JPH1022199A - 回転式現像処理装置 - Google Patents

回転式現像処理装置

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Publication number
JPH1022199A
JPH1022199A JP8174750A JP17475096A JPH1022199A JP H1022199 A JPH1022199 A JP H1022199A JP 8174750 A JP8174750 A JP 8174750A JP 17475096 A JP17475096 A JP 17475096A JP H1022199 A JPH1022199 A JP H1022199A
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JP
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cup
cover
nozzle
wafer
outer peripheral
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Application number
JP8174750A
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English (en)
Inventor
Osamu Shimada
治 島田
Hideaki Mito
秀明 水戸
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転式現像装置で発生するミストのウエハへ
の付着により現像パターン不良が発生し歩留り低下を引
き起こす。 【解決手段】 ウエハチャックを持ちウエハを吸着回転
できるスピナー部31と、カップ排気口44及びカップ
廃液口46をもつカップ32と、前記カップと内接し上
部をカバーするカップ上部カバー33と、前記カップ上
部カバー及びカップ全体を収納しウエハ取り込み取り出
し口40とを有する外周カバー部35と、現像液を吐出
する現像ノズル41とリンス液を吐出する裏面リンスノ
ズル42とリンスノズル43からなる回転式現像処理装
置において、少なくとも外周カバー部の側面カバー38
とカップ32の側面部との間の真上の部分に外周カバー
部の上面カバー周辺開口部1を備えたことにより、気流
を調整してミストの付着を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造におけ
る半導体基板の回転式現像処理装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来の回転式現像処理装置は、カップ内
部に発生するミストの付着を防止するために、さまざま
な構成上の工夫がなされている。以下図面を参照しなが
ら従来の回転式現像処理装置の一例について説明する。
図22は従来の回転式現像処理装置の第1例の構成の平
面図と断面図である。図22において、31はウエハチ
ャック、モーター、回転軸からなるスピナー部であり、
ウエハを吸着回転できる。32はカップで円筒形をして
カップ排気口44とカップ排気配管45とカップ廃液口
46とカップ廃液配管47とを備える。33はカップ上
部カバーでカップに内接上下移動する。41は現像ノズ
ル、42は裏面リンスノズル、43はリンスノズルであ
る。34はカップ内部カバーで廃液をカップ廃液口46
へミストをカップ排気口44へ導く。35は外周カバー
部で前記各部全体を収納し開口部37を有する上面カバ
ー36、ウエハ取り込み取り出し口40を有する側面カ
バー38、底板39を備える。従来の回転式現像処理装
置では、上面カバーの開口部37は図23に示すように
ないものや、逆に上面カバーが存在しないものもある。
【0003】以上のように構成された回転式現像処理装
置について、以下その動作について説明する。
【0004】まず、スピナー部31にウエハ48を真空
吸着し、現像ノズル41より現像液を低速回転するウエ
ハ48へ吐出し、ウエハ表面に現像液を液盛りし、その
後ウエハの回転を停止し現像する。次にウエハ48を回
転させながらリンスノズル43及び裏面リンスノズル4
2よりリンス液を吐出しリンスする。その後、ウエハ4
8は高速回転し、ウエハ表面を脱水し乾燥する。その際
に多量のミストを発生するが、カップ内部カバー34に
ガイドされ排気口44より強制排気されるため、カップ
内のミストは、そのほとんどがウエハ48へ付着するこ
とはなく正常な現像処理がなされる。その後、スピナー
部31の回転が停止し、カップ上部カバー33そしてカ
