JPH10232402A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶パネルを、ホットプレス法により、周辺
シールを損傷することなく、高い歩留りで製造できる液
晶パネルの製造方法を提供する。 【解決手段】液晶パネルを構成する基板の一に周辺シー
ルを形成する際に、液晶注入孔の他に別の開口部を脱気
用に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は一般に液晶表示装置
に関し、特に歩留りを向上させた液晶表示装置の製造方
法およびかかる方法で製造した液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は消費電力が少なく、特に携帯型の情報処
理装置の表示装置として広く使われている。一方、最近
では、従来のＣＲＴを置き換える、いわゆるデスクトッ
プ型の表示装置として液晶表示装置を使うことが試みら
れている。このようなデスクトップ用途の液晶表示装置
は、一般に大きな表示面積を有することが望まれる。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置を製造する場合、従来はシ
ールパターンを形成したガラス基板を対向するガラス基
板と真空中で貼り合わせ、加熱することによりシールパ
ターンを溶融させ、大気圧の作用で前記一対のガラス板
を溶融したシールパターンに圧迫することにより、所定
の厚さの液晶パネルを作製していた。しかしこの方法で
は、加熱を電気炉中において行うため、昇温がゆるやか
で、液晶パネルを量産する場合にタクトタイムを短縮す
ることが困難であった。

【０００３】これに対し、近年、対向するガラス基板を
ホットプレスにより押しつけて液晶パネルを形成する方
法が使われはじめている。この方法では、ガラス基板を
押さえる上下の定盤にヒータを組み込むことにより、基
板上のシールパターンを、短時間に直接的に加熱するこ
とが可能になり、タクトタイムを短縮し製造のスループ
ットを向上させることが可能になる。

【０００４】図１０は、従来のホットプレス装置を使っ
た液晶パネルの製造工程を示す。図１０を参照するに、
ホットプレス装置は、シールを挟んで重ね合わせた一対
のガラス基板よりなるガラス基板積層体１０を、緩衝層
１２を介して保持する下側定盤１１と、前記ガラス基板
積層体１０に上側から緩衝層１３を介して係合する上側
胎盤１４とよりなり、上下の定盤１１，１４にはそれぞ
れヒータ１１Ａ，１４Ａが組み込んである。

【０００５】従って、上側定盤１４を図１０中矢印で示
すように下側定盤１１に対して押圧し、ヒータ１１Ａ，
１４Ａを駆動することにより、前記ガラス基板積層体１
０を構成するガラス基板が、間に介在するシールパター
ンを介して互いに接合され、液晶パネルが得られる。先
にも説明したように、ガラス基板はヒータ１１Ａ，１４
Ａにより直接に加熱されるため、シールパターンの溶融
は短時間に生じ、その結果パネル製造のタクトタイムを
大きく短縮することが可能になる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】一方、先にも述べたよ
うに、液晶表示装置は、現在では携帯用の小型情報処理
装置のみならず、従来のＣＲＴを置き換えたデスクトッ
プ用途にも使われようとしている。このためには、個々
の液晶パネルの面積を大きくする必要があるが、ホット
プレス法により、このような大面積の液晶パネルを作製
しようとすると、ホットプレスの際に生じる脱気に起因
してシールパターンが破損する問題が生じることが発見
された。

【０００７】図１１（Ａ）〜（Ｃ）は、かかる従来のホ
ットプレス法を大面積液晶パネルの製造に適用した場合
に発生する問題を説明する。図１１（Ａ）を参照する
に、パネル領域２１Ａ上にカラーフィルタ（図示せず）
を担持するガラス基板２１が、図１０のホットプレス装
置の下側定盤１１上に、カラーフィルタが上側になるよ
うに保持され、さらに、ホットプレス装置の上側定盤１
２上には、パネル領域２２Ａに薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）アレイを担持する別のガラス基板２２が、ＴＦＴア
レイが下側になるように保持される。ガラス基板２１の
上側には、前記パネル領域２１Ａを囲むように、典型的
にはエポキシ樹脂よりなるシールパターン２１Ｂが形成
されており、図１１（Ｂ）に示すように、ホットプレス
装置上で基板２１と２２とを重ねると、シールパターン
２１Ｂが基板２１と２２との間に介在し、これらを互い
に離間させる。また、図１１（Ｂ）に示すように、基板
２１と２２との間には、シリカ球あるいはポリマー球よ
りなるスペーサ２３が配設される。

【０００８】シールパターン２１Ｂは、図１１（Ｂ）の
状態では幅が例えば０．３ｍｍ、高さが例えば１５μｍ
程度であるが、基板２２をホットプレス装置により、図
１１（Ｃ）に示すように基板２１に対して押圧した場
合、５〜１０秒で高さが例えば５．８μｍ程度まで減少
する。このため、図１１（Ｃ）のホットプレス工程で
は、基板２１と２２の間の空気を、短時間に効率的に脱
気する必要がある。

