JPH10228111A5

JPH10228111A5 -

Info

Publication number: JPH10228111A5
Application number: JP1997032431A
Authority: JP
Filing date: 1997-02-17
Publication date: 2004-10-07
Anticipated expiration: 2017-02-17

Claims

下記一般式〔Ｉ〕で表されるエステル基を分子内に有する樹脂と活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
（式中、Ｒ₁は水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｒ₂、Ｒ₃は、同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は−Ａ−Ｒ₄を表し、Ｒ₂とＲ₃が結合して環を形成してもよい。
Ｒ₄は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ₄とＲ₂またはＲ₃とが結合して環を形成してもよい。
Ａは酸素原子または硫黄原子を表す。）
前記樹脂が、下記一般式〔II〕で示される繰り返し構造単位を含む樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
（式中、Ｒ₁〜Ｒ₄及びＡは請求項１に記載のものと同義である。Ｒ₅は水素原子またはメチル基を表す。Ｘは単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基の中から選ばれる１つの基もしくはそれら２つ以上を組み合わせた基を表す。）
前記樹脂が、更に脂肪族環状炭化水素部位を有する繰り返し構造単位を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
前記脂肪族環状炭化水素部位を有する繰り返し構造単位が、下記一般式[III] で示される繰り返し構造単位であることを特徴とする請求項３に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
（式中、Ｒ₅は請求項２に記載のものと同義である。Ｒ₆は１価の脂肪族環状炭化水素基を表す。）
前記脂肪族環状炭化水素部位を有する繰り返し構造単位が、下記一般式〔IV〕で示される繰り返し構造単位であることを特徴とする請求項３に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
（式中、Ｒ₅は請求項２に記載のものと同義である。Ｒ₇は２価の脂肪族環状炭化水素部位を含有する連結基を表す。Ｇは−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＣＯＯＲ₈もしくは−ＯＲ₈を表す。Ｒ₈は３級アルキル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、−ＣＨ₂ＯＲ₉もしくは−ＣＨ（ＣＨ₃）ＯＲ₉を表す。Ｒ₉はアルキル基を表す。）
請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするポジ型パターン形成方法。