ップ34が下降し、ウエハ交換が行われ、ウエハ48は
ウエハ取り込み取り出し口40より出ていく。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の回転式現像処理装置では、図7の(a)に示すよ
うにカップ32とカップ上部カバー33との間の隙間5
2からカップ外部へミスト49が漏れ、カップ外へ漏れ
たミストが図7(b)のようにカップ上部へ回り込みカ
ップ内部のウエハへ再付着したり、図7(c)のように
外周カバー内部にミストが残留し、ウエハ交換時にウエ
ハへ付着したり、図7(d)のようにウエハ取り込み取
り出し口40より現像前の待機しているウエハ50にミ
ストが付着したり、また外周カバー部上面カバーに付着
したダスト51が、回転脱水時の振動でウエハ48へ落
下するという問題があった。図23に示すような上部カ
バーに開口部のない密閉タイプのものは、特に図7
(b)のミスト付着が多く、逆に上部カバーのない開放
タイプのものは、図7(d)のミスト付着が多くまたカ
バーの目的とする作業者の安全面で問題がある。したが
って、従来例では図22に示すように上部カバーの一部
が開口しているものが最も良好である。しかしながら、
図7(c)のケースのようにカップ外ミストがウエハへ
付着するという課題があった。
【0006】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
で特にカップ外ミストがウエハに付着することを防止す
ることを目的とする回転式現像処理装置を提供するもの
である。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の第1の手段は、ウェハチャックを持ちウエハ
を吸着回転できるスピナー部と、排気口及び廃液口をも
つカップと、前記カップと内接し上部をカバーするカッ
プ上部カバーと、前記カップ上部カバー及びカップ全体
を収納しウエハ取り込み取り出し口を有する外周カバー
部と、現像液を吐出する現像ノズルと、リンス液を吐出
するリンスノズルからなる回転式現像処理装置におい
て、外周カバー部の上面カバー周辺開口部を少なくとも
外周カバー部の側面カバーとカップの側面部の間の真上
の部分に備えたものである。
【0008】第2の手段は、外周カバー部の上面カバー
の開口部の上部または下部に駆動式遮閉板を備えたもの
である。
【0009】第3の手段は、開口率が10%以上40%
以下となる外周カバー部の上面カバーを備えたものであ
る。
【0010】第4の手段は、ウエハ現像処理部の真上の
部分を全て開口した外周部の上面カバー中央大開口部を
備えたものである。
【0011】第5の手段は、カップの外領域で外周カバ
ー部の底部またはその近傍に排気口を備えたものであ
る。
【0012】第6の手段は、第5の手段の外周カバー部
の排気口が配管上の多数の穴からなることを特徴とする
排気口を有するものである。
【0013】第7の手段は、第5の手段の外周カバー部
の排気口を備えた第1の手段の上面カバー開口部を有す
るものである。
【0014】第8の手段は、カップ上部カバーの上面外
向きに外周カバー部に近接するカップ上部上面外カバー
と前記カップ上部上面外カバーと連結し外周部側面カバ
ーに近接し下方へ延びウエハ取り込み取り出し口を開閉
するカップ上部外側面カバーを備えたものである。
【0015】第9の手段は、外周カバー部上面に送風機
を備えたものである。第10の手段は、第9の手段の外
周カバー部上部に送風機を備えかつカップの外部領域で
外周カバー底部またはその近傍に排気口を備えたもので
ある。
【0016】第11の手段は、カップ上部カバーに蛇腹
状の折り畳み円筒形のカップ上部蛇腹状側面カバーを備
えたものである。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
を参照しながら説明する。図1は、第1の実施形態を示
す回転式現像処理装置の構成図で請求項1に該当する。
図1(a),(b)はそれぞれ回転式現像処理装置の上
面カバーの平面図と断面図である。図1(a)の平面図
は、図1(b)の断面図で指示のy1の部分を示す。
【0018】次に本装置の構成要素を説明する。31は
スピナー部であり、モータと回転軸とウエハチャックか
らなる。32はカップで円筒形をしてカップ排気口44
及びカップ排気配管45、カップ廃液口46及びカップ
廃液配管47からなる。33はカップ上部カバーで、カ
ップに内接し上下移動する。41は現像ノズル、42は
裏面リンスノズル、43はリンスノズルである。34は
カップ内部カバーで廃液をカップ廃液口46へミストを
カップ排気口44へ導く。35は外周カバー部で前記各
