CCDカメラを複数個設
け、フォトダイオード330からの各検出信号に対し、
画像処理装置335は交互にそれぞれのCCDカメラか
らの画像データ入力を切り換えてサンプリングするよう
構成すればよい。
ャナコントローラ30に入力される。スキャナコントロ
ーラ30は上記検出信号のパルスの立ち下がりエッジに
同期するように画像トリガ信号GTPを発生させ、この
画像トリガ信号GTPに基づいて単波長ランプ333の
電源332をONに、また画像処理装置335の機能を
有効にする。単波長ランプ332がONされると、それ
と同時に照明光に照らされたスキャナヘッド31に対面
する画像がCCDカメラ327を介して画像処理装置3
35に取り込まれ、デジタルデータ化(例えば256階
調のフレームデータに変換)され(図4(b)参照)、
一旦画像処理装置335に内蔵の記憶部に記憶された
後、さらにある所定のスレッシュホールド(敷居値)に
よって二値化される(図4(c))。図4(c)ではH
IGHとLOWで分けている。画像処理装置335にお
ける1画像当たりの取り込み時間は10ms程度、単波
長ランプ332の発光時間は数ms程度とする。ここ
で、XYテーブル33の速度を増加して画像のサンプリ
ング速度を増加するためには、CCDカメラを複数個設
け、フォトダイオード330からの各検出信号に対し、
画像処理装置335は交互にそれぞれのCCDカメラか
らの画像データ入力を切り換えてサンプリングするよう
構成すればよい。
【0032】画像処理装置335で二値化された画像処
理データはスキャナーコントローラ30によって演算処
理される。この演算処理の手順を次に説明する。上記の
サンプリング開始点Iをロータリエンコーダ34におけ
るパルス発生の開始点とすると、ロータリエンコーダ3
4の1パルス当たりに相当する長さはVsが一定であれ
ば一義的に決まり、ダムバー2近傍の各部の寸法は上記
ロータリエンコーダ34のパルス数に置き換えることが
できる。図4では、サンプリング開始点Iから各画像ト
リガ信号GTPの発生タイミングまでのロータリエンコ
ーダ34のパルス数をGP1,GP2,GP3,…として
いる。つまりGP1,GP2,GP3,…はリード4の終
端エッジに対応することになる(以下、GP1,GP2,
GP3,…をトリガポイントという)。ここで、ダムバ
ー2の(長手方向の)中央を加工位置Qとするために
は、ダムバー2の長さに対応するパルス数をPDL1,P
DL2,PDL3,…とすると、次式、 Xpi=PDLi/2 … (1) で表されるパルス数Xpiを、トリガポイントGP1,G
P2,GP3,…に加算した値がそれぞれの加工位置Qを
表すパルス数となる。ここでi=1,2,3,…とする
(以下同様)。
理データはスキャナーコントローラ30によって演算処
理される。この演算処理の手順を次に説明する。上記の
サンプリング開始点Iをロータリエンコーダ34におけ
るパルス発生の開始点とすると、ロータリエンコーダ3
4の1パルス当たりに相当する長さはVsが一定であれ
ば一義的に決まり、ダムバー2近傍の各部の寸法は上記
ロータリエンコーダ34のパルス数に置き換えることが
できる。図4では、サンプリング開始点Iから各画像ト
リガ信号GTPの発生タイミングまでのロータリエンコ
ーダ34のパルス数をGP1,GP2,GP3,…として
いる。つまりGP1,GP2,GP3,…はリード4の終
端エッジに対応することになる(以下、GP1,GP2,
GP3,…をトリガポイントという)。ここで、ダムバ
ー2の(長手方向の)中央を加工位置Qとするために
は、ダムバー2の長さに対応するパルス数をPDL1,P
DL2,PDL3,…とすると、次式、 Xpi=PDLi/2 … (1) で表されるパルス数Xpiを、トリガポイントGP1,G
P2,GP3,…に加算した値がそれぞれの加工位置Qを
表すパルス数となる。ここでi=1,2,3,…とする
(以下同様)。
【0033】実際のレーザ光による加工時には、後述す
るように、ディレイ回路24においてXpiに相当する遅
れ時間(に相当するパルス数)Tdiだけ各画像トリガ信
号GTP発生時刻(に相当するパルス数)に与えること
