JPH10223826A - 半導体装置の実装構造および実装方法 - Google Patents
半導体装置の実装構造および実装方法Info
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- JPH10223826A JPH10223826A JP9020575A JP2057597A JPH10223826A JP H10223826 A JPH10223826 A JP H10223826A JP 9020575 A JP9020575 A JP 9020575A JP 2057597 A JP2057597 A JP 2057597A JP H10223826 A JPH10223826 A JP H10223826A
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- H10W70/453—Leadframes comprising flexible metallic tapes
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- H—ELECTRICITY
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
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- Wire Bonding (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
- Combinations Of Printed Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体装置の電気特性を容易に検査できると
ともに半導体装置の外形と略同一な大きさの半導体装置
の実装構造を提供する。 【解決手段】 半導体装置10と、この半導体装置10
の下部に配置された接続基板30と、一端が半導体装置
10の外部接続端子12に接続されて折り返されるとと
もに他端が接続基板30上に設けられたリード20とを
含む。接続基板30は複数のキャリア基板31、32、
33および34から構成される。複数のキャリア基板3
1、32、33、および34の各々は直角ニ等辺三角形
形状を呈しており、半導体装置10の下部で略四角形形
状に形成される。
ともに半導体装置の外形と略同一な大きさの半導体装置
の実装構造を提供する。 【解決手段】 半導体装置10と、この半導体装置10
の下部に配置された接続基板30と、一端が半導体装置
10の外部接続端子12に接続されて折り返されるとと
もに他端が接続基板30上に設けられたリード20とを
含む。接続基板30は複数のキャリア基板31、32、
33および34から構成される。複数のキャリア基板3
1、32、33、および34の各々は直角ニ等辺三角形
形状を呈しており、半導体装置10の下部で略四角形形
状に形成される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の実装
構造およびその実装方法に関し、特に半導体装置と略同
一な大きさで実装することができる半導体装置の実装構
造に関する。
構造およびその実装方法に関し、特に半導体装置と略同
一な大きさで実装することができる半導体装置の実装構
造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来この種の半導体装置の実装構造が特
表平7−509352号公報に開示されている。
表平7−509352号公報に開示されている。
【0003】この公報記載の半導体装置の実装構造で
は、シート状の支持構造体にギャップが設けられ該支持
構造体が中央部と外側固定素子とに分割される。該中央
部に複数の中央端子が設けられるとともに該外側固定素
子に複数の外部端子が設けられ、複数の中央端子と複数
の外側端子との各々が上記ギャップを介して接続するリ
ードが設けられる。該支持構造体を半導体装置に重ね合
わせ、該半導体装置の周辺部に配置されている複数の電
極と上記支持構造体のギャップ上に位置するリードとを
各々接続することによって、半導体装置の外形より内側
に電極、すなわち、前記中央端子が設けられた半導体装
置の実装構造が実現される。
は、シート状の支持構造体にギャップが設けられ該支持
構造体が中央部と外側固定素子とに分割される。該中央
部に複数の中央端子が設けられるとともに該外側固定素
子に複数の外部端子が設けられ、複数の中央端子と複数
の外側端子との各々が上記ギャップを介して接続するリ
ードが設けられる。該支持構造体を半導体装置に重ね合
わせ、該半導体装置の周辺部に配置されている複数の電
極と上記支持構造体のギャップ上に位置するリードとを
各々接続することによって、半導体装置の外形より内側
に電極、すなわち、前記中央端子が設けられた半導体装
置の実装構造が実現される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】一般に、半導体装置単
体では詳細な特性検査や回路動作検査が困難であるた
め、パッケージとして実装された状態で検査が実施され
る。これにより、検査用ソケット等の治具が脱着容易に
なる。
体では詳細な特性検査や回路動作検査が困難であるた
め、パッケージとして実装された状態で検査が実施され
る。これにより、検査用ソケット等の治具が脱着容易に
なる。
【0005】しかしながら、上述の従来技術では、半導
体装置の回路面上に外部との電気的導通を取るための中
央端子が設けられているため、実装後の半導体装置検査
工程において中央端子に検査用電極が押しつけられる
と、検査用電極の押圧力が半導体装置の回路面に直接加
わってしまう。例えば、中央端子の数が100であり、
検査用電極が導通を取るために必要な押圧力が端子当た
り50グラムであるとした場合、押圧力の合計は500
0グラムとなってしまうため、該押圧力が半導体装置の
回路面に加わったときには該半導体装置を破壊してしま
う危険性がある。このように、上述の従来技術では、半
導体装置の回路面上に端子が設けられているため、パッ
ケージの信頼性に悪影響を及ぼしてしまうという問題が
ある。
体装置の回路面上に外部との電気的導通を取るための中
央端子が設けられているため、実装後の半導体装置検査
工程において中央端子に検査用電極が押しつけられる
と、検査用電極の押圧力が半導体装置の回路面に直接加
わってしまう。例えば、中央端子の数が100であり、
