JPH10243941A - 画像再構成処理装置 - Google Patents
画像再構成処理装置Info
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- JPH10243941A JPH10243941A JP9050230A JP5023097A JPH10243941A JP H10243941 A JPH10243941 A JP H10243941A JP 9050230 A JP9050230 A JP 9050230A JP 5023097 A JP5023097 A JP 5023097A JP H10243941 A JPH10243941 A JP H10243941A
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Abstract
用を確立し、コーンビームを使用して撮影された画像の
正確な再構成を実現する。 【解決手段】コーンビームにより得られた投影データを
変則パラレルビームの投影データに変換し、Z軸方向の
歪みをリサンプリング処理により補正して、ボクセルへ
逆投影するもの。ボクセル列をX軸、Y軸に平行にし、
このボクセル列に平行なセンタリング面に投影データを
補正のための投影をしてから、ボクセル列に逆投影して
画像を再構成するもの。
Description
された円錐状のX線コーンビームを対象物に照射し、こ
の対象物を透過したX線を複数個のX線検出素子を1列
に配列した1次元X線検出器を複数列に配列した2次元
X線検出器により検出し、X線源と2次元X線検出器と
を対象物の回りを回転させて得られた検出データに基づ
いて、対象物の断層画像を再構成する画像再構成処理装
置に関する。
装置では、図25に示すように、X線源101からX線
ビームがファン状( 扇形状 )に放射されるファンビーム
を使用するものが知られている。このようなX線CT装
置は、X線源101から放射されたX線ビームを被写体
に照射し、この被写体を透過したX線( 透過X線強度 )
を、複数個のX線検出素子を扇状に1列に約1000チ
ャンネル配列したX線検出器102で検出してデータ収
集を行い、X線源101及びX線検出器102を被写体
の周囲を回転させながら、1回転する間に1000回程
度データ収集し( 1回のデータ収集を1ビューと称する
)、その収集されたデータに基づいて被写体のX線の透
過画像( 断層画像 )を再構成する。なお、FOV103
は、有効視野を示すものである。このファンビームを使
用したときの画像再構成式は、( 式1 )により算出され
る。
ムの再構成では、X線検出器から得られたデータに、再
構成すべきピクセルの位置に依存した重み付けを乗算し
て逆投影する必要があるので複雑な処理になる。すなわ
ち、図26に示すように、有効視野FOV103に対し
て再構成すべき画像を構成するピクセルが設定されてお
り、X線検出器102の各チャンネルで得られたデータ
を、重み付けとして焦点( X線源101のX線ビームの
放射点 )−ピクセル間距離 FpixelD(X) の2乗の逆数を
乗算して、該当するピクセルに逆投影する。なお、Fpix
elD は、Focus-Pixel-Distanceである。また、直接逆投
影する方法もあるが、この場合には極座標変換が必要と
なり複雑な計算になる。
装置では、現在のところ2種類の画像再構成法が考案さ
れている。1つの方法は、ファン−パラ変換法と呼ばれ
るものであり、これは、図27(a )及び図27( b )
に示すように、ファンビームによるX線検出器から得ら
れた投影データを並び替えかつ補間してパラレルビーム
投影データを作成( 変換を含む )し、これにより得られ
たデータを、従来のパラレルビームを使用したX線CT
装置で行われるように逆投影する方法である。データ変
換の計算と補間処理などが必要になる反面、逆投影時に
は、ファンビームのときの再構成ピクセル毎に異なった
重み付け処理などが不要で、1つのデータ( パラレルビ
ーム投影データ )をビーム路( パラレルビームとなると
きの放射点とX線検出器のチャンネルとを結ぶ直線 )の