部全体を収納し、上面カバー開口部37及び上面カバー
周辺開口部1を有する上面カバー36、ウエハ取り込み
取り出し口40を有する側面カバー38、底板39を備
える。
【0019】次に上記構成において、動作を説明する。
スピナー部31のウエハチャック上で真空吸着されたウ
エハ48へ現像ノズル41より現像液が吐出される。そ
して現像液は、低速回転するウエハ表面に液が盛られ、
約1分間静止状態で現像する。次に、リンスノズル43
及び裏面リンスノズル42からリンス液が吐出される。
この時スピナー部31の回転数は、1000[rpm/
min]、リンス液は超純水である。その後、4000
〜6000[rpm/min]で高速回転脱水する。現
像液及びリンス液はカップ廃液口46へ流れ、高速回転
時に発生するカップ内のミストはカップ排気口44より
吸収される。その後、スピナー部31は停止し、カップ
下部及びカップ上部がそれぞれ下方へ下がり、ウエハ交
換が行われる。ウエハ交換時のカップの状態を図2
(b)に示す。上記動作において図2(a)に示すよう
に高速回転脱水時に、カップ32とカップ上部カバー3
3の隙間52よりカップ外に発生したミストは、上面カ
バーの周辺開口部1から入る気流により下方へ移動す
る。通常、現像機はクリーンルーム内に設置されるた
め、常時0.3〜0.8[m/sec]の下方への風量
を受けているため、上面カバーを開口すればある程度の
下方への風量が得られる。またそれと同時に、外周カバ
ー部の底板は、カップ排気配管やスピナー部を通す穴の
隙間があり、その隙間より装置下へミストはゆっくりと
引かれる。図3にクリーンルームに設置された現像装置
の簡略的な断面図を示す。55は天井、56は通気の
床、57は現像装置、58は現像装置外周カバー部、5
9はメンテナンスルームの壁、60は通気のない床を示
す。(a)(b)の2種類のクリーンルームの例を示し
たが、いずれの場合も現像装置外周カバー部は下方への
気流が存在し、ミストはその気流に沿ってゆっくりと流
れる。したがって、図2(b)に示すようにウエハ交換
の際、外周カバー部内のミストは、前記気流の影響でウ
エハの下方へ移動しているため、ウエハへミストが付着
することはなく、現像パターン不良を防止することがで
きる。
【0020】図4は、第2の実施形態を示す回転式現像
処理装置の構成図で請求項2及び3に該当する。図4は
回転式現像処理装置の上面カバー平面図と断面図であ
る。平面図は、断面図指示のy1の部分を示す。図の番
号は第1の実施形態と同様であるが、13は遮閉板で1
4の駆動軸を介し、ステップモータ15にて制御され
る。
【0021】上記構成において、動作を図5において説
明する。13の遮閉板が14の駆動軸を介して、15の
ステップモータで図面の左右方向に移動させることがで
き、希望の開口率の上面カバーをつくることができる。
また、シーケンス制御することで、現像処理途中に上面
カバーの開口率を変更できる。図6に上面カバー開口率
と現像処理後のパターン欠陥率の関係を示す。Aは排気
量、上部の送風量、カップ外部排気量の強い条件でBは
逆に弱い条件である。カップ内排気量やカバー上部から
の送風量、カップ外の排気量により開口率最適値が異な
るため、開口率を制御し現像パターン不良を防止するこ
とができる。逆にカップ内排気量は、ウエハ表面に現像
液を盛るパドル現像の場合、現像(寸法)均一性の見地
から使用する条件に制約され、例えば10〜20[mm
2O]の範囲である。天井からの送風量もクリーンル
ームの設置条件であるため安易に変更できない。したが
ってミストを微妙に制御する方法として、外周部上面カ
バーの開口率が有効となる。図6のデータより条件に関
係なく、開口率10〜40[%]であれば、ある程度パ
ターン欠陥率が少ないことがわかる。開口率が小さい場
合は、図7(b)に示すように回り込みによるミストが
ウエハへ付着し、開口率が大きい場合には、図7(d)
に示すように、外周カバーの外へミストが漏れ、外のウ
エハへ付着するためである。市販装置の上面カバーは、
現像処理部真上のみ一部開口されたものがあるが、開口
率は5〜8%である。なお、開口率は外周カバー部の最
大領域の面積に対する上面カバーの開口部の面積比で定
義される。また、ステップモータ等によりシーケンス制
御をすることで、現像ノズルがスプレータイプの場合に
発生する現像液の原液ミストの飛散を現像液の吐出の時
だけ上面カバーを閉じることによって防ぐことができ
る。
【0022】図8は、第3の実施形態を示す回転式現像
処理装置の構成図で請求項4に該当する。図8は回転式
現像処理装置の上面カバー平面図と断面図である。平面
図は、断面図指示のy1の部分を示す。図の番号は第1
