JPH10239846A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 下記一般式〔Ｉ〕で表されるエステル基を分子内に有し、且つ酸の作用により分解しアルカリ溶液に対する溶解性が増加する樹脂と、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
   （式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₄ は、同じでも異なってもよく、水素原子又はアルキル基を表す。ｍは１又は２を表す。
2. 前記樹脂が、下記一般式〔II〕で示される単量体に相当する繰り返し構造単位を含み、且つ酸の作用により分解しアルカリ溶液に対する溶解性が増加する樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
   （式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₄ 及びｍは請求項１に記載のものと同義である。Ｒ₅ は水素原子またはメチル基を表す。Ａは単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基の中から選ばれる１つの基もしくはそれら２つ以上を組み合わせた基を表す。）
3. 前記樹脂が、更に脂肪族環状炭化水素部位を有する繰り返し構造単位を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
4. 前記樹脂が、更に酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する繰り返し構造単位を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするポジ型パターン形成方法。