検査用電極が導通を取るために必要な押圧力が端子当た
り50グラムであるとした場合、押圧力の合計は500
0グラムとなってしまうため、該押圧力が半導体装置の
回路面に加わったときには該半導体装置を破壊してしま
う危険性がある。このように、上述の従来技術では、半
導体装置の回路面上に端子が設けられているため、パッ
ケージの信頼性に悪影響を及ぼしてしまうという問題が
ある。
【0006】また、上記検査方法とは別の検査方法とし
て、パッケージを検査用基板に半田付け実装を行って検
査を実施し、検査完了後に該検査用基板から該パッケー
ジを取り外すという方法がある。しかしながら、この方
法は時間やコストがかかるだけでなく、検査用基板への
取り付け及び取り外しを行う場合にに半田溶融温度まで
パッケージの温度を上昇させる必要があるため、パッケ
ージ自身の熱履歴が増加し、この結果、パッケージの信
頼性へ悪影響を及ぼしてしまうという問題がある。
て、パッケージを検査用基板に半田付け実装を行って検
査を実施し、検査完了後に該検査用基板から該パッケー
ジを取り外すという方法がある。しかしながら、この方
法は時間やコストがかかるだけでなく、検査用基板への
取り付け及び取り外しを行う場合にに半田溶融温度まで
パッケージの温度を上昇させる必要があるため、パッケ
ージ自身の熱履歴が増加し、この結果、パッケージの信
頼性へ悪影響を及ぼしてしまうという問題がある。
【0007】本発明の目的は、パッケージ外形がLSI
チップ外形と略同一な大きさであり高密度実装が可能な
半導体装置の実装構造を提供することにある。
チップ外形と略同一な大きさであり高密度実装が可能な
半導体装置の実装構造を提供することにある。
【0008】また、本発明の他の目的は、検査工程にお
いて半導体装置の回路面に押圧力を加えずにすむ半導体
装置の実装構造を提供することにある。
いて半導体装置の回路面に押圧力を加えずにすむ半導体
装置の実装構造を提供することにある。
【0009】さらに、本発明の他の目的は、検査工程に
おいて、検査用基板に半田付け実装を行う場合に半導体
装置に熱を加えずにすむ半導体装置の実装構造を提供す
ることにある。
おいて、検査用基板に半田付け実装を行う場合に半導体
装置に熱を加えずにすむ半導体装置の実装構造を提供す
ることにある。
【0010】また、本発明の他の目的は、従来の標準的
なTAB実装プロセスを用いて実装面が半導体装置の主
面の外形と略同一な大きさを有する半導体装置の実装構
造を提供することにある。
なTAB実装プロセスを用いて実装面が半導体装置の主
面の外形と略同一な大きさを有する半導体装置の実装構
造を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の半導体装置の実装構造は、半導体装置と、こ
の半導体装置の下部に配置された接続基板と、一端が前
記半導体装置の外部接続端子に接続されて折り返される
とともに他端が前記接続基板の所定の配線に接続された
リードとを含む。
に本発明の半導体装置の実装構造は、半導体装置と、こ
の半導体装置の下部に配置された接続基板と、一端が前
記半導体装置の外部接続端子に接続されて折り返される
とともに他端が前記接続基板の所定の配線に接続された
リードとを含む。
【0012】また、本発明の他の半導体装置の実装構造
は、前記接続基板は複数の実装用電極が設けられた実装
面を含み、前記所定の配線と前記複数の実装用電極とが
接続されていることを特徴とする。
は、前記接続基板は複数の実装用電極が設けられた実装
面を含み、前記所定の配線と前記複数の実装用電極とが
接続されていることを特徴とする。
【0013】さらに、本発明の他の半導体装置の実装構
造は、前記接続基板は複数の実装用電極が設けられた実
装面を含み、前記所定の配線は前記接続基板の前記実装
面と異なる主面に設けられていることを特徴とする。
造は、前記接続基板は複数の実装用電極が設けられた実
装面を含み、前記所定の配線は前記接続基板の前記実装
面と異なる主面に設けられていることを特徴とする。
【0014】また、本発明の他の半導体装置の実装構造
は、前記接続基板は複数の可撓性基板から構成されるこ
とを特徴とする。
は、前記接続基板は複数の可撓性基板から構成されるこ
とを特徴とする。
【0015】さらに、本発明の他の半導体装置の実装構
造は、前記複数の可撓性基板から構成される前記接続基
板は前記半導体集積装置の外形と同一または類似の形状
に形成されていることを特徴とする。
造は、前記複数の可撓性基板から構成される前記接続基
板は前記半導体集積装置の外形と同一または類似の形状
に形成されていることを特徴とする。
【0016】また、本発明の他の半導体装置の実装構造
は、前記複数の可撓性基板の各々の形状は直角2等辺三
角形であることを特徴とする。
は、前記複数の可撓性基板の各々の形状は直角2等辺三
角形であることを特徴とする。
【0017】さらに、本発明の他の半導体装置の実装構
造は、前記半導体装置と前記基板との間隙および前記リ
ードを封止する封止樹脂を含む。
造は、前記半導体装置と前記基板との間隙および前記リ
ードを封止する封止樹脂を含む。
【0018】また、本発明の他の半導体装置の実装構造
は、前記半導体装置と前記接続基板との間に設けられ、
該半導体装置および該基板の各々に当接する絶縁膜を含
む。
は、前記半導体装置と前記接続基板との間に設けられ、
該半導体装置および該基板の各々に当接する絶縁膜を含
む。
【0019】さらに、本発明の他の半導体装置の実装構
造は、前記複数の実装用電極が格子状に配置されている
ことを特徴とする。
造は、前記複数の実装用電極が格子状に配置されている
ことを特徴とする。
【0020】また、本発明の他の半導体装置の実装構造
は、下面に外部接続端子が設けられた半導体装置と、実
装面に実装用電極が設けられ該実装面と反対の面および
前記半導体装置の下面が対向する向きに積み重ねられた
接続基板と、前記外部接続端子と前記実装用電極とを接
続するよう折り返されたリードとを含む。
は、下面に外部接続端子が設けられた半導体装置と、実
装面に実装用電極が設けられ該実装面と反対の面および
前記半導体装置の下面が対向する向きに積み重ねられた
接続基板と、前記外部接続端子と前記実装用電極とを接
続するよう折り返されたリードとを含む。
【0021】さらに、本発明の他の半導体装置の実装構
造は、下面に外部接続端子が設けられた半導体装置と、
実装面に実装用電極が設けられるとともに該実装面と反