【０００９】図１１（Ａ）のシールパターン２１Ｂより
わかるように、シールパターンには，完成した液晶パネ
ルに液晶を導入するための液晶注入孔２１Ｃが形成され
ており、前記脱気はかかる液晶注入孔を介しても可能で
あるが、図１１（Ｃ）の工程のホットプレスは先に説明
したように高速でなされるため、基板サイズが大きく、
従って領域２１Ａ，２２Ａの面積が大きい場合、図１１
（Ｃ）に示すように、溶融したシールパターン２１Ｂが
脱気の際の圧力により破損したり、あるいは液晶注入孔
が破損してしまったりする問題が生じやすくなる。

【００１０】かかるシールパターン２１Ｂの破損の問題
には、シールパターンをホットプレスに先立って適当な
温度で予備的に硬化させるプリキュア工程を行うことで
対応しているが、従来、かかるプリキュア工程の温度は
非常に厳密に管理する必要があり（温度差が典型的には
±０．２°Ｃ以内）、液晶表示装置の歩留りを低下させ
る原因となっていた。プリキュア工程の温度を高くする
と、シールパターンの硬化が進行するため、かかるホッ
トプレスを行っても溶融したシールパターンが空気圧で
破損する問題は回避できるが、この場合にはホットプレ
スの途中でシールパターンが硬化してしまい、液晶セル
の厚さが所定の厚さに達しない場合が出てくる。このよ
うな液晶セルは、厚さが所定値を超えており、不良品と
なる。

【００１１】そこで、本発明は、上記の課題を解決した
液晶表示装置の製造方法、およびかかる製造方法で製造
された液晶表示装置を提供することを概括的課題とす
る。本発明のより具体的な課題は、ホットプレス法によ
り、一対の基板をシールパターンを介して接合して液晶
パネルを形成する際に、シールパターンを、液晶パネル
からの脱気を促進する構造に形成した液晶表示装置の製
造方法、およびかかる製造方法により製造された液晶表
示装置を提供することにある。

【００１２】本発明の別の課題は、ホットプレス法によ
り、一対の基板をシールパターンを間に介して接合し液
晶パネルを形成する際に、シールパターンを、シールパ
ターンのプレキュア工程において、プレキュア温度の管
理が厳密でなくてもよい液晶表示装置の製造方法を提供
することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題
を、請求項１に記載したように、第１の基板上に周辺シ
ールを形成する工程と、前記第１の基板の、前記周辺シ
ールを形成された側に、第２の基板を、前記周辺シール
が前記第１の基板と第２の基板との間に介在するように
配設する工程と、前記第１および第２の基板を接合する
工程とよりなる液晶表示装置の製造方法において、前記
周辺シールに、第１の開口部と、少なくとも一の別の開
口部とを形成することを特徴とする液晶表示装置の製造
方法により、または請求項２に記載したように、さら
に、前記第１の開口部より、前記第１の基板と第２の基
板との間の空隙に、液晶を注入する工程を含むことを特
徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法によ
り、または請求項３に記載したように、前記第１の開口
部は、前記周辺シールの第１の辺に形成され、前記別の
開口部は、前記周辺シールの別の辺に形成されることを
特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置の製造
方法により、または請求項４に記載したように、前記別
の開口部は、複数形成されることを特徴とする、請求項
１〜３のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置の製造
方法により、または請求項５に記載したように、前記接
合工程に先立って、前記周辺シールを、所定の最適温度
に対して１．５°Ｃ以内の精度の温度で予備硬化させる
工程を含むことを特徴とする請求項１〜４のうち、いず
れか一項記載の液晶表示装置の製造方法により、または
請求項６に記載したように、前記別の開口部は、前記接
合工程の後、樹脂で封止されることを特徴とする請求項
１〜５のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置の製造
方法により、または請求項７に記載したように、前記別
の開口部は、前記接合工程に伴う周辺シールの変形によ
り、自発的に閉鎖されるように形成されていることを特
徴とする請求項１〜５のうち、いずれか一項記載の液晶
表示装置の製造方法により、または請求項８に記載した
ように、前記別の開口部は、前記周辺シールが前記接合
工程で変形する範囲内に形成された、前記周辺シールと
実質的に同じ組成のパターンを含むことを特徴とする請
求項７記載の液晶表示装置の製造方法により、または請
求項９に記載したように、前記周辺シールは、前記第１
の基板上に複数個、各々が一の領域を囲むように形成さ
れていることを特徴とする請求項１〜８のうち、いずれ
か一項記載の液晶表示装置の製造方法により、または請
求項１０に記載したように、前記周辺シールは、前記第
１の基板上に複数個、各々が一の領域を囲むように形成
されており、前記別の開口部は、前記複数の周辺シール
の各々に形成されていることを特徴とする請求項１〜８
のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置の製造方法に
より、または請求項１１に記載したように、第１の基板
と、前記第１の基板に対向するように配設された第２の
基板と、前記第１の基板の、前記第２の基板に面する側
に配設された第１の電極手段と、前記第２の基板の、前
記第１の基板に面する側に配設された第２の電極手段
と、前記第１の基板上で前記第１の電極手段を覆う第１
の分子配向膜と、前記第２の基板上で前記第２の電極手
段を覆う第２の分子配向膜と、前記第１と第２の基板の
間に介在し、前記第１および第２の基板の間で閉空間を
画成する周辺シールと、前記閉空間を充填する液晶層と
よりなる液晶表示装置において、前記周辺シールには、
少なくとも２箇所に開口部が形成され、前記少なくとも
２箇所の開口部は樹脂で封止されていることを特徴とす
る液晶表示装置により、または請求項１２に記載したよ
うに、前記開口部は、前記周辺シールに形成された切欠
き部と、前記切欠き部に隣接して形成された、前記周辺
シールと実質的に同一組成の材料よりなる孤立したパタ
ーンとを含み、前記パターンは前記周辺シールと、接合
工程に伴う変形が生じた場合に前記周辺シールと前記パ
ターンとが重畳するような距離に形成されていることを
特徴とする請求項１１記載の液晶表示装置により、また
は請求項１３に記載したように、前記開口部は、前記周
辺シールに形成された切欠き部と、前記切欠き部に形成
された、前記周辺シールと実質的に同一組成の材料より
なる一又は複数の孤立パターンとを含み、前記孤立パタ
ーンは、前記周辺シールと、接合工程に伴う変形が生じ
た場合に前記周辺シールと前記パターンとが重畳するよ
うな距離に形成されていることを特徴とする請求項１１
記載の液晶表示装置により、解決する。