の実施形態と同様である。2は上面カバー中央大開口部
で、直径d1は少なくともウェハ直径d2より大きい。
図9に示すように、安全性のため最低限の編み目状カバ
ー29をつけることもある。
【0023】上記構成において動作を説明する。上面カ
バーが存在すれば、上面カバーの内側にダスト51が付
着し、振動等によりウエハへダストが落下付着する場合
があるが、本実施形態のようにウエハ上にカバーが存在
しないため、ダストがウエハへ付着することがなくパタ
ーン不良を防ぐことができる。
【0024】図10は、第4の実施形態を示す回転式現
像処理装置の構成図で請求項5に該当する。図10の
(a)は断面図とy1で指示した上面カバーの平面図
で、図10(b)は断面図とy2で指示した外周カバー
部の底部の平面図である。図の番号は第1の実施形態と
同様である。3は外周カバー部排気口で4は外周カバー
部排気配管である。上記構成において図11で動作を説
明する。図11(a)に示すように、高速回転脱水時に
発生しカップ外へ出たミストは、速やかに排気口3から
排気配管4へ引き込まれ、図11(b)に示すようにウ
エハ交換の際にはほとんどのカップ外ミストは存在しな
いため、ミストがウエハへ付着することはない。
【0025】図12は第5の実施形態を示す回転式現像
処理装置の構成図で請求項6に該当する。図12の
(a)は断面図とy1で指示した上面カバーの平面図
で、図12(b)は断面図とy2で指示した外周カバー
部の底部の平面図である。本実施形態の構成は第4の実
施形態の構成に加え、排気口6を複数有する外周カバー
部穴開き排気配管5を備える。外周カバー部穴開き排気
配管5は、図13(a)に示すようなもので、図13
(b)に示す3方配管7などで排気配管4と接続する。
外周カバー部穴開き排気配管5を備えることで、第4の
実施形態よりも、より均等に外周カバー部全体のミスト
を吸引できるため、より確実にミストのウエハへの付着
を防止できる。図13(c),(d)は接続状態を示す
平面図であり、8は障害物であり、39は底板である。
【0026】図14は、第6の実施形態を示す回転式現
像処理装置の構成図で請求項7に該当する。図14の
(a)は回転式現像処理装置の上面カバー平面図と断面
図である。平面図は、断面図指示のy1の部分を示す。
図14の(b)は装置底部の平面図と断面図である。平
面図は、断面図指示のy2の部分を示す。本装置の構成
要素を説明する。31はスピナー部であり、モータと回
転軸とウエハチャックからなる。32はカップで円筒形
をしてカップ排気口44及びカップ排気配管45、カッ
プ廃液口46及びカップ廃液配管47からなる。33は
カップ上部カバーでカップに内接し上下移動する。41
は現像ノズル、42は裏面リンスノズル、43はリンス
ノズルである。34はカップ内部カバーで廃液をカップ
廃液口46へミストをカップ排気口44へ導く。35は
外周カバー部で前記各部全体を収納し、中央の開口部3
7及び周辺開口部1を有する上面カバー36、ウエハ取
り込み取り出し口40を有する側面カバー38、底板3
9を備える。1は上面カバー周辺開口部、4は外周カバ
ー部排気配管で5の外周カバー部穴開き排気配管に連結
する。5の外周カバー部穴開き排気配管は、6の多数の
排気口を有する。
【0027】上記構成において動作を説明する。スピナ
ー部31のウエハチャック上で真空吸着されたウエハ4
8へ現像ノズル41より現像液が吐出される。現像液は
低速回転するウエハ表面に液が盛られ、約1分間静止状
態で現像する。次に、リンスノズル43及び裏面リンス
ノズル42からリンス液が吐出される。この時スピナー
部31の回転数は1000[rpm/min]、リンス
液は超純水である。その後、4000〜6000[rp
m/min]で高速回転脱水する。現像液及びリンス液
は、カップ廃液口46へ流れ、高速回転時に発生するカ
ップ内のミストは、カップ排気口44より吸収される。
その後、スピナー部31は停止し、カップ下部及びカッ
プ上部がそれぞれ下方へ下がり、ウエハ交換が行われ
る。ウエハ交換時のカップの状態を図15(a),
(b)に示す。上記動作において図15(a)に示すよ
うに高速回転脱水時に、カップ32とカップ上部カバー
33の隙間52よりカップ外に発生したミストは、上面
カバー周辺開口部から入り、外周カバー部排気口3へ吸
収される気流により速やかに下方へ移動する。上面カバ
ーの開口部からの送風と、底板の排気が両方揃うこと
で、カップ外のミスト排除効果が一段と増す。したがっ
て、ウエハ交換の際外周カバー内にミストはなくウエハ
へミストが付着することはなく、現像パターン不良を防
止することができる。
【0028】図16は第7の実施形態を示す回転式現像