対の面に配線が設けられ前記半導体装置の下面と該実装
面と反対の面とが対向する向きに積み重ねられた接続基
板と、前記外部接続端子と前記配線とを接続するよう折
り返されたリードとを含む。
造は、下面に外部接続端子が設けられた半導体装置と、
実装面に実装用電極が設けられるとともに該実装面と反
対の面に配線が設けられ前記半導体装置の下面と該実装
面と反対の面とが対向する向きに積み重ねられた接続基
板と、前記外部接続端子と前記配線とを接続するよう折
り返されたリードとを含む。
【0022】また、本発明の他の半導体装置の実装構造
は、前記接続基板は該接続基板を貫通し前記実装用電極
と前記配線とを接続するスルーホールを含む。
は、前記接続基板は該接続基板を貫通し前記実装用電極
と前記配線とを接続するスルーホールを含む。
【0023】本発明の半導体装置の実装方法は、実装用
電極と該実装用電極に接続されたリードと該リードの一
端が突出するデバイスホールとが設けられたテープキャ
リアを用いて下面に外部接続電極が設けられた半導体装
置を実装する半導体装置の実装方法であって、前記半導
体装置の外部接続電極を前記テープキャリアの前記デバ
イスホールに突出した前記リードの一端に接続して該半
導体装置を該テープキャリアに搭載する工程と、前記半
導体装置が搭載されたテープキャリアを前記実装用電極
が設けられている外形に沿って切り抜く工程と、切り抜
かれた前記テープキャリアを前記リード上の点を中心と
して折り返す工程と、前記半導体装置と折り返された前
記テープキャリアとを固定する工程とを含む。
電極と該実装用電極に接続されたリードと該リードの一
端が突出するデバイスホールとが設けられたテープキャ
リアを用いて下面に外部接続電極が設けられた半導体装
置を実装する半導体装置の実装方法であって、前記半導
体装置の外部接続電極を前記テープキャリアの前記デバ
イスホールに突出した前記リードの一端に接続して該半
導体装置を該テープキャリアに搭載する工程と、前記半
導体装置が搭載されたテープキャリアを前記実装用電極
が設けられている外形に沿って切り抜く工程と、切り抜
かれた前記テープキャリアを前記リード上の点を中心と
して折り返す工程と、前記半導体装置と折り返された前
記テープキャリアとを固定する工程とを含む。
【0024】また、本発明の他の半導体装置の実装方法
は、前記半導体装置が搭載された前記テープキャリア上
にデバイスホールの1辺を斜辺とする直角2等辺三角形
状に電極を配置させる工程を含む。
は、前記半導体装置が搭載された前記テープキャリア上
にデバイスホールの1辺を斜辺とする直角2等辺三角形
状に電極を配置させる工程を含む。
【0025】さらに、本発明の他の半導体装置の実装方
法は、実装用電極と該実装用電極に接続されたリードと
該リードの一端が突出するデバイスホールとが設けられ
たテープキャリアを用いて下面に外部接続電極が設けら
れた半導体装置を実装する半導体装置の実装方法であっ
て、前記半導体装置の外部接続電極を前記テープキャリ
アの前記デバイスホールに突出した前記リードの一端に
接続して該半導体装置を該テープキャリアに搭載する工
程と、前記半導体装置が搭載されたテープキャリアを前
記実装用電極が設けられている外形に沿って切り抜く工
程と、切り抜かれた前記テープキャリアと前記半導体装
置とで絶縁部材を挟み込むように該テープキャリアを前
記リード上の点を中心として折り返す工程と、前記半導
体装置と折り返された前記テープキャリアとを固定する
工程とを含む。
法は、実装用電極と該実装用電極に接続されたリードと
該リードの一端が突出するデバイスホールとが設けられ
たテープキャリアを用いて下面に外部接続電極が設けら
れた半導体装置を実装する半導体装置の実装方法であっ
て、前記半導体装置の外部接続電極を前記テープキャリ
アの前記デバイスホールに突出した前記リードの一端に
接続して該半導体装置を該テープキャリアに搭載する工
程と、前記半導体装置が搭載されたテープキャリアを前
記実装用電極が設けられている外形に沿って切り抜く工
程と、切り抜かれた前記テープキャリアと前記半導体装
置とで絶縁部材を挟み込むように該テープキャリアを前
記リード上の点を中心として折り返す工程と、前記半導
体装置と折り返された前記テープキャリアとを固定する
工程とを含む。
【0026】
【発明の実施の形態】次に本発明の半導体装置の実装構
造の実施の形態について図面を参照して詳細に説明す
る。
造の実施の形態について図面を参照して詳細に説明す
る。
【0027】図1を参照すると、本発明の半導体装置の
実装構造の第一の実施の形態は、半導体装置10と、こ
の半導体装置10の下部に配置された接続基板30と、
一端が半導体装置10の外部接続電極12に接続されて
折り返されるとともに他端が接続基板30上の実装用電
極40に接続されたリード20とを含む。
実装構造の第一の実施の形態は、半導体装置10と、こ
の半導体装置10の下部に配置された接続基板30と、
一端が半導体装置10の外部接続電極12に接続されて
折り返されるとともに他端が接続基板30上の実装用電
極40に接続されたリード20とを含む。
【0028】接続基板30は、該接続基板30の実装用
電極40が設けられた主面が半導体装置10の回路面1
1と対抗しない向きに配置されている。接続基板30の
実装用電極40が設けられた主面には実装用電極40に
接続された配線が設けられている。
電極40が設けられた主面が半導体装置10の回路面1
1と対抗しない向きに配置されている。接続基板30の
実装用電極40が設けられた主面には実装用電極40に
接続された配線が設けられている。
【0029】外部接続電極12は半導体装置10の回路
面11の周辺部に設けられたTABボンディング用の電
極である。
面11の周辺部に設けられたTABボンディング用の電
極である。
【0030】リード20は、半導体装置10の回路面1
1に設けられた外部接続電極12と接続基板30の実装
用電極40とを接続するように折り返されており、イン
ナーリード部21と折り返し部22とアウターリード部
23とを含む。リード20は銅に金メッキが施されてい
るものが好ましい。銅は抵抗値が低いため配線抵抗を減
らすことができ、配線間の電圧降下を抑えることができ
る。金メッキは母材の銅の酸化を防ぎ、同時に半導体装
置10の外部接続電極12との接続を容易にする。
1に設けられた外部接続電極12と接続基板30の実装
用電極40とを接続するように折り返されており、イン
ナーリード部21と折り返し部22とアウターリード部