【００１４】以下、本発明の原理を図１を参照しながら
説明する。ただし、図１中、先に説明した部分には同一
の参照符号を付し、説明を省略する。図１（Ａ）を参照
するに、本発明では、液晶パネルの周辺シール２１Ｂ
に、液晶注入孔２１Ｃの他に別の開口部２１Ｄを形成す
る。開口部２１Ｃ，２１Ｄはホットプレスの段階では開
放されており、その結果図１（Ｂ）の状態から図１
（Ｃ）の状態に移行するホットプレス工程において、パ
ネル中の空気は開口部２１Ｃのみならず２１Ｄをも通っ
て脱出する。その結果、部分硬化した周辺シール２１Ｂ
に加わる応力が減少し、周辺シール２１Ｂが破損する等
の問題が回避される。また、シール２１に加わる応力が
減少するため、シールを部分硬化させるプレキュア工程
の熱処理を、従来のように厳密に実行する必要がなくな
り、液晶表示装置の製造歩留りが向上する。

【００１５】

【発明の実施の形態】図２は、本発明の第１実施例によ
る液晶パネル３０を構成するガラス基板３１上に形成さ
れる周辺シールの構成を示す。図２を参照するに、ガラ
ス基板３１は全体では４００×５００×０．７ｍｍの寸
法を有し、各々２００×２５０×０．７ｍｍの寸法の液
晶パネル領域ＡＡ，ＢＡ，ＡＢおよびＢＢが画成されて
いる。

【００１６】図示の基板３１上には、領域ＡＡ，ＢＡ，
ＡＢおよびＢＢの各々を囲むように、エポキシ樹脂より
なるシールパターン３２がディスペンサにより形成さ
れ、領域ＡＡ，ＢＡを画成するシールパターン３２の各
々には、通常の液晶注入孔３２Ａの他に、別の開口部３
２Ｂが、前記液晶注入孔３２Ａが形成された辺とは別の
辺に形成される。図示の例では、各々の液晶パネル領域
において、左辺および上辺は引き出し電極が形成される
ため、開口部は形成されない。また、図２の例では、パ
ネル領域ＡＢおよびＢＢを画成するシールパターン３２
には、前記別の開口部３２Ｂは形成されていない。

【００１７】シールパターン３２は典型的にはエポキシ
樹脂よりなり、未硬化状態では幅が約０．３ｍｍ、高さ
が約１５μｍに形成される。一方、開口部３２Ａは、典
型的には８ｍｍの長さに形成され、開口部３２Ｂは５〜
１０ｍｍ程度の長さに形成される。後の実施例で説明す
るように、開口部３２の長さが長い場合、開口部中に点
状にシールパターンを残して力学的安定性を向上させて
もよい。

【００１８】図２の基板３１上には、領域ＡＡ，ＢＡ，
ＡＢおよびＢＢに対応してそれぞれＴＦＴアレイおよび
協働する電極が形成され、さらにこれらを覆って分子配
向膜が形成される。基板３１は、さらに図３に示すカラ
ーフィルタを担持する対応ガラス基板３３上に重ね合わ
される。ただし、図３のガラス基板３３は、図２のガラ
ス基板３１に重ね合わされる際に左右を反転される。