になるが、スキャナーコントローラ30ではこの遅れ時
間に相当するパルス数Tdiも演算しておく。このTdiは
前述のXpiと後述するXYテーブル21の速度Vsを用
いて、 Tdi=Xpi/Vs−σt … (2) となる。但しσtは、後述するスイッチ部132におけ
る遅れやレーザヘッド51におけるレーザ光発振までの
遅れ等を総合した遅延時間(実際はパルス数で表す)で
あり、またVsは、メインコントローラ23において設
定され、そのデータがスキャナーコントローラ30に予
め送られる(スキャナーコントローラ30に直接設定し
てもよい)。
るように、ディレイ回路24においてXpiに相当する遅
れ時間(に相当するパルス数)Tdiだけ各画像トリガ信
号GTP発生時刻(に相当するパルス数)に与えること
になるが、スキャナーコントローラ30ではこの遅れ時
間に相当するパルス数Tdiも演算しておく。このTdiは
前述のXpiと後述するXYテーブル21の速度Vsを用
いて、 Tdi=Xpi/Vs−σt … (2) となる。但しσtは、後述するスイッチ部132におけ
る遅れやレーザヘッド51におけるレーザ光発振までの
遅れ等を総合した遅延時間(実際はパルス数で表す)で
あり、またVsは、メインコントローラ23において設
定され、そのデータがスキャナーコントローラ30に予
め送られる(スキャナーコントローラ30に直接設定し
てもよい)。
【0034】さらに、ワーク1の他の3辺のダムバー2
に関しては、図5に示すように90°ずつ相対的な位置
を回転させて軌跡6〜軌跡8に沿って検出用レーザ光を
走査させ、同様のサンプリング(検出光照射から加工位
置データの一時記憶までの一連の動作)を行なう。
に関しては、図5に示すように90°ずつ相対的な位置
を回転させて軌跡6〜軌跡8に沿って検出用レーザ光を
走査させ、同様のサンプリング(検出光照射から加工位
置データの一時記憶までの一連の動作)を行なう。
【0035】スキャナーコントローラ30で上記のよう
に演算したGPi,Xpi,Tdiは、例えば図6に示す伝
送データのフォーマットでバッファ32に一時的に記憶
される。
に演算したGPi,Xpi,Tdiは、例えば図6に示す伝
送データのフォーマットでバッファ32に一時的に記憶
される。
【0036】上記のようにしてサンプリングが終了する
と、スキャナコントローラ30よりメインコントローラ
23にサンプリング終了信号が送られ、メインコントロ
ーラ23はPLC42にロード信号を送出する。する
と、PLC42は搬送装置40および吸着ヘッド41
に、ワーク1を搬送するための指令を出す。即ち、搬送
ユニット72の吸着ヘッド41でワーク1を把持し、そ
のワーク1をスキャナユニット73からレーザ加工ユニ
ット71のXYテーブル21に搬送する。この時、スキ
ャナユニット73におけるサンプリング開始点Iが実際
のレーザ加工時の基準点(加工ヘッド12の走査開始
点)と一致するように、精度よく位置決めされるように
搬送装置40を設定しておく。この場合、ワーク1は治
具等に載せておき、その治具ごと搬送すればよい。この
ようにしてワーク1がYテーブル21にセットされる
と、バッファ32に一時記憶されていたデータはメイン
コントローラ23に読み込まれ、図7に示す手順でレー
ザ加工処理が行なわれる。
と、スキャナコントローラ30よりメインコントローラ
23にサンプリング終了信号が送られ、メインコントロ
ーラ23はPLC42にロード信号を送出する。する
と、PLC42は搬送装置40および吸着ヘッド41
に、ワーク1を搬送するための指令を出す。即ち、搬送
ユニット72の吸着ヘッド41でワーク1を把持し、そ
のワーク1をスキャナユニット73からレーザ加工ユニ
ット71のXYテーブル21に搬送する。この時、スキ
ャナユニット73におけるサンプリング開始点Iが実際
のレーザ加工時の基準点(加工ヘッド12の走査開始
点)と一致するように、精度よく位置決めされるように
搬送装置40を設定しておく。この場合、ワーク1は治
具等に載せておき、その治具ごと搬送すればよい。この
ようにしてワーク1がYテーブル21にセットされる
と、バッファ32に一時記憶されていたデータはメイン