23とを含む。リード20は銅に金メッキが施されてい
るものが好ましい。銅は抵抗値が低いため配線抵抗を減
らすことができ、配線間の電圧降下を抑えることができ
る。金メッキは母材の銅の酸化を防ぎ、同時に半導体装
置10の外部接続電極12との接続を容易にする。
【0031】インナーリード部21は半導体装置10の
回路面11上に配置された外部接続電極12に接続され
ている。
回路面11上に配置された外部接続電極12に接続され
ている。
【0032】アウターリード部23は接続基板30に設
けられた複数の実装用電極40に接続されている。
けられた複数の実装用電極40に接続されている。
【0033】折り返し部22は、インナーリード部21
とアウターリード部23との間に設けられ、リード20
が180度折曲げられた部位である。
とアウターリード部23との間に設けられ、リード20
が180度折曲げられた部位である。
【0034】図1および図2を参照すると、接続基板3
0は、1枚のキャリアフィルムから形抜きされて形成さ
れた複数のキャリア基板によって構成される。本実施の
形態では、接続基板30は4枚のキャリア基板31、3
2、33および34から構成され、半導体装置10の外
形と同一または類似の形状に形成される。キャリア基板
31、32、33および34の各々の形状は直角2等辺
三角形の形状を呈するよう形成されるのが好ましい。こ
のとき、4つのキャリア基板31、32、33および3
4は正方形の形状が形成されるよう配置される。また、
キャリア基板31、32、33および34の材質はポリ
イミドであることが望ましい。
0は、1枚のキャリアフィルムから形抜きされて形成さ
れた複数のキャリア基板によって構成される。本実施の
形態では、接続基板30は4枚のキャリア基板31、3
2、33および34から構成され、半導体装置10の外
形と同一または類似の形状に形成される。キャリア基板
31、32、33および34の各々の形状は直角2等辺
三角形の形状を呈するよう形成されるのが好ましい。こ
のとき、4つのキャリア基板31、32、33および3
4は正方形の形状が形成されるよう配置される。また、
キャリア基板31、32、33および34の材質はポリ
イミドであることが望ましい。
【0035】実装用電極40は、接続基板30上に格子
状に設けられている。本実施の形態では、実装用電極4
0を120個備えている。実装用電極40のピッチを
1.27mmで配列した場合、小型LSIパッケージ1
00の外形は17mm×17mm程度であり、半導体装
置10の外形としては約15mm×15mm程度、各辺
の外部接続電極12は30個であり、ピッチは0.5m
m程度のものに採用可能である。以下の図面では本発明
の構造を理解し易くするため外部接続電極12の数やリ
ード20の数を少なく描いている。
状に設けられている。本実施の形態では、実装用電極4
0を120個備えている。実装用電極40のピッチを
1.27mmで配列した場合、小型LSIパッケージ1
00の外形は17mm×17mm程度であり、半導体装
置10の外形としては約15mm×15mm程度、各辺
の外部接続電極12は30個であり、ピッチは0.5m
m程度のものに採用可能である。以下の図面では本発明
の構造を理解し易くするため外部接続電極12の数やリ
ード20の数を少なく描いている。
【0036】半導体装置10と接続基板30の間には封
止樹脂50が充填されている。封止樹脂50はリード2
0も覆っている。
止樹脂50が充填されている。封止樹脂50はリード2
0も覆っている。
【0037】図3を参照すると、本実施の形態の半導体
装置の実装構造を有する半導体パッケージ100が配線
基板200に実装されている。半導体パッケージ100
の実装用電極40と配線基板200上の接続パッド20
1とが半田60によって接続される。
装置の実装構造を有する半導体パッケージ100が配線
基板200に実装されている。半導体パッケージ100
の実装用電極40と配線基板200上の接続パッド20
1とが半田60によって接続される。
【0038】図4を参照すると、複数の半導体パッケー
ジ100が配線基板200に高密度に実装される。
ジ100が配線基板200に高密度に実装される。
【0039】次に本発明の半導体装置の実装構造の製造
方法について図面を参照して詳細に説明する。
方法について図面を参照して詳細に説明する。
【0040】図5および図6を参照すると、テープキャ
リア300にデバイスホール310と実装用電極40と
が設けられる。
リア300にデバイスホール310と実装用電極40と
が設けられる。
【0041】テープキャリア300は有機絶縁材料テー
プ上に金属配線が施されたものである。有機絶縁材料テ
ープの材料はポリイミドが好ましい。耐溶剤性、耐熱性
が高く、電子部品パッケージを製造する加熱工程や洗浄
工程等によるダメージを受けず、電子部品パッケージ用
材料として非常に適しているからである。
プ上に金属配線が施されたものである。有機絶縁材料テ
ープの材料はポリイミドが好ましい。耐溶剤性、耐熱性
が高く、電子部品パッケージを製造する加熱工程や洗浄
工程等によるダメージを受けず、電子部品パッケージ用
材料として非常に適しているからである。
【0042】金属配線の材料は銅の母材に金メッキを施
したものが好ましい。
したものが好ましい。
【0043】テープキャリア300の有機絶縁材料テー
プ表面に銅箔層を接着剤を用いて貼り合わせ、半導体装
置10取り付け用のデバイスホール310に突出するイ
ンナーリード部21を有するリード20のパターンと、
有機絶縁材料テープの片面に配線基板200との接続端
子となる実装用電極40が形成される。
プ表面に銅箔層を接着剤を用いて貼り合わせ、半導体装
置10取り付け用のデバイスホール310に突出するイ
ンナーリード部21を有するリード20のパターンと、
有機絶縁材料テープの片面に配線基板200との接続端
子となる実装用電極40が形成される。
【0044】実装用電極40はデバイスホール8の各辺
を底辺とする直角二等辺三角形状に配列される。この理
由は後述するがLSIパッケージ組み立てが完了したと
き外部電極の数が多く、効率的に配置できるからであ
る。
を底辺とする直角二等辺三角形状に配列される。この理
由は後述するがLSIパッケージ組み立てが完了したと
き外部電極の数が多く、効率的に配置できるからであ
る。
【0045】また、実装用電極40とリード20間のテ
ープキャリア300上の導体配線はソルダーレジスト等