全てのピクセルに逆投影すれば良いので処理が単純にな
る。
( a )及び図29に示すように任意の座標系xyについ
て、投影データ[Rf]( ψ,φ )と定義する。この
[Rf]( ψ,φ )は、被写体f( x,y )を( ψ,φ
)方向に線積分したもの( 仮定)ということを示す。ま
ず、この投影データ[Rf]( ψ,φ )に cosψを乗算
する。次に、その結果とフィルタ[1/(sinψの2乗
)]とのコンボリューションを行い。次に、その結果を
[d/( Rの2乗 )]で重み付けして、X線のパス通り
に逆投影する。なお、Rは逆投影する位置によって変動
する数値を持つ。以上によって得られた画像再構成式(
式2 )は、
示すように、任意の座標系xyについて、投影データ
[Rf]( s,θ )と定義する。この[Rf]( s,θ
)は、被写体( x,y )を( s,θ )方向に線積分した
もの( 仮定 )ということを示す。
とフィルタ[1/( sの2乗 )]とのコンボリューシ
ョンを180°あるいは360°にわたって繰り返して
行う。 次に、その結果をX線のパス通りに逆投影す
る。以上によって得られた画像再構成式は、
したファンビーム再構成法であり、その詳細は特開昭5
5−99240号に開示している。さらに一方、図30
に示すように、X線源201からX線ビームが円錐状に
放射されるコーンビームと、ファンビーム用検出器列を
Z軸方向にN列積み重ねたような、円筒面上に検出器の
素子(Mチャンネル×N列)を配列した2次元X線検出
器202とを使用して、X線透視画像を撮影するX線C
T装置が考案されている。
T装置における代表的なコーンビーム再構成(Feldkamp
再構成)は、下記の文献に開示されている。 "Practical cone-beam algorithm" L.A.Feldkamp, L.C.Davis, and J.W.Kress J. Opt. Soc. Am. A/Vol.1, No.6, pp.612-619/June 19
84 これは、数学的に厳密な再構成法であるファンビーム(2
次元平面内) 再構成アルゴリズム[ Filtered-Backproje
ction(フィルタ補正逆投影法) ] を、Z軸方向に拡張す
ることによって得られた近似的な3次元再構成アルゴリ
ズムである。
ームによるコンベンショナルスキャンを対象としてお
り,以下のステップからなる。なお、このコーンビーム
では、2次元的な画素としてのピクセルの代わりに、図
31に示すように、3次元的な画素としてのボクセルが
使用される。 1.投影データの重み付け 投影データに、Z座標に依存した項とcos 項を乗算す
る。 2.コンボリューション演算 1の処理により得たデータと、ファンビームと同じ再構
成関数とのコンボリューション演算を行う。 3.BackProjection(逆投影) 2の処理により得たデータを、X線が通過した( 焦点か
ら検出器のチャンネルまでの) パス上に逆投影する。す
なわち、焦点から逆投影するボクセルを通る直線が検出
器面と交差する点を計算し、その点の周囲の2の処理の
データから逆投影するデータを補間などで作成し、それ
をFvoxelD(X)の2乗の逆数で重み付けして逆投影する。
この逆投影は360°( 1回転 )にわたって行なう。
ると、下記となる。なお、 FvoxelD(X)=Focus-Voxel-Di
stanceは、焦点−ボクセル間の線分をコーンビームのMi
dplane面( に平行な面 )に射影した線分の長さである。
式 )( 式4 )について、式上ではファンビーム再構成と
非常に似ているが、Data-Back の逆投影方法が大きく異
なることを説明する。
は、図32に示すように、再構成面内の全画素(ピクセ
ル)に対して1 次元に配列された検出器のデータから逆
投影するのに対し、コーンビーム(Feldkamp)再構成にお
いては、図33に示すように、焦点と再構成するボクセ
ル(voxel) を結んだ直線が2次元のX線検出器面と交差
する点を求め、その交差点に関与する検出器素子から得
られるデータをその直線上に位置する全てのボクセルに