【００１９】ガラス基板３１および３３は、先に図１０
で説明したホットプレス工程により接合される。ホット
プレス工程では、まず基板３１を所定の予備加熱温度、
例えば９５．３°Ｃに加熱し、シール３２を予備硬化さ
せる。このために、シール３２中には、所定の予備硬化
温度で分解し、触媒を放出する公知の化合物あるいは構
造が形成されている。さらに、このようにシール３２を
予備硬化させた基板３１を図１０のホットプレス装置上
に装着し、前記基板３３を基板３１上に左右反転させて
重ね合わせる。さらに、ホットプレス装置の上下定盤１
１，１４の温度を、ヒータ１１Ａ，１４Ａを駆動するこ
とにより１４０°Ｃに加熱し、同時に１．８トンの力で
上側定盤１４を下側定盤１１に押圧し、この状態を２分
間保持する。その後、温度をさらに１６０°Ｃに上昇さ
せ、加熱をさらに２分間継続することで、シール３２の
硬化が完了する。

【００２０】シール３２がこのように硬化した後、基板
３１，３３は、図２に示したスクライブラインＸ，Ｙに
沿って各々の液晶パネルＡＡ，ＢＡ，ＡＢ，ＢＢに切断
され、形成された各々の液晶パネルは、各々さらに前記
開口部３２ＢをＵＶ硬化型樹脂等の樹脂により封止した
後、前記開口部３２Ａから液晶が注入される。液晶が注
入された後、前記開口部３２Ａは封止され、さらに前記
基板３１および３３のそれぞれの外側面にポラライザお
よびアナライザが形成される。

【００２１】図４は、上記の工程を要約したフローチャ
ートである。図４を参照するに、ステップＳ１において
前記基板３１上にシールパターン３２が形成され、ステ
ップＳ２で所定の最適温度、典型的には９５．３°Ｃに
おいてシールパターン３２の予備硬化が行われる。ステ
ップＳ１では、シールパターン３２はＴＦＴアレイ等を
担持した基板３１上に形成されるが、カラーフィルタを
担持する対向基板３３上に形成してもよい。

【００２２】次に、ステップＳ３の工程で基板３１，３
３は相互に積層され、図１０に示したホットプレス装置
においてホットプレスされる。ホットプレスは、急速な
昇温が可能なように、基板３１，３３よりなる対を一組
ずつホットプレスする枚葉式ホットプレス法により行う
のが好ましく、先に説明した条件下で、シールパターン
３２を完全に硬化させる。また、ステップＳ３のホット
プレス工程は、必要に応じて真空中で行うこともでき
る。この場合も、シールパターン３２に開口部を複数形
成しておくことにより、排気の際の未硬化シールパター
ン３２の損傷が軽減できる。

【００２３】ホットプレスの後、ステップＳ４において
基板３１，３３は前記スクライブラインＸ，Ｙに沿って
切断され、ステップＳ５において、各々の液晶パネルの
排気口３２Ｂが樹脂により封止される。さらにステップ
Ｓ６において液晶が、前記開口部３２Ａを通って基板３
１，３３の間の空間に注入され、ステップＳ７において
前記開口部３２Ａを同様に樹脂により封止した後、ステ
ップＳ８において、基板３１，３３の外側面上にそれぞ
れポラライザおよびアナライザが形成される。

【００２４】図５は、このようにして形成された液晶表
示装置の一部を示す。図５よりわかるように、基板３１
上にはＴＦＴあるいは電極パターン３１Ａが形成され、
これを覆うように分子配向膜３１Ｂが形成されている。
一方、基板３３はＲＧＢの三原色フィルタ３３Ａを担持
し、隣接するフィルタ３３Ａの間には遮光膜３３Ｂが形
成される。さらに、フィルタ３３Ａおよび遮光膜３３Ｂ
を覆って別の分子配向膜３３Ｃが形成される。分子配向
膜３１Ｂと３３Ｃとの間には、シリカボール等のスペー
サ３４Ａにより空間が形成され、かかる空間に液晶が、
先に説明したように真空注入法等により注入され、液晶
層３４が形成される。また、基板３１，３３の周辺部に
は、前記周辺シール３２が形成されるが、周辺シール３
２はファイバスペーサ３２ａを含み、溶融状態において
も完全に流動することはない。

【００２５】さらに基板３１の下主面および基板３３の
上主面には、それぞれ図示は省略するが、ポラライザお
よびアナライザが、例えばクロスニコル状態で形成され
る。本発明では、ホットプレスの際に、脱気が液晶注入
に使われる開口部３２Ａ以外に開口部３２Ｂでも行われ
るため、部分硬化しただけの未硬化シールパターン３２
に加わる負荷が実質的に減少する。このため、従来はシ
ールパターン３２を部分硬化させる際に非常に厳密な温
度管理を必要としていたのが、本発明では、かかる温度
管理の精度が実質的に緩和される。