の絶縁材料の塗布を施しておく。この理由は組み立てら
れたLSIパッケージとして配線基板200上に半田付
け実装するときに露出するリード20間でのショートを
防ぐためである。
ープキャリア300上の導体配線はソルダーレジスト等
の絶縁材料の塗布を施しておく。この理由は組み立てら
れたLSIパッケージとして配線基板200上に半田付
け実装するときに露出するリード20間でのショートを
防ぐためである。
【0046】図7を参照すると、テープキャリア300
のデバイスホール310に半導体装置10が搭載され
る。まず、テープキャリア300の実装用電極40が設
けられていない主面と半導体装置10の回路面11とが
対向させられる。次に、半導体装置10の回路面11に
設けられた外部接続電極12とテープキャリア300の
デバイスホール310内に突出したインナーリード部2
1とが重なり合うように位置合わせが行われ、インナー
リード部21と外部接続電極12とがボンディング接続
される。
のデバイスホール310に半導体装置10が搭載され
る。まず、テープキャリア300の実装用電極40が設
けられていない主面と半導体装置10の回路面11とが
対向させられる。次に、半導体装置10の回路面11に
設けられた外部接続電極12とテープキャリア300の
デバイスホール310内に突出したインナーリード部2
1とが重なり合うように位置合わせが行われ、インナー
リード部21と外部接続電極12とがボンディング接続
される。
【0047】外部接続電極12の表面には金メッキが施
されており、インナーリード部21の金メッキと金金熱
圧着ボンディングにより接続が行われる。この工程を完
了することによって半導体装置10の外部接続電極12
とテープキャリア300上の実装用電極40とが電気的
に接続される。
されており、インナーリード部21の金メッキと金金熱
圧着ボンディングにより接続が行われる。この工程を完
了することによって半導体装置10の外部接続電極12
とテープキャリア300上の実装用電極40とが電気的
に接続される。
【0048】この状態では半導体装置10の電気検査を
非常に容易に行うことが可能である。一般に、半導体装
置の外部接続電極のピッチは非常に微細であり、面積も
非常に小さく、かつ、該半導体装置の回路面のすぐ近く
に配置されている。このため、検査用のソケットを作る
のが非常に困難であり、コストも非常にかかる。微細な
検査用プローブ等を用いて半導体装置の外部接続電極に
該プローブを接触させる場合、誤って回路面に触れ半導
体装置を破壊する危険性がある。本発明の構造ではテー
プキャリア300の実装用電極40を表裏から挟み込む
ような圧接型コネクタ等を用いることにより非常に簡単
に半導体装置との導通を取ることが可能であり、かつ半
導体装置1には触れる必要が無いため半導体装置1にダ
メージを与えることがない。電気検査にて良品と判断さ
れた物は次の組立工程へ進む。
非常に容易に行うことが可能である。一般に、半導体装
置の外部接続電極のピッチは非常に微細であり、面積も
非常に小さく、かつ、該半導体装置の回路面のすぐ近く
に配置されている。このため、検査用のソケットを作る
のが非常に困難であり、コストも非常にかかる。微細な
検査用プローブ等を用いて半導体装置の外部接続電極に
該プローブを接触させる場合、誤って回路面に触れ半導
体装置を破壊する危険性がある。本発明の構造ではテー
プキャリア300の実装用電極40を表裏から挟み込む
ような圧接型コネクタ等を用いることにより非常に簡単
に半導体装置との導通を取ることが可能であり、かつ半
導体装置1には触れる必要が無いため半導体装置1にダ
メージを与えることがない。電気検査にて良品と判断さ
れた物は次の組立工程へ進む。
【0049】図8および図9を参照すると、テープキャ
リア300が型抜きされる。半導体装置10の各辺に接
続されたテープキャリア300の実装用電極40を囲む
ように同じ外形の直角二等辺三角形で切断し、4つの型
抜きされたキャリア基板31、32、33および34に
分割される。
リア300が型抜きされる。半導体装置10の各辺に接
続されたテープキャリア300の実装用電極40を囲む
ように同じ外形の直角二等辺三角形で切断し、4つの型
抜きされたキャリア基板31、32、33および34に
分割される。
【0050】図10を参照すると、分割された各辺の4
個のキャリア基板31、32、33および34を半導体
装置10の外部接続電極12から外側へ突出したリード
の部分を中心に半導体装置10の回路面2上に180度
折り返される。型抜きされたキャリア基板31、32、
33および34はそれぞれ直角二等辺三角形であるた
め、半導体装置10の回路面11上で正方形を呈する接
続基板30が形成される。接続基板30は半導体装置1
0の回路面11のほぼ全面を覆い尽くすので実装用電極
40を数多く、効率的に配置することができる。
個のキャリア基板31、32、33および34を半導体
装置10の外部接続電極12から外側へ突出したリード
の部分を中心に半導体装置10の回路面2上に180度
折り返される。型抜きされたキャリア基板31、32、
33および34はそれぞれ直角二等辺三角形であるた
め、半導体装置10の回路面11上で正方形を呈する接
続基板30が形成される。接続基板30は半導体装置1
0の回路面11のほぼ全面を覆い尽くすので実装用電極
40を数多く、効率的に配置することができる。
【0051】図1を参照すると、接続基板30と半導体
装置10の回路面との間および折り返されたリード20
を覆うように封止樹脂50が充填される。加熱が必要な
場合は加熱硬化される。封止樹脂50の材料としては、
通常のプラスチックパッケージに採用されている絶縁性
モールド樹脂材料でよいが、接続基板30と半導体装置
10の回路面11との間隙が小さい場合封止材料が内部
まで流れ込み難い場合がある。その場合は粘性を柔らか
くした絶縁性エポキシ樹脂等が好ましい。
装置10の回路面との間および折り返されたリード20
を覆うように封止樹脂50が充填される。加熱が必要な
場合は加熱硬化される。封止樹脂50の材料としては、
通常のプラスチックパッケージに採用されている絶縁性
モールド樹脂材料でよいが、接続基板30と半導体装置
10の回路面11との間隙が小さい場合封止材料が内部
まで流れ込み難い場合がある。その場合は粘性を柔らか
くした絶縁性エポキシ樹脂等が好ましい。
【0052】図3を参照すると、本実施の形態の半導体
装置の実装構造を有する半導体パッケージ100が配線
基板200上に実装される。一つの実装方法として例を