コントローラ23に読み込まれ、図7に示す手順でレー
ザ加工処理が行なわれる。
【0037】またこの時、スキャナユニット73のXY
テーブル33には次に加工すべきワークがセットされ、
以下に説明する加工テーブル21上でのワーク1の加工
とは非同期に、前記次のワークに関するサンプリング
(検出用レーザ光の照射から画像処理まで)が並行して
行われる。
テーブル33には次に加工すべきワークがセットされ、
以下に説明する加工テーブル21上でのワーク1の加工
とは非同期に、前記次のワークに関するサンプリング
(検出用レーザ光の照射から画像処理まで)が並行して
行われる。
【0038】まず、加工テーブル21をXYテーブル3
3と同様に移動させ、加工ヘッド12をワーク1上で走
査させ、かつバッファ32からメインコントローラ23
にデータを読み込む。この時、XYテーブル21の速度
VとXYテーブル33の速度Vsとを同一にし、ロータ
リエンコーダ27とロータリエンコーダ34とのパルス
周波数とを同一にしておけば、以下の処理がしやすい。
そして、XYテーブル21に取り付けられたロータリエ
ンコーダ27からのパルス信号がメインコントローラ2
3でカウントされ、そのパルス数がトリガポイントGP
1になった時にトリガ信号TP01をディレイ回路24に
出力する。以下、各トリガポイントGPiに対してTP
0iを出力する。
3と同様に移動させ、加工ヘッド12をワーク1上で走
査させ、かつバッファ32からメインコントローラ23
にデータを読み込む。この時、XYテーブル21の速度
VとXYテーブル33の速度Vsとを同一にし、ロータ
リエンコーダ27とロータリエンコーダ34とのパルス
周波数とを同一にしておけば、以下の処理がしやすい。
そして、XYテーブル21に取り付けられたロータリエ
ンコーダ27からのパルス信号がメインコントローラ2
3でカウントされ、そのパルス数がトリガポイントGP
1になった時にトリガ信号TP01をディレイ回路24に
出力する。以下、各トリガポイントGPiに対してTP
0iを出力する。
【0039】次に、ディレイ回路24においては、トリ
ガ信号TP0iにTdiに相当する遅れ時間を与えてトリガ
信号TP1iを生成し、スイッチ部132に出力する。こ
こまでの各信号の流れを図8にブロック図で示す。その
後は前述と同様にしてレーザ光の発振動作が行われる。
実際には、各回路内部の演算処理やコンデンサの充放電
に若干の時間がかかり、スイッチ部132における遅れ
やレーザヘッド51におけるレーザ光発振までの遅れも
生じる。従って図7では、TP1iの生成タイミングから
レーザ光照射までの遅れ時間をσtとして表している。
なお、XYテーブル21の速度VがXYテーブル33の
速度Vsと違っていてもよいが、違う速度の場合にはロ
ータリエンコーダ27とロータリエンコーダ34のパル
ス数が同一の距離に対応するように調整する必要があ
る。また、図中のトリガ信号TP1i及びレーザ光は実際
にある幅を持ったパルス波形を有するが、他の信号に比
べて非常にそのパルス幅が短いために、図では線状に示
してある。
ガ信号TP0iにTdiに相当する遅れ時間を与えてトリガ
信号TP1iを生成し、スイッチ部132に出力する。こ
こまでの各信号の流れを図8にブロック図で示す。その
後は前述と同様にしてレーザ光の発振動作が行われる。
実際には、各回路内部の演算処理やコンデンサの充放電
に若干の時間がかかり、スイッチ部132における遅れ
やレーザヘッド51におけるレーザ光発振までの遅れも
生じる。従って図7では、TP1iの生成タイミングから
レーザ光照射までの遅れ時間をσtとして表している。
なお、XYテーブル21の速度VがXYテーブル33の
速度Vsと違っていてもよいが、違う速度の場合にはロ
ータリエンコーダ27とロータリエンコーダ34のパル
ス数が同一の距離に対応するように調整する必要があ
る。また、図中のトリガ信号TP1i及びレーザ光は実際
にある幅を持ったパルス波形を有するが、他の信号に比
べて非常にそのパルス幅が短いために、図では線状に示
してある。
【0040】ワーク1の他の3辺のダムバー2に関して
は、図6で説明したのと同様に90°ずつ相対的な位置
を回転させて上記と同様のレーザ光発振制御をしながら
XYテーブル21を移動し、同様のレーザ光によるダム
バー2の切断、除去を行なう。
は、図6で説明したのと同様に90°ずつ相対的な位置
を回転させて上記と同様のレーザ光発振制御をしながら
XYテーブル21を移動し、同様のレーザ光によるダム
バー2の切断、除去を行なう。
【0041】さらに、上記ワーク1全ての辺におけるダ
ムバー切断、除去が完了すると、XYテーブル33より
次のワークがXYテーブル21上に搬送され、そのワー
クのダムバーの切断、除去が実施される。またその時、
XYテーブル33にはその次に加工すべきワークがセッ
トされ、加工テーブル21上でのワーク1の加工とは非
同期に、前述と同様の手順でサンプリング(検出用レー
ザ光の照射から画像処理まで)が並行して行われる。つ
まり、あるワークのダムバーをレーザ光照射によって切
断する動作と並行して、次に加工すべきワークのダムバ
ーに対するサンプリングを行うことになる。
ムバー切断、除去が完了すると、XYテーブル33より
次のワークがXYテーブル21上に搬送され、そのワー
クのダムバーの切断、除去が実施される。またその時、
XYテーブル33にはその次に加工すべきワークがセッ
トされ、加工テーブル21上でのワーク1の加工とは非
同期に、前述と同様の手順でサンプリング(検出用レー
ザ光の照射から画像処理まで)が並行して行われる。つ
まり、あるワークのダムバーをレーザ光照射によって切
断する動作と並行して、次に加工すべきワークのダムバ
ーに対するサンプリングを行うことになる。
【0042】以上のような本実施形態によれば、スキャ
ナユニット73でダムバー2近傍の画像を取り込んで適
正な加工位置データGPi,Xpi,Tdiの演算を行い、
それらをバッファ32に一時的に記憶しておき、そのデ
ータを用いてレーザ加工ユニット71でダムバー2のレ
ーザ光照射による加工を行なうので、検出光源自体の光
量の変動やダムバー2近傍の表面状態による反射光量の
変動が有る場合や、さらにダムバー2近傍に異物が付着
している場合でも、それらを考慮した加工位置の補正が
可能となり、適正な加工位置データに基づいて常に高い
位置決め精度でかつ高速に所望の加工位置での加工を実
施することができる。
ナユニット73でダムバー2近傍の画像を取り込んで適
正な加工位置データGPi,Xpi,Tdiの演算を行い、
それらをバッファ32に一時的に記憶しておき、そのデ
ータを用いてレーザ加工ユニット71でダムバー2のレ
ーザ光照射による加工を行なうので、検出光源自体の光
量の変動やダムバー2近傍の表面状態による反射光量の
変動が有る場合や、さらにダムバー2近傍に異物が付着
している場合でも、それらを考慮した加工位置の補正が
可能となり、適正な加工位置データに基づいて常に高い
位置決め精度でかつ高速に所望の加工位置での加工を実
施することができる。
【0043】また、或るワーク1(ICパッケージ)の
ダムバー2をレーザ光で切断する動作と並行して、次に
加工すべきワークに対するサンプリング(検出光照射か
ら適正な加工位置データの一時記憶までの一連の動作)
を行っておくので、加工能率を大幅に向上することがで
きる。
ダムバー2をレーザ光で切断する動作と並行して、次に
加工すべきワークに対するサンプリング(検出光照射か
ら適正な加工位置データの一時記憶までの一連の動作)
を行っておくので、加工能率を大幅に向上することがで
きる。
【0044】さらに、リード4のピッチとXYテーブル
21の移動速度とで決まるレーザ光の発振周期程度の短
時間でダムバー2を切断することができ、確実かつ高速
な加工が可能となる。
21の移動速度とで決まるレーザ光の発振周期程度の短
時間でダムバー2を切断することができ、確実かつ高速
な加工が可能となる。
【0045】次に、本発明の第2の実施形態について、
図9により説明する。本実施形態では、前述の実施形態
のようなX軸方向の画像処理およびデータ処理に加え、
Y軸方向の画像処理およびデータ処理も行なう。但し、
X軸方向のデータ処理に関しては前述の実施形態で説明
済みであるので、ここではY軸方向のデータ処理を中心
に説明する。