【００２６】以下の表１は、図２の構成の基板３１を使
って形成した液晶パネルについて、シールの良否と予備
加熱（プリキュア）温度との関係を、前記開口部３２Ｂ
を形成しない従来の場合と比較して示す。図２の構成で
は、液晶パネル領域ＡＡ，ＢＡにのみ前記開口部３２Ｂ
が形成され、液晶パネル領域ＡＢおよびＢＢには形成さ
れない。これに対し、表１中、「従来」と示したのは、
いずれの領域にも開口部３２Ｂは形成されない。表１の
例では、開口部３２Ａは先に説明したように８ｍｍの長
さを有し、一方開口部３２Ｂは１０ｍｍの長さに形成さ
れる。さらに開口部３２Ｂ中には、その中央部に径が１
ｍｍの点状領域がシール３２と同一の材料により、同一
の高さに形成されている。

【００２７】

【表１】

【００２８】表１よりわかるように、従来は、予備加熱
温度が最適値から１．２°Ｃ低下しただけでもシールの
劣化が生じるため、予備加熱温度は最適値から−０．８
°Ｃ以内、上下方向への誤差を考えると好ましくは±
０．２°Ｃ以内に管理する必要があったが、本発明によ
れば、予備加熱温度が最適温度から１．５°Ｃ低下して
も、シールの劣化は生じないことがわかる。上下方向へ
の温度誤差を考えても、本発明にでは、予備加熱温度は
±１．０°Ｃ以内の精度で行えばよい。

【００２９】以下の表２は、最適予備加熱温度が９５．
５°Ｃのシールを使い、前記開口部３２Ｂの長さを５ｍ
ｍとした場合のシールの良否と予備加熱（プリキュア）
温度との関係を示す。

【００３０】

【表２】

【００３１】表２中、「従来」と示したのは、表１の場
合と同様に、図２の基板３１においてパネル領域ＡＡ〜
ＢＢのいずれにも開口部３２Ｂを形成しなかった場合を
表し、この場合には予備加熱温度が前記最適温度９５．
５°Ｃからわずか０．４°下がっただけで、シールが不
良になることがわかる。これに対し、長さが５ｍｍの開
口部３２Ｂを、液晶パネル領域ＡＡ，ＢＡを画成するシ
ールパターン３２に形成した場合、予備加熱温度が最適
温度から−１．６°低下しても、シールに問題が生じな
いことがわかる。さらに、液晶パネル領域ＡＢ，ＢＢに
開口部３２Ｂを形成した場合にも同様な結果が得られ
る。すなわち、予備加熱温度が前記最適温度から１．２
°低下しても、シールに問題は生じない。

【００３２】以下の表３は、図４の工程Ｓ５において、
前記開口部３２ＢをＵＶ樹脂で封止する場合の、開口部
３２Ｂへの樹脂の進入速度を示す。

【００３３】

【表３】

【００３４】ただし、表３において、開口部３２Ｂは１
０ｍｍの長さを有し、中央に径が１ｍｍのシールパター
ン３２と同じ材質の点を、同じ高さに形成した場合につ
いてのものである。表３を参照するに、樹脂は塗布２分
後にはパネル端から０．５〜１．１ｍｍの位置まで到達
し、５分後にはシールの中央の、パネル端から０．８〜
１．５ｍｍの位置にまで到達する。さらに、１０分後に
は、樹脂はパネル端から１．５乃至１．８ｍｍの、シー
ルパターン３２の内側縁にまで達し、１５分後にはパネ
ル端から１．８〜１．９ｍｍの位置に形成された遮光マ
スクにまで到達する。

【００３５】表３の結果は、図４のステップＳ５におい
て、開口部３２Ｂの封止は１５分以内、好ましくは１０
分以内で完了する必要があることがわかる。かかる樹脂
の浸透は、例えば紫外線を照射して樹脂を固化するする
ことで停止する。表４は、様々な形状の開口部３２Ｂに
ついて、得られた液晶パネルの良不良をパネルの厚さお
よびシールリークの両面から検討した結果を示す。開口
部３２Ｂの長さは１０ｍｍおよび５ｍｍとし、長さを１
０ｍｍとした場合には、開口部中に径が１ｍｍの点を、
一個か二個、シールパターン３２と同じ材質・組成で、
また同一の高さに形成している。

【００３６】

【表４】

【００３７】表４よりわかるように、いずれの場合でも
シールリークは発生せず、得られた構造はシールパター
ンが損傷を受けていないことがわかる。一方、セル厚の
不良については、１０ｍｍの開口部３２Ｂに点を２個形
成したものが最も高く、不良率が８．３％に達した。一
方、開口部３２Ｂの長さを１０ｍｍとし、点を一個だけ
形成したものは不良率は２．５％まで減少したが、許容
限界のものが２１．８％に達した。これに対し、開口部
３２Ｂの長さを５ｍｍとした場合には不良は発生しなか
った。このことから、開口部３２Ｂは、長さを５ｍｍに
形成し、間に点状等の孤立パターンは形成しないのが好
ましいことがわかる。