あげると、通常使用されているBGA(ボールグリッド
アレイ)と同様に、まず半導体パッケージ100の実装
用電極40上に半田ボールを供給し、配線基板200上
の接続パッド201上にはクリーム半田をスクリーン印
刷で供給する。次に、半導体パッケージ100を配線基
板200上の接続パッド201に位置合わせして搭載
し、加熱リフローを行うことにより実装が完了する。半
田としてSn63/Pb37Wt%の共晶半田が使用さ
れる場合、加熱リフローの温度は210度ぐらいが好ま
しい。
装置の実装構造を有する半導体パッケージ100が配線
基板200上に実装される。一つの実装方法として例を
あげると、通常使用されているBGA(ボールグリッド
アレイ)と同様に、まず半導体パッケージ100の実装
用電極40上に半田ボールを供給し、配線基板200上
の接続パッド201上にはクリーム半田をスクリーン印
刷で供給する。次に、半導体パッケージ100を配線基
板200上の接続パッド201に位置合わせして搭載
し、加熱リフローを行うことにより実装が完了する。半
田としてSn63/Pb37Wt%の共晶半田が使用さ
れる場合、加熱リフローの温度は210度ぐらいが好ま
しい。
【0053】このように、本実施の形態では、半導体装
置10がテープキャリア300に搭載されたときに該半
導体装置10の検査が行われ、検査後にテープキャリア
300を形抜きしてキャリア基板31、32、33およ
び34を形成し、該キャリア基板31、32、33およ
び34が半導体装置10の回路面11と対向するよう折
り返される。このため、半導体装置10を検査するとき
には、実装用端子40が半導体装置10上に存在してい
ないため、検査用の治具が半導体装置10に触れること
が無く、半導体装置10にダメージを与えずにすむとい
う効果がある。また、配線基板200に搭載する場合に
は、外形が半導体装置10の主面の外形と略同一な大き
さであるとともに実装用電極40の数が多い半導体装置
の実装構造が得られるという効果もある。
置10がテープキャリア300に搭載されたときに該半
導体装置10の検査が行われ、検査後にテープキャリア
300を形抜きしてキャリア基板31、32、33およ
び34を形成し、該キャリア基板31、32、33およ
び34が半導体装置10の回路面11と対向するよう折
り返される。このため、半導体装置10を検査するとき
には、実装用端子40が半導体装置10上に存在してい
ないため、検査用の治具が半導体装置10に触れること
が無く、半導体装置10にダメージを与えずにすむとい
う効果がある。また、配線基板200に搭載する場合に
は、外形が半導体装置10の主面の外形と略同一な大き
さであるとともに実装用電極40の数が多い半導体装置
の実装構造が得られるという効果もある。
【0054】また、キャリア基板31、32、33およ
び34の各々がデバイスホール310の各辺を底辺とす
る二等辺三角形形状に切断されて半導体装置10の回路
面11に折り返されるため、キャリア基板31、32、
33および34によって略正方形状を呈した実装面が得
られる。このため、配線基板200との接続に用いられ
る実装用電極40をより多く設けることができる。
び34の各々がデバイスホール310の各辺を底辺とす
る二等辺三角形形状に切断されて半導体装置10の回路
面11に折り返されるため、キャリア基板31、32、
33および34によって略正方形状を呈した実装面が得
られる。このため、配線基板200との接続に用いられ
る実装用電極40をより多く設けることができる。
【0055】次に、本発明の第二の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。この第二の実施の
形態の特徴は接続基板30と半導体装置10の回路面1
1との間に絶縁性シート70が設けられている点にあ
る。他の構成は第一の実施の形態と同様である。
て、図面を参照して詳細に説明する。この第二の実施の
形態の特徴は接続基板30と半導体装置10の回路面1
1との間に絶縁性シート70が設けられている点にあ
る。他の構成は第一の実施の形態と同様である。
【0056】図11(b)を参照すると、絶縁性シート
70が半導体装置10の回路面11および接続基板30
の間に設けられており、回路面11および接続基板30
のそれぞれと当接されている。絶縁性シート70は接続
基板30を構成するキャリア基板31、32、33およ
び34の各々が半導体装置10の回路面11に折り返さ
れた場合、キャリア基板31、32、33および34に
よって構成される実装面が平坦になるような厚さに形成
される。
70が半導体装置10の回路面11および接続基板30
の間に設けられており、回路面11および接続基板30
のそれぞれと当接されている。絶縁性シート70は接続
基板30を構成するキャリア基板31、32、33およ
び34の各々が半導体装置10の回路面11に折り返さ
れた場合、キャリア基板31、32、33および34に
よって構成される実装面が平坦になるような厚さに形成
される。
【0057】絶縁性シート70の材料はシリコーンラバ
ーシートが好ましい。シリコーンラバーは弾性を有して
おり、キャリア基板31、32、33および34を折り
返して当説させたときに半導体装置10の回路面11に
加わる力をシリコーンラバーが分散させるため、該回路
面11へのダメージを軽減することができる。
ーシートが好ましい。シリコーンラバーは弾性を有して
おり、キャリア基板31、32、33および34を折り
返して当説させたときに半導体装置10の回路面11に
加わる力をシリコーンラバーが分散させるため、該回路
面11へのダメージを軽減することができる。
【0058】次に本実施の形態の製造方法について説明
する。
する。
【0059】図12(a)を参照すると、半導体装置1
0の回路面11に外部接続電極12より内側に入る大き
さの絶縁性シート70が配けられる。
0の回路面11に外部接続電極12より内側に入る大き
さの絶縁性シート70が配けられる。
【0060】図12(b)を参照すると、キャリア基板
31、32、33および34を折り返して絶縁性シート
70に当接させる。この状態で封止樹脂7が充填され
る。
31、32、33および34を折り返して絶縁性シート
70に当接させる。この状態で封止樹脂7が充填され
る。
【0061】このように、本実施の形態によると、半導
体装置10の回路面11と接続基板30との間に絶縁性
シート70が設けられるため、接続基板30の平坦度を