処理装置である。カップ上部の上面外周に外周カバー部
に近接するカップ上部上面外カバー9と前記カバー9に
連結し、外周カバー部側面カバー38に近接し下方へ延
び、ウエハ取り込み取り出し口40を開閉するカップ上
部外側面カバー19を有する構成である。動作は図17
において説明する。図17(a)に示すように、カップ
32とカップ上部カバー33との間から外へ出たミスト
49は、カップ上部上面外カバー9とカップ上部外側面
カバー19に囲まれており、カップ上部へ回り込んだり
ウエハ取り込み取り出し口40から外へ出ることはな
い。現像工程処理終了後、図17(b)に示すように、
カップ32、カップ上部カバーとともにカップ上部上面
外カバー9及びカップ上部外側面カバー19も下方へ移
動しその際、ミスト49も下方へ運ばれる。したがっ
て、カップ外へミストを出さず、またウエハ交換の際に
ウエハ周囲にミストは存在せず、その結果ウエハへミス
トが付着することはなく現像パターン不良を防止するこ
とができる。
【0029】図18は第8の実施形態を示す回転式現像
処理装置である。構成要素は、従来例の上面カバーに吸
気口11を有した送風機10を設ける。送風機は風速測
定装置や制御機構を備え安定した送風を可能とする。温
度制御はある方が好ましい。動作は第1の実施形態と同
様であり、送風機より安定した風量がカップ内とカップ
外へ流れ、ミストのカップ内への回り込みを抑えること
ができる。また装置外部の環境、例えば天井からの送風
量に影響されず、より安定した送風が得られミストのウ
エハへの付着を防止できる。
【0030】図19は第9の実施形態を示す回転式現像
処理装置である。構成要素は、前記実施形態に外周カバ
ー部排気口3と外周カバー部排気配管4を設ける。送風
機は風速測定装置や制御機構を備え、安定した送風を可
能とする。温度制御はある方が好ましい。動作は第8の
実施形態と同様であり、送風機より安定した風量がカッ
プ内とカップ外へ流れ、ミストのカップ内への回り込み
を抑えることができ、カップ外のミストを速やかに排気
口3より引き込み、ウエハ交換時のウエハへのミスト付
着を防止する。また装置外部の環境、例えば天井からの
送風量に影響されず、またクリーンルームの気流による
装置下部の引き込み量にも影響されず、より安定した送
風が得られミストのウエハへの付着を防止できる。
【0031】図20は第10の実施形態を示す回転式現
像処理装置である。構成要素は、従来例のカップ上部カ
バー33の部分にカップ32と直接接続した折り畳み式
円筒形のカップ上部蛇腹状側面カバー12を有する。動
作は、図21に示すようにカップ32に折り畳み式円筒
形のカップ上部蛇腹状側面カバー12が直接接続されて
いるため、従来カップ上部カバーとの間に存在した隙間
がなく、カップ内に発生したミストが外へ漏れることが
ない。ウエハ交換時にカップ上部蛇腹状側面カバー12
は、図21(b)に示すように折り畳むことにより下方
へ移動することができる。したがって、ミストがウエハ
へ付着することなしにウエハを交換することができる。
【0032】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
ではカップ外ミストのウエハへの付着を防止し現像不良
によるパターン欠陥率を低減する効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態における回転式現像処
理装置を示す図
【図2】本発明の第1の実施形態における回転式現像処
理装置の動作を説明する図
【図3】本発明の第1の実施形態におけるクリーンルー
ムに設置された回転式現像処理装置を示す図
【図4】本発明の第2の実施形態における回転式現像処
理装置の図
【図5】本発明の第2の実施形態における回転式現像処
理装置の動作を説明する図
【図6】本発明の第2の実施形態における開口率とパタ
ーン欠陥率との関係を示す図
【図7】従来の回転式現像処理装置の動作を説明する図
【図8】本発明の第3の実施形態における回転式現像処
理装置を示す図
【図9】本発明の第3の実施形態における回転式現像処
理装置を示す図
【図10】本発明の第4の実施形態における回転式現像
処理装置を示す図
【図11】本発明の第4の実施形態における回転式現像
処理装置の動作を説明する図
【図12】本発明の第5の実施形態における回転式現像
処理装置を示す図
【図13】本発明の第5の実施形態における回転式現像
処理装置の部品を示す図
【図14】本発明の第6の実施形態における回転式現像
処理装置を示す図
【図15】本発明の第6の実施形態における回転式現像
処理装置の動作を説明する図
【図16】本発明の第7の実施形態における回転式現像