【００３８】図６は、本発明の第２実施例による基板３
１’の構成を示す。ただし、先に説明した部分には同一
の参照符号を付し、説明を省略する。図６を参照する
に、基板３１’では、液晶パネル領域ＡＡ，ＢＡを画成
するシールパターン３２のみならず、ＡＢ，ＢＢを画成
するシールパターン３２にも前記開口部３２Ｂが形成さ
れている。その結果、図１０のホットプレス装置でホッ
トプレスを行う際にも、ガラス基板全体での脱気がさら
に迅速に進み、液晶表示装置製造のタクトタイムをさら
に減少させることができる。

【００３９】図７（Ａ），（Ｂ）は、それぞれ本発明の
第３実施例による開口部３２Ｂの構成を示す。ただし、
先に説明した部分には対応する参照符号を付し、説明を
省略する。図７（Ａ）を参照するに、開口部３２Ｂに対
応して、液晶パネル領域、例えば領域ＡＡの外側に、シ
ールパターン３２と同一の材質・組成で同一の高さの連
続パターン３２ｂを、前記シールパターン３２に沿って
平行に、ただしパターン３２から、パターン３２がホッ
トプレス工程で変形する際に拡がる領域内に含まれるよ
うに形成する。

【００４０】かかる構成によれば、図４の工程Ｓ３でホ
ットプレスを行った場合、溶融したシールパターン３２
が前記開口部３２Ｂにおいて、同様に溶融したパターン
３２ｂと融合し、自動的に開口部３２Ｂを封止するシー
ルが形成される。この場合、シールパターン３２および
パターン３２ｂが変形してシールを形成するまでには、
液晶パネル内の脱気は終わっており、脱気が妨げられる
ことはない。

【００４１】図７（Ｂ）は図７（Ａ）の変形例を示す。
図７（Ｂ）を参照するに、この構造では前記開口部３２
Ｂ中に、シールパターン３２と同一の材質・組成よりな
り、同一の高さの点状パターン３２ｂ’が形成される。
パターン３２ｂ’は、図４の工程Ｓ３でホットプレスを
行う場合、シールパターン３２と同時に変形し、前記開
口部３２Ｂを封止するシールを形成する。

【００４２】図７（Ａ）あるいは７（Ｂ）の構造では、
図４の工程Ｓ５の排気口３２Ｂを樹脂封止する工程が省
略でき、またこれに伴い表３で説明した、開口部３２Ｂ
への樹脂の進入の問題を回避することができる。図８
（Ａ），（Ｂ）は、本発明を適用した液晶表示装置の外
観およびその一部を示す。

【００４３】図８（Ａ）よりわかるように、各々の液晶
表示装置は、前記基板３１および３３を積層して形成さ
れており、さらにその一辺に、前記開口部３２Ｂを塞ぐ
樹脂ブロック３２Ｘを担持する。図８（Ｂ）は前記樹脂
ブロック３２Ｘを詳細に示す。図８（Ｂ）よりわかるよ
うに、樹脂ブロック３２Ｘは前記シールパターン３２に
形成された開口部３２Ｂを充填する。

【００４４】図４のホットプレス工程Ｓ３は、以上の説
明では空気中で実行されることになっているが、先にも
説明したように、真空中で実行することも可能である。
この場合、ホットプレス工程自体ではシールパターンの
損傷は元々生じないが、ホットプレスに先立つ真空脱気
工程を急激に行っても未硬化シールパターンが変形する
ことが回避され、液晶表示装置の製造スループットが向
上する。

【００４５】また、以上のいずれの実施例においても、
前記脱気のために設けられた開口部３２Ｂを液晶の注入
に使うことが可能である。さらに、液晶を、開口部３２
Ａ，３２Ｂの２箇所から同時に注入することも可能であ
る。先にも説明したように、開口部３２Ｂは液晶パネル
のうち、電極リードが設けられない辺に形成するのが有
利であるが、開口部３２Ｂの数はかかる辺あたり一個に
限定されるものではなく、図９に示すように複数個形成
することも可能である。ただし、図９中、先に説明した
部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。

【００４６】以上、本発明を好ましい実施例について説
明したが、本発明はかかる実施例に限定されるものでは
なく、特許請求の範囲に記載した要旨内において、様々
な変形および変更が可能である。

【００４７】

【発明の効果】請求項１に記載の本発明の特徴によれ
ば、第１の基板上に周辺シールを形成する工程と、前記
第１の基板の、前記周辺シールを形成された側に、第２
の基板を、前記周辺シールが前記第１の基板と第２の基
板との間に介在するように配設する工程と、前記第１お
よび第２の基板を加熱しながら加圧・接合する工程とよ
りなる液晶表示装置の製造方法において、前記周辺シー
ルに、第１の開口部と、少なくとも一の別の開口部とを
形成することにより、前記接合工程の際に前記第１およ
び第２の基板の間の空気を、速やかに、未硬化状態の周
辺シールを損傷することなく脱気することが可能にな
り、液晶表示装置製造のタクトタイムを短縮できると同
時に歩留りを向上させることができる。かかる本発明の
効果は、特に大面積の液晶表示装置を製造する際に顕著
に現れる。