より向上させることができる。
体装置10の回路面11と接続基板30との間に絶縁性
シート70が設けられるため、接続基板30の平坦度を
より向上させることができる。
【0062】上記実施の形態において、絶縁性シート7
0の表裏に粘着材を施してもよい。このとき、半導体装
置をさらに容易に実装することができる。
0の表裏に粘着材を施してもよい。このとき、半導体装
置をさらに容易に実装することができる。
【0063】次に、本発明の第三の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。この第三の実施の
形態の特徴はリードの下部に基板が設けられている点に
ある。他の構成は第一の実施の形態と同様である。
て、図面を参照して詳細に説明する。この第三の実施の
形態の特徴はリードの下部に基板が設けられている点に
ある。他の構成は第一の実施の形態と同様である。
【0064】図13を参照すると、接続基板80はリー
ド20の下部に設けられている。すなわち、リード20
のアウターリード部23は接続基板80の実装面とは異
なる主面に接続されている。接続基板80には、アウタ
ーリード部23が接続される電極と、この電極と接続さ
れ接続基板80を貫通するスルーホール81と、スルー
ホール81に接続され接続基板80の実装面に設けられ
た配線82と、配線82に接続された複数の実装用電極
41が設けられている。複数の実装用電極41の各々
は、接続基板80に貫通されたスルーホール81を介し
てリード20と電気的に接続される。
ド20の下部に設けられている。すなわち、リード20
のアウターリード部23は接続基板80の実装面とは異
なる主面に接続されている。接続基板80には、アウタ
ーリード部23が接続される電極と、この電極と接続さ
れ接続基板80を貫通するスルーホール81と、スルー
ホール81に接続され接続基板80の実装面に設けられ
た配線82と、配線82に接続された複数の実装用電極
41が設けられている。複数の実装用電極41の各々
は、接続基板80に貫通されたスルーホール81を介し
てリード20と電気的に接続される。
【0065】次に、本実施の形態の製造方法について説
明する。
明する。
【0066】テープキャリアの両主面の所望の位置に配
線が施され、該両主面の配線を互いに接続するスルーホ
ール81が設けられる。テープキャリアの一方の主面に
リード20が設けられ、他方の主面に実装用電極41が
設けられる。テープキャリアの実装用電極41が設けら
れている主面と半導体装置10の回路面11とが対向さ
せられ位置合わせされてインナーリード部21と外部接
続電極12とがボンディング接続される。この後の工程
は、上記第一の実施の形態と同様である。
線が施され、該両主面の配線を互いに接続するスルーホ
ール81が設けられる。テープキャリアの一方の主面に
リード20が設けられ、他方の主面に実装用電極41が
設けられる。テープキャリアの実装用電極41が設けら
れている主面と半導体装置10の回路面11とが対向さ
せられ位置合わせされてインナーリード部21と外部接
続電極12とがボンディング接続される。この後の工程
は、上記第一の実施の形態と同様である。
【0067】このように、本実施の形態によると、リー
ド20の下部に接続基板30が設けられるため、配線基
板200に搭載された場合にリード20と配線基板20
0上の配線とにより生じるノイズをより削減することが
できる。これは、接続基板30がリード20と配線基板
200上の配線との間の絶縁材として機能するためであ
る。
ド20の下部に接続基板30が設けられるため、配線基
板200に搭載された場合にリード20と配線基板20
0上の配線とにより生じるノイズをより削減することが
できる。これは、接続基板30がリード20と配線基板
200上の配線との間の絶縁材として機能するためであ
る。
【0068】本実施の形態において、上記第二の実施の
形態の絶縁性シートを半導体装置10の回路面11とリ
ード20との間に設けてもよい。絶縁性シートは接続基
板30が平坦となるような厚さに形成される。
形態の絶縁性シートを半導体装置10の回路面11とリ
ード20との間に設けてもよい。絶縁性シートは接続基
板30が平坦となるような厚さに形成される。
【0069】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明
は、半導体装置が搭載されたテープキャリアを該テープ
キャリア上の実装用端子の外周で切断し、切断されたキ
ャリア基板をリードを中心として該半導体装置の回路面
側に折り返して封止樹脂により固着される。このため、
従来一般的に採用されてきたTABテープのボンディン
グ技術を用いて実装面が半導体装置10の主面の外形と
略同一な大きさを有する半導体装置の実装構造が得られ
るという効果がある。
は、半導体装置が搭載されたテープキャリアを該テープ
キャリア上の実装用端子の外周で切断し、切断されたキ
ャリア基板をリードを中心として該半導体装置の回路面
側に折り返して封止樹脂により固着される。このため、
従来一般的に採用されてきたTABテープのボンディン
グ技術を用いて実装面が半導体装置10の主面の外形と
略同一な大きさを有する半導体装置の実装構造が得られ
るという効果がある。
【0070】また、本発明では、半導体装置をテープキ
ャリアに取り付けたときに、該半導体装置の外部電極が
該半導体装置上に位置しておらず半導体装置の回路面に
触れることなく半導体装置の電気検査を容易に行うこと
ができるため、半導体装置の検査がより容易になるとい
う効果がある。
ャリアに取り付けたときに、該半導体装置の外部電極が
該半導体装置上に位置しておらず半導体装置の回路面に
触れることなく半導体装置の電気検査を容易に行うこと
ができるため、半導体装置の検査がより容易になるとい
う効果がある。
【0071】さらに、本発明では、半導体装置の実装構
造の外形が該半導体装置の外形と比較して折り返された
リードと封止樹脂とからなるわずかな部分だけ大きくな
るだけであるため、PGA(ピングリッドアレイ)やQ
FP(クワッドフラットパッケージ)と比べ非常に小さ
くできる。この結果、より少ない占有面積で数多く搭載
することが可能であるため、半導体装置を高密度に実装
できるという効果がある。
造の外形が該半導体装置の外形と比較して折り返された
リードと封止樹脂とからなるわずかな部分だけ大きくな
るだけであるため、PGA(ピングリッドアレイ)やQ
FP(クワッドフラットパッケージ)と比べ非常に小さ