図9により説明する。本実施形態では、前述の実施形態
のようなX軸方向の画像処理およびデータ処理に加え、
Y軸方向の画像処理およびデータ処理も行なう。但し、
X軸方向のデータ処理に関しては前述の実施形態で説明
済みであるので、ここではY軸方向のデータ処理を中心
に説明する。
【0046】画像処理装置335への画像の取り込み、
デジタルデータ化、および二値化までは第1の実施形態
とほぼ同様に行われ、スキャナーコントローラ30では
この画像処理データをもとに、X軸方向だけでなくY軸
方向に関する演算処理も行なわれる。まず、画像処理デ
ータをもとに、i番目のダムバー2周辺の形状に基づく
Y軸方向の各部分の寸法を、ロータリエンコーダ34の
パルス数に変換する。ロータリエンコーダ34の1パル
ス当たりに相当する長さは、前述のようにVsが一定で
あれば一義的に決まるため、画像処理データをもとにす
ればY軸方向の寸法もロータリエンコーダ34のパルス
数に置き換えることができる。そして、図9のように、
i番目のダムバー2の幅に対応するロータリエンコーダ
34のパルス数がPDWi、検出用レーザ光走査時の軌跡
5からダムバー2のエッジまでの距離に対応するパルス
数がPsi、ワーク1(ICパッケージ)の樹脂モールド
部1aのエッジからダムバー2のエッジまでの距離に対
応するパルス数がPriであり、また加工用レーザ光のス
ポット100の長径に対応するパルス数がPbである場
合、本実施形態では、検出用レーザ光走査時の軌跡5か
ら加工位置Qまでの距離に相当するパルス数Ypiを以下
のように設定する。
デジタルデータ化、および二値化までは第1の実施形態
とほぼ同様に行われ、スキャナーコントローラ30では
この画像処理データをもとに、X軸方向だけでなくY軸
方向に関する演算処理も行なわれる。まず、画像処理デ
ータをもとに、i番目のダムバー2周辺の形状に基づく
Y軸方向の各部分の寸法を、ロータリエンコーダ34の
パルス数に変換する。ロータリエンコーダ34の1パル
ス当たりに相当する長さは、前述のようにVsが一定で
あれば一義的に決まるため、画像処理データをもとにす
ればY軸方向の寸法もロータリエンコーダ34のパルス
数に置き換えることができる。そして、図9のように、
i番目のダムバー2の幅に対応するロータリエンコーダ
34のパルス数がPDWi、検出用レーザ光走査時の軌跡
5からダムバー2のエッジまでの距離に対応するパルス
数がPsi、ワーク1(ICパッケージ)の樹脂モールド
部1aのエッジからダムバー2のエッジまでの距離に対
応するパルス数がPriであり、また加工用レーザ光のス
ポット100の長径に対応するパルス数がPbである場
合、本実施形態では、検出用レーザ光走査時の軌跡5か
ら加工位置Qまでの距離に相当するパルス数Ypiを以下
のように設定する。
【0047】 Ypi=PDWi/2+Psi (Pri+PDWi/2≧Pbの時) … (3) Ypi=Psi+Pri+PDWi−Pb/2 (Pri+PDWi/2<Pb/2の時) … (4) 但しここでは、例えばシリンドリカルレンズ等を用いて
スポットと100が長円形となるようにレーザ光を変換
しているものとする。このようにして演算されたY
piは、他のデータGPi,Xpi,Tdi等と共に図5と同
様の伝送データフォーマットでバッファ32に一時的に
記憶され、レーザ光によるダムバー2の切断、除去に利
用される。
スポットと100が長円形となるようにレーザ光を変換
しているものとする。このようにして演算されたY
piは、他のデータGPi,Xpi,Tdi等と共に図5と同
様の伝送データフォーマットでバッファ32に一時的に
記憶され、レーザ光によるダムバー2の切断、除去に利
用される。
【0048】このようにYpiを決め、Ypiが満たされる
ようにXYテーブル21のY軸方向の移動を制御すれ
ば、加工誤差や樹脂封止時の熱影響その他の原因で、Y
軸方向の寸法(前述のPDWi,Psi,Priに対応)にば
らつきがあった場合においても、そのばらつきに応じて
加工時のXYテーブル21のY軸方向の移動制御(補
正)をさせることができ、樹脂モールド部1aにレーザ
光が当たらないようにすることができる。従って、Y軸