逆投影する。従って、コーンビーム再構成で、ファンビ
ーム再構成のようにある面を再構成する場合には、特定
の検出器列かつチャンネルのデータが再構成面の一部の
ボクセルにのみ逆投影されるため、各ボクセルに対して
逆投影するデータ(検出器列と検出器チャンネル)を選
択する必要があるので、再構成ボクセルと焦点を結んだ
直線とX線検出器面の3次元的な位置関係が重要にな
る。しかも、Z座標が同じ検出器列を考え、その検出器
素子と焦点を結んだ直線を考えた場合、ある面( 再構成
面 )においてそれらの直線が通過するボクセルは、焦点
を中心とした検出器面の相似図形(円筒検出器の場合、
同心円)上に並ぶため、この位置関係の計算は非常に複
雑になる。
のX線CT装置において、コーンビーム及び2次元的な
X線検出器を使用した場合、画像の再構成ではその計算
が複雑で膨大な量になり、一般的に普及しているコンピ
ュータ等では処理時間が長くかかり過ぎて実現できない
という問題があった。そこでこの発明は、コーンビーム
におけるファン−パラ変換法の適用を確立し、コーンビ
ームを使用して撮影された画像の正確な再構成を実現す
ることができる画像再構成処理装置を提供することを目
的とする。
X線源から放射された円錐状のX線コーンビームを対象
物に照射し、この対象物を透過したX線をX線検出素子
を1列に配列した1次元X線検出器を複数列に配列した
2次元X線検出器により検出し、X線源と2次元X線検
出器とを対象物の回りを回転させて得られた検出データ
に基づいて、対象物の断層画像を再構成する画像再構成
処理装置において、X線源と2次元X線検出器の所定の
角度分の回転により得られた検出データから、X線源か
ら2次元X線検出器へのビームがX線源及び2次元X線
検出器の回転軸方向成分を無視して対象物への透過角度
が平行であった変則パラレルビームの検出データを透過
角度毎に収集して処理する変則パラレルデータ変換手段
と、この変則パラレルデータ変換手段により収集処理さ
れた変則パラレルビームの検出データに基づいて対象物
の断層画像を再構成するパラレル再構成手段とを設けた
ものである。
れた円錐状のX線コーンビームを対象物に照射し、この
対象物を透過したX線をX線検出素子を1列に配列した
1次元X線検出器を複数列に配列した2次元X線検出器
により検出し、X線源と2次元X線検出器とを対象物の
回りを回転させて得られた検出データに基づいて、対象
物の断層画像を再構成する画像再構成処理装置におい
て、X線源と2次元X線検出器の所定の角度分の回転に
より得られた検出データから、X線源から2次元X線検
出器へのビームがX線源及び2次元X線検出器の回転軸
方向成分を無視して対象物への透過角度が平行であった
変則パラレルビームの検出データを透過角度毎に収集し
て処理する変則パラレルデータ変換手段と、この変則パ
ラレルデータ変換手段により収集処理した変則パラレル
ビームの検出データに対して回転軸方向の歪みを補正す
る変則パラレルデータ補正手段と、この変則パラレルデ
ータ補正手段により補正された変則パラレルビームの検
出データに基づいて対象物の断層画像を再構成するパラ
レル再構成手段とを設けたものである。
明において、変則パラレルデータ補正手段は、変則パラ
レルデータ変換手段により収集処理された検出データの
検出位置を、パラレルビームの透過角度に応じて回転軸
方向の位置について再配置するリサンプリング処理を行
うものである。請求項4対応の発明は、請求項2及び請
求項3のいずれか1項対応の発明において、変則パラレ
ルデータ補正手段は、逆投影する空間画素としてのボク
セルの列を所定の固定軸に平行に設定し、このボクセル
列に対して平行な変則パラレルビームの焦点の軌道を想
定し、この軌道に対して平行な面に変則パラレルデータ
変換手段により収集処理した変則パラレルビームの検出
データを予め設定されたセンタリング面へ回転軸方向の
歪みを補正する前処理としての投影を行う類似センタリ
ング処理を行うものである。
項4のいずれか1項対応の発明において、X線源及び2
次元X線検出器を対象物の回りを回転軸方向に移動させ
ずに回転させるコンベンショナルスキャンにより検出デ