くできる。この結果、より少ない占有面積で数多く搭載
することが可能であるため、半導体装置を高密度に実装
できるという効果がある。
【図1】本発明の第一の実施の形態の断面図である。
【図2】本発明の第一の実施の形態の下面図である。
【図3】本発明の第一の実施の形態の断面図である。
【図4】本発明の第一の実施の形態の断面図である。
【図5】本発明の第一の実施の形態の製造方法を示す上
面図である。
面図である。
【図6】図5の線A−Aについての断面図である。
【図7】本発明の第一の実施の形態の製造方法を示す上
面図である。
面図である。
【図8】本発明の第一の実施の形態の製造方法を示す上
面図である。
面図である。
【図9】図8の線B−Bについての断面図である。
【図10】本発明の第一の実施の形態の製造方法を示す
断面図である。
断面図である。
【図11】本発明の第ニの実施の形態の製造方法を示す
断面図である。
断面図である。
【図12】本発明の第三の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
10 半導体装置 11 回路面 12 外部接続電極 20 リード 21 インナーリード部 22 折り返し部 23 アウターリード部 30 キャリア基板 40 実装用電極 50 封止樹脂 60 半田 70 絶縁性シート 100 半導体パッケージ 200 配線基板 300 テープキャリア 310 デバイスホール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H05K 1/18 H05K 1/18 H
Claims (15)
- 【請求項1】 半導体装置と、 この半導体装置の下部に配置された接続基板と、 一端が前記半導体装置の外部接続端子に接続されて折り
返されるとともに他端が前記接続基板の所定の配線に接
続されたリードとを含むことを特徴とする半導体装置の
実装構造。 - 【請求項2】 前記接続基板は複数の実装用電極が設け
られた実装面を含み、 前記所定の配線と前記複数の実装用電極とが接続されて
いることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の実装
構造。 - 【請求項3】 前記接続基板は複数の実装用電極が設け
られた実装面を含み、 前記所定の配線は前記接続基板の前記実装面と異なる主
面に設けられていることを特徴とする請求項1記載の半
導体装置の実装構造。 - 【請求項4】 前記接続基板は複数の可撓性基板から構
成されることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の
実装構造。 - 【請求項5】 前記複数の可撓性基板から構成される前
記接続基板は前記半導体集積装置の外形と同一または類
似の形状に形成されていることを特徴とする請求項4記
載の半導体装置の実装構造。 - 【請求項6】 前記複数の可撓性基板の各々の形状は直
角2等辺三角形であることを特徴とする請求項4記載の
半導体装置の実装構造。 - 【請求項7】 前記半導体装置と前記基板との間隙およ
び前記リードを封止する封止樹脂を含むことを特徴とす
る請求項1記載の半導体装置の実装構造。 - 【請求項8】 前記半導体装置と前記接続基板との間に
設けられ、該半導体装置および該基板の各々に当接する
絶縁膜を含むことを特徴とする請求項1記載の半導体装
置の実装構造。 - 【請求項9】 前記複数の実装用電極が格子状に配置さ
れていることを特徴とする請求項2または3記載の半導
体装置の実装構造。 - 【請求項10】 下面に外部接続端子が設けられた半導
体装置と、 実装面に実装用電極が設けられ該実装面と反対の面およ
び前記半導体装置の下面が対向する向きに積み重ねられ
た接続基板と、 前記外部接続端子と前記実装用電極とを接続するよう折
り返されたリードとを含むことを特徴とする半導体装置
の実装構造。 - 【請求項11】 下面に外部接続端子が設けられた半導
体装置と、 実装面に実装用電極が設けられるとともに該実装面と反
対の面に配線が設けられ前記半導体装置の下面と該実装
面と反対の面とが対向する向きに積み重ねられた接続基
板と、 前記外部接続端子と前記配線とを接続するよう折り返さ
れたリードとを含むことを特徴とする半導体装置の実装
構造。 - 【請求項12】 前記接続基板は該接続基板を貫通し前
記実装用電極と前記配線とを接続するスルーホールを含
むことを特徴とする請求項11記載の半導体装置の実装
構造。 - 【請求項13】 実装用電極と該実装用電極に接続され
たリードと該リードの一端が突出するデバイスホールと
が設けられたテープキャリアを用いて下面に外部接続電
極が設けられた半導体装置を実装する半導体装置の実装
方法において、 前記半導体装置の外部接続電極を前記テープキャリアの
前記デバイスホールに突出した前記リードの一端に接続
して該半導体装置を該テープキャリアに搭載する工程
と、 前記半導体装置が搭載された前記テープキャリアを前記
実装用電極が設けられている外形に沿って切り抜く工程
と、 切り抜かれた前記テープキャリアを前記リード上の点を
中心として折り返す工程と、 前記半導体装置と折り返された前記テープキャリアとを
固定する工程とを含むことを特徴とする半導体装置の実
装方法。 - 【請求項14】 前記半導体装置が搭載された前記テー
プキャリア上にデバイスホールの1辺を斜辺とする直角
2等辺三角形状に電極を配置させる工程を含むことを特
徴とする請求項13記載の半導体装置の実装方法。 - 【請求項15】 実装用電極と該実装用電極に接続され
たリードと該リードの一端が突出するデバイスホールと
が設けられたテープキャリアを用いて下面に外部接続電
極が設けられた半導体装置を実装する半導体装置の実装
方法において、 前記半導体装置の外部接続電極を前記テープキャリアの
前記デバイスホールに突出した前記リードの一端に接続
して該半導体装置を該テープキャリアに搭載する工程
と、 前記半導体装置が搭載されたテープキャリアを前記実装
用電極が設けられている外形に沿って切り抜く工程と、 切り抜かれた前記テープキャリアと前記半導体装置とで
絶縁部材を挟み込むように該テープキャリアを前記リー
ド上の点を中心として折り返す工程と、 前記半導体装置と折り返された前記テープキャリアとを
固定する工程とを含むことを特徴とする半導体装置の実
装方法。
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