処理装置を示す図
【図17】本発明の第7の実施形態における回転式現像
処理装置の動作を説明する図
【図18】本発明の第8の実施形態における回転式現像
処理装置を示す図
【図19】本発明の第9の実施形態における回転式現像
処理装置を示す図
【図20】本発明の第10の実施形態における回転式現
像処理装置を示す図
【図21】本発明の第10の実施形態における回転式現
像処理装置の動作を説明する図
【図22】従来の回転式現像処理装置を示す図
【図23】従来の回転式現像処理装置を示す図
【符号の説明】
1 上面カバー周辺開口部 2 上面カバー中央大開口部 3 外周カバー部排気口 4 外周カバー部排気配管 5 外周カバー部穴開き排気配管 6 外周カバー部穴開き排気配管排気口 7 三方配管 8 障害物 9 カップ上部上面外カバー 10 送風機 11 吸気口 12 カップ上部蛇腹状側面カバー 13 遮閉板 14 駆動軸 15 ステップモータ 19 カップ上部外側面カバー 29 編み目状カバー 31 スピナー部 32 カップ 33 カップ上部カバー 34 カップ内部カバー 35 外周カバー部 36 上面カバー 37 上面カバー開口部 38 側面カバー 39 底板 40 ウエハ取り込み取り出し口 41 現像ノズル 42 裏面リンスノズル 43 リンスノズル 44 カップ排気口 45 カップ排気配管 46 カップ廃液口 47 カップ廃液配管 48 ウエハ 49 ミスト 50 待機ウエハ 51 付着ダスト 52 隙間 55 天井 56 通気のある床 57 現像装置 58 現像装置外周カバー部 59 壁 60 通気のない床

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェハチャックを備えウェハを吸着回転
    できるスピナー部と、排気口及び廃液口をもつカップ
    と、前記カップと隣接し上部をカバーするカップ上部カ
    バーと、現像液を吐出する現像ノズルとリンス液を吐出
    するリンスノズルと裏面リンスノズルからなるノズル部
    と、前記カップ上部カバー及びカップ及びノズル部全体
    を収納しウエハ取り込み取り出し口を有する側面カバー
    と、底板と上面カバーで構成される外周カバー部からな
    る回転式現像処理装置において、少なくとも外周カバー
    部の側面カバーとカップの側面部との間の真上の部分に
    外周カバー部の上面カバーの開口部を備えた回転式現像
    処理装置。
  2. 【請求項2】 ウェハチャックを備えウエハを吸着回転
    できるスピナー部と、排気口及び廃液口をもつカップ
    と、前記カップと隣接し上部をカバーするカップ上部カ
    バーと、現像液を吐出する現像ノズルとリンス液を吐出
    するリンスノズルと裏面リンスノズルからなるノズル部
    と、前記カップ上部カバー及びカップ及びノズル部全体
    を収納しウエハ取り込み取り出し口を有する側面カバー
    と、底板と上面カバーで構成される外周カバー部からな
    る回転式現像処理装置において、外周カバー部の上面カ
    バーの開口部の上部または下部に駆動式遮閉板を備えた
    回転式現像処理装置。
  3. 【請求項3】 ウェハチャックを備えウエハを吸着回転
    できるスピナー部と、排気口及び廃液口をもつカップ
    と、前記カップと隣接し上部をカバーするカップ上部カ
    バーと、現像液を吐出する現像ノズルとリンス液を吐出
    するリンスノズルと裏面リンスノズルからなるノズル部
    と、前記カップ上部カバー及びカップ及びノズル部全体
    を収納しウエハ取り込み取り出し口を有する側面カバー
    と、底板と上面カバーで構成される外周カバー部からな
    る回転式現像処理装置において、開口率が10%以上4
    0%以下となる外周カバー部の上面カバーを備えた回転
    式現像処理装置。
  4. 【請求項4】 ウェハチャックを備えウエハを吸着回転
    できるスピナー部と、排気口及び廃液口をもつカップ
    と、前記カップと隣接し上部をカバーするカップ上部カ
    バーと、現像液を吐出する駆動式現像ノズルとリンス液
    を吐出する駆動式リンスノズルと裏面リンスノズルから
    なるノズル部と、前記カップ上部カバー及びカップ及び
    ノズル部全体を収納しウエハ取り込み取り出し口を有す
    る側面カバーと、底板と上面カバーで構成される外周カ
    バー部からなる回転式現像処理装置において、ウエハ現
    像処理部の真上の部分を開口した外周カバー部の上面カ
    バーを備えた回転式現像処理装置。