方向のばらつきの影響でレーザ光が樹脂モールド部1a
やその内部に損傷を与える不具合を回避することができ
る。さらに上記により、ダムバー2と同時に、そのダム
バー2とリード4で囲まれた部分の樹脂も適切に除去す
ることができる。
ようにXYテーブル21のY軸方向の移動を制御すれ
ば、加工誤差や樹脂封止時の熱影響その他の原因で、Y
軸方向の寸法(前述のPDWi,Psi,Priに対応)にば
らつきがあった場合においても、そのばらつきに応じて
加工時のXYテーブル21のY軸方向の移動制御(補
正)をさせることができ、樹脂モールド部1aにレーザ
光が当たらないようにすることができる。従って、Y軸
方向のばらつきの影響でレーザ光が樹脂モールド部1a
やその内部に損傷を与える不具合を回避することができ
る。さらに上記により、ダムバー2と同時に、そのダム
バー2とリード4で囲まれた部分の樹脂も適切に除去す
ることができる。
【0049】ところで、第1の実施形態の通りにレーザ
光の発振タイミングを制御するためには、XYテーブル
21のX軸方向の速度は常に一定になるよう制御される
必要があるが、本実施形態の場合には、XYテーブル2
1はYpiの値に応じて若干Y軸方向に蛇行しながら移動
することになる。ところが、通常はY軸方向の移動量、
つまりYpiのばらつきは高々数10μm程度であり、X
軸方向のXpiのばらつきに比べて十分小さいので、X軸
方向の速度を一定に保持するような制御は可能である。
光の発振タイミングを制御するためには、XYテーブル
21のX軸方向の速度は常に一定になるよう制御される
必要があるが、本実施形態の場合には、XYテーブル2
1はYpiの値に応じて若干Y軸方向に蛇行しながら移動
することになる。ところが、通常はY軸方向の移動量、
つまりYpiのばらつきは高々数10μm程度であり、X
軸方向のXpiのばらつきに比べて十分小さいので、X軸
方向の速度を一定に保持するような制御は可能である。
【0050】また、ワーク1の他の3辺のダムバー2に
関しては、第1の実施形態と同様に90°ずつ相対的な
位置を回転させてサンプリング、および加工を行なう。
関しては、第1の実施形態と同様に90°ずつ相対的な
位置を回転させてサンプリング、および加工を行なう。
【0051】以上のような本実施形態によれば、第1の
実施形態と同様の効果が得られるだけでなく、スキャナ
ユニット73で取り込んだ画像を基にY軸方向(リード
4の長手方向に平行な方向)の適正な加工位置データY
pi演算し、それらを他のデータGPi,Xpi,Tdi等と
共にバッファ32に一時的に記憶し、そのデータを用い
てレーザ加工ユニット71でダムバー2のレーザ光照射
による加工を行なうので、ダムバー2の長手方向のみな
らず、ダムバー2の幅方向の移動制御も可能となり、レ
ーザ光照射位置の相対的なずれによってワーク1の樹脂
モールド部1a(従ってICパッケージ本体)を損傷す
る不具合を回避することができる。
実施形態と同様の効果が得られるだけでなく、スキャナ
ユニット73で取り込んだ画像を基にY軸方向(リード
4の長手方向に平行な方向)の適正な加工位置データY
pi演算し、それらを他のデータGPi,Xpi,Tdi等と
共にバッファ32に一時的に記憶し、そのデータを用い
てレーザ加工ユニット71でダムバー2のレーザ光照射
による加工を行なうので、ダムバー2の長手方向のみな
らず、ダムバー2の幅方向の移動制御も可能となり、レ
ーザ光照射位置の相対的なずれによってワーク1の樹脂
モールド部1a(従ってICパッケージ本体)を損傷す
る不具合を回避することができる。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば、ダムバーへのレーザ光
照射に先立って、予めダムバー近傍の形状分析と適正な
加工位置データの演算を行っておき、そのデータを一旦
記憶し、そのデータを用いて実際のダムバーのレーザ光
による加工を行なうので、適正な加工位置データに基づ
いて常に高い位置決め精度でかつ高速に所望の加工位置
での加工を実施することができる。また、或るICパッ
ケージのダムバーを切断する動作と並行して、次に加工
すべきワークに対するサンプリングを行っておくので、
加工能率を大幅に向上することができる。
照射に先立って、予めダムバー近傍の形状分析と適正な
加工位置データの演算を行っておき、そのデータを一旦
記憶し、そのデータを用いて実際のダムバーのレーザ光
による加工を行なうので、適正な加工位置データに基づ
いて常に高い位置決め精度でかつ高速に所望の加工位置
での加工を実施することができる。また、或るICパッ
ケージのダムバーを切断する動作と並行して、次に加工
すべきワークに対するサンプリングを行っておくので、
加工能率を大幅に向上することができる。
【0053】さらに、リードのピッチと加工速度とで決
まるレーザ光の発振周期程度の短時間でダムバーを切断
することができ、確実かつ高速な加工が可能となる。
まるレーザ光の発振周期程度の短時間でダムバーを切断
することができ、確実かつ高速な加工が可能となる。
【図1】本発明の第1の実施形態によるダムバー加工装
置の構成の概略図である。
置の構成の概略図である。
【図2】図1に示すスキャナヘッド周辺の構成を示す図
である。
である。
【図3】コントロールユニット内部、バッファ、スキャ
ナコントローラの各機器のデータのやりとりの関係を示
す図である。
ナコントローラの各機器のデータのやりとりの関係を示
す図である。
【図4】図2に示すスキャナコントローラにおける信号
処理を説明する図である。
処理を説明する図である。
【図5】ICパッケージの4つの各辺についてサンプリ
ングする状況を示す図である。
ングする状況を示す図である。
【図6】バッファに一時的に記憶すべき伝送データのフ
ォーマットの一例を示す図である。
ォーマットの一例を示す図である。
【図7】バッファのデータを用いてレーザ加工処理を行
なう手順を示す図である。
なう手順を示す図である。
【図8】ディレイ回路前後の各信号の流れを示す図であ
る。
る。
【図9】本発明の第2の実施形態を説明する図であっ
て、Y軸方向の画像処理およびデータ処理の要領を説明
する図である。
て、Y軸方向の画像処理およびデータ処理の要領を説明
する図である。
【図10】従来のレーザ加工装置の構成の概略図であ
る。
る。
【図11】(a)はダムバーを有するICパッケージを
示す図であり、(b)は(a)のB部拡大図である。
示す図であり、(b)は(a)のB部拡大図である。
【符号の説明】 1 ワーク(ICパッケージ) 2 ダムバー 3 スリット 4 リード 5 (検出用レーザ光の)軌跡 6,7,8 (検出用レーザ光)軌跡 11 レーザヘッド 12 加工ヘッド 13 レーザ電源 21 XYテーブル 22 Zテーブル 23 メインコントローラ 24 ディレイ回路 25 コントロールユニット 26 レーザコントローラ 27 ロータリエンコーダ 30 スキャナコントローラ 31 スキャナヘッド 32 バッファ 33 XYテーブル 34 ロータリエンコーダ 40 搬送装置 41 吸着ヘッド 42 PLC(プログラマブルロジックコントローラ) 71 レーザ加工ユニット 72 搬送ユニット 73 スキャナユニット 110 励起ランプ 111 ビームシャッタ 130 安定化電源部 131 コンデンサ部 132 スイッチ部 133 交流電源部 260 入出力部 261 中央演算部 320 レーザダイオード 320a 電源 321 コリメータレンズ 322 ベンディングミラー 323 集光レンズ 324 ベンディングミラー 325 ハーフミラー 326 撮像素子 327 CCDカメラ 328 集光レンズ 329 集光レンズ 330 フォトダイオード 331 アンプ 332 電源 333 単波長ランプ 334 集光レンズ 335 画像処理装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥村 信也 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 下村 義昭 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内
Claims (3)
- 【請求項1】リードフレームおよび半導体チップを樹脂