【００４８】請求項２記載の本発明の特徴によれば、さ
らに、前記第１の開口部より、前記第１の基板と第２の
基板との間の空隙に、液晶を注入することにより、脱気
に使われた開口部を、液晶の注入に兼用することができ
る。請求項３記載の本発明の特徴によれば、前記第１の
開口部を、前記周辺シールの第１の辺に形成され、前記
別の開口部を、前記周辺シールの別の辺に形成すること
により、ホットプレスの際の脱気が特定の辺に集中する
のが回避され、安定した脱気が可能になる。

【００４９】請求項４記載の本発明の特徴によれば、前
記別の開口部を一の辺に複数形成することにより、脱気
の際の効率を向上させることが可能になる。請求項５記
載の本発明の特徴によれば、前記接合工程に先立って、
前記周辺シールを、所定の最適温度に対して±１．０°
Ｃ以内の精度の温度で予備硬化ことにより、シールの予
備硬化に当たり、従来必要であった非常に厳しい温度管
理が不要になり、液晶表示装置の製造スループットが上
昇すると同時に歩留りが向上する。

【００５０】請求項６記載の本発明の特徴によれば前記
別の開口部を、前記接合工程の後、樹脂で封止すること
により、通常の通り、第１の開口部を介して液晶の注入
が、従来の通常の設備を使って可能になる。請求項７，
８記載の本発明の特徴によれば、前記別の開口部を、前
記接合工程に伴う周辺シールの変形により、自発的に閉
鎖されるように形成することにより、前記開口部のシー
ル工程が省略できる。

【００５１】請求項９記載の本発明の特徴によれば、前
記周辺シールを、前記第１の基板上に複数個、各々が一
の領域を囲むように形成することにより、多数の液晶パ
ネルを、単一の接合工程で、同時に、効率的に、しかも
高い歩留りで製造することが可能になる。請求項１０記
載の本発明の特徴によれば、前記周辺シールを、前記第
１の基板上に複数個、各々が一の領域を囲むように形成
し、前記別の開口部を前記複数の周辺シールの各々に形
成することにより、多数の液晶パネルをまとめて接合す
る際の脱気効率を最大にすることができる。

【００５２】請求項１１記載の本発明の特徴によれば、
第１の基板と、前記第１の基板に対向するように配設さ
れた第２の基板と、前記第１の基板の、前記第２の基板
に面する側に配設された第１の電極手段と、前記第２の
基板の、前記第１の基板に面する側に配設された第２の
電極手段と、前記第１の基板上で前記第１の電極手段を
覆う第１の分子配向膜と、前記第２の基板上で前記第２
の電極手段を覆う第２の分子配向膜と、前記第１と第２
の基板の間に介在し、前記第１および第２の基板の間で
閉空間を画成する周辺シールと、前記閉空間を充填する
液晶層とよりなる液晶表示装置において、前記周辺シー
ルの少なくとも２箇所に開口部を形成し、前記少なくと
も２箇所の開口部を樹脂で封止することにより、液晶表
示装置を構成する大型の液晶パネルを、ホットプレス法
により、効率良く、しかも高い歩留りで製造することが
可能になる。

【００５３】請求項１２，１３記載の本発明によれば、
前記開口部を、前記周辺シールに形成された切欠き部
と、前記切欠き部に隣接して形成された、前記周辺シー
ルと実質的に同一組成の材料よりなる孤立したパターン
とより構成し、前記孤立パターンを前記周辺シールに対
して、接合工程に伴う変形が生じた場合に前記周辺シー
ルと前記パターンとが重畳するような距離に形成するこ
とにより、接合と同時に前記開口部を封止することが可
能になり、別に前記開口部を樹脂封止する工程が不必要
になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理を説明する図である。