ータを得るものである。請求項6対応の発明は、請求項
1乃至請求項4のいずれか1項対応の発明において、X
線源及び2次元X線検出器を対象物の回りを回転軸方向
に移動させながら回転させるヘリカルスキャンにより検
出データを得るものである。請求項7対応の発明は、請
求項1乃至請求項6のいずれか1項対応の発明におい
て、パラレル再構成手段により再構成された断層画像に
対するアーチファクト及び線質硬化の補正を中央断面定
理を使用して補正するものである。
項6のいずれか1項対応の発明において、パラレル再構
成手段により再構成された断層画像に対するアーチファ
クト及び線質硬化の補正を2次元中央断面定理を使用し
て2次元画像として補正するものである。
態( コンベンショナルスキャンの場合 )を図1乃至図1
5を参照して説明する。この発明の実施の形態で使用さ
れるコーンビーム再構成式は、
ムの再構成式を見かけ上のコーン角について拡張した近
似式である。( 式3 )にコーンビーム再構成式としての
( 式6)と同じ補正項を加え、逆投影処理を3次元変則
パラレルビーム逆投影処理としたものである。
理装置を搭載したX線CT装置の概略の構成を示すブロ
ック図である。投影データ測定系としてのガントリ( 架
台 )1は、扇形状のファンビームのX線束を発生するX
線源3と、2次元アレイ型の2次元X線検出器5とを収
容する。前記X線源3と前記2次元X線検出器5とは、
寝台6のスライド天板に載置された被検体を挟んで対向
した状態で回転リング2に装備される。
( 1000チャンネル )の検出素子を1次元的に1列に
配列して構成したものを6列( 6セグメント )に積層し
たもので、前記回転リング2に実装される。ここで、1
つの検出素子は1チャンネルに相当するものと定義す
る。前記X線源3からのX線はX線フィルタ4を介して
被検体に曝射される。被検体を通過したX線は前記2次
元X線検出器5で電気信号として検出される。
を供給する。この高圧発生器7はトリガ信号を受けたタ
イミングで前記X線源3に高電圧を印加する。これによ
りX線源3からはX線が曝射される。架台寝台制御器9
は、前記ガントリ1の前記回転リング2の回転と、前記
寝台6のスライド天板のスライドとを同期して制御す
る。システム全体の制御部本体としてのシステム制御器
10は、必要に応じて被検体から見て前記X線源3が螺
旋軌道を移動するいわゆる連続回転( 例えばヘリカルス
キャン )を実行できるように、前記X線制御器8と前記
架台寝台制御器9を制御する。
速度で連続回転し、前記寝台6のスライド天板が一定の
速度で移動し、前記X線源3から連続的又は一定角度毎
に間欠的にX線が曝射される。前記2次元X線検出器5
からの出力信号は、チャンネル毎にデータ収集部11で
増幅され、ディジタル信号に変換される。このデータ収
集部11から出力される投影データは、再構成処理部1
2に取り込まれる。
づいてボクセル毎にX線吸収率を反映した逆投影データ
を求める。ファンビームを使用した連続回転方式のX線
CT装置において、有効視野( FOV、撮影領域 )は、
連続回転の回転中心軸を中心として円筒形状となり、再
構成処理部12は、この有効視野に複数個のボクセル(
3次元的に配置された画素)を規定し、2次元X線検出
器5からの投影データから各ボクセルの逆投影データを
求める。この逆投影データに基づいて作成された3次元
画像データ又は断層像データは表示装置13に送られ3
次元画像又は断層像としてビジュアルに表示される。
オメトリは、 検出器列数 M列 ( X線検出素子列 ) チャンネル数 Nチャンネル 各列のZ軸方向の高さ Dmm、 ( 回転中心でのスライス厚 ) 焦点−回転中心間距離 FCD(Focus-center-Distance ) 焦点−検出器間距離 FDD(Focus-Detector-Distance ) 有効視野直径 FOV(Field of View ) ファン角 α コーン角 β となっている。
ついて説明する。なお、この第1の実施の形態では、コ
ンベンショナルスキャンの場合について説明し、後述す
る第2の実施の形態ではヘリカルスキャンの場合につい
て説明する。 ( 1 ) