JPH10221804A - Silver halide photographic sensitive material and its processing method - Google Patents
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 311
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 100
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 100
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title description 5
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 57
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 40
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 38
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 38
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 30
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 24
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 claims abstract description 7
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 49
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 32
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 24
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 19
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 18
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 claims description 12
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 11
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 94
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 42
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 25
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 21
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 19
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 19
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 19
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 19
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 19
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 13
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 12
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 11
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 11
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 11
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 11
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 10
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 9
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 9
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 8
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 7
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 7
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 7
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 7
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 6
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 6
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 6
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 6
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 5
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 4
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000004010 onium ions Chemical group 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N p-toluenesulfonic acid Substances CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 3
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 3
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 3
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 3
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 3
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 description 3
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 238000012552 review Methods 0.000 description 3
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 3
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 3
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003109 Disodium ethylene diamine tetraacetate Substances 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical group C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005133 alkynyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010219 correlation analysis Methods 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 2
- 235000019301 disodium ethylene diamine tetraacetate Nutrition 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 229910001411 inorganic cation Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 2
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical compound CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical class OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 2
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical compound [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 2
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Chemical group COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 2
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 125000004426 substituted alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000213 sulfino group Chemical group [H]OS(*)=O 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003452 thorium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005147 toluenesulfonyl group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)*)C 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-O triethanolammonium Chemical compound OCC[NH+](CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 2
- KBMBVTRWEAAZEY-UHFFFAOYSA-N trisulfane Chemical compound SSS KBMBVTRWEAAZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- FIARMZDBEGVMLV-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanolate Chemical group [O-]C(F)(F)C(F)(F)F FIARMZDBEGVMLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 100676-05-9 Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC1C(O)C(O)C(O)C(OC2C(OC(O)C(O)C2O)CO)O1 OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZGKAASZIMOAMU-UHFFFAOYSA-N 124177-85-1 Chemical group NP(=O)=O UZGKAASZIMOAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FITNPEDFWSPOMU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrotriazolo[4,5-b]pyridin-5-one Chemical class OC1=CC=C2NN=NC2=N1 FITNPEDFWSPOMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFZYIUUQBHRNV-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydrooxadiazole Chemical class C1ONN=C1 RLFZYIUUQBHRNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1,3-oxazole-4-carbaldehyde Chemical compound FC1=CC=CC(C=2OC=C(C=O)N=2)=C1 BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)phenol Chemical class CNC1=CC=CC=C1O JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVXHQHGWBAHSSF-UHFFFAOYSA-L 2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate;hydron;iron(2+) Chemical class [H+].[H+].[Fe+2].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O JVXHQHGWBAHSSF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TYKKIQQEFFNJPP-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,3-bis(ethenyl)phenyl]methyl]prop-2-enoic acid;buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.OC(=O)C(=C)CC1=CC=CC(C=C)=C1C=C TYKKIQQEFFNJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCDBYAPSWOPDRN-UHFFFAOYSA-N 2-[dichloro(fluoro)methyl]sulfanylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)F)C(=O)C2=C1 NCDBYAPSWOPDRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 2-nitro-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC([N+](=O)[O-])=NC2=C1 KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNHFAGRBSMMFKL-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3,7-dihydropurin-6-one Chemical compound O=C1NC(=S)NC2=C1NC=N2 XNHFAGRBSMMFKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPVSFOQHSFOPLN-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trimethoxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COC(OC)(OC)CCOC(=O)C(C)=C NPVSFOQHSFOPLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- JTURATSJVPIURD-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-benzo[g]indazole Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C([N+](=O)[O-])=NN2 JTURATSJVPIURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMFVVPBBEDMZQI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1,3-benzothiazole Chemical compound C1CCCC2=C1N=CS2 RMFVVPBBEDMZQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICZQPMMRUBWVAB-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1,3-benzoxazole Chemical compound C1CCCC2=C1N=CO2 ICZQPMMRUBWVAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPWZZDMHRLHKMS-UHFFFAOYSA-N 4,6-dichloro-2-hydroxy-1h-triazine Chemical compound ON1NC(Cl)=CC(Cl)=N1 LPWZZDMHRLHKMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000242 4-chlorobenzoyl group Chemical group ClC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-M 4-hydroxybenzoate Chemical compound OC1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=CC=C1 ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOHPJVZVZNYFRH-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine Chemical compound N1=C(C)C=CN2N=CN=C21 DOHPJVZVZNYFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAHAMKQVODCJTO-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound CCCC1=NC(=S)NN1 ZAHAMKQVODCJTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHVOFCPOXNYVCE-UHFFFAOYSA-N 6-amino-7,9-dihydropurine-8-thione Chemical compound NC1=NC=NC2=C1NC(=S)N2 BHVOFCPOXNYVCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical group NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MPVRORWYNLKNOK-UHFFFAOYSA-N C(C)OC(C1C[SiH2]1)(OCC)OCC Chemical compound C(C)OC(C1C[SiH2]1)(OCC)OCC MPVRORWYNLKNOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBGYRZXSSHUWJI-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)OCC1CO1.C(C)OC(C=C)=O Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)OCC1CO1.C(C)OC(C=C)=O BBGYRZXSSHUWJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZINUTLTLVMGKC-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)OCC.C(C(=C)C)(=O)OC.C(C=C)#N.C(=C)(Cl)Cl Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)OCC.C(C(=C)C)(=O)OC.C(C=C)#N.C(=C)(Cl)Cl KZINUTLTLVMGKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMSISIQZCKDBJ-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)N1N=NN=C1S.SC=1SC2=C(N1)C=CC=C2 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1N=NN=C1S.SC=1SC2=C(N1)C=CC=C2 OHMSISIQZCKDBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-araboascorbic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- MDNWOSOZYLHTCG-UHFFFAOYSA-N Dichlorophen Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1CC1=CC(Cl)=CC=C1O MDNWOSOZYLHTCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 description 1
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000000996 L-ascorbic acids Chemical class 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N Maltose Natural products O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEFQLINVKFYRCS-UHFFFAOYSA-N Triclosan Chemical compound OC1=CC(Cl)=CC=C1OC1=CC=C(Cl)C=C1Cl XEFQLINVKFYRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005108 alkenylthio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N ammonium thiocyanate Chemical compound [NH4+].[S-]C#N SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJLDPBXWNCCXGM-UHFFFAOYSA-N benzo[f][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2C=C(SC=N3)C3=CC2=C1 HJLDPBXWNCCXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYTPOXPRHJKGHD-UHFFFAOYSA-N benzo[f][1,3]benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C=C(OC=N3)C3=CC2=C1 GYTPOXPRHJKGHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N beta-maltose Chemical compound OC[C@H]1O[C@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N bis($l^{2}-silanylidene)molybdenum Chemical compound [Si]=[Mo]=[Si] YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- PLOYJEGLPVCRAJ-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enoic acid;styrene Chemical compound C=CC=C.OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 PLOYJEGLPVCRAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCS(N)(=O)=O OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical class COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010418 carrageenan Nutrition 0.000 description 1
- 239000000679 carrageenan Substances 0.000 description 1
- 229920001525 carrageenan Polymers 0.000 description 1
- 229940113118 carrageenan Drugs 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052589 chlorapatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001990 dicarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229960003887 dichlorophen Drugs 0.000 description 1
- DTDCCPMQHXRFFI-UHFFFAOYSA-N dioxido(dioxo)chromium lanthanum(3+) Chemical compound [La+3].[La+3].[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O DTDCCPMQHXRFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L dipotassium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=S FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- COMFSPSZVXMTCM-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-sulfonimidic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(N)(=O)=O COMFSPSZVXMTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009510 drug design Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000007515 enzymatic degradation Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052675 erionite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004318 erythorbic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- PROQIPRRNZUXQM-ZXXIGWHRSA-N estriol Chemical compound OC1=CC=C2[C@H]3CC[C@](C)([C@H]([C@H](O)C4)O)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 PROQIPRRNZUXQM-ZXXIGWHRSA-N 0.000 description 1
- ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonimidic acid Chemical compound CCS(N)(=O)=O ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 235000001727 glucose Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 229910001683 gmelinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- RMSHYQAVCSUECE-UHFFFAOYSA-N hexane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCCCS(N)(=O)=O RMSHYQAVCSUECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229910052588 hydroxylapatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- FZWBNHMXJMCXLU-BLAUPYHCSA-N isomaltotriose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@H]1OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O)O1 FZWBNHMXJMCXLU-BLAUPYHCSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 235000014666 liquid concentrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002160 maltose Drugs 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Chemical group [CH2]OC1=CC=CC=C1 HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000004092 methylthiomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 229910021343 molybdenum disilicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- PVVUWCYTDNBWJC-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-n-methyldodecan-1-amine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[NH+](C)CC1=CC=CC=C1 PVVUWCYTDNBWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical group 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- QWOKKHXWFDAJCZ-UHFFFAOYSA-N octane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCCCCCS(N)(=O)=O QWOKKHXWFDAJCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000010292 orthophenyl phenol Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001096 oxamoylamino group Chemical group C(C(=O)N)(=O)N* 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 1
- XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;hydroxide;triphosphate Chemical compound [OH-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N pentachlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N phenyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1 DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M potassium thiocyanate Chemical compound [K+].[S-]C#N ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940116357 potassium thiocyanate Drugs 0.000 description 1
- VKDSBABHIXQFKH-UHFFFAOYSA-M potassium;4-hydroxy-3-sulfophenolate Chemical compound [K+].OC1=CC=C(O)C(S([O-])(=O)=O)=C1 VKDSBABHIXQFKH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- DROIHSMGGKKIJT-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonamide Chemical compound CCCS(N)(=O)=O DROIHSMGGKKIJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 230000005588 protonation Effects 0.000 description 1
- 239000012629 purifying agent Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical group C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000005554 pyridyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000004621 quinuclidinyl group Chemical group N12C(CC(CC1)CC2)* 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940087562 sodium acetate trihydrate Drugs 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M sodium ascorbate Substances [Na+].OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M 0.000 description 1
- 235000010378 sodium ascorbate Nutrition 0.000 description 1
- 229960005055 sodium ascorbate Drugs 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960000999 sodium citrate dihydrate Drugs 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M sodium-L-ascorbate Chemical compound [Na+].OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 229940032147 starch Drugs 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000005556 structure-activity relationship Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 229960004793 sucrose Drugs 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyridine hydrochloride Natural products C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005958 tetrahydrothienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- NFSGFYBDMKUQJA-UHFFFAOYSA-N thiatriazol-5-amine Chemical class NC1=NN=NS1 NFSGFYBDMKUQJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 125000003441 thioacyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKLYMYLJOXIVFB-UHFFFAOYSA-N triethoxymethylsilane Chemical compound CCOC([SiH3])(OCC)OCC NKLYMYLJOXIVFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005034 trifluormethylthio group Chemical group FC(S*)(F)F 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000230 xanthan gum Substances 0.000 description 1
- 235000010493 xanthan gum Nutrition 0.000 description 1
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 description 1
- 229940082509 xanthan gum Drugs 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L zinc;1-(5-cyanopyridin-2-yl)-3-[(1s,2s)-2-(6-fluoro-2-hydroxy-3-propanoylphenyl)cyclopropyl]urea;diacetate Chemical compound [Zn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCC(=O)C1=CC=C(F)C([C@H]2[C@H](C2)NC(=O)NC=2N=CC(=CC=2)C#N)=C1O UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L 0.000 description 1
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料に関し、詳しくは製版印刷用ハロゲン化銀写真感
光材料及びその処理方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic material, and more particularly, to a silver halide photographic material for plate-making printing and a processing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ハロゲン化銀写真感光材料は迅速
処理化に伴い、処理時間の短縮、或は無水洗や処理液の
リサイクル化などにより、処理後のフィルムに色素、染
料などが残留する、いわゆる残色汚染を生じ易くなって
きている。2. Description of the Related Art In recent years, with the rapid processing of silver halide photographic light-sensitive materials, dyes, dyes, and the like remain on the processed film due to a reduction in processing time, an anhydrous washing, and recycling of a processing solution. That is, so-called residual color contamination tends to occur.
【0003】この色素汚染は感光材料の商品価値を著し
く低下させるだけでなく、実技上からもクリアーな画像
であることが好ましい。従って残色汚染の低減は重要な
技術課題となってきている。[0003] The dye contamination not only significantly lowers the commercial value of the light-sensitive material, but also it is preferable from a practical point of view that the image is clear. Therefore, reduction of residual color contamination has become an important technical problem.
【0004】従来より、代表的な色素汚染対策としては
色素分子内に水溶性基を導入することによって残色汚染
の軽減が図られてきた。Heretofore, as a typical countermeasure against dye stain, reduction of residual color stain has been attempted by introducing a water-soluble group into a dye molecule.
【0005】しかし増感色素の水溶性を増すことは、残
色汚染は改良される反面、充分な分光増感性を得ること
が出来ず、かつ乳剤塗布液の停滞或は製造後の経時保存
によって感度変動を生じ易いという問題を有していた。
特に赤色波長域に分光増感する色素の場合、そのような
負効果を多く有していた。[0005] Increasing the water solubility of the sensitizing dye, however, can improve the residual color contamination, but does not provide sufficient spectral sensitization, and may cause stagnation of the emulsion coating solution or storage over time after production. There has been a problem that the sensitivity is likely to fluctuate.
In particular, dyes that spectrally sensitize in the red wavelength region had many such negative effects.
【0006】従来より、本発明と同様に赤色波長域の分
光感度を高める目的から2種以上の増感色素を組み合わ
せて分光増感することは良く知られており、例えば特定
のチア又はセレナカルボシアニン色素の併用などで代表
されるが、これらの分光増感法では残色汚染は改良され
ない。特にハロゲン化銀写真感光材料が製版印刷用であ
る場合、残色汚染のみでなく、網点再現性が優れない欠
点を有する。Hitherto, it has been well known that two or more sensitizing dyes are combined and spectrally sensitized for the purpose of increasing the spectral sensitivity in the red wavelength region as in the present invention. Representative examples include the combined use of cyanine dyes, but these spectral sensitization methods do not improve residual color contamination. In particular, when the silver halide photographic light-sensitive material is used for plate-making printing, it has the disadvantage that not only residual color contamination but also poor dot reproducibility are obtained.
【0007】さらに、分光増感色素と特定の強色増感剤
を併用することによって分光感度を高め、残色汚染の負
荷を下げる技術も開示されているが、必要十分な色素量
を用いた場合には不充分な水準であり更なる改良が求め
られていた。Further, a technique has been disclosed in which the spectral sensitivity is increased by using a spectral sensitizing dye and a specific supersensitizer in combination to reduce the load of residual color contamination, but a necessary and sufficient amount of the dye is used. In some cases, the level was insufficient, and further improvement was required.
【0008】一方、近年に於ける写真処理は低pH、低
補充の現像処理液が環境保全上からも望ましく、この要
請に耐える感光材料の設計が望まれていた。On the other hand, in recent photographic processing, a developing solution having a low pH and a low replenishment is also desirable from the viewpoint of environmental protection, and it has been desired to design a photosensitive material that can withstand this demand.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、製版印刷用感光材料として赤色光感度と実用濃度が
高められ、かつ網点再現性、残色汚染性を改良したハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することにある。Accordingly, an object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material having improved red light sensitivity and practical density as well as improved halftone dot reproducibility and residual color contamination as a photographic material for plate making printing. It is to provide materials.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記に
よって解決された。即ち、 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層と親
水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於
いて、該ハロゲン化銀乳剤層中に下一記般式(I)で表
される化合物の少なくとも1種と下記一般式(II)で表
される化合物の少なくとも1種を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。The object of the present invention has been attained by the following. That is, in a silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer and a hydrophilic colloid layer on a support, the silver halide emulsion layer is represented by the following general formula (I). A silver halide photographic material comprising at least one compound represented by the formula (I) and at least one compound represented by the following formula (II):
【0011】[0011]
【化3】 Embedded image
【0012】式中、R1、R2、R3及びR4は、各々、置
換又は無置換の脂肪族基を表し、R2及びR4の少なくと
も一方は水可溶化基を置換する。V1、V2、V3、V4、
V5、V6、V7及びV8は各々、水素原子、又は置換基を
表し、V1とV2、V2とV3、V3とV4、V5とV6、V6
とV7及びV7とV8の間で各々、縮合環を形成してもよ
い。但し、V1〜V4並びにV5〜V8は各々、加算したハ
メットσp値の総和が0.12より大きくなる置換基で
ある。L1、L2、L3、L4及びL5は各々、メチン基を
表す。M1は分子内の電荷を中和するに必要なイオンを
表し、lは分子内の価数を中和するに必要なイオンの数
を表す。In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a substituted or unsubstituted aliphatic group, and at least one of R 2 and R 4 substitutes for a water-solubilizing group. V 1 , V 2 , V 3 , V 4 ,
V 5 , V 6 , V 7 and V 8 each represent a hydrogen atom or a substituent, and V 1 and V 2 , V 2 and V 3 , V 3 and V 4 , V 5 and V 6 , V 6
And V 7 and V 7 and V 8 may each form a condensed ring. Here, V 1 to V 4 and V 5 to V 8 are substituents whose sum of the added Hammett σp values is greater than 0.12. L 1 , L 2 , L 3 , L 4 and L 5 each represent a methine group. M 1 represents an ion necessary for neutralizing the charge in the molecule, and 1 represents the number of ions required for neutralizing the valence in the molecule.
【0013】[0013]
【化4】 Embedded image
【0014】式中、Y1、Y2、Y3は各々、独立に−N
(R)−基、酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を表
し、R5は水可溶化基を置換した炭素数10以下の脂肪
族基を表し、R、R6及びR7は、各々、脂肪族基、アリ
−ル基または複素環基を表し、かつR、R6及びR7のう
ちの少なくとも二つの基は、水可溶化基を置換する。V
9、V10は各々水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
アリール基又はV9とV10で結合して環を形成してもよ
く、L6、L7はメチン基を表す。M2は分子内の電荷を
中和するに必要なイオンを表し、mは分子内の価数を中
和するに必要なイオンの数を表す。Wherein Y 1 , Y 2 and Y 3 are each independently —N
R represents a (R) -group, an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom, R 5 represents an aliphatic group having 10 or less carbon atoms substituted with a water solubilizing group, and R, R 6 and R 7 each represent an aliphatic group; Represents a group, aryl or heterocyclic group, and at least two of R, R 6 and R 7 substitute a water solubilizing group. V
9 and V 10 are each a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
An aryl group or V 9 and V 10 may be combined to form a ring, and L 6 and L 7 represent a methine group. M 2 represents an ion necessary to neutralize the charge in the molecule, and m represents the number of ions required to neutralize the valence in the molecule.
【0015】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層と親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真
感光材料に於いて、該ハロゲン化銀乳剤層中に上記一般
式(I)で表される化合物の少なくとも1種と上記一般
式(II)で表される化合物の少なくとも1種を含有し、
且つ、該ハロゲン化銀乳剤層もしくは該親水性コロイド
層中にヒドラジン誘導体及び/又は4級オニウム塩の少
なくとも1種を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。In a silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer and a hydrophilic colloid layer on a support, the silver halide emulsion layer is represented by the above formula (I). And at least one compound represented by the above general formula (II),
A silver halide photographic light-sensitive material characterized in that the silver halide emulsion layer or the hydrophilic colloid layer contains at least one hydrazine derivative and / or quaternary onium salt.
【0016】上記項記載のハロゲン化銀写真感光材
料を露光後、現像液補充量が40〜200ml/m2で
処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の
処理方法。A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, comprising, after exposing the silver halide photographic light-sensitive material described above, processing with a developer replenishment rate of 40 to 200 ml / m 2 .
【0017】現像液pHが9.0〜11.0で処理す
ることを特徴とする上記項記載のハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。The method for processing a silver halide photographic material as described in the above item, wherein the processing is performed at a developer pH of 9.0 to 11.0.
【0018】以下、本発明を詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0019】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、支
持体上の片面に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層と
親水性コロイド層を有する。ハロゲン化銀乳剤層の少な
くとも1層は感光性層である。本発明で言う親水性コロ
イド層とは、例えば中間層、保護層、染料層、フィルタ
ー層、下塗り層、帯電防止層或は実質的に非感光性のハ
ロゲン化銀乳剤層などのハロゲン化銀写真感光材料を構
成する層を指す。The silver halide photographic material of the present invention has at least one silver halide emulsion layer and a hydrophilic colloid layer on one side of a support. At least one of the silver halide emulsion layers is a photosensitive layer. The hydrophilic colloid layer referred to in the present invention includes, for example, a silver halide photograph such as an intermediate layer, a protective layer, a dye layer, a filter layer, an undercoat layer, an antistatic layer or a substantially light-insensitive silver halide emulsion layer. Refers to a layer constituting a photosensitive material.
【0020】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に於い
て、ハロゲン化銀乳剤層中に含有される前記一般式
(I)で表される分光増感色素のR1〜R4が表わす脂肪
族基としては、例えば、炭素原子数1〜10の分岐或い
は直鎖のアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プ
ロピル、n−ペンチル、イソブチル等の各基)、ビニル
基又は原子数2〜10のアルケニル基(例えば、3−ブ
テニル、2−プロペニル等の各基)或いは炭素原子数3
〜10のアラルキル基(例えば、ベンジル、フェネチル
等の各基)が挙げられる。R2及びR4の少なくとも一方
の基に置換する水可溶化基としては、例えば、スルホ
基、カルボキシ基、ホスフォノ基、スルファート基、ス
ルフィノ基等の各酸基が挙げられる。In the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention, the aliphatic sensitizing dye represented by R 1 to R 4 of the spectral sensitizing dye represented by formula (I) contained in the silver halide emulsion layer. Examples of the group include a branched or linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, each group such as methyl, ethyl, n-propyl, n-pentyl, and isobutyl), a vinyl group, and a 2 to 10 carbon atom. (For example, 3-butenyl, 2-propenyl, etc.) or a group having 3 carbon atoms
To 10 aralkyl groups (for example, benzyl, phenethyl, etc.). Examples of the water-solubilizing group that substitutes for at least one of R 2 and R 4 include acid groups such as a sulfo group, a carboxy group, a phosphono group, a sulfate group, and a sulfino group.
【0021】R1〜R4が表わす各脂肪族基は、ヒドロキ
シ基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エ
トキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ
基、p−スルホフェノキシ基等)、シアノ基、カルバモ
イル基(例えば、カルバモイル基、N−メチルカルバモ
イル基、N,N−テトラメチレンカルバモイル基等)、
スルファモイル基(例えば、スルファモイル基、N,N
−3−オキサペンタメチレンアミノスルホニル基等)、
メタンスルホニル基、アルコキシカルボニル基(例え
ば、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基
等)、アリール基(例えば、フェニル基、カルボキシフ
ェニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、ベンゾ
イル基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ
基等)等の置換基で置換されていても良く、水可溶化基
を置換した脂肪族基の具体的例としては、カルボキシメ
チル、スルホエチル、スルホプロピル、スルホブチル、
スルホペンチル、3−スルホブチル、6−スルホ−3−
オキサヘキシル、ω−スルホプロポキシカルボニルメチ
ル、ω−スルホプロピルアミノカルボニルメチル、3−
スルフィノブチル、3−ホスフォノプロピル、4−スル
ホ−3−ブテニル、2−カルボキシ−2−プロペニル、
o−スルホベンジル、p−スルホフェネチル、p−カル
ボキシベンジル等の各基が挙げられる。Each aliphatic group represented by R 1 to R 4 is a hydroxy group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom,
Bromine atom, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, p-sulfophenoxy group, etc.), cyano group, carbamoyl group (for example, carbamoyl group, N-methylcarbamoyl) Group, N, N-tetramethylenecarbamoyl group, etc.),
Sulfamoyl group (for example, sulfamoyl group, N, N
-3-oxapentamethyleneaminosulfonyl group, etc.),
Methanesulfonyl group, alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, carboxyphenyl group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, benzoyl group, etc.), acylamino group ( Specific examples of the aliphatic group which may be substituted with a substituent such as acetylamino group) and the like, and substituted with a water-solubilizing group include carboxymethyl, sulfoethyl, sulfopropyl, sulfobutyl, and the like.
Sulfopentyl, 3-sulfobutyl, 6-sulfo-3-
Oxahexyl, ω-sulfopropoxycarbonylmethyl, ω-sulfopropylaminocarbonylmethyl, 3-
Sulfinobutyl, 3-phosphonopropyl, 4-sulfo-3-butenyl, 2-carboxy-2-propenyl,
Each group includes o-sulfobenzyl, p-sulfophenethyl, p-carboxybenzyl and the like.
【0022】V1〜V8が表わす置換基としては加算した
ハメットσp値の総和が0.12より大きくなるように
選ばれた電子供与性の基や、電子吸引性の任意の基が挙
げられる。具体的には、シアノ基、カルボキシ基、直鎖
或いは分岐のアルキル基(例えばメチル、エチル、is
o−プロピル、t−ブチル、iso−ブチル、t−ペン
チル、ヘキシル等の各基)、アルコキシ基(例えば、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ等の各基)、アルキルチ
オ基(例えば、メチルチオ基)、例えば、フッ素、塩
素、臭素等のハロゲン原子、カルバモイル基(例えば、
カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ペン
タメチレンカルバモイル等の各基)、スルファモイル基
(例えば、N−メチルスルファモイル、モルフォリノス
ルホニル、ピペリジノスルホニル等の各基)、アシルア
ミノ基(例えば、アセチルアミノ、プロピオニルアミ
ノ、ベンゾイルアミノ等の各基)、スルホニルアミノ基
(例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニ
ルアミノ、m−クロロベンゼンスルホニルアミノ、ペル
フルオロメタンスルホニルアミノ等の各基)、アルコキ
シカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル等の各基)、アルキ
ルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、エタンス
ルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等の各基)、
アリールスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル等
の基)、アシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル等の
各基)、ペルフルオロアルキル基(例えば、トリフルオ
ロメチル、ペンタフルオロエチル等の各基)、ペルフル
オロアルコキシ基(例えば、トリフルオロメトキシ、ペ
ンタフルオロエトキシ等の各基)、ペルフルオロアルキ
ルチオ基(例えば、トリフルオロメチルチオ、ペンタフ
ルオロエチルチオ等の各基)アリール基(例えば、フェ
ニル、m−クロロフェニル等の各基)、複素環基(例え
ば、ピロリル、ピリジル、イミダゾリル、フリル、チェ
ニル等の各基がある。Examples of the substituent represented by V 1 to V 8 include an electron-donating group selected such that the sum of the added Hammett σp values is greater than 0.12, and an arbitrary electron-withdrawing group. . Specifically, a cyano group, a carboxy group, a linear or branched alkyl group (eg, methyl, ethyl, is
o-propyl, t-butyl, iso-butyl, t-pentyl, hexyl, etc.), alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, propoxy, etc.), alkylthio groups (eg, methylthio group), for example, Halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, carbamoyl groups (for example,
Carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-pentamethylenecarbamoyl, etc.), sulfamoyl group (eg, N-methylsulfamoyl, morpholinosulfonyl, piperidinosulfonyl, etc.), acylamino group (eg, , Acetylamino, propionylamino, benzoylamino, etc.), sulfonylamino group (for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, m-chlorobenzenesulfonylamino, perfluoromethanesulfonylamino, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, , Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methanesulfonyl, ethanesulfonyl, trifluoromethanesulfonyl, etc.),
An arylsulfonyl group (for example, a group such as benzenesulfonyl), an acyl group (for example, each group such as acetyl and benzoyl), a perfluoroalkyl group (for example, each group such as trifluoromethyl and pentafluoroethyl), and a perfluoroalkoxy group ( For example, trifluoromethoxy, each group such as pentafluoroethoxy), perfluoroalkylthio group (for example, each group such as trifluoromethylthio, pentafluoroethylthio), aryl group (for example, each group such as phenyl, m-chlorophenyl), Heterocyclic groups (for example, pyrrolyl, pyridyl, imidazolyl, furyl, phenyl, etc.).
【0023】ハメットのσp値はHammett等によ
り安息香酸エチルエステルの加水分解速度に及ぼす値環
基の電子効果から求められた置換基定数であり、各基の
値は例えば、ケミカル・レヴュー(Chemical
Rewies)17,125−136(1935)、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Jou
rnal of Organic Chemistr
y)23巻、420−427(1958)、実験化学講
座14巻(丸善出版社)、フィジカル・オーガニック・
ケミストリー(Physical Organic C
hemistry;Mc Graw Hill Boo
k:1940)、ドラッグデザインVII巻(Drug
design VII Academic Press;
New York:1970)、薬物の構造活性相関
(南江堂:1979年)、サブスティテューアント・コ
ンスタンツ・フォー・コリレイション・アナリシス・イ
ン・ケミストリー・アンド・バイオロジー(Subst
ituent Constants for Corr
elation Analysis in Chemi
stry and Biology;John Wil
ey and Sons:1979)等に詳しく記載さ
れている。The Hammett's σp value is a substituent constant determined by Hammett et al. From the electronic effect of the ring group on the hydrolysis rate of benzoic acid ethyl ester, and the value of each group is, for example, Chemical Review (Chemical Review).
Reviews, 17, 125-136 (1935), Journal of Organic Chemistry (Jou)
rnal of Organic Chemistr
y) Volume 23, 420-427 (1958), Experimental Chemistry Course 14 (Maruzen Publishing Co., Ltd.), Physical Organic
Chemistry (Physical Organic C
hemistry; McGraw Hill Boo
k: 1940), Drug Design Volume VII (Drug)
design VII Academic Press;
New York: 1970), Structure-activity relationship of drugs (Nankodo: 1979), Substitute Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology (Subst)
title Constants for Corr
elation Analysis in Chemi
try and Biology; John Wil
eye and Sons: 1979).
【0024】V1〜V8が表わすアリール基、複素環基並
びにアルキル基は、任意の位置に前述した任意の置換基
を有していても良い。The aryl group, heterocyclic group and alkyl group represented by V 1 to V 8 may have any of the above-mentioned substituents at any positions.
【0025】V1とV2、V2とV3、V3とV4、V5と
V6、V6とV7及びV7とV8の間で各々、形成される縮
合環としては5〜7員の飽和炭素環、芳香性炭素環、複
素環等の環基が挙げられ、任意の位置に前述した任意の
置換基を有していても良い。The fused rings formed between V 1 and V 2 , V 2 and V 3 , V 3 and V 4 , V 5 and V 6 , V 6 and V 7, and V 7 and V 8 , respectively, A cyclic group such as a 5- to 7-membered saturated carbocyclic ring, aromatic carbocyclic ring, heterocyclic ring and the like can be mentioned, and it may have the above-mentioned optional substituent at an arbitrary position.
【0026】L1〜L5で表されるメチン炭素に置換され
る基としては、例えば、低級アルキル基(例えば、メチ
ル、エチル等の各基)環状アルキル基(例えば、シクロ
プロピル、シクロペンチル等の各基)、置換アルキル基
(例えば、2−メトキシエチル、2−チエニルメチル等
の各基)、アラルキル基(例えば、ベンジル、フェネチ
ル等の各基)、フェニル基(例えば、フェニル、カルボ
キシフェニル等の各基)、複素環基(例えば、チエニ
ル、フリル、イミダゾリル等の各基)、アルコキシ基
(例えば、メトキシ、エトキシ等の各基)フッ素原子等
の基がある。Examples of the group substituted with the methine carbon represented by L 1 to L 5 include a lower alkyl group (for example, each group such as methyl and ethyl) and a cyclic alkyl group (for example, cyclopropyl and cyclopentyl). Each group), a substituted alkyl group (for example, each group such as 2-methoxyethyl and 2-thienylmethyl), an aralkyl group (for example, each group such as benzyl and phenethyl), and a phenyl group (for example, each group such as phenyl and carboxyphenyl). Groups, a heterocyclic group (for example, thienyl, furyl, imidazolyl, etc.), an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, etc.), and a fluorine atom.
【0027】L1はR1又はR2と、L2はR3又はR4と各
々、縮合環を形成することができる。M1はカチオンあ
るいは酸アニオンを表し、カチオンの具体例としては、
プロトン、有機アンモニウムイオン(例えば、トリエチ
ルアンモニウム、トリエタノールアンモニウム等の各イ
オン)、無機カチオン(例えば、リチウム、ナトリウ
ム、カルシウム等の各カチオン)が挙げられ、酸アニオ
ンの具体例としては例えば、ハロゲンイオン(例えば塩
素イオン、臭素イオン、沃素イオン等)、p−トルエン
スルホン酸イオン、過塩素酸イオン、4−フッ化ホウ素
イオン等が挙げられる。L 1 can form a condensed ring with R 1 or R 2 , and L 2 can form a condensed ring with R 3 or R 4 . M 1 represents a cation or an acid anion. Specific examples of the cation include:
Examples thereof include a proton, an organic ammonium ion (for example, each ion such as triethylammonium and triethanolammonium), and an inorganic cation (for example, each cation such as lithium, sodium, and calcium). Specific examples of the acid anion include a halogen ion. (Eg, chloride ion, bromine ion, iodine ion, etc.), p-toluenesulfonic acid ion, perchlorate ion, 4-boron fluoride ion and the like.
【0028】lは、分子内塩を形成して電荷が中和され
る場合は0となる。1 is 0 when an internal salt is formed to neutralize the charge.
【0029】一般式(I)で表される色素の具体例を以
下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。Specific examples of the dye represented by formula (I) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0030】[0030]
【化5】 Embedded image
【0031】[0031]
【化6】 Embedded image
【0032】[0032]
【化7】 Embedded image
【0033】[0033]
【化8】 Embedded image
【0034】[0034]
【化9】 Embedded image
【0035】[0035]
【化10】 Embedded image
【0036】[0036]
【化11】 Embedded image
【0037】[0037]
【化12】 Embedded image
【0038】[0038]
【化13】 Embedded image
【0039】[0039]
【化14】 Embedded image
【0040】[0040]
【化15】 Embedded image
【0041】[0041]
【化16】 Embedded image
【0042】[0042]
【化17】 Embedded image
【0043】[0043]
【化18】 Embedded image
【0044】[0044]
【化19】 Embedded image
【0045】[0045]
【化20】 Embedded image
【0046】[0046]
【化21】 Embedded image
【0047】[0047]
【化22】 Embedded image
【0048】[0048]
【化23】 Embedded image
【0049】[0049]
【化24】 Embedded image
【0050】次に上記一般式(I)で表される色素と組
み合わせて用いられる本発明の一般式(II)で表される
色素について詳述する。Next, the dye represented by formula (II) of the present invention used in combination with the dye represented by formula (I) will be described in detail.
【0051】前記一般式(II)において、R5、R6、R
7及びRに置換する水可溶化基としては、前記一般式
(I)で述べたと同様の例えば、スルホ基、カルボキシ
基、ホスフォノ基、スルファート基、スルフィノ基等の
各酸基が挙げられる。また脂肪族基としては、例えば炭
素原子数1〜10の分岐或は直鎖のアルキル基(例えば
メチル、エチル、n−プロピル、n−ペンチル、イソブ
チル等の各基)、原子数3〜10のアルケニル基(例え
ば、3−ブテニル、2−プロペニル等の各基)或は炭素
原子数3〜10のアラルキル基(例えば、ベンジル、フ
ェネチル等の各基)が挙げられる。又アリール基として
は、例えばフェニル基が挙げられ、複素環基としては例
えばピリジル基(2−、4−)、フリル基(2−)、チ
エニル基(2−)、スルホラニル基、テトラヒドロフリ
ル基、ピペリジニル基などを挙げることができる。In the general formula (II), R 5 , R 6 , R
Examples of the water-solubilizing group to be substituted for 7 and R include the same acid groups as those described in the formula (I), such as sulfo group, carboxy group, phosphono group, sulfate group, and sulfino group. Examples of the aliphatic group include a branched or straight-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, each group such as methyl, ethyl, n-propyl, n-pentyl and isobutyl), and a C3 to C10 alkyl group. Examples thereof include an alkenyl group (for example, 3-butenyl, 2-propenyl and the like) and an aralkyl group having 3 to 10 carbon atoms (for example, benzyl and phenethyl). Examples of the aryl group include a phenyl group. Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group (2-, 4-), a furyl group (2-), a thienyl group (2-), a sulfolanyl group, a tetrahydrofuryl group, Examples include a piperidinyl group.
【0052】R5、R6、R7及びRの各基は、ハロゲン
原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、アリール
オキシ基(例えばフェノキシ基、p−トリルオキシ基
等)、シアノ基、カルバモイル基(例えばカルバモイル
基、N−メチルカルバモイル基、N,N−テトラメチレ
ンカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えば、ス
ルファモイル基、N,N−3−オキサペンタメチレンア
ミノスルホニル基等)、メタンスルホニル基、アルコキ
シカルボニル基(例えばエトキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基等)、アリール基(例えばフェニル基、
カルボキシフェニル基等)、アシル基(例えばアセチル
基、ベンゾイル基等)等の置換基で置換されていても良
い。Each of R 5 , R 6 , R 7 and R is a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, etc.), an aryloxy group (for example, Phenoxy group, p-tolyloxy group, etc.), cyano group, carbamoyl group (eg, carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-tetramethylenecarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, sulfamoyl group, N, N-3) -Oxapentamethyleneaminosulfonyl group, etc.), methanesulfonyl group, alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group,
It may be substituted with a substituent such as a carboxyphenyl group or an acyl group (for example, an acetyl group or a benzoyl group).
【0053】水可溶化基を置換した脂肪族基の具体的例
としては、例えばカルボキシメチル、スルホエチル、ス
ルホプロピル、スルホブチル、スルホペンチル、3−ス
ルホブチル、6−スルホ−3−オキサヘキシル、ω−ス
ルホプロポキシキカルボニルメチル、ω−スルホプロピ
ルアミノカルボニルメチル、3−スルフィノブチル、3
−ホスフォノプロピル、4−スルホ−3−ブテニル、2
−カルボキシ−2−プロペニル、o−スルホベンジル、
p−スルホフェネチル、p−カルボキシベンジル等の各
基があり、水可溶化基を置換したアリール基の具体的例
として、p−スルホフェニル基、p−カルボキシフェニ
ル基等の各基があり、水可溶化基を置換した複素環基の
具体的例として4−スルホチエニル基、5−カルボキシ
ピリジル基等の各基がある。Specific examples of the aliphatic group substituted with a water-solubilizing group include, for example, carboxymethyl, sulfoethyl, sulfopropyl, sulfobutyl, sulfopentyl, 3-sulfobutyl, 6-sulfo-3-oxahexyl, ω-sulfo Propoxycarbonylmethyl, ω-sulfopropylaminocarbonylmethyl, 3-sulfinobutyl, 3
-Phosphonopropyl, 4-sulfo-3-butenyl, 2
-Carboxy-2-propenyl, o-sulfobenzyl,
There are various groups such as p-sulfophenethyl and p-carboxybenzyl, and specific examples of the aryl group substituted with a water-solubilizing group include p-sulfophenyl and p-carboxyphenyl. Specific examples of the heterocyclic group substituted with a solubilizing group include groups such as a 4-sulfothienyl group and a 5-carboxypyridyl group.
【0054】V9及びV10で表されるアルキル基として
は、直鎖或は分岐の基(例えばメチル、エチル、iso
−プロピル、t−ブチル、iso−ブチル、t−ペンチ
ル、ヘキシル等の各基)が挙げられる。またアルコキシ
基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ等
の各基が挙げられアリール基としては、任意の位置に置
換基を有していても良く、例えばフェニル、p−トリ
ル、p−ヒドロキシフェニル、p−メトキシフェニル等
の各基が挙げられる。V9とV10でお互いに結合してア
ゾール環と共に形成する縮合環としては、例えばベンゾ
オキサゾール、4,5,6,7−テトラヒドロベンゾオ
キサゾール、ナフト[1,2−d]オキサゾール、ナフ
ト[2,3−d]オキサゾール、ベンゾチアゾール、
4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール、ナフ
ト[1,2−d]チアゾール、ナフト[2,3−d]チ
アゾール、ベンゾセレナゾール、ナフト[1,2−d]
セレナゾール等の縮合環が挙げられる。As the alkyl group represented by V 9 and V 10 , a linear or branched group (eg, methyl, ethyl, iso
-Propyl, t-butyl, iso-butyl, t-pentyl, hexyl, etc.). Examples of the alkoxy group include each group such as methoxy, ethoxy, and propoxy.Examples of the aryl group may have a substituent at any position, such as phenyl, p-tolyl, p-hydroxyphenyl, Each group such as p-methoxyphenyl is exemplified. Examples of the condensed ring formed together with the azole ring by bonding to each other at V 9 and V 10 include benzoxazole, 4,5,6,7-tetrahydrobenzoxazole, naphtho [1,2-d] oxazole, naphtho [2 , 3-d] oxazole, benzothiazole,
4,5,6,7-tetrahydrobenzothiazole, naphtho [1,2-d] thiazole, naphtho [2,3-d] thiazole, benzoselenazole, naphtho [1,2-d]
And condensed rings such as selenazole.
【0055】V9、V10で表した前述の置換基、並びに
形成される縮合環上には任意の位置に置換基を有してい
てもよく、例えばハロゲン原子(フッソ原子、塩素原
子、臭素原子、沃素原子)、トリフルオロメチル基、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等の
非置換アルキル各基、2−メトキシエトキシ、ベンジル
オキシ等の置換アルコキシ各基)、ヒドロキシ基、シア
ノ基、アリールオキシ基(例えばフェノキシ、トリルオ
キシ等の置換、非置換の各基)、またはアリール基(例
えばフェニル、p−クロロフェニル等の置換、非置換の
各基)、スチリル基、複素環基(例えばフリル、チエニ
ル等の各基)、カルバモイル基(例えばカルバモイル、
N−エチルカルバモイル等の各基)、スルファモイル基
(例えばスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモ
イル等の各基)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミ
ノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ等の各
基)、アシル基(例えばアセチル、ベンゾイル等の各
基)、アルコキシカルボニル基(例えばエトキシカルボ
ニル等の基)、スルホンアミド基(例えばメタンスルホ
ニルアミド、ベンゼンスルホンアミド等の各基)、スル
ホニル基(例えばメタンスルホニル、p−トルエンスル
ホニル等の各基)カルボキシ基等の任意の基が挙げられ
る。The above-mentioned substituents represented by V 9 and V 10 and the formed condensed ring may have a substituent at an arbitrary position, for example, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom). Atom, iodine atom), trifluoromethyl group, alkoxy group (for example, unsubstituted alkyl groups such as methoxy, ethoxy, butoxy, substituted alkoxy groups such as 2-methoxyethoxy, benzyloxy), hydroxy group, cyano group, aryl An oxy group (for example, a substituted or unsubstituted group such as phenoxy or tolyloxy), an aryl group (for example, a substituted or unsubstituted group such as phenyl or p-chlorophenyl), a styryl group, or a heterocyclic group (for example, furyl or thienyl) Carbamoyl group (eg, carbamoyl,
Groups such as N-ethylcarbamoyl), sulfamoyl groups (eg, groups such as sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl), acylamino groups (eg, groups such as acetylamino, propionylamino, benzoylamino), and acyl groups (Eg, acetyl, benzoyl, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl group), sulfonamide group (eg, methanesulfonylamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfonyl group (eg, methanesulfonyl, p- Each group such as toluenesulfonyl) and any group such as a carboxy group.
【0056】L6およびL7で表されるメチン炭素に置換
される基としては、例えば低級アルキル基(例えばメチ
ル、エチル等の各基)、フェニル基(例えばフェニル、カ
ルボキシフェニル等の各基)、アルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ等の各基)等の基がある。Examples of the group substituted on the methine carbon represented by L 6 and L 7 include a lower alkyl group (for example, each group such as methyl and ethyl) and a phenyl group (for example, each group such as phenyl and carboxyphenyl). And alkoxy groups (for example, methoxy, ethoxy and the like).
【0057】M2はカチオンあるいは酸アニオンを表
し、カチオンの具体例としてはプロトン、有機アンモニ
ウムイオン(例えばトリエチルアンモニウム、トリエタ
ノールアンモニウム等の各イオン)、無機カチオン(例
えばリチウム、ナトリウム、カルシウム等の各カチオ
ン)が挙げられ、酸アニオンの具体例としては例えばハ
ロゲンイオン(例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素イ
オン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イ
オン、4−フッ化ホウ素イオン等が挙げられる。mは、
分子内塩を形成して電荷が中和される場合は0となる。M 2 represents a cation or an acid anion. Specific examples of the cation include a proton, an organic ammonium ion (eg, each ion such as triethylammonium and triethanolammonium), and an inorganic cation (eg, each ion such as lithium, sodium and calcium). Cation), and specific examples of the acid anion include, for example, a halogen ion (eg, chloride ion, bromine ion, iodine ion, etc.), p-toluenesulfonic acid ion, perchlorate ion, 4-boron fluoride ion and the like. Can be m is
It is 0 when the charge is neutralized by forming an inner salt.
【0058】上記一般式(II)において、R5がスルホ
基で置換されたアルキル基であり、R、R6及びR7のい
づれか少なくとも二つの基が、各々、カルボキシメチル
基であるものが好ましい。In the above general formula (II), it is preferable that R 5 is an alkyl group substituted with a sulfo group, and at least two of R, R 6 and R 7 are each a carboxymethyl group. .
【0059】以下、一般式(II)で表される増感色素の
具体例を示す。Hereinafter, specific examples of the sensitizing dye represented by formula (II) will be shown.
【0060】[0060]
【化25】 Embedded image
【0061】[0061]
【化26】 Embedded image
【0062】[0062]
【化27】 Embedded image
【0063】[0063]
【化28】 Embedded image
【0064】[0064]
【化29】 Embedded image
【0065】上記の一般式(I)、(II)で表される色
素類は、例えばエフ.エム.ハーマ著「シアニン ダイ
ズ アンドリレーテッド コンパウンズ」(1964,
インターサイエンス パブリッシャーズ発刊)等に記載
された従来公知の方法を参考にして容易に合成すること
ができる。The dyes represented by the general formulas (I) and (II) are described, for example, in F.I. M. Hama, "Cyanine Soybeans and Related Compounds" (1964,
The compound can be easily synthesized by referring to a conventionally known method described in, for example, Interscience Publishers).
【0066】本発明において、上記一般式(I)と(I
I)で表される色素のハロゲン化銀乳剤への添加量は使
用される条件や乳剤の種類に大きく依存して変化する
が、好ましくはハロゲン化銀1モル当り1×10-6〜5
×10-3モル、より好ましくは2×10-6〜2×10-3
モルの範囲である。感光材料1m2当たりでは0.3〜
300mgの範囲でよい。In the present invention, the above general formulas (I) and (I)
The addition amount of the dye represented by I) to the silver halide emulsion varies greatly depending on the conditions to be used and the type of emulsion, but is preferably 1 × 10 −6 to 5 × 5 per mol of silver halide.
× 10 −3 mol, more preferably 2 × 10 −6 to 2 × 10 −3
Range of moles. 0.3 in the light-sensitive material 1 m 2 per
The range may be 300 mg.
【0067】本発明に係る組合せとしての添加量は一般
式(I)と一般式(II)の色素を1:(10〜0.1)
の添加モル比の範囲から選択される。The addition amount of the combination according to the present invention is such that the dyes represented by the general formulas (I) and (II) are 1: (10-0.1)
Is selected from the range of the addition molar ratio.
【0068】本発明に使用される前記の色素類は従来公
知の方法で乳剤に添加することができる。例えばプロト
ン化溶解添加方法、界面活性剤と共に分散添加する方
法、親水性基質に分散して添加する方法、固溶体として
添加する方法、或はリサーチ・ディスクロージャー21
802号などに記載の水溶性溶剤(例えば、水、メタノ
ール、エタノール、プロピルアルコール、アセトン、フ
ッソ化アルコール等の低沸点溶媒、ジメチルフォルムア
ミド、メチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等の高沸
点溶媒)の単独またはそれらの混合溶媒に溶解して添加
する方法等を任意に選択使用して乳剤中に加えてよい。The above dyes used in the present invention can be added to the emulsion by a conventionally known method. For example, a protonation dissolution addition method, a dispersion addition method with a surfactant, a dispersion addition method in a hydrophilic substrate, a addition method as a solid solution, or a method disclosed in Research Disclosure 21
802 or the like (for example, water, low-boiling solvents such as methanol, ethanol, propyl alcohol, acetone, and fluorinated alcohols, and high-boiling solvents such as dimethylformamide, methyl cellosolve, and phenyl cellosolve) alone or A method of dissolving in a mixed solvent thereof and adding the solution may be arbitrarily selected and added to the emulsion.
【0069】色素の添加時期は、物理熟成から化学熟成
終了塗布までの乳剤製造工程中のいずれの段階であって
も良いが、物理熟成から化学熟成終了までの間に添加さ
れることが好ましい。物理熟成中、或いは化学熟成工程
において化学増感剤の添加に先立って、または化学増感
剤の添加直後に添加することにより高い分光感度が得ら
れる。The dye may be added at any stage during the emulsion production process from physical ripening to completion of chemical ripening, but is preferably added between physical ripening and completion of chemical ripening. High spectral sensitivity can be obtained during physical ripening or during the chemical ripening step before or immediately after the addition of the chemical sensitizer.
【0070】なお、本発明に係る以外の感光色素と組み
合わせて用いることもできる。これら複数の感光色素
は、各々の感光色素を同時にまたは異なる時期に別々に
乳剤に添加しても良く、その際の順序、時間間隔は目的
により任意に決められる。Incidentally, it can be used in combination with a photosensitive dye other than that according to the present invention. These photosensitive dyes may be added to the emulsion at the same time or separately at different times, and the order and time interval at that time may be arbitrarily determined depending on the purpose.
【0071】本発明で用いられる感光色素は更にその他
の強色増感作用をもたらす化合物を併用することによっ
て一層の分光感度が得られる。この様な強色増感作用を
有する化合物としては例えば、ピリミジニルアミノ基或
いはトリアジニルアミノ基を有する化合物、芳香族有機
ホルムアルデヒド縮合物、カリックスアレーン誘導体、
ハロゲン化ベンゾトリアゾール誘導体、ビスピリジウム
化合物、芳香族複素環4級塩化合物、電子供与性化合
物、アミノアリリデンマロノニトリル単位を含む重合
物、ヒドロキシテトラザインデン誘導体、1,3−オキ
サジアゾール誘導体、アミノ−1,2,3,4−チアト
リアゾール誘導体等が挙げられる。The spectral sensitivity of the photosensitive dye used in the present invention can be further increased by using a compound having another supersensitizing effect. Examples of the compound having such a supersensitizing effect include a compound having a pyrimidinylamino group or a triazinylamino group, an aromatic organic formaldehyde condensate, a calixarene derivative,
Halogenated benzotriazole derivative, bispyridinium compound, aromatic heterocyclic quaternary salt compound, electron-donating compound, polymer containing aminoallylidenemalononitrile unit, hydroxytetrazaindene derivative, 1,3-oxadiazole derivative, amino -1,2,3,4-thiatriazole derivatives and the like.
【0072】これら強色増感剤の添加時期は制限なく、
前記感光色素の添加時期に準じて任意に添加できる。添
加量はハロゲン化銀1モル当たり1×10-6〜1×10
-1モルの範囲で選択され、感光色素とは1/10〜10
/1の添加モル比で使用される。The timing for adding these supersensitizers is not limited.
The photosensitive dye can be arbitrarily added according to the timing of addition. The addition amount is 1 × 10 −6 to 1 × 10 per mol of silver halide.
-1 mol is selected in the range of 1/10 to 10
/ 1 molar ratio.
【0073】本発明の方法により分光増感されたハロゲ
ン化銀写真感光材料には、ハロゲン化銀乳剤層もしくは
親水性コロイド層にヒドラジン誘導体を含有することが
好ましい。The silver halide photographic material spectrally sensitized by the method of the present invention preferably contains a hydrazine derivative in a silver halide emulsion layer or a hydrophilic colloid layer.
【0074】ヒドラジン誘導体としては、好ましくは下
記一般式〔H〕で表される化合物である。The hydrazine derivative is preferably a compound represented by the following general formula [H].
【0075】[0075]
【化30】 Embedded image
【0076】一般式〔H〕において、Aは脂肪族基、芳
香族基又はヘテロ環基を表す。In the general formula [H], A represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group.
【0077】Aで表される脂肪族基は、好ましくは炭素
数1〜30のものであり、特に好ましくは炭素数1〜2
0の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。例えばメ
チル基、エチル基、t−ブチル基、オクチル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基等が挙げられ、これらはさらに
適当な置換基(例えばアリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スル
ホキシ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイ
ド基等)で置換されてもよい。The aliphatic group represented by A preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 2 carbon atoms.
0 linear, branched or cyclic alkyl group. Examples include a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, an octyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group, and the like. These are further suitable substituents (for example, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, A sulfoxy group, a sulfonamide group, an acylamino group, a ureido group, etc.).
【0078】Aで表される芳香族基は、単環又は縮合環
のアリール基が好ましく、例えばベンゼン環又はナフタ
レン環などが挙げられる。The aromatic group represented by A is preferably a monocyclic or condensed-ring aryl group, such as a benzene ring or a naphthalene ring.
【0079】Aで表されるヘテロ環基としては、単環又
は縮合環の少なくとも窒素、硫黄及び酸素から選ばれる
少なくとも1つのヘテロ原子を含むヘテロ環が好まし
く、例えばピロリジン環、イミダゾール環、テトラヒド
ロフラン環、モルホリン環、ピリジン環、ピリミジン
環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、
チオフェン環、フラン環などが挙げられる。The heterocyclic group represented by A is preferably a monocyclic or condensed heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from nitrogen, sulfur and oxygen, such as a pyrrolidine ring, an imidazole ring and a tetrahydrofuran ring. , Morpholine ring, pyridine ring, pyrimidine ring, quinoline ring, thiazole ring, benzothiazole ring,
Examples include a thiophene ring and a furan ring.
【0080】Aとして特に好ましいものは、アリール基
及びヘテロ環基である。Particularly preferred as A are an aryl group and a heterocyclic group.
【0081】Aのアリール基及びヘテロ環基は、置換基
を有していてもよい。代表的な置換基としては、アルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル
基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3の単環又
は縮合環のもの)、アルコキシ基(好ましくはアルキル
部分の炭素数が1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基又はアルキリデン基
で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは
炭素数1〜40のもの)、スルホンアミド基(好ましく
は炭素数1〜40のもの)、ウレイド基(好ましくは炭
素数1〜40のもの)、ヒドラジノカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数1〜40のもの)、ヒドロキシル
基、ホスホアミド基(好ましくは炭素数1〜40のも
の)などが挙げられる。The aryl group and heterocyclic group of A may have a substituent. Representative substituents include an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), an aralkyl group (preferably a monocyclic or condensed ring having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl portion), and an alkoxy group (preferably Is an alkyl moiety having 1 to 20 carbon atoms, a substituted amino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group or an alkylidene group having 1 to 20 carbon atoms), an acylamino group (preferably having 1 to 40 carbon atoms) ), Sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), hydrazinocarbonylamino group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), hydroxyl And a phosphoamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms).
【0082】また、Aは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つ有することが好ましい。耐拡散
基としてはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常用
されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭素
数8以上の写真性に対して比較的不活性である例えばア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基
等が挙げられる。A preferably has at least one diffusion-resistant group or silver halide adsorption promoting group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable. As the ballast group, an alkyl group or an alkenyl group which is relatively inert to photographic properties having 8 or more carbon atoms is preferable. Alkynyl group, alkoxy group, phenyl group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like.
【0083】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号公報に記載
の吸着基等が挙げられる。Examples of the silver halide adsorption promoting groups include thiourea, thiourethane, mercapto, thioether,
Examples thereof include a thione group, a heterocyclic group, a thioamide heterocyclic group, a mercapto heterocyclic group, and an adsorptive group described in JP-A-64-90439.
【0084】一般式〔H〕において、Bは、アシル基
(例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、トリフル
オロアセチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチ
ル、メチルチオアセチル、クロロアセチル、ベンゾイ
ル、2−ヒドロキシメチルベンゾイル、4−クロロベン
ゾイル等)、アルキルスルホニル基(例えばメタンスル
ホニル、2−クロロエタンスルホニル等)、アリールス
ルホニル基(例えばベンゼンスルホニル等)、アルキル
スルフィニル基(例えばメタンスルフィニル等)、アリ
ールスルフィニル基(ベンゼンスルフィニル等)、カル
バモイル基(例えばメチルカルバモイル、フェニルカル
バモイル等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキ
シカルボニル、メトキシエトキシカルボニル等)、アリ
ールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル
等)、スルファモイル基(例えばジメチルスルファモイ
ル等)、スルフィナモイル基(例えばメチルスルフィナ
モイル等)、アルコキシスルホニル基(例えばメトキシ
スルホニル等)、チオアシル基(例えばメチルチオカル
ボニル等)、チオカルバモイル基(例えばメチルチオカ
ルバモイル等)、オキザリル基(例えばメチルオキザリ
ル基、エトキザリル基)又はヘテロ環基(例えばピリジ
ン環、ピリジニウム環等)を表す。In the general formula [H], B is an acyl group (for example, formyl, acetyl, propionyl, trifluoroacetyl, methoxyacetyl, phenoxyacetyl, methylthioacetyl, chloroacetyl, benzoyl, 2-hydroxymethylbenzoyl, 4-chloro Benzoyl, etc.), alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl, 2-chloroethanesulfonyl, etc.), arylsulfonyl group (eg, benzenesulfonyl, etc.), alkylsulfinyl group (eg, methanesulfinyl, etc.), arylsulfinyl group (benzenesulfinyl, etc.), carbamoyl group (Eg, methylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, methoxyethoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl group Phenoxycarbonyl, etc.), sulfamoyl group (eg, dimethylsulfamoyl), sulfinamoyl group (eg, methylsulfinamoyl), alkoxysulfonyl group (eg, methoxysulfonyl), thioacyl group (eg, methylthiocarbonyl), thiocarbamoyl group (For example, methylthiocarbamoyl and the like), an oxalyl group (for example, a methyloxalyl group, an ethoxalyl group) and a heterocyclic group (for example, a pyridine ring and a pyridinium ring).
【0085】Bとしては、アシル基又はオキザリル基が
特に好ましい。As B, an acyl group or an oxalyl group is particularly preferred.
【0086】一般式〔H〕において、A1及びA2は、と
もに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基
(アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル等)、
スルホニル基(メタンスルホニル、トルエンスルホニル
等)又はオキザリル基(エトキザリル等)を表す。In the general formula [H], A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, etc.);
Represents a sulfonyl group (such as methanesulfonyl and toluenesulfonyl) or an oxalyl group (such as ethoxalyl).
【0087】本発明で用いるヒドラジン誘導体のうち特
に好ましいものは下記一般式〔Ha〕で表される化合物
である。Particularly preferred among the hydrazine derivatives used in the present invention are compounds represented by the following general formula [Ha].
【0088】[0088]
【化31】 Embedded image
【0089】一般式〔Ha〕において、R5は脂肪族基
(例えばオクチル基、デシル基)、芳香族基(例えばフ
ェニル基、2−ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル
基)又はヘテロ環基(例えばピリジル基、チェニル基、
フリル基)を表し、これらの基はさらに後記のXで表さ
れる置換基で置換されたものが好ましく用いられる。G
はカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホ
リル基又はイミノメチレン基を表し、R6は水素原子又
はブロッキング基を表す。Xは置換可能の基を表し、m
は0〜4の整数を表し、mが2以上のときXは同じであ
っても異なっていてもよい。In the general formula [Ha], R 5 is an aliphatic group (eg, octyl group, decyl group), an aromatic group (eg, phenyl group, 2-hydroxyphenyl group, chlorophenyl group) or a heterocyclic group (eg, pyridyl group) , Chenyl group,
These groups are preferably further substituted with a substituent represented by X described below. G
Represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfoxy group, a phosphoryl group or an iminomethylene group, and R 6 represents a hydrogen atom or a blocking group. X represents a substitutable group;
Represents an integer of 0 to 4, and when m is 2 or more, X may be the same or different.
【0090】R5は耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促進
基を少なくとも1つ含むことが好ましい。耐拡散基とし
てはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常用される
バラスト基が好ましく、バラスト基としては炭素数8以
上の写真性に対して比較的不活性である例えばアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェ
ニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げ
られる。あるいは特開平5−61143号記載のアルキ
レンオキシユニットの繰り返し構造を含むものや、4級
アンモニウム塩を含む構造も好んで用いられる。R 5 preferably contains at least one diffusion-resistant group or silver halide adsorption-promoting group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable. As the ballast group, an alkyl group or an alkenyl group which is relatively inert to photographic properties having 8 or more carbon atoms is preferable. Alkynyl group, alkoxy group, phenyl group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like. Alternatively, those containing a repeating structure of an alkyleneoxy unit and a structure containing a quaternary ammonium salt described in JP-A-5-61143 are preferably used.
【0091】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号に記載の吸
着基などが挙げられる。Examples of the silver halide adsorption promoting groups include thiourea, thiourethane, mercapto, thioether,
Examples thereof include a thione group, a heterocyclic group, a thioamide heterocyclic group, a mercapto heterocyclic group, and an adsorptive group described in JP-A-64-90439.
【0092】一般式〔Ha〕において、Xで表される置
換可能な基としては、直鎖、分岐若しくは環状のアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基(好ましくは炭素数
1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル
基、アルキニル基)、アリール基(例えばフェニル
等)、アルコキシ基(好ましくはアルキル部分の炭素数
1〜20のものあるいはアルキレンオキシ繰り返し構造
を有するもの)、アルケニルオキシ基(例えばアリルオ
キシ、ブテニルオキシ等)、アルキニルオキシ基(例え
ばプロパルギルオキシ、ブチニルオキシ等)、アリール
オキシ基(例えばフェノキシ等)、アシルオキシ基(例
えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ベンゾイル
オキシ等)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ、
プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、オクタノイル
アミノ、ベンゾイルアミノ等)、スルホンアミド基(例
えばメタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、プ
ロパンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサ
ンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド、ドデカン
スルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、ウレイ
ド基(例えばメチルウレイド、エチルウレイド、プロピ
ルウレイド、ブチルウレイド、ヘキシルウレイド、シク
ロヘキシルウレイド、オクチルウレイド、ドデシルウレ
イド、オクタデシルウレイド、フェニルウレイド、ナフ
チルウレイド等)、オキサモイルアミノ基(例えばメチ
ルオキサモイルアミノ、エチルオキサモイルアミノ、ブ
チルオキサモイルアミノ、オクチルオキサモイルアミ
ノ、フェニルオキサモイルアミノ等)、ヒドラジノカル
ボニルアミノ基(例えばメチルヒドラジノカルボニルア
ミノ、エチルヒドラジノカルボニルアミノ、ジメチルヒ
ドラジノカルボニルアミノ、ジフェニルヒドラジノカル
ボニルアミノ、フェニルヒドラジノカルボニルアミノ、
フェニルメチルヒドラジノカルボニルアミノ等)、アル
キルアミノ基(例えばメチルアミノ、エチルアミノ、ブ
チルアミノ、オクチルアミノ、ドデシルアミノ等)、ジ
アルキルアミノ基(例えばジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジブチルアミノ、メチルオクチルアミノ等)、ア
ミノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキルチオ基
(好ましくはアルキル部分の炭素数1〜20のもの)、
アルケニルチオ基(例えばアリルチオ、ブテニルチオ
等)、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、チオ
ウレイド基(例えばメチルチオウレイド、エチルチオウ
レイド、ブチルチオウレイド、シクロヘキシルチオウレ
イド、オクチルチオウレイド、ドデシルチオウレイド、
フェニルチオウレイド等)、シアノ基、スルホニル基
(例えばメタンスルホニル等)、スルファモイル基(例
えばメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ブ
チルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)、カ
ルバモイル基(例えばメチルカルバモイル、エチルカル
バモイル、ブチルカルバモイル、オクチルカルバモイ
ル、フェニルカルバモイル等)等を挙げることができ
る。これらの基は、さらに前記一般式〔Ha〕におい
て、Xで表される置換可能な基と同義の置換基で置換さ
れていてもよい。In the general formula [Ha], the substitutable group represented by X includes a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, An alkenyl group having 2 to 20 alkenyl groups, an alkynyl group, an aryl group (for example, phenyl, etc.), an alkoxy group (preferably having an alkyl portion having 1 to 20 carbon atoms or an alkyleneoxy repeating structure), an alkenyloxy group (for example, Allyloxy, butenyloxy, etc.), alkynyloxy group (eg, propargyloxy, butynyloxy, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy, etc.), acyloxy group (eg, acetyloxy, propionyloxy, benzoyloxy, etc.), acylamino group (eg, acetylamino,
Propionylamino, butanoylamino, octanoylamino, benzoylamino, etc., sulfonamide group (for example, methanesulfonamide, ethanesulfonamide, propanesulfonamide, butanesulfonamide, hexanesulfonamide, octanesulfonamide, dodecanesulfonamide, benzene) Sulfonamides, etc.), ureido groups (eg, methyl ureide, ethyl ureide, propyl ureide, butyl ureide, hexyl ureide, cyclohexyl ureide, octyl ureide, dodecyl ureide, octadecyl ureide, phenyl ureide, naphthyl ureide, etc.), oxamoyl amino groups (for example, Methyl oxamoyl amino, ethyl oxamoyl amino, butyl oxamoyl amino, octyl oxamoyl amino, phenyl oxa Ylamino etc.), hydrazinocarbonyl amino group (e.g., methyl hydrazino carbonyl amino, ethyl hydrazino carbonylamino, dimethylhydrazino carbonylamino, diphenyl hydrazinocarbonyl amino, phenyl hydrazino carbonyl amino,
Phenylmethylhydrazinocarbonylamino, etc.), an alkylamino group (eg, methylamino, ethylamino, butylamino, octylamino, dodecylamino, etc.), a dialkylamino group (eg, dimethylamino, diethylamino, dibutylamino, methyloctylamino, etc.), An amino group, a hydroxy group, a halogen atom, an alkylthio group (preferably having an alkyl portion having 1 to 20 carbon atoms),
Alkenylthio groups (eg, allylthio, butenylthio, etc.), mercapto groups, sulfo groups, carboxyl groups, thioureido groups (eg, methylthioureido, ethylthioureido, butylthioureido, cyclohexylthioureido, octylthioureido, dodecylthioureido,
Phenylthioureido, etc.), cyano group, sulfonyl group (eg, methanesulfonyl), sulfamoyl group (eg, methylsulfamoyl, ethylsulfamoyl, butylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), carbamoyl group (eg, methylcarbamoyl) , Ethyl carbamoyl, butyl carbamoyl, octyl carbamoyl, phenyl carbamoyl, etc.). These groups may be further substituted with a substituent having the same meaning as the substitutable group represented by X in the general formula [Ha].
【0093】一般式〔Ha〕において、A1及びA2は一
般式〔H〕におけるA1及びA2と同義である。A1及び
A2はともに水素原子であることが好ましい。[0093] In Formula [Ha], A 1 and A 2 have the same meanings as A 1 and A 2 in formula (H). A 1 and A 2 are preferably both hydrogen atoms.
【0094】一般式〔Ha〕において、Gはカルボニル
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基または
イミノメチレン基を表すが、Gはカルボニル基であるこ
とが好ましい。In the general formula [Ha], G represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfoxy group, a phosphoryl group or an iminomethylene group, and G is preferably a carbonyl group.
【0095】一般式〔Ha〕において、R6としては、
水素原子、ブロック基としての脂肪族基(例えばメチ
ル、エチル、ベンジル、メトキシメチル、トリフルオロ
メチル、フェノキシメチル、4−メトキシベンゼンスル
ホニルメチル、1−ピリジニオメチル、ヒドロキシメチ
ル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル等)、芳香
族基(例えばフェニル、ヒドロキシメチルフェニル、ク
ロルフェニル等)、ヘテロ環基(例えばピリジル、チエ
ニル、フリル、N−メチルピリジニオ等)、アミノ基
(例えばメチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミ
ノ等)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ブ
トキシ等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ
等)、−COOR8基及び−CON(R9)(R10)基が
好ましい。ここで、R8は水素原子、アルキル基(例え
ばメチル、エチル、ベンジル、ヒドロキシエチル等)、
アルケニル基(例えばアリル、ブテニル等)、アルキニ
ル基(例えばプロパルギル、ブチニル等)、アリール基
(例えばフェニル、ナフチル等)又はヘテロ環基(例え
ば2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル、N−エ
チルピペリジニル、テトラヒドロフリル、スルホランの
様な飽和ヘテロ環及びピリジル、ピリミジニル、チエニ
ル、フリルの様な不飽和ヘテロ環等)を表し、R9及び
R10は各々水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチ
ル、ベンジル、ヒドロキシエチル等)、アルケニル基
(例えばアリル、ブテニル等)、アルキニル基(例えば
プロパルギル、ブチニル等)、アリール基(例えばフェ
ニル、ナフチル等)、ヘテロ環基(例えば2,2,6,
6−テトラメチルピペリジニル、N,N′−ジエチルピ
ラゾリジニル、キヌクリジニル、N−エチルピペリジニ
ル、N−ベンジルピペリジニル、N−ベンジルピロリジ
ニル、テトラヒドロフリル、スルホランの様な飽和ヘテ
ロ環及びピリジル、ピリミジニル、チエニル、フリルの
様な不飽和ヘテロ環基等)、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基(例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ、シ
アノメトキシ等)、アルケニルオキシ基(例えばアリル
オキシ、ブテニルオキシ等)、アルキニルオキシ基(例
えばプロパルギルオキシ、ブチニルオキシ等)、アリー
ルオキシ基(例えばフェノキシ、ナフチルオキシ等)、
ヘテロ環オキシ基(例えばピリジルオキシ、ピリミジル
オキシ等)又はアミノ基(例えばアミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ、フェニルアミ
ノ等)を表す。In the general formula [Ha], R 6 is
Hydrogen atom, aliphatic group as a blocking group (eg, methyl, ethyl, benzyl, methoxymethyl, trifluoromethyl, phenoxymethyl, 4-methoxybenzenesulfonylmethyl, 1-pyridiniomethyl, hydroxymethyl, methylthiomethyl, phenylthiomethyl, etc.) An aromatic group (eg, phenyl, hydroxymethylphenyl, chlorophenyl, etc.), a heterocyclic group (eg, pyridyl, thienyl, furyl, N-methylpyridinio, etc.), an amino group (eg, methylamino, dimethylamino, phenylamino, etc.), alkoxy Preferred are groups (eg, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), aryloxy groups (eg, phenoxy, etc.), —COOR 8 groups, and —CON (R 9 ) (R 10 ) groups. Here, R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl, ethyl, benzyl, hydroxyethyl, etc.),
Alkenyl groups (eg, allyl, butenyl, etc.), alkynyl groups (eg, propargyl, butynyl, etc.), aryl groups (eg, phenyl, naphthyl, etc.) or heterocyclic groups (eg, 2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl, N -Ethylpiperidinyl, tetrahydrofuryl, a saturated heterocyclic ring such as sulfolane and an unsaturated heterocyclic ring such as pyridyl, pyrimidinyl, thienyl, furyl, etc., wherein R 9 and R 10 are each a hydrogen atom, an alkyl group (for example, Methyl, ethyl, benzyl, hydroxyethyl, etc.), alkenyl group (eg, allyl, butenyl, etc.), alkynyl group (eg, propargyl, butynyl, etc.), aryl group (eg, phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic group (eg, 2,2,2) 6,
Saturation such as 6-tetramethylpiperidinyl, N, N'-diethylpyrazolidinyl, quinuclidinyl, N-ethylpiperidinyl, N-benzylpiperidinyl, N-benzylpyrrolidinyl, tetrahydrofuryl, sulfolane Heterocyclic ring and unsaturated heterocyclic group such as pyridyl, pyrimidinyl, thienyl, furyl, etc.), hydroxyl group, alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy, benzyloxy, cyanomethoxy, etc.), alkenyloxy group (eg, allyloxy, butenyloxy, etc.) An alkynyloxy group (eg, propargyloxy, butynyloxy, etc.), an aryloxy group (eg, phenoxy, naphthyloxy, etc.),
Represents a heterocyclic oxy group (eg, pyridyloxy, pyrimidyloxy, etc.) or an amino group (eg, amino, methylamino, dimethylamino, dibenzylamino, phenylamino, etc.).
【0096】R6としては、水素原子、脂肪族基、芳香
族基、−COOR8基及び−CON(R9)(R10)基が
好ましく、−COOR8基及び−CON(R9)(R10)
基がより好ましい。As R 6 , a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a —COOR 8 group and a —CON (R 9 ) (R 10 ) group are preferable, and a —COOR 8 group and a —CON (R 9 ) ( R 10 )
Groups are more preferred.
【0097】一般式〔Ha〕において、最も好ましいR
6としては、−COOR8′基及び−CON(R9′)
(R10′)基が挙げられる(R8′はアルキニル基又は
飽和ヘテロ環基を表し、R9′は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表し、R10′はアルケニル基、アルキニル基、
飽和ヘテロ環基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表
す)。In the formula [Ha], the most preferred R
6 includes —COOR 8 ′ group and —CON (R 9 ′)
(R 10 ') groups (R 8' represents an alkynyl group or a saturated heterocyclic radical, R 9 'represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic radical, R 10 'is an alkenyl group, an alkynyl group,
Represents a saturated heterocyclic group, a hydroxy group or an alkoxy group).
【0098】次に、一般式〔H〕又は〔Ha〕で表され
る化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。Next, specific examples of the compound represented by the general formula [H] or [Ha] are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0099】[0099]
【化32】 Embedded image
【0100】[0100]
【化33】 Embedded image
【0101】[0101]
【化34】 Embedded image
【0102】[0102]
【化35】 Embedded image
【0103】[0103]
【化36】 Embedded image
【0104】[0104]
【化37】 Embedded image
【0105】[0105]
【化38】 Embedded image
【0106】[0106]
【化39】 Embedded image
【0107】その他の好ましいヒドラジン誘導体の具体
例としては、米国特許5,229,248号の第4〜第
60カラムに記載されている(1)〜(252)であ
る。Specific examples of other preferable hydrazine derivatives are (1) to (252) described in columns 4 to 60 of US Pat. No. 5,229,248.
【0108】本発明に係るヒドラジン誘導体は、公知の
方法により合成することができ、例えば米国特許5,2
29,248号に記載されたような方法により合成する
ことができる。The hydrazine derivative according to the present invention can be synthesized by a known method. For example, US Pat.
It can be synthesized by a method as described in JP-A-29,248.
【0109】本発明においてヒドラジン誘導体は、支持
体上ハロゲン化銀乳剤層側の親水性コロイド層(ハロゲ
ン化銀乳剤層を含む)に含有させる。好ましくはハロゲ
ン化銀乳剤層及び/又はハロゲン化銀乳剤層に隣接する
親水性コロイド層に含有させる。In the present invention, the hydrazine derivative is contained in the hydrophilic colloid layer (including the silver halide emulsion layer) on the side of the silver halide emulsion layer on the support. Preferably, it is contained in a silver halide emulsion layer and / or a hydrophilic colloid layer adjacent to the silver halide emulsion layer.
【0110】添加量は、硬調化させる量(硬調化量)で
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は異なる
が、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10-1
モルの範囲であり、好ましくは10-5〜10-2モルの範
囲である。The amount of addition may be any amount that makes the contrast higher (the amount of the contrast enhancement).
Although the optimum amount varies depending on the degree of chemical sensitization, the type of the inhibitor, etc., it is generally 10 -6 to 10 -1 per mol of silver halide.
Molar range, preferably from 10 -5 to 10 -2 mol.
【0111】本発明において、ヒドラジン誘導体による
造核反応を効果的に促進するため造核促進剤を用いるこ
とが好ましい。造核促進剤としては下記一般式〔N
a〕、〔Na2〕又は〔Nb〕で表される化合物が挙げ
られる。In the present invention, it is preferable to use a nucleation accelerator in order to effectively promote the nucleation reaction by the hydrazine derivative. As the nucleation accelerator, the following general formula [N
a], [Na2] or [Nb].
【0112】[0112]
【化40】 Embedded image
【0113】一般式〔Na〕において、R1、R2及びR
3は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アル
ケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、置換アリール基、又は飽和若しくは不飽和のヘテロ
環を表す。R1、R2及びR3で環を形成してもよい。特
に好ましくは脂肪族の3級アミン化合物である。これら
の化合物は分子中に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着基
を有するものが好ましい。耐拡散性を有するためには分
子量100以上の化合物が好ましく、さらに好ましくは
分子量300以上であり、前記一般式〔H〕におけるA
の耐拡散基と同義のものが挙げられる。また、好ましい
吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエーテル
基、チオン基、チオウレア基等が挙げられる。In the general formula [Na], R 1 , R 2 and R
3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a saturated or unsaturated heterocyclic ring. R 1 , R 2 and R 3 may form a ring. Particularly preferred are aliphatic tertiary amine compounds. These compounds preferably have a diffusion-resistant group or a silver halide adsorption group in the molecule. In order to have diffusion resistance, a compound having a molecular weight of 100 or more is preferable, and a compound having a molecular weight of 300 or more is more preferable.
And those having the same meanings as those of the non-diffusion group. Preferred examples of the adsorptive group include a heterocycle, a mercapto group, a thioether group, a thione group, and a thiourea group.
【0114】一般式〔Na〕で表される造核促進剤より
更に好ましい造核促進剤として下記一般式〔Na2〕で
表される化合物が挙げられる。A nucleation accelerator more preferable than the nucleation accelerator represented by the general formula [Na] includes a compound represented by the following general formula [Na2].
【0115】[0115]
【化41】 Embedded image
【0116】一般式〔Na2〕において、R1、R2、R
3及びR4は、各々水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基又は飽
和若しくは不飽和のヘテロ環を表す。これらは互いに連
結して環を形成することができる。また、R1とR2とが
同時に水素原子であることはなく、またR3とR4が同時
に水素原子であることはない。XはS、Se又はTe原
子を表す。L1及びL2は各々2価の連結基を表す。具体
的には以下に示す基又はその組み合わせ −CH2−、−CH=CH−、−C2H4−、ピリジンジ
イル、−N(Z1)−(Z1は水素原子、アルキル基又は
アリール基を表す)、−O−、−S−、−(CO)−、
−(SO2)−、−CH2N− 及びそれらに適当な置換基(例えばアルキレン基、アル
ケニレン基、アリーレン基、アシルアミノ基、スルホン
アミド基等)を有する基が挙げられる。In the general formula [Na2], R 1 , R 2 , R
3 and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group,
Represents a substituted alkynyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a saturated or unsaturated heterocyclic ring. These can be linked to each other to form a ring. Also, R 1 and R 2 are not simultaneously hydrogen atoms, and R 3 and R 4 are not simultaneously hydrogen atoms. X represents an S, Se or Te atom. L 1 and L 2 each represent a divalent linking group. Specifically, the following groups or combinations thereof: —CH 2 —, —CH = CH—, —C 2 H 4 —, pyridinediyl, —N (Z 1 ) — (Z 1 is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl Represents a group), -O-, -S-,-(CO)-,
— (SO 2 ) —, —CH 2 N—, and groups having an appropriate substituent (such as an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, an acylamino group, and a sulfonamide group) are exemplified.
【0117】また、L1又はL2で表される連結基は、該
連結基中に少なくとも1つ以上の以下の構造を含むこと
が好ましい。Further, the linking group represented by L 1 or L 2 preferably contains at least one or more of the following structures in the linking group.
【0118】−CH2CH2O−、−C(CH3)HCH2
O−、−OC(CH3)HCH2O−、−OCH2C(O
H)HCH2− 以下に一般式〔Na〕又は〔Na2〕で表される造核促
進剤の具体例を挙げる。-CH 2 CH 2 O-, -C (CH 3 ) HCH 2
O -, - OC (CH 3 ) HCH 2 O -, - OCH 2 C (O
H) HCH 2- Specific examples of the nucleation accelerator represented by the general formula [Na] or [Na2] are shown below.
【0119】[0119]
【化42】 Embedded image
【0120】[0120]
【化43】 Embedded image
【0121】[0121]
【化44】 Embedded image
【0122】[0122]
【化45】 Embedded image
【0123】本発明において、造核促進剤として下記一
般式〔Nb〕で表される化合物を用いることができる。In the present invention, a compound represented by the following general formula [Nb] can be used as a nucleation accelerator.
【0124】[0124]
【化46】 Embedded image
【0125】一般式〔Nb〕において、Arは置換若し
くは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換の複素
芳香環を表す。R12は水素原子、置換されていてもよい
アルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換
されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよ
いアリール基を表す。ArとR12は連結基で連結されて
環を形成してもよい。一般式〔Nb〕で表される造核促
進剤は分子内に耐拡散基又はハロゲン化銀吸着基を有す
るものが好ましい。好ましい耐拡散性を持たせるために
は分子量120以上であることが好ましく、特に好まし
くは300以上である。ハロゲン化銀吸着基としては一
般式〔H〕におけるハロゲン化銀吸着促進基と同義のも
のが好ましく用いられる。In the general formula [Nb], Ar represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heteroaromatic ring. R 12 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group or an optionally substituted aryl group. Ar and R 12 may be linked by a linking group to form a ring. The nucleation accelerator represented by the general formula [Nb] preferably has a diffusion-resistant group or a silver halide adsorption group in the molecule. The molecular weight is preferably 120 or more, particularly preferably 300 or more, in order to impart a preferable diffusion resistance. As the silver halide adsorbing group, those having the same meaning as the silver halide adsorption accelerating group in the general formula [H] are preferably used.
【0126】一般式〔Nb〕で表される造核促進剤の具
体的化合物としては以下に示すものが挙げられる。Specific compounds of the nucleation accelerator represented by the general formula [Nb] include the following.
【0127】[0127]
【化47】 Embedded image
【0128】[0128]
【化48】 Embedded image
【0129】本発明のハロゲン化銀写真感光材料には前
述の造核促進剤と同様にヒドラジン誘導体による硬調化
を効果的に促進するためには、構造中に4級窒素化合物
及び/または4級リン化合物を有する4級オニウム化合
物から選ばれる造核促進剤を用いることができる。In the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention, a quaternary nitrogen compound and / or a quaternary compound are required in the structure in order to effectively promote hardening with a hydrazine derivative as in the case of the above-mentioned nucleation accelerator. A nucleation accelerator selected from quaternary onium compounds having a phosphorus compound can be used.
【0130】本発明に用いる4級オニウム化合物として
は、分子内に窒素原子又は燐原子の4級カチオン基を有
する化合物であり、好ましくは下記一般式(P)で表さ
れる化合物である。The quaternary onium compound used in the present invention is a compound having a quaternary cation group of a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule, and is preferably a compound represented by the following formula (P).
【0131】[0131]
【化49】 Embedded image
【0132】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。又、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。In the formula, Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom;
1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X − represents an anion. Further, R 1 to R 4 may be linked to each other to form a ring.
【0133】R1〜R4で表される置換基としては、アル
キル、アルケニル、アルキニル、アリール、複素環、ア
ミノ等の各基が挙げられ、具体的にはアルキル基(メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキ
シル等)、アルケニル基(アリル、ブテニル等)、アル
キニル基(プロパルギル、ブチニル等)、アリール基
(フェニル、ナフチル等)、複素環基(ピペリジニル、
ピペラジニル、モルホリニル、ピリジル、フリル、チエ
ニル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロチエニル、ス
ルホラニル等)等が挙げられる。Examples of the substituent represented by R 1 to R 4 include groups such as alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, heterocycle, amino and the like. Specifically, alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, Butyl, hexyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl group (allyl, butenyl, etc.), alkynyl group (propargyl, butynyl, etc.), aryl group (phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic group (piperidinyl,
Piperazinyl, morpholinyl, pyridyl, furyl, thienyl, tetrahydrofuryl, tetrahydrothienyl, sulfolanyl, etc.).
【0134】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、ピリジ
ン等の環が挙げられる。The ring which R 1 to R 4 can form by connecting to each other includes rings such as piperidine, morpholine, piperazine and pyridine.
【0135】R1〜R4で表される基には置換基(ヒドロ
キシル、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、
スルホ、アルキル、アリール基等)が置換してもよい。The groups represented by R 1 to R 4 include substituents (hydroxyl, alkoxy, aryloxy, carboxyl,
Sulfo, alkyl, aryl groups, etc.).
【0136】R1、R2、R3及びR4としては、水素原子
及びアルキル基が好ましい。As R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , a hydrogen atom and an alkyl group are preferred.
【0137】X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。[0137] X - include anions represented by the halogen ion, sulfate ion, nitrate ion, acetate ion, and inorganic and organic anions, such as p- toluenesulfonic acid ion.
【0138】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表されるピリジニウム化合物であ
る。More preferably, the following general formulas (Pa) and (P
It is a pyridinium compound represented by b) or (Pc).
【0139】[0139]
【化50】 Embedded image
【0140】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4及
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 represent a group of nonmetallic atoms for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom. And the benzene ring may be condensed. A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5
May have a substituent and may be the same or different. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfo group, a carboxy group, a hydroxyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, amino group, sulfonamide group, sulfonyl group, cyano group, nitro group, mercapto group, alkylthio group and arylthio group. Preferred examples of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 include a 5- to 6-membered ring (pyridine,
Imidazole, thiazole, oxazole, pyrazine,
Each ring such as pyrimidine), and a more preferred example is a pyridine ring.
【0141】Bpは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン、アリーレ
ン、アルケニレン、−SO2−、−SO−、−O−、−
S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル基、ア
リール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わせて構
成されるものを表す。Bpとして好ましくは、アルキレ
ン、アルケニレン基を挙げることができる。B p represents a divalent linking group, and m represents 0 or 1
Represents Examples of the divalent linking group include an alkylene, arylene, alkenylene, -SO 2 -, - SO - , - O -, -
S -, - CO -, - N (R 6) - (R 6 is an alkyl group, an aryl group, a hydrogen atom) represents what is configured alone or in combination. Preferably, B p is an alkylene or alkenylene group.
【0142】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜20
のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換あるいは無置換のア
ルキル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4
及びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。R 1 , R 2 and R 5 each have 1 to 20 carbon atoms
Represents an alkyl group. R 1 and R 2 may be the same or different. The alkyl group represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and examples of the substituent include A 1 , A 2 , A 3 , A 4
And the substituents mentioned as the substituents for A 5 .
【0143】R1、R2及びR5の好ましい例としては、
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、置換あるいは無置換のアリール基、置
換アルキル基が挙げられる。Preferred examples of R 1 , R 2 and R 5 include:
Each is an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. More preferred examples include a substituted or unsubstituted aryl group and a substituted alkyl group.
【0144】Xp -は分子全体の電荷を均衡さすに必要な
対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素
イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホ
ナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電荷
を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の場
合にはnpは0である。次に本発明に係るピリジニウム
化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定
されない。[0144] X p - is a counter ion necessary to refer balancing the charge of the whole molecule, expressed as chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p- toluenesulfonate, the oxalato or the like. n p represents the number of counter ions required to balance the charge of the whole molecule, and n p is 0 in the case of an internal salt. Next, specific examples of the pyridinium compound according to the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0145】[0145]
【化51】 Embedded image
【0146】[0146]
【化52】 Embedded image
【0147】[0147]
【化53】 Embedded image
【0148】[0148]
【化54】 Embedded image
【0149】[0149]
【化55】 Embedded image
【0150】[0150]
【化56】 Embedded image
【0151】[0151]
【化57】 Embedded image
【0152】[0152]
【化58】 Embedded image
【0153】[0153]
【化59】 Embedded image
【0154】[0154]
【化60】 Embedded image
【0155】上記で示した造核促進剤及び4級オニウム
化合物の添加量は条件により一様ではないが、一般的に
はハロゲン化銀1モル当たり1×10-6〜2×10-2モ
ルの範囲であり、好ましくは2×10-5〜1×10-2モ
ルの範囲である。The addition amounts of the nucleation accelerator and the quaternary onium compound shown above are not uniform depending on the conditions, but are generally 1 × 10 -6 to 2 × 10 -2 mol per mol of silver halide. And preferably in the range of 2 × 10 −5 to 1 × 10 −2 mol.
【0156】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られるハロゲン化銀乳剤のハロゲン組成は、塩化銀含有
率が60モル%以上の組成からなるハロゲン化銀乳剤で
ハロゲン化銀の平均粒子サイズは0.6μm以下である
ことが好ましく、特に0.5〜0.05μmが好まし
い。The silver halide emulsion used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is a silver halide emulsion having a composition having a silver chloride content of 60 mol% or more, and has an average grain size of silver halide. It is preferably 0.6 μm or less, particularly preferably 0.5 to 0.05 μm.
【0157】ハロゲン化銀粒子の形状には特に制限はな
く平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状そ
の他いずれの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い
方が好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サ
イズ域内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入る
ような、いわゆる単分散乳剤が好ましい。The shape of the silver halide grains is not particularly limited, and may be any of tabular, spherical, cubic, tetradecahedral, octahedral, and other shapes. Further, it is preferable that the particle size distribution is narrower, and in particular, a so-called monodisperse emulsion in which 90%, preferably 95% of the total number of particles falls within a particle size range of ± 40% of the average particle size is preferable.
【0158】平板状粒子としては塩化銀60モル%以上
を有する(100)面を主平面とする平板状粒子を用い
ることができる。As the tabular grains, tabular grains having a (100) plane having 60 mol% or more of silver chloride as a main plane can be used.
【0159】乳剤の調製は片側混合法、同時混合法、そ
れらの組合せなどのいずれを用いてもよい。粒子を銀イ
オン過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合
法)を用いることもできる。同時混合法の一つの形式と
してハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に
保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブルジェッ
ト法を用いることができ、この方法によると、結晶形が
規則的で粒子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳剤が得
られる。The emulsion may be prepared by any one of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, and a combination thereof. A method of forming grains in the presence of excess silver ions (a so-called reverse mixing method) can also be used. As one type of the double jet method, a method of maintaining a constant pAg in a liquid phase in which silver halide is formed, that is, a so-called controlled double jet method can be used. To obtain a silver halide emulsion having a nearly uniform grain size.
【0160】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されても、さ
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感、セ
レン増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。硫黄増感剤としては、公知の硫黄増感剤が使
用できるが、好ましい硫黄増感剤としては、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えば
チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィ
ド化合物等を用いることができる。セレン増感剤として
は、公知のセレン増感剤を用いることができる。The silver halide emulsion may or may not be chemically sensitized. Known methods of chemical sensitization include sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, reduction sensitization and noble metal sensitization, and any of these methods may be used alone or in combination. As the sulfur sensitizer, known sulfur sensitizers can be used. Preferred sulfur sensitizers include, in addition to the sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, Rhodanins, polysulfide compounds and the like can be used. As the selenium sensitizer, a known selenium sensitizer can be used.
【0161】本発明に係る写真乳剤の結合剤又は保護コ
ロイドとしては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、
それ以外の親水性コロイドも用いることができる。例え
ばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフト
ポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキ
シエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セ
ルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘導体、ア
ルギン酸ナトリウム、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセター
ル、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポ
リメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミ
ダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重
合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いることが
できる。As the binder or protective colloid of the photographic emulsion according to the present invention, it is advantageous to use gelatin.
Other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose and cellulose sulfates; sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives; polyvinyl alcohol Use of various kinds of synthetic hydrophilic high-molecular substances such as mono- or copolymers such as polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole and polyvinylpyrazole Can be.
【0162】ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。As the gelatin, in addition to lime-processed gelatin,
Acid-treated gelatin may be used, gelatin hydrolyzate,
Enzymatic degradation products of gelatin can also be used.
【0163】写真乳剤には寸度安定性の改良などの目的
で水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。例えばアルキル(メタ)アクリレート、アルコ
キシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニルエ
ステル(例えば酢酸ビニル)、アクリロニトリル、オレ
フィン、スチレンなどの単独もしくは組合せ、又はこれ
らとアクリル酸、メタクリル酸、α,β−不飽和ジカル
ボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ス
ルホアルキル(メタ)アクリレート、スチレンスルホン
酸等の組合せを単量体成分とするポリマーを用いること
ができる。The photographic emulsion may contain a dispersion of a water-insoluble or hardly soluble synthetic polymer for the purpose of improving dimensional stability and the like. For example, alkyl (meth) acrylate, alkoxyacryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, vinyl ester (eg, vinyl acetate), acrylonitrile, olefin, styrene, etc., alone or in combination, or acrylic acid, A polymer having a combination of methacrylic acid, α, β-unsaturated dicarboxylic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate, sulfoalkyl (meth) acrylate, styrenesulfonic acid or the like as a monomer component can be used.
【0164】本発明の効果を顕著に発現させるための一
つの方法として、少なくとも1層の構成層中に親水性ポ
リマーを含有することが好ましい。好ましい親水性ポリ
マーとしては澱粉、葡萄糖、デキストリン、デキストラ
ン、シクロデキストリン、蔗糖、麦芽糖、キサンタンガ
ム、カラギーナンなどが挙げられる。As one method for remarkably exhibiting the effects of the present invention, it is preferable that at least one constituent layer contains a hydrophilic polymer. Preferred hydrophilic polymers include starch, glucose, dextrin, dextran, cyclodextrin, sucrose, maltose, xanthan gum, carrageenan and the like.
【0165】親水性ポリマーの分子量は600〜100
万まで適宜選択することができる。処理に際して迅速に
処理液に溶出するためには分子量が低い程よいが、低す
ぎるとフィルムの膜強度を劣化させるので400以上は
必要である。親水性ポリマーを使用するとフィルム擦り
傷耐性が劣化するため、無機のコロイダルシリカ、コロ
イダル錫、コロイダル亜鉛、コロイダルチタン、コロイ
ダルイットリウム、コロイダルプラセオジウム、ネオジ
ム、ゼオライト、アパタイトなどを添加することが好ま
しい。ゼオライトとしてはアナルサイト、エリオナイ
ト、モルデナイト、シャバサイト、グメリナイト、レビ
ナイトが、また合成ゼオライトとしてはゼオライトA、
X、Y、Lなどが挙げられる。アパタイトとしてはヒド
ロキシアパタイト、フッソアパタイト、塩素アパタイト
などが挙げられる。The molecular weight of the hydrophilic polymer is from 600 to 100
Up to ten thousand can be appropriately selected. The lower the molecular weight is, the better to elute into the processing solution quickly during the processing, but if it is too low, the film strength of the film is deteriorated. When a hydrophilic polymer is used, the abrasion resistance of the film deteriorates. Therefore, it is preferable to add inorganic colloidal silica, colloidal tin, colloidal zinc, colloidal titanium, colloidal yttrium, colloidal praseodymium, neodymium, zeolite, apatite, and the like. As zeolites, analsite, erionite, mordenite, shabasite, gmelinite, levinite, and as synthetic zeolites, zeolite A,
X, Y, L and the like. Examples of apatite include hydroxyapatite, fluorospatite, and chlorapatite.
【0166】好ましい添加量は親水性バインダー当たり
重量で1%から200%の割合で添加することができ
る。上記の無機化合物はシランカップリング剤で処理す
ることにより乳剤中に添加しても凝集しにくく、塗布液
を安定にすることが出来る。The preferred amount of addition is from 1% to 200% by weight per hydrophilic binder. By treating the inorganic compound with a silane coupling agent, the inorganic compound hardly aggregates even when added to the emulsion, and can stabilize the coating solution.
【0167】また、無機化合物によるひび割れを防止す
ることができるシランカップリング剤としては、トリエ
トキシシラノビニル、トリメトキシシラノビニル、トリ
メトキシプロピルメタアクリレート、トリメトキシシラ
ノプロピルグリシジル、1−メルカプト−3−トリエト
キシシラノプロパン、1−アミノ−3−トリエトキシシ
ラノプロパン、トリエトキシシラノフェニル、トリエト
キシメチルシランなどが挙げられる。シランカップリン
グ剤は上記無機化合物と一緒に高温処理することによ
り、単純混合よりも特性を向上させることができる。混
合比は1:100から100:1の範囲で選択するのが
よい。Examples of silane coupling agents capable of preventing cracking due to inorganic compounds include triethoxysilanovinyl, trimethoxysilanovinyl, trimethoxypropyl methacrylate, trimethoxysilanopropylglycidyl, 1-mercapto-3- Examples include triethoxysilanopropane, 1-amino-3-triethoxysilanopropane, triethoxysilanophenyl, and triethoxymethylsilane. By treating the silane coupling agent at a high temperature together with the above-mentioned inorganic compound, the characteristics can be improved as compared with the simple mixing. The mixing ratio is preferably selected in the range of 1: 100 to 100: 1.
【0168】本発明の効果を顕著に発現させるための一
つの方法として、ハロゲン化銀乳剤層を少なくとも2層
有することが好ましい。これらの乳剤層の感度は同じで
も異なっていてもよい。またこれらの乳剤層は互いに隣
接していてもよいし、それぞれの乳剤層の間に1層以上
の中間層を有してもよい。As one method for remarkably exhibiting the effects of the present invention, it is preferable to have at least two silver halide emulsion layers. The sensitivity of these emulsion layers may be the same or different. These emulsion layers may be adjacent to each other, or may have one or more intermediate layers between each emulsion layer.
【0169】本発明の効果を更に顕著に発現させるため
には、ハロゲン化銀写真乳剤層の反対側に少なくとも1
層の親水性コロイド層を有し、その外側に少なくとも一
層の疎水性ポリマー層を有することが好ましい。ここで
ハロゲン化銀写真乳剤層の反対側の親水性コロイド層と
は、いわゆるバック層を含む。In order for the effects of the present invention to be more remarkably exhibited, at least one silver halide photographic emulsion layer is provided on the side opposite to the silver halide photographic emulsion layer.
It is preferred to have a hydrophilic colloid layer as a layer and to have at least one hydrophobic polymer layer outside the layer. Here, the hydrophilic colloid layer on the opposite side of the silver halide photographic emulsion layer includes a so-called back layer.
【0170】バック層の外側に少なくとも1層の疎水性
ポリマー層を有する構成が好ましい。疎水性ポリマー層
とは疎水性ポリマーをバインダーとする層である。It is preferable that at least one hydrophobic polymer layer is provided outside the back layer. The hydrophobic polymer layer is a layer using a hydrophobic polymer as a binder.
【0171】ポリマー層のバインダーの具体例としては
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリ
ル、ポリ酢酸ビニル、ウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、テトラフルオ
ロエチレン、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素系樹脂、
ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム等のゴム
類、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルアクリレー
ト等のアクリル酸又はメタクリル酸のエステル、ポリエ
チレンフタレート等のポリエステル樹脂、ナイロン6、
ナイロン66等のポリアミド樹脂、セルローストリアセ
テート等のセルロース樹脂、シリコーン樹脂などの水不
溶性ポリマー又は、これらの誘導体を挙げることができ
る。更にポリマー層のバインダーとして、1種類のモノ
マーから成るホモポリマーでも、2種類以上のモノマー
から成るコポリマーでも良い。特に好ましいバインダー
としては、アルキルアクリレート又はアルキルメタクリ
レートとアクリル酸又はメタクリル酸のコポリマー(ア
クリル酸又はメタクリル酸は5モル%以下が好まし
い)、スチレン−ブタジエンコポリマー、スチレン−ブ
タジエン−アクリル酸コポリマー(アクリル酸は5モル
%以下が好ましい)、スチレン−ブタジエン−ジビニル
ベンゼン−メタクリル酸コポリマー(メタクリル酸は5
モル%以下が好ましい)、酢酸ビニル−エチレン−アク
リル酸コポリマー(アクリル酸は5モル%以下)、塩化
ビニリデン−アクリロニトリル−メチルメタクリレート
−エチルアクリレート−アクリル酸コポリマー(アクリ
ル酸5モル%以下)、エチルアクリレート−グリシジル
メタクリレート−アクリル酸コポリマー等である。これ
らは1種類を単独で用いてもよいし2種以上を併用して
用いてもよい。Specific examples of the binder for the polymer layer include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, polyvinyl acetate, urethane resin, urea resin, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, and tetrafluorocarbon. Fluorinated resins such as ethylene and polyvinylidene fluoride,
Butadiene rubber, chloroprene rubber, rubbers such as natural rubber, polymethyl methacrylate, acrylic acid or methacrylic acid esters such as polyethyl acrylate, polyester resins such as polyethylene phthalate, nylon 6,
Examples include polyamide resins such as nylon 66, cellulose resins such as cellulose triacetate, water-insoluble polymers such as silicone resins, and derivatives thereof. Further, as a binder for the polymer layer, a homopolymer composed of one kind of monomer or a copolymer composed of two or more kinds of monomers may be used. Particularly preferred binders include alkyl acrylate or alkyl methacrylate and acrylic acid or methacrylic acid copolymers (acrylic acid or methacrylic acid is preferably 5 mol% or less), styrene-butadiene copolymer, styrene-butadiene-acrylic acid copolymer (acrylic acid is 5 mol% or less), styrene-butadiene-divinylbenzene-methacrylic acid copolymer (methacrylic acid
Mol% or less), vinyl acetate-ethylene-acrylic acid copolymer (acrylic acid is 5 mol% or less), vinylidene chloride-acrylonitrile-methyl methacrylate-ethyl acrylate-acrylic acid copolymer (acrylic acid 5 mol% or less), ethyl acrylate -Glycidyl methacrylate-acrylic acid copolymer. These may be used alone or in combination of two or more.
【0172】疎水性ポリマー層には必要に応じてマット
剤、界面活性剤、染料、すべり剤、架橋剤、増粘剤、U
V吸収剤、コロイダルシリカ等の無機微粒子などの写真
用添加剤を添加してもよい。これらの添加剤についても
リサーチ・ディスクロージャー誌176巻17646号
(1978年12月)の記載を参考にすることができ
る。If necessary, a matting agent, a surfactant, a dye, a sliding agent, a crosslinking agent, a thickener,
V absorbers and photographic additives such as inorganic fine particles such as colloidal silica may be added. Regarding these additives, the description in Research Disclosure Magazine, Vol. 176, No. 17646 (December, 1978) can be referred to.
【0173】疎水性ポリマー層は1層であっても2層以
上であっても良い。ポリマー層の厚みには特に制限はな
い。しかし疎水性ポリマー層の厚みが小さ過ぎる場合、
疎水性ポリマー層の耐水性が不充分となり、バック層が
処理液に膨潤する様になってしまい不適切である。逆に
疎水性ポリマー層の厚みが大き過ぎる場合、ポリマー層
の水蒸気透過性が不充分となり、バック層の親水性コロ
イド層の吸脱湿が阻害されてカールが不良となってしま
う。勿論疎水性ポリマー層の厚みは用いるバインダーの
物性値にも依存する。従ってポリマー層厚みはこの両者
を考慮して決定する必要がある。疎水性ポリマー層の好
ましい厚みは疎水性ポリマー層のバインダー種にもよる
が、0.05〜10μm、より好ましくは0.1〜5μ
mの範囲である。疎水性ポリマー層が2層以上から成る
場合には、すべての疎水性ポリマー層の厚みの和を該感
光材料の疎水性ポリマー層の厚みとする。The hydrophobic polymer layer may be a single layer or two or more layers. There is no particular limitation on the thickness of the polymer layer. However, if the thickness of the hydrophobic polymer layer is too small,
The water resistance of the hydrophobic polymer layer becomes insufficient, and the back layer swells in the treatment liquid, which is inappropriate. Conversely, if the thickness of the hydrophobic polymer layer is too large, the water vapor permeability of the polymer layer will be insufficient, and the moisture absorption and desorption of the hydrophilic colloid layer of the back layer will be inhibited, resulting in poor curl. Of course, the thickness of the hydrophobic polymer layer also depends on the physical properties of the binder used. Therefore, the thickness of the polymer layer needs to be determined in consideration of both. The preferred thickness of the hydrophobic polymer layer depends on the binder type of the hydrophobic polymer layer, but is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm.
m. When the hydrophobic polymer layer comprises two or more layers, the sum of the thicknesses of all the hydrophobic polymer layers is defined as the thickness of the hydrophobic polymer layer of the photosensitive material.
【0174】疎水性ポリマー層を塗設する方法に特に制
限はない。バック層を塗布乾燥した後に、バック層上に
ポリマー層を塗布しその後乾燥しても良いし、バック層
と疎水性ポリマー層を同時に塗布し、その後乾燥しても
よい。疎水性ポリマー層はポリマー層のバインダーの溶
媒に溶解して溶剤系で塗布しても良いし、バインダーの
ポリマーの水分散物を用いて、水系で塗布してもよい。The method for applying the hydrophobic polymer layer is not particularly limited. After coating and drying the back layer, a polymer layer may be coated on the back layer and then dried, or the back layer and the hydrophobic polymer layer may be simultaneously coated and then dried. The hydrophobic polymer layer may be applied in a solvent system by dissolving in a solvent of a binder of the polymer layer, or may be applied in an aqueous system using an aqueous dispersion of the binder polymer.
【0175】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤
層の反対側の面には、支持体上に接着層/帯電防止層/
親水性コロイドを含有するバック層/疎水性ポリマー層
を設けることが好ましい。更にその上に保護層を設けて
もよい。接着層としてはコロナ放電した支持体上に塩化
ビニリデン共重合体やスチレンーグリシジルアクリレー
ト共重合体を0.1〜1μmの厚さで塗布した後、イン
ジウムやリンをドープした平均粒子径0.01μ〜1μ
の酸化錫、5酸化バナジウムの微粒子を含むゼラチン層
で塗布して得ることができる。また、スチレンスルホン
酸とマレイン酸共重合体をエポキシ類やアジリジン類や
カルボニル活性型の架橋剤で造膜して設けることができ
る。これら帯電防止層の上に染料バック層を設けること
ができる。これらの層中には、コロイダルシリカなどの
寸法安定のための無機充填物や接着防止のシリカやメタ
クリル酸メチルマット剤、搬送性の制御のためのシリコ
ン系滑り剤あるいは剥離剤などを含有させることができ
る。バック層にはバッキング染料を含有してもよく、バ
ッキング染料としてはベンジリデン染料やオキソノール
染料が使用される。これらアルカリ可溶性あるいは分解
性染料を微粒子にして固定しておくこともできる。ハレ
ーション防止のための濃度としては、各感光性波長で
0.1〜2.0までの濃度であることが好ましい。On the side opposite to the emulsion layer of the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention, an adhesive layer / antistatic layer /
It is preferable to provide a back layer / hydrophobic polymer layer containing a hydrophilic colloid. Further, a protective layer may be provided thereon. As an adhesive layer, after coating a vinylidene chloride copolymer or a styrene-glycidyl acrylate copolymer in a thickness of 0.1 to 1 μm on a corona-discharged support, an average particle diameter of 0.01 μm doped with indium or phosphorus is used. ~ 1μ
And a gelatin layer containing fine particles of tin oxide and vanadium pentoxide. Further, a styrene sulfonic acid / maleic acid copolymer can be formed by forming a film with an epoxy compound, an aziridine compound, or a carbonyl active crosslinking agent. A dye back layer can be provided on these antistatic layers. These layers should contain inorganic fillers such as colloidal silica for dimensional stability, silica or methyl methacrylate for preventing adhesion, and silicone-based slipping agents or release agents for controlling transportability. Can be. The backing layer may contain a backing dye, and a benzylidene dye or an oxonol dye is used as the backing dye. These alkali-soluble or decomposable dyes can be fixed as fine particles. The concentration for preventing halation is preferably 0.1 to 2.0 at each photosensitive wavelength.
【0176】本発明に用いられる支持体は透過性、非透
過性どちらのものでもよいが、好ましくは透過性のプラ
スチック支持体がよい。プラスチック支持体にはポリエ
チレン化合物(例えばポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート等)、トリアセテート化合物
(例えばトリアセテートセルロース等)、ポリスチレン
化合物等からなる支持体が用いられる。The support used in the present invention may be either permeable or non-permeable, but is preferably a permeable plastic support. As the plastic support, a support composed of a polyethylene compound (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), a triacetate compound (eg, triacetate cellulose, etc.), a polystyrene compound, or the like is used.
【0177】支持体の厚みとしては好ましくは50〜2
50μm、特に好ましくは70〜200μmである。The thickness of the support is preferably 50 to 2
It is 50 μm, particularly preferably 70 to 200 μm.
【0178】更に支持体の巻き癖、カールを向上させる
には製膜後、熱処理をすることが好ましい。最も好まし
いのは製膜後の乳剤塗布前であるが乳剤塗布後であって
もよい。熱処理の条件は45℃以上ガラス転移温度以下
で、1秒から10日の間が好ましい。生産性の点から1
時間以内にすることが好ましい。In order to further improve the curl and curl of the support, it is preferable to perform a heat treatment after forming the film. The most preferable is before the emulsion coating after the film formation, but may be after the emulsion coating. The condition of the heat treatment is preferably 45 ° C. or higher and the glass transition temperature or lower, and preferably between 1 second and 10 days. 1 in terms of productivity
It is preferable to be within hours.
【0179】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
は、下記に記載された化合物をハロゲン化銀写真感光材
料の構成層中に含有させることができる。In the silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention, the following compounds can be contained in the constituent layers of the silver halide photographic light-sensitive material.
【0180】(1)染料の固体分散微粒子体 特開平7−5629号公報(3)頁[0017]〜(1
6)頁[0042]記載の化合物 (2)酸基を有する化合物 特開昭62−237445号公報(8)頁左下欄11行
目〜(25)頁右下欄3行目記載の化合物 (3)酸性ポリマー 特開平6−186659号公報(10)頁[0036]
〜(17)頁[0062]記載の化合物 (4)強色増感剤 特開平6−347938号公報(3)頁[0011]〜
(16)頁[0066]記載の化合物 (5)テトラゾリウム化合物 特開平6−208188号公報(8)頁[0059]〜
(10)頁[0067]記載の化合物 (6)レドックス化合物 特開平4−245243号公報(7)頁〜(22)頁記
載の化合物。(1) Solid Dispersion Fine Particles of Dye JP-A-7-5629, page (3) [0017] to (1)
6) Compound described on page [0042] (2) Compound having an acid group Compound (3) described in JP-A-62-237445, page 11, lower left column, line 11 to page (25) right lower column, line 3 ) Acidic polymer JP-A-6-186659, page (10) [0036]
(4) Supersensitizer: JP-A-6-347938, page (3) [0011]-
(16) Compound described on page [0066] (5) Tetrazolium compound JP-A-6-208188, (8) page [0059] to
(10) Compound described on page [0067] (6) Redox compound Compound described on pages (7) to (22) of JP-A-4-245243.
【0181】(7)SPS支持体 特開平3−54551号公報記載の支持体を用いる。(7) SPS support The support described in JP-A-3-54551 is used.
【0182】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
は前述の添加剤およびその他の公知の添加剤を用いるこ
とができる。これらについてはリサーチ・ディスクロー
ジャー(RD)No.17643(1978年12
月)、同18716(1979年11月)及び同308
119(1989年12月)に記載された化合物が挙げ
られる。The above-mentioned additives and other known additives can be used in the silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention. These are described in Research Disclosure (RD) Nos. 17643 (December 1978
18716 (November 1979) and 308
119 (Dec. 1989).
【0183】本発明に使用する上記の各種添加剤は水或
いは有機溶媒に溶解して使用してもよく、また微粒子結
晶状態に分散して使用してもよい。分散法としては例え
ばボールミル、サンドミル、コロイドミル、超音波分散
機或いは高速インペラー分散機などを用いることができ
る。The above-mentioned various additives used in the present invention may be used by dissolving them in water or an organic solvent, or may be used by dispersing them in a crystal state of fine particles. As the dispersion method, for example, a ball mill, a sand mill, a colloid mill, an ultrasonic disperser or a high-speed impeller disperser can be used.
【0184】本発明では例えば特開昭58−10514
1号記載の機械的に高速撹拌する方法、或いは特開昭4
4−22948号記載の有機溶媒で加熱溶解後、溶媒を
除去して分散する方法、特開昭50−80119号或い
は特開平2−15252号記載の酸又はアルカリに溶解
後、ポリマー中に結晶析出分散する方法などを適用する
ことができる。なお本発明において水に難溶性のヒドラ
ジン誘導体は例えば特開平2−3033号記載の方法を
参考にして溶解することができる。この方法は他の化合
物にも適用することができる。また、カルボキシ基を有
する染料や分光増感色素、添加剤などはカルボキシ基の
キレート能力を生かして微粒子結晶の固定化率を挙げる
方法を適用してもよい。In the present invention, for example, JP-A-58-10514
No. 1, the method of mechanically high-speed stirring, or
A method of dissolving by heating after dissolving with an organic solvent described in JP-A-4-2948, removing the solvent and dispersing; dissolving in an acid or alkali described in JP-A-50-80119 or JP-A-2-15252, and then crystallizing out in a polymer; A dispersing method or the like can be applied. In the present invention, the hydrazine derivative which is hardly soluble in water can be dissolved with reference to, for example, the method described in JP-A-2-3033. This method can be applied to other compounds. In addition, a method in which the dye having a carboxy group, the spectral sensitizing dye, an additive, and the like are used to increase the immobilization rate of fine particle crystals by utilizing the chelating ability of the carboxy group.
【0185】次に本発明のハロゲン化銀写真感光材料の
処理方法では、写真用処理剤として公知のものは何れも
使用することができる。In the method for processing a silver halide photographic light-sensitive material of the present invention, any known photographic processing agents can be used.
【0186】例えば現像主薬としてはハイドロキノン、
クロロハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノスルホン酸カリウムなどのジヒドロキシベ
ンゼン類、1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェ
ニル−4−メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−
ピラゾリドンなどの3−ピラゾリドン類、N−メチル−
p−アミノフェノールなどのアミノフェノール類等ある
いはこれらの混合物、またアスコルビン酸類としてアス
コルビン酸、アスコルビン酸ナトリウム、エリソルビン
酸など、あるいは金属錯塩としてEDTA鉄塩、DTP
A鉄塩、DTPAニッケル塩などを単独又は組み合わせ
て用いることができる。For example, as a developing agent, hydroquinone,
Dihydroxybenzenes such as chlorohydroquinone, methylhydroquinone, potassium hydroquinone monosulfonate, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-
4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-
4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dihydroxymethyl-3-
3-pyrazolidones such as pyrazolidone, N-methyl-
Aminophenols such as p-aminophenol or a mixture thereof, ascorbic acids such as ascorbic acid, sodium ascorbate, erythorbic acid, etc., or EDTA iron salt as a metal complex salt, DTP
A iron salt, DTPA nickel salt and the like can be used alone or in combination.
【0187】なかでもアスコルビン酸及びその誘導体と
上記の3−ピラゾリドン類又はジヒドロキシベンゼン類
との組み合わせで使用することが好ましい。Of these, it is preferable to use ascorbic acid and its derivatives in combination with the above-mentioned 3-pyrazolidones or dihydroxybenzenes.
【0188】現像液にはアルカリ剤(水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等)及びpH緩衝剤(例えば炭酸
塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞酸、アルカノー
ルアミン等)が添加されることが好ましい。pH緩衝剤
としては炭酸塩が好ましく、その添加量は1リットル当
たり0.5モル以上、2.5モル以下が好ましく、更に
好ましくは0.75モル以上、1.5モル以下の範囲で
ある。An alkali agent (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide) and a pH buffer (eg, carbonate, phosphate, borate, boric acid, acetic acid, citric acid, alkanolamine, etc.) are added to the developer. Is preferred. As the pH buffering agent, carbonate is preferable, and the amount of addition is preferably 0.5 mol or more and 2.5 mol or less, more preferably 0.75 mol or more and 1.5 mol or less per liter.
【0189】また必要により溶解助剤(例えばポリエチ
レングリコール類、それらのエステル、アルカノールア
ミン等)、増感剤、界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤
(例えば臭化カリウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン
化物、ニトロベンズインダゾール、ニトロベンズイミダ
ゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テト
ラゾール類、チアゾール類等)、キレート化剤(例えば
エチレンジアミン四酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニト
リロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米
国特許2,304,025号、特公昭47−45541
号に記載の化合物等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデ
ヒド又は、その重亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤
などを添加することができる。If necessary, dissolution aids (eg, polyethylene glycols, esters thereof, alkanolamines, etc.), sensitizers, surfactants, defoamers, antifoggants (eg, potassium bromide, sodium bromide, etc.) Halides, nitrobenzindazole, nitrobenzimidazole, benzotriazole, benzothiazole, tetrazoles, thiazoles, etc., chelating agents (eg, ethylenediaminetetraacetic acid or alkali metal salts thereof, nitrilotriacetic acid salts, polyphosphates, etc.), Development accelerators (for example, U.S. Pat. No. 2,304,025, JP-B-47-45541)
And the like, a hardening agent (for example, glutaraldehyde or a bisulfite adduct thereof), or an antifoaming agent.
【0190】本発明の処理方法に於いて、本発明のハロ
ゲン化銀写真感光材料を露光後、上述した公知の素材を
含む現像液で処理される。本発明で使用される現像液は
使用時のpHが9.0〜11に調整された現像液で処理
される。特に好ましくはpH9.5以上、10.6以下
の現像液で処理されることである。このpHは通常の現
像液pHよりも低く、取り扱いに際しての安全性、或い
は公害性の面からも好ましい。In the processing method of the present invention, after the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is exposed, it is processed with a developer containing the above-mentioned known materials. The developer used in the present invention is treated with a developer whose pH at the time of use is adjusted to 9.0 to 11. Particularly preferably, it is processed with a developer having a pH of 9.5 or more and 10.6 or less. This pH is lower than a normal developer pH, and is preferable from the viewpoint of safety during handling or pollution.
【0191】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができ、定着剤としてはチオ硫酸ナトリ
ウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチ
オ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリ
ウム、チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の
他、可溶性安定銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定
着剤として知られているものを用いることができる。As the fixing solution, those having a commonly used composition can be used. As fixing agents, thiosulfates such as sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, ammonium thiosulfate, sodium thiocyanate, potassium thiocyanate, and ammonium thiocyanate can be used. In addition to the thiocyanate, an organic sulfur compound capable of forming a soluble stable silver complex and known as a fixing agent can be used.
【0192】定着液には硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミニ
ウム、カリ明礬、アルデヒド化合物(例えば、グルタル
アルデヒドやグルタルアルデヒドの亜硫酸付加物等)な
どを加えることができる。To the fixing solution, a water-soluble aluminum salt acting as a hardening agent, for example, aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum, an aldehyde compound (for example, glutaraldehyde or an adduct of glutaraldehyde with sulfurous acid) can be added. .
【0193】さらに所望により、保恒剤(例えば亜硫酸
塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸、クエン
酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキ
レート剤等の化合物を含むことができる。If desired, compounds such as preservatives (for example, sulfites and bisulfites), pH buffering agents (for example, acetic acid and citric acid), pH adjusters (for example, sulfuric acid), chelating agents having a water softening ability, and the like. Can be included.
【0194】定着液のpHは3以上、8未満であること
が好ましい。定着処理後、水洗及び/または安定化浴で
処理される。安定化浴としては画像を安定化させる目的
で、膜pHを調整(処理後の膜面pHを3〜8に)する
ための無機及び有機の酸及びその塩、またはアルカリ剤
及びその塩(例えばほう酸塩、メタほう酸塩、ホウ砂、
リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカルボン酸、ポ
リカルボン酸、クエン酸、蓚酸、リンゴ酸、酢酸等を組
み合わせて使用)、アルデヒド類(例えばホルマリン、
グリオキザール、グルタルアルデヒド等)、キレート剤
(例えばエチレンジアミン四酢酸又はそのアルカリ金属
塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、防バイ剤(例
えばフェノール、4−クロロフェノール、クレゾール、
O−フェニルフェノール、クロロフェン、ジクロロフェ
ン、ホルムアルデヒド、P−ヒドロキシ安息香酸エステ
ル、2−(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール、ベ
ンゾイソチアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジル−
メチルアンモニウム−クロライド、N−(フルオロジク
ロロメチルチオ)フタルイミド、2,4,4′−トリク
ロロ−2′−ハイドロオキシジフェニルエーテル等)、
色調調整剤及び/または残色改良剤(例えばメルカプト
基を置換基として有する含窒素ヘテロ環化合物;具体的
には2−メルカプト−5−スルホン酸ナトリウム−ベン
ズイミダゾール、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾール、2−メルカプトベンズチアゾール、2−メルカ
プト−5−プロピル−1,3,4−トリアゾール、2−
メルカプトヒポキサンチン等)を含有させる。その中で
も安定化浴中には防バイ剤が含まれることが好ましい。
これらは液状でも固体状で補充されてもよい。The pH of the fixing solution is preferably 3 or more and less than 8. After the fixing treatment, the sheet is washed with water and / or treated in a stabilizing bath. As a stabilizing bath, for the purpose of stabilizing an image, an inorganic or organic acid and a salt thereof, or an alkali agent and a salt thereof (for example, an inorganic or organic acid and a salt thereof) for adjusting the film pH (to adjust the film surface pH after treatment to 3 to 8). Borate, metaborate, borax,
Phosphate, carbonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, aqueous ammonia, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, polycarboxylic acid, citric acid, oxalic acid, malic acid, acetic acid, etc. are used in combination, and aldehydes (for example, formalin) ,
Glioxal, glutaraldehyde, etc.), chelating agents (eg, ethylenediaminetetraacetic acid or its alkali metal salt, nitrilotriacetate, polyphosphate, etc.), and anti-bacterial agents (eg, phenol, 4-chlorophenol, cresol,
O-phenylphenol, chlorophen, dichlorophen, formaldehyde, P-hydroxybenzoate, 2- (4-thiazoline) -benzimidazole, benzoisothiazolin-3-one, dodecyl-benzyl-
Methylammonium chloride, N- (fluorodichloromethylthio) phthalimide, 2,4,4'-trichloro-2'-hydroxydiphenyl ether, etc.),
Color tone adjuster and / or residual color improver (for example, a nitrogen-containing heterocyclic compound having a mercapto group as a substituent; specifically, sodium 2-mercapto-5-sulfonate-benzimidazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercapto-5-propyl-1,3,4-triazole, 2-mercaptobenzthiazole
Mercaptohypoxanthine). Among them, it is preferable that the stabilizing bath contains an anti-binder.
These may be replenished in liquid or solid form.
【0195】処理方法は廃液量の低減の要望から、現像
液補充量は1m2当たり50〜150mlで、より好ま
しくは1m2当たり30〜130mlである。ここでい
う現像液補充量とは、補充される量を示す。具体的には
顆粒現像補充剤を水で溶解した液の容積である。[0195] From demands of the processing method of the amount of waste reduction, the developer replenishing amount in 1 m 2 per 50 to 150, more preferably 30~130ml per 1 m 2. Here, the developer replenishment amount indicates the replenishment amount. Specifically, it is the volume of a solution obtained by dissolving a replenisher for granule development in water.
【0196】現像補充液および定着補充液はそれぞれ自
動現像機のタンク内の現像開始液および定着開始液と同
じ液でも、異なった液でもよい。現像開始液および定着
開始液は、顆粒処理剤から調製されてもよく、液体濃縮
液から調製されたものでもよく、また使用液状態になっ
ている液を使用してもよい。The developing replenisher and the fixing replenisher may be the same or different from the developing starter and the fixing starter in the tank of the automatic developing machine, respectively. The development start solution and the fix start solution may be prepared from a granule processing agent, may be prepared from a liquid concentrate, or may be a liquid in use.
【0197】現像、定着、水洗及び/または安定化浴の
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。The temperature of the developing, fixing, washing and / or stabilizing bath is preferably in the range of 10 to 45 ° C., and each may be separately adjusted.
【0198】本発明では現像時間短縮の要望から自動現
像機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に
挿入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時
間(Dry to Dry)が10秒〜60秒で処理さ
れる。In the present invention, the total processing time (Dry to Dry) from the insertion of the leading end of the film into the automatic developing machine until it comes out of the drying zone when processing using the automatic developing machine is 10 because of the demand for shortening the developing time. It is processed in seconds to 60 seconds.
【0199】ここでいう全処理時間とは黒白感光材料を
処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理
に必要な現像、定着、水洗、安定化処理、乾燥等の工程
の時間を全て含んだ時間である。全処理時間が10秒未
満では減感、軟調化等で満足な写真性能が得られない。
好ましくは全処理時間(Dry to Dry)が15
〜60秒である。また、100m2以上の大量の感光材
料を安定にランニング処理するためには、現像時間は2
秒以上、22秒以下であることが好ましい。The term "total processing time" as used herein includes the total processing time required for processing the black-and-white light-sensitive material, and specifically includes the development, fixing, water washing, stabilizing processing, drying, and other steps required for processing. It is a time that includes all the time. If the total processing time is less than 10 seconds, satisfactory photographic performance cannot be obtained due to desensitization and softening.
Preferably, the total processing time (Dry to Dry) is 15
~ 60 seconds. To stably process a large amount of photosensitive material of 100 m 2 or more, the development time is 2 hours.
The time is preferably not less than seconds and not more than 22 seconds.
【0200】本発明の効果を顕著に発現させるために
は、自動現像機には60℃以上の伝熱体(例えば60℃
〜130℃のヒートローラー等)あるいは150℃以上
の輻射物体(例えばタングステン、炭素、ニクロム、酸
化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウムの混
合物、炭化ケイ素などに直接電流を通して発熱放射させ
たり、抵抗発熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミックなどの放射体に伝達させて発
熱させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥するゾー
ンを持つものが好ましく用いられる。In order to exhibit the effects of the present invention remarkably, a heat transfer material (for example, 60.degree.
~ 130 ° C heat roller etc.) or radiant object above 150 ° C (for example, tungsten, carbon, nichrome, a mixture of zirconium oxide / yttrium oxide / thorium oxide, silicon carbide, etc.) Heat energy of copper, stainless steel,
Those which transmit infrared rays by transmitting heat to a radiator such as nickel or various ceramics) and have a zone for drying are preferably used.
【0201】用いられる60℃以上の伝熱体としては、
ヒートローラーが例として挙げられる。ヒートローラー
はアルミ製の中空とされたローラーの外周部がシリコン
ゴム、ポリウレタン、テフロンによって被覆されている
ことが好ましい。このヒートローラーの両端部は、耐熱
性樹脂(例えば商品名ルーロン)の軸受によって乾燥部
の搬送口近傍内側に配設され側壁に回転自在に軸支され
ていることが好ましい。Examples of the heat transfer material having a temperature of 60 ° C. or higher include:
A heat roller is mentioned as an example. The heat roller preferably has an aluminum hollow roller whose outer peripheral portion is covered with silicon rubber, polyurethane, or Teflon. Both ends of the heat roller are preferably disposed inside the vicinity of the transport port of the drying unit by bearings made of a heat-resistant resin (for example, Lulon), and are rotatably supported on the side wall.
【0202】また、ヒートローラーの一方の端部にはギ
アが固着されており、駆動手段及び駆動伝達手段によっ
て搬送方向に回転されることが好ましい。ヒートローラ
ーのローラー内には、ハロゲンヒーターが挿入されてお
り、このハロゲンヒーターは自動現像機に配設された温
度コントローラーに接続されていることが好ましい。Further, it is preferable that a gear is fixed to one end of the heat roller, and the heat roller is rotated in the transport direction by a driving means and a driving transmission means. A halogen heater is inserted in the roller of the heat roller, and the halogen heater is preferably connected to a temperature controller provided in the automatic developing machine.
【0203】また、温度コントローラーには、ヒートロ
ーラーの外周面に接触配置されたサーミスタが接続され
ており、温度コントローラーはサーミスタからの検出温
度が60℃〜150℃、好ましくは70℃〜130℃と
なるように、ハロゲンヒーターをオンオフ制御するよう
になっていることが好ましい。The temperature controller is connected to a thermistor arranged in contact with the outer peripheral surface of the heat roller. The temperature controller detects the temperature of the thermistor from 60 ° C. to 150 ° C., preferably 70 ° C. to 130 ° C. Thus, it is preferable that the halogen heater be turned on and off.
【0204】150℃以上の放射温度を発する輻射物体
としては以下の例が挙げられる。(好ましくは250℃
以上が良い)タングステン、炭素、タンタル、ニクロ
ム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウ
ムの混合物、炭化ケイ素、二ケイ化モリブデン、クロム
酸ランタンに直接電流を通して発熱放射させて放射温度
を制御するか、抵抗発熱体から熱エネルギーを放射体に
伝達させて制御する方法があるが、放射体例として銅、
ステンレス、ニッケル、各種セラミックスなどが挙げら
れる。The following examples are given as radiating objects emitting a radiation temperature of 150 ° C. or higher. (Preferably 250 ° C
Tungsten, carbon, tantalum, nichrome, a mixture of zirconium oxide, yttrium oxide, and thorium oxide, silicon carbide, molybdenum disilicide, lanthanum chromate are directly heated and radiated to control the radiation temperature or resistance. There is a method to control by transmitting heat energy from the heating element to the radiator, but copper,
Examples include stainless steel, nickel, and various ceramics.
【0205】本発明では60℃以上の伝熱体と150℃
以上の反射温度の輻射物体を組み合わせてもよい。又、
従来のような60℃以下の温風を組み合わせてもよい。In the present invention, a heat transfer body of 60 ° C. or more and 150 ° C.
Radiating objects having the above reflection temperatures may be combined. or,
You may combine the conventional warm air of 60 degrees C or less.
【0206】また、本発明には下記に記載された方法及
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。In the present invention, an automatic developing machine having the following method and mechanism can be preferably used.
【0207】(1)脱臭装置:特開昭64−37560
号(2)頁左上欄〜(3)頁左上欄 (2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−2503
52号(3)頁「0011」〜(8)頁「0058」 (3)廃液処理方法:特開平2−64638号(2)頁
左下欄〜(5)頁左下欄 (4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31
3749号(18)「0054」〜(21)頁「006
5」 (5)水補充方法:特開平1−281446号(2)頁
左下欄〜右下欄 (6)外気温度湿度検出して自動現像機の乾燥風を制御
する方法:特開平1−315745号(2)頁右下欄〜
(7)頁右下欄および特開平2−108051号(2)
頁左下欄〜(3)頁左下欄 (7)定着廃液の銀回収方法:特開平6−27623号
(4)頁「0012」〜(7)頁「0071」。(1) Deodorizing device: JP-A-64-37560
No. (2) upper left column to (3) upper left column (2) Washing water regenerating purifying agent and apparatus: JP-A-6-2503
No. 52, page 3 (0011) to (8), page 0058 (3) Waste liquid treatment method: JP-A-2-64638, lower left column of page (2) to lower left column of page (5) (4) developing bath and fixing Rinse bath during bath: JP-A-4-31
No. 3749 (18) “0054” to (21) “006”
5 "(5) Water replenishment method: JP-A-1-281446, page 2 (2) lower left column to lower right column (6) Method of detecting outside air temperature and humidity to control drying air of automatic developing machine: JP-A-1-315745 No. (2) Bottom right column
(7) Lower right column of the page and JP-A-2-108051 (2)
(3) Silver recovery method of fixing waste liquid: JP-A-6-27623, page (4), "0012" to page (7), "0071".
【0208】[0208]
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明は以
下の実施例によって限定されるものではない。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.
【0209】実施例1 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)塩化銀含有率が70モル
%で臭化銀含有率が30モル%のハロゲン化銀組成にな
るように、NaCl、ゼラチン及び消泡剤を含有する水
溶液に、硝酸銀水溶液と、消泡剤及び銀1モル当たり2
×10-7モルのK2RhCl6及び銀1モル当たり1×1
0-6モルのNa2IrCl6を含有するNaClとKBr
の水溶液をコントロールダブルジェット法で混合し、ハ
ロゲン化銀粒子を成長させた。この際、銀電位EAgが
130mV、pH3.0の条件で混合した。Example 1 (Preparation of silver halide emulsion A) NaCl, gelatin and an antifoaming agent were prepared so that the silver halide content was 70 mol% and the silver bromide content was 30 mol%. , An aqueous solution of silver nitrate, an antifoaming agent and 2 moles per mole of silver.
× 10 -7 moles of K 2 RhCl 6 and 1 × 1 per mole of silver
NaCl containing 0 -6 mol of Na 2 IrCl 6 and KBr
Were mixed by a control double jet method to grow silver halide grains. At this time, mixing was performed under the conditions of a silver potential EAg of 130 mV and a pH of 3.0.
【0210】その後、フェニルイソシアネートで処理し
た変成ゼラチンを用いてpHを下げ、通常のフロキュレ
ーション法で脱塩しpHを上げて水を加え分散し、再度
pHを調整して3回脱塩操作を行ってからゼラチン中に
分散し、防ばい剤として下記〔A〕、〔B〕及び〔C〕
を加え、平均粒径0.18μm、立方晶、単分散(粒径
分布の変動係数13%)のハロゲン化銀粒子を有するハ
ロゲン化銀乳剤を得た。なお、下記防ばい剤の混合比率
は〔A〕:〔B〕:〔C〕=46:50:4(モル比)
とした。Thereafter, the pH was lowered using denatured gelatin treated with phenyl isocyanate, desalted by the ordinary flocculation method, raised in pH, dispersed by adding water, and adjusted again for pH by desalting three times. And then dispersed in gelatin, and used as antioxidants (A), (B) and (C)
Was added to obtain a silver halide emulsion having cubic, monodisperse (particle size distribution variation coefficient: 13%) silver halide grains having an average particle size of 0.18 μm. In addition, the mixing ratio of the following protective agent is [A]: [B]: [C] = 46: 50: 4 (molar ratio).