【図２】本発明の第１実施例による液晶パネル基板の構
成を示す図である。

【図３】図２の基板と対で使われる対向液晶パネル基板
を示す図である。

【図４】本発明の第１実施例による液晶パネルの製造工
程を示すフローチャートである。

【図５】本発明の第１実施例による液晶表示装置の一部
を示す断面図である。

【図６】本発明の第２実施例による液晶パネル基板の構
成を示す図である。

【図７】本発明の第３実施例による開口部の構成を示す
図である。

【図８】本発明を適用いた液晶表示装置の外観を示す図
である。

【図９】本発明の一変形例を示す図である。

【図１０】従来のホットプレス工程を示す図である。

【図１１】従来のホットプレス工程に伴う問題点を説明
する図である。

【符号の説明】

１０ ガラス基板積層体 １１ 下側定盤 １１Ａ，１４Ａ ヒータ １２，１３ 緩衝層 １４ 上側定盤 ２１，２２，３１，３３ 基板 ２１，ＡＡ，ＢＡ，ＡＢ，ＢＢ 液晶パネル領域 ２１Ｂ，３２ 周辺シール ２１Ｃ，３２Ａ 液晶注入孔 ２１Ｄ，３２Ｂ 開口部 ２３，３４Ａ スペーサ ３１Ａ 電極 ３１Ｂ，３３Ｃ 分子配向膜 ３２ａ ファイバスペーサ ３３Ａ カラーフィルタ ３３Ｂ 遮光膜 ３４ 液晶層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長谷川 正 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 (72)発明者 岡元 謙次 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の基板上に周辺シールを形成する工
   程と、 前記第１の基板の、前記周辺シールを形成された側に、
   第２の基板を、前記周辺シールが前記第１の基板と第２
   の基板との間に介在するように配設する工程と、 前記第１および第２の基板を加熱しながら加圧・接合す
   る工程とよりなる液晶表示装置の製造方法において、 前記周辺シールに、第１の開口部と、少なくとも一の別
   の開口部とを形成することを特徴とする液晶表示装置の
   製造方法。
2. 【請求項２】 さらに、前記第１の開口部より、前記第
   １の基板と第２の基板との間の空隙に、液晶を注入する
   工程を含むことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装
   置の製造方法。
3. 【請求項３】 前記第１の開口部は、前記周辺シールの
   第１の辺に形成され、前記別の開口部は、前記周辺シー
   ルの別の辺に形成されることを特徴とする請求項１また
   は２記載の液晶表示装置の製造方法。
4. 【請求項４】 前記別の開口部は、複数形成されること
   を特徴とする、請求項１〜３のうち、いずれか一項記載
   の液晶表示装置の製造方法。
5. 【請求項５】 前記接合工程に先立って、前記周辺シー
   ルを、所定の最適温度に対して±１．０°Ｃ以内の精度
   の温度で予備硬化させる工程を含むことを特徴とする請
   求項１〜４のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置の
   製造方法。
6. 【請求項６】 前記別の開口部は、前記接合工程の後、
   樹脂で封止されることを特徴とする請求項１〜５のう
   ち、いずれか一項記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 【請求項７】 前記別の開口部は、前記接合工程に伴う
   周辺シールの変形により、自発的に閉鎖されるように形
   成されていることを特徴とする請求項１〜５のうち、い
   ずれか一項記載の液晶表示装置の製造方法。
8. 【請求項８】 前記別の開口部は、前記周辺シールが前
   記接合工程で変形する範囲内に形成された、前記周辺シ
   ールと実質的に同じ組成のパターンを含むことを特徴と
   する請求項７記載の液晶表示装置の製造方法。
9. 【請求項９】 前記周辺シールは、前記第１の基板上に
   複数個、各々が一の領域を囲むように形成されているこ
   とを特徴とする請求項１〜８のうち、いずれか一項記載
   の液晶表示装置の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記周辺シールは、前記第１の基板上
    に複数個、各々が一の領域を囲むように形成されてお
    り、前記別の開口部は、前記複数の周辺シールの各々に
    形成されていることを特徴とする請求項１〜８のうち、
    いずれか一項記載の液晶表示装置の製造方法。
11. 【請求項１１】 第１の基板と、前記第１の基板に対向
    するように配設された第２の基板と、前記第１の基板
    の、前記第２の基板に面する側に配設された第１の電極
    手段と、前記第２の基板の、前記第１の基板に面する側
    に配設された第２の電極手段と、前記第１の基板上で前
    記第１の電極手段を覆う第１の分子配向膜と、前記第２
    の基板上で前記第２の電極手段を覆う第２の分子配向膜
    と、前記第１と第２の基板の間に介在し、前記第１およ
    び第２の基板の間で閉空間を画成する周辺シールと、前
    記閉空間を充填する液晶層とよりなる液晶表示装置にお
    いて、 前記周辺シールには、少なくとも２箇所に開口部が形成
    され、前記少なくとも２箇所の開口部は樹脂で封止され
    ていることを特徴とする液晶表示装置。
12. 【請求項１２】 前記開口部は、前記周辺シールに形成
    された切欠き部と、前記切欠き部に隣接して形成され
    た、前記周辺シールと実質的に同一組成の材料よりなる
    孤立したパターンとを含み、前記パターンは前記周辺シ
    ールと、接合工程に伴う変形が生じた場合に前記周辺シ
    ールと前記パターンとが重畳するような距離に形成され
    ていることを特徴とする請求項１１記載の液晶表示装
    置。
13. 【請求項１３】 前記開口部は、前記周辺シールに形成
    された切欠き部と、前記切欠き部に形成された、前記周
    辺シールと実質的に同一組成の材料よりなる一又は複数
    の孤立パターンとを含み、前記孤立パターンは、前記周
    辺シールと、接合工程に伴う変形が生じた場合に前記周
    辺シールと前記パターンとが重畳するような距離に形成
    されていることを特徴とする請求項１１記載の液晶表示
    装置。