モールドで封止したICパッケージを移動させ、そのI
Cパッケージのダムバーにおける加工位置を決定し、レ
ーザ発振器より発生させたパルス状のレーザ光照射によ
り前記ダムバーを切断するダムバー加工方法において、 前記ダムバーへのレーザ光照射に先立って、検出光を前
記ダムバーに照射しながらその検出光による検出位置を
前記ダムバーに沿って走査し、 前記検出光の反射光を検出して前記ダムバー近傍におけ
る材料の有無に対応する検出信号を発生させ、 前記検出信号に基づいて前記ダムバー近傍の画像を取り
込み、 取り込んだ前記画像をデータ化し、そのデータをもとに
前記ダムバー近傍の形状を分析して適正な加工位置デー
タを演算し、 前記加工位置データを一時的に記憶し、 一時的に記憶された前記加工位置データに基づき、前記
ダムバーの所望の加工位置に前記レーザ光が順次照射さ
れるようそのレーザ光の発振を制御することを特徴とす
るダムバー加工方法。 - 【請求項2】請求項1記載のダムバー加工方法におい
て、或るICパッケージのダムバーを前記加工位置デー
タに基づくレーザ光照射によって切断する動作と並行し
て、次に加工すべきICパッケージのダムバーに対する
検出光照射から適正な加工位置データの一時記憶までの
一連の動作を行うことを特徴とするダムバー加工方法。 - 【請求項3】パルス状のレーザ光を発振するレーザ発振
器と、前記レーザ光を被加工物の加工位置まで誘導する
加工光学系と、前記被加工物を移動させその加工位置を
決定する加工用移動手段とを備え、リードフレームおよ
び半導体チップを樹脂モールドで封止したICパッケー
ジのダムバーを切断するダムバー加工装置において、 前記ダムバー近傍における材料の有無を検出するための
検出光を発生する検出光発生手段と、 前記ICパッケージを載置しかつ移動させて前記検出光
による検出位置を決定する検出用移動手段と、 前記検出光の反射光を検出して対応する検出信号を発生
する検出信号発生手段と、 前記検出信号に基づいて前記ダムバー近傍の画像を取り
込む撮像手段と、 前記撮像手段で取り込んだ画像をデータ化し、そのデー
タをもとに前記ダムバー近傍の形状を分析して適正な加
工位置データを演算する画像処理手段と、 前記加工位置データを一時的に記憶しておく記憶手段
と、 前記ICパッケージを前記検出用移動手段から前記加工
用移動手段の所定位置に搬送し位置決めする搬送手段
と、 前記記憶手段に記憶された加工位置データに基づき、前
記加工用移動手段に位置決めされたダムバーの所望の加
工位置に前記レーザ光が照射されるようそのレーザ光の
発振を制御する制御手段とを有することを特徴とするダ
ムバー加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9020802A JPH10216975A (ja) | 1997-02-03 | 1997-02-03 | ダムバー加工方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9020802A JPH10216975A (ja) | 1997-02-03 | 1997-02-03 | ダムバー加工方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10216975A true JPH10216975A (ja) | 1998-08-18 |
Family
ID=12037191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9020802A Pending JPH10216975A (ja) | 1997-02-03 | 1997-02-03 | ダムバー加工方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10216975A (ja) |
-
1997
- 1997-02-03 JP JP9020802A patent/JPH10216975A/ja active Pending
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