  5. 【請求項5】 ウェハチャックを備えウエハを吸着回転
    できるスピナー部と、排気口及び廃液口をもつカップ
    と、前記カップと隣接し上部をカバーするカップ上部カ
    バーと、現像液を吐出する現像ノズルとリンス液を吐出
    するリンスノズルと裏面リンスノズルからなるノズル部
    と、前記カップ上部カバー及びカップ及びノズル部全体
    を収納しウエハ取り込み取り出し口を有する側面カバー
    と、底板と上面カバーで構成される外周カバー部からな
    る回転式現像処理装置において、カップの外部領域で外
    周カバー部の底部またはその近傍に排気口を備えた回転
    式現像処理装置。
  6. 【請求項6】 外周カバー部の排気口が配管上の多数の
    穴からなることを特徴とする請求項5記載の回転式現像
    処理装置。
  7. 【請求項7】 請求項5記載の外周カバー部の排気口を
    備えることを特徴とする請求項1記載の回転式現像処理
    装置。
  8. 【請求項8】 ウェハチャックを備えウエハを吸着回転
    できるスピナー部と、排気口及び廃液口をもつカップ
    と、前記カップと隣接し上部をカバーするカップ上部カ
    バーと、現像液を吐出する現像ノズルとリンス液を吐出
    するリンスノズルと裏面リンスノズルからなるノズル部
    と、前記カップ上部カバー及びカップ及びノズル部全体
    を収納しウエハ取り込み取り出し口を有する側面カバー
    と、底板と上面カバーで構成される外周カバー部からな
    る回転式現像処理装置において、カップ上部カバーの上
    面外向きに外周カバー部側面カバーに近接するカップ上
    部上面外カバーと前記カップ上部上面外カバーと連結し
    外周カバー部側面カバーに近接し下方へ延びウエハ取り
    込み取り出し口を開閉するカップ上部外側面カバーを備
    えた回転式現像処理装置。
  9. 【請求項9】 ウェハチャックを備えウエハを吸着回転
    できるスピナー部と、排気口及び廃液口をもつカップ
    と、前記カップと隣接し上部をカバーするカップ上部カ
    バーと、現像液を吐出する現像ノズルとリンス液を吐出
    するリンスノズルと裏面リンスノズルからなるノズル部
    と、前記カップ上部カバー及びカップ及びノズル部全体
    を収納しウエハ取り込み取り出し口を有する側面カバー
    と、底板と上面カバーで構成される外周カバー部からな
    る回転式現像処理装置において、外周カバー部上面に送
    風機を備えた回転式現像処理装置。
  10. 【請求項10】 請求項9記載の外周カバー部上部に送
    風機を備えかつカップの外部領域で外周カバー底部また
    はその近傍に排気口を備えた請求項5記載の回転式現像
    処理装置。
  11. 【請求項11】 ウェハチャックを備えウエハを吸着回
    転できるスピナー部と、排気口及び廃液口をもつカップ
    と、前記カップと隣接し上部をカバーするカップ上部カ
    バーと、現像液を吐出する現像ノズルとリンス液を吐出
    するリンスノズルと裏面リンスノズルからなるノズル部
    と、前記カップ上部カバー及びカップ及びノズル部全体
    を収納しウエハ取り込み取り出し口を有する側面カバー
    と、底板と上面カバーで構成される外周カバー部からな
    る回転式現像処理装置において、カップ上部カバーに蛇
    腹状の折り畳み円筒形をしたカップ上部蛇腹状側面カバ
    ーを備えた回転式現像処理装置。
JP8174750A 1996-07-04 1996-07-04 回転式現像処理装置 Pending JPH1022199A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001118790A (ja) * 1999-08-12 2001-04-27 Tokyo Electron Ltd 現像装置、基板処理装置及び現像方法
JP2023138049A (ja) * 2022-03-18 2023-09-29 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

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US12521753B2 (en) 2022-03-18 2026-01-13 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus

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