And
【0211】[0211]
【化61】 Embedded image
【0212】このようにして得られた乳剤をpH5.
4、銀電位EAg50mVに調整し、銀1モル当たり塩
化金酸3mg、イオウ華0.5gを加え、54℃で50
分間化学増感を行い、熟成終了時に、4−ヒドロキシ−
6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀
1モル当たり900mg、1−フェニル−5−メルカプ
トテトラゾールを50mg及びKIを200mg加え、
ハロゲン化銀乳剤Aを得た。The emulsion obtained in this manner was adjusted to pH 5.
4. Adjust the silver potential EAg to 50 mV, add 3 mg of chloroauric acid and 0.5 g of sulfur per mole of silver, and add 50 g at 54 ° C.
Min. And ripened at the end of ripening.
900 mg of 6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene per mole of silver, 50 mg of 1-phenyl-5-mercaptotetrazole and 200 mg of KI were added,
A silver halide emulsion A was obtained.
【0213】(ハロゲン化銀写真感光材料の調製)両面
に厚さ0.1μmの下塗層(特開昭59−19941号
公報の実施例1参照)を設けた厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタレート支持体の片面に、下記処方(4)
のアンチハレーション層と下記処方(1)の感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層と下記処方(2)(3)の乳剤上下保護
層とを同時に塗設した。一方の面に下記処方(5)のバ
ッキング層及び下記処方(6)のバッキング保護層を同
時に塗設して表1に示すハロゲン化銀写真感光材料13
種を調製した。(Preparation of a silver halide photographic light-sensitive material) A polyethylene terephthalate support having a thickness of 100 µm provided with an undercoat layer having a thickness of 0.1 µm on both sides (see Example 1 of JP-A-59-19941). On one side, the following formula (4)
, A photosensitive silver halide emulsion layer of the following formula (1), and upper and lower emulsion protective layers of the following formulas (2) and (3). On one surface, a backing layer of the following formula (5) and a backing protective layer of the following formula (6) were simultaneously coated to form a silver halide photographic material 13 shown in Table 1.
Seeds were prepared.
【0214】 処方(1)(感光性ハロゲン化銀乳剤層組成) ゼラチン 1.5g/m2 ハロゲン化銀乳剤A 塗布銀量 3.5mg/m2 増感色素〔一般式(I)、(II)及び比較色素〕表1に記載 10mg/m2 カブリ防止剤:5−ニトロインダゾール 10mg/m2 カブリ防止剤:2−メルカプトヒポキサンチン 10mg/m2 界面活性剤:サポニン 0.10mg/m2 界面活性剤:(イソアミル−N−デシルスルホコハク酸ナトリウム) 8.0mg/m2 ヒドラジン誘導体 表1に記載 15mg/m2 4級オニウム化合物 表1に記載 10mg/m2 ハイドロキノン 100mg/m2 8−メルカプトアデニン 3mg/m2 ポリマーラテックスP 0.5mg/m2 硬膜剤 H−1 60mg/m2 Formula (1) (Composition of photosensitive silver halide emulsion layer) Gelatin 1.5 g / m 2 Silver halide emulsion A Silver coating amount 3.5 mg / m 2 Sensitizing dye [General formula (I), (II) ) and comparative dye] table 1, wherein 10 mg / m 2 antifoggant: 5-nitroindazole 10 mg / m 2 antifoggant: 2-mercapto hypoxanthine 10 mg / m 2 surfactant: saponin 0.10 mg / m 2 surface Activator: (sodium isoamyl-N-decylsulfosuccinate) 8.0 mg / m 2 hydrazine derivative Described in Table 1 15 mg / m 2 Quaternary onium compound Described in Table 1 10 mg / m 2 Hydroquinone 100 mg / m 2 8-mercaptoadenine 3 mg / m 2 Polymer latex P 0.5 mg / m 2 Hardener H-1 60 mg / m 2
【0215】[0215]
【化62】 Embedded image
【0216】 処方(2)(乳剤保護層下層組成) ゼラチン 0.6g/m2 界面活性剤:S−2(ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム) 5mg/m2 界面活性剤:S−3 2mg/m2 ポリマーラテックスP 0.3mg/m2 Formulation (2) (Emulsion protective layer lower layer composition) Gelatin 0.6 g / m 2 Surfactant: S-2 (sodium di-2-ethylhexylsulfosuccinate) 5 mg / m 2 Surfactant: S-3 2 mg / M 2 polymer latex P 0.3 mg / m 2
【0217】[0219]
【化63】 Embedded image
【0218】 処方(3)(乳剤保護層上層組成) ゼラチン 0.8g/m2 界面活性剤:S−2(ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム) 10mg/m2 界面活性剤:S−3 2mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 20mg/m2 硬膜剤:ホルマリン 30mg/m2 処方(4)(アンチハレーション層組成) ゼラチン 0.7g/m2 界面活性剤:サポニン 0.1mg/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 2mg/m2 染料A 20mg/m2 Formulation (3) (Emulsion protective layer upper layer composition) Gelatin 0.8 g / m 2 Surfactant: S-2 (sodium di-2-ethylhexylsulfosuccinate) 10 mg / m 2 Surfactant: S-3 2 mg / M 2 matting agent: monodisperse silica having an average particle size of 3.5 μm 20 mg / m 2 Hardening agent: formalin 30 mg / m 2 Formulation (4) (composition of antihalation layer) Gelatin 0.7 g / m 2 Surfactant: Saponin 0.1 mg / m 2 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 2 mg / m 2 Dye A 20 mg / m 2
【0219】[0219]
【化64】 Embedded image
【0220】処方(5)(バッキング層組成)Formula (5) (backing layer composition)
【0221】[0221]
【化65】 Embedded image
【0222】 ゼラチン 2.4g/m2 界面活性剤:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50mg/m2 処方(6)(バッキング保護層組成) ゼラチン 1g/m2 マット剤:平均粒径5.0μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 界面活性剤:S−2(ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム) 10mg/m2 硬膜剤:グリオキザール 25mg/m2 硬膜剤:2−ヒドロキシ−4,6−ジクロロトリアジン 35mg/m2 得られたフィルム試料をイメージセッターDT−R30
75〔大日本スクリーン(株)製〕で網%を段階的に変
えたステップパターンにてレーザー強度を変えて露光
後、下記の現像液及び定着液を用い、自動現像機GR−
27〔コニカ(株)製〕にて下記処理条件で処理した。Gelatin 2.4 g / m 2 Surfactant: sodium dodecylbenzenesulfonate 50 mg / m 2 Formulation (6) (backing protective layer composition) Gelatin 1 g / m 2 Matting agent: monodisperse with average particle size of 5.0 μm Polymethyl methacrylate 50 mg / m 2 Surfactant: S-2 (sodium di-2-ethylhexylsulfosuccinate) 10 mg / m 2 Hardener: glyoxal 25 mg / m 2 Hardener: 2-hydroxy-4,6-dichloro Triazine 35 mg / m 2 The obtained film sample was subjected to imagesetter DT-R30.
75 [manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.], and exposed by changing the laser intensity in a step pattern in which the screen percentage was changed stepwise, and using the following developing solution and fixing solution, an automatic developing machine GR-
27 (manufactured by Konica Corporation) under the following processing conditions.
【0223】 (現像液処方) (組成A) 純水(イオン交換水) 150ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2g ジエチレングリコール 50g 亜硫酸カリウム(55% W/V水溶液) 100ml 炭酸カリウム 50g ハイドロキノン 15g 5−メチルベンゾトリアゾール 200ml 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 30mg 水酸化カリウム 使用液のpHを10.4にする量 臭化カリウム 4.5g (組成B) 純水(イオン交換水) 3ml ジエチレングリコール 50g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 25mg 酢酸(90%水溶液) 0.3ml 5−ニトロインダゾール 110mg 1−フェニル−3−ピラゾリドン 500mg 現像液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成B
の順に溶かし、1リットルに仕上げて使用液とした。p
Hは10.4であった。なお現像液補充量は150ml
/m2とした。(Developer formulation) (Composition A) Pure water (ion-exchanged water) 150 ml Disodium ethylenediaminetetraacetate 2 g Diethylene glycol 50 g Potassium sulfite (55% w / v aqueous solution) 100 ml Potassium carbonate 50 g Hydroquinone 15 g 5-methylbenzotriazole 200 ml 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 30 mg Potassium hydroxide Amount for adjusting the pH of the working solution to 10.4 Potassium bromide 4.5 g (Composition B) Pure water (ion-exchanged water) 3 ml Diethylene glycol 50 g Disodium ethylenediaminetetraacetate 25 mg Acetic acid (90% aqueous solution) 0.3 ml 5-Nitroindazole 110 mg 1-phenyl-3-pyrazolidone 500 mg The above composition A and composition B in 500 ml of water when using a developer.
, And finished to 1 liter to obtain a working solution. p
H was 10.4. The replenishment amount of the developer is 150 ml
/ M 2 .
【0224】 〔定着液処方〕 (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72.5% W/V水溶液) 230ml 亜硫酸ナトリウム 9.5g 酢酸ナトリウム・3水塩 15.9g 硼酸 6.7g クエン酸ナトリウム・2水塩 2g 酢酸(90%W/W 水溶液) 8.1ml (組成B) 純水(イオン交換水) 17ml 硫酸(50% W/W水溶液) 5.8g 硫酸アルミニウム(Al2O3換算含量が8.1% W/W水溶液) 26.5g 定着液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成B
の順に溶かし、1リットルに仕上げて使用液とした。こ
の定着液のpHは約4.3であった。補充量は400m
l/m2とした。[Formulation of Fixing Solution] (Composition A) Ammonium thiosulfate (72.5% W / V aqueous solution) 230 ml Sodium sulfite 9.5 g Sodium acetate trihydrate 15.9 g Boric acid 6.7 g Sodium citrate dihydrate 2 g acetic acid (90% W / W aqueous solution) 8.1 ml (composition B) pure water (ion-exchanged water) 17 ml sulfuric acid (50% W / W aqueous solution) 5.8 g aluminum sulfate (content in terms of Al 2 O 3 is 8.1) 26.5 g of the above composition A and composition B in 500 ml of water when using a fixing solution.
, And finished to 1 liter to obtain a working solution. The pH of the fixing solution was about 4.3. 400m refill
1 / m 2 .
【0225】(現像処理条件) 工程 温度 時間 タンク容量 現像 34℃ 15秒 3リットル 定着 34℃ 15秒 2リットル 水洗 常温 10秒 2リットル 乾燥 40℃ 10秒 各工程時間は次工程までのいわゆるワタリ搬送時間も含
む。(Development processing conditions) Process temperature Time Tank capacity Development 34 ° C. 15 seconds 3 liters Fixing 34 ° C. 15 seconds 2 liters Water washing Room temperature 10 seconds 2 liters Drying 40 ° C. 10 seconds Each process time is a so-called wading transfer time to the next process. Including.
【0226】得られた試料を光学濃度計コニカPDA−
65〔コニカ(株)製〕を用いて感度を測定した。The obtained sample was used as an optical densitometer Konica PDA-
The sensitivity was measured using 65 [manufactured by Konica Corporation].
【0227】この際、網点50%の設定を行ったところ
が50%の網点に再現するレーザー強度の相対値を感度
(S50)として表した。また表中の網点再現性とは網
点5%と95%に於ける網点を評価し、値がそれぞれ5
%と95%に近いほど好ましい網点再現性を有している
ことを表す。また表中の実用濃度とは50%の網点が再
現する際の露光量に於ける100%の網点部の濃度で示
し、値が大きいほど優れることを表す。さらに表中の色
素汚染とは、各々のフィルム試料を上記定着液で処理
後、得られた試料の色素汚染度を目視で5段階に評価し
た。値が大きいほど色素汚染がなく、クリアーな試料が
得られることを示す。At this time, the relative value of the laser intensity reproduced at the halftone dot 50% where the halftone dot 50% was set was expressed as the sensitivity (S50). The halftone dot reproducibility in the table is evaluated at halftone dots at 5% and 95%, and the value is 5% each.
% And closer to 95%, the more preferable the dot reproducibility is. The practical density in the table is the density of a 100% halftone dot portion in the exposure amount when 50% halftone dots are reproduced, and the higher the value, the better. The term "dye stain" in the table means that each film sample was treated with the above-mentioned fixing solution, and the dye stain degree of the obtained sample was visually evaluated on a five-point scale. The larger the value is, the less the stain is and the clearer the sample is.
【0228】以上の結果を下記表1に示す。The above results are shown in Table 1 below.
【0229】[0229]
【表1】 [Table 1]
【0230】表から明かなように、pH10.4の現像
液で処理した場合、本発明による試料は高感度、高濃度
で、かつ網点再現性が優れていた。さらに色素汚染が比
較にくらべて非常に少なくクリアーな画像を得られた。As is clear from the table, when processed with a developer having a pH of 10.4, the sample according to the present invention had high sensitivity, high density, and excellent dot reproducibility. Further, a clear image was obtained in which the amount of dye contamination was very small as compared with the comparison.
【0231】[0231]
【発明の効果】本発明によれば、色素による残色汚染が
少なく、かつ網点再現性が優れた高感度、高濃度を有す
るハロゲン化銀写真感光材料を得られた。さらに比較的
低pH現像液による低補充処理がなされても上記の性能
を得られる処理方法を得られた。According to the present invention, a silver halide photographic light-sensitive material having high sensitivity and high density, which has little residual color contamination by a dye and excellent dot reproducibility, can be obtained. Further, a processing method capable of obtaining the above-described performance even when low replenishment processing was performed with a relatively low pH developer was obtained.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03C 5/29 501 G03C 5/29 501 5/31 5/31 // C07D 235/20 C07D 235/20 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03C 5/29 501 G03C 5/29 501 5/31 5/31 // C07D 235/20 C07D 235/20
Claims (4)
銀乳剤層と親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真
感光材料に於いて、該ハロゲン化銀乳剤層中に下記一般
式(I)で表される化合物の少なくとも1種と下記一般
式(II)で表される化合物の少なくとも1種を含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 式中、R1、R2、R3及びR4は、各々、置換又は無置換
の脂肪族基を表し、R2及びR4の少なくとも一方は水可
溶化基を置換する。V1、V2、V3、V4、V5、V6、V
7及びV8は各々、水素原子、又は置換基を表し、V1と
V2、V2とV3、V3とV4、V5とV6、V6とV7及びV7
とV8の間で各々、縮合環を形成してもよい。但し、V1
〜V4並びにV5〜V8は各々、加算したハメットσp値
の総和が0.12より大きくなる置換基である。L1、
L2、L3、L4及びL5は各々、メチン基を表す。M1は
分子内の電荷を中和するに必要なイオンを表し、lは分
子内の価数を中和するに必要なイオンの数を表す。 【化2】 式中、Y1、Y2、Y3は各々、独立に−N(R)−基、
酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を表し、R5は水可
溶化基を置換した炭素数10以下の脂肪族基を表し、
R、R6及びR7は、各々、脂肪族基、アリ−ル基または
複素環基を表し、かつR、R6及びR7のうちの少なくと
も二つの基は、水可溶化基を置換する。V9、V10は各
々水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又
はV9とV10で結合して環を形成してもよく、L6、L7
はメチン基を表す。M2は分子内の電荷を中和するに必
要なイオンを表し、mは分子内の価数を中和するに必要
なイオンの数を表す。1. A silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer and a hydrophilic colloid layer on a support, wherein the silver halide emulsion layer has the following general formula (I): A silver halide photographic material comprising at least one compound represented by formula (II) and at least one compound represented by formula (II) below. Embedded image In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a substituted or unsubstituted aliphatic group, and at least one of R 2 and R 4 substitutes for a water solubilizing group. V 1, V 2, V 3 , V 4, V 5, V 6, V
7 and V 8 each represent a hydrogen atom or a substituent, and V 1 and V 2 , V 2 and V 3 , V 3 and V 4 , V 5 and V 6 , V 6 and V 7, and V 7
And V 8 may each form a fused ring. However, V 1
~V 4 and V 5 ~V 8 are each the sum of the Hammett σp value obtained by adding is larger substituent than 0.12. L 1 ,
L 2 , L 3 , L 4 and L 5 each represent a methine group. M 1 represents an ion necessary for neutralizing the charge in the molecule, and 1 represents the number of ions required for neutralizing the valence in the molecule. Embedded image In the formula, Y 1 , Y 2 and Y 3 are each independently a —N (R) — group,
Represents an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom, and R 5 represents an aliphatic group having 10 or less carbon atoms substituted with a water solubilizing group;
R, R 6 and R 7 each represent an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group, and at least two of R, R 6 and R 7 substitute a water-solubilizing group. . V 9 and V 10 may be each a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group or V 9 and V 10 to form a ring, and L 6 and L 7
Represents a methine group. M 2 represents an ion necessary to neutralize the charge in the molecule, and m represents the number of ions required to neutralize the valence in the molecule.
銀乳剤層と親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真
感光材料に於いて、該ハロゲン化銀乳剤層中に上記一般
式(I)で表される化合物の少なくとも1種と上記一般
式(II)で表される化合物の少なくとも1種を含有し、
且つ、該ハロゲン化銀乳剤層もしくは該親水性コロイド
層中にヒドラジン誘導体及び/又は4級オニウム塩の少
なくとも1種を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。2. A silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer and a hydrophilic colloid layer on a support, wherein the silver halide emulsion layer has the above-mentioned formula (I). Containing at least one compound represented by formula (II) and at least one compound represented by formula (II),
A silver halide photographic light-sensitive material characterized in that the silver halide emulsion layer or the hydrophilic colloid layer contains at least one hydrazine derivative and / or quaternary onium salt.
光材料を露光後、現像液補充量が40〜200ml/m
2で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。3. A replenishing amount of a developing solution after exposing the silver halide photographic light-sensitive material according to claim 2 is 40 to 200 ml / m.
2. A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, wherein the processing is performed in 2.
ることを特徴とする請求項3記載のハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。4. The method for processing a silver halide photographic material according to claim 3, wherein the processing is carried out at a developer pH of 9.0 to 11.0.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9022622A JPH10221804A (en) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Silver halide photographic sensitive material and its processing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9022622A JPH10221804A (en) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Silver halide photographic sensitive material and its processing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10221804A true JPH10221804A (en) | 1998-08-21 |
Family
ID=12087940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9022622A Pending JPH10221804A (en) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Silver halide photographic sensitive material and its processing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10221804A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010100853A (en) * | 2009-10-30 | 2010-05-06 | Hayashibara Biochem Lab Inc | Merocyanine-based pigment |
-
1997
- 1997-02-05 JP JP9022622A patent/JPH10221804A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010100853A (en) * | 2009-10-30 | 2010-05-06 | Hayashibara Biochem Lab Inc | Merocyanine-based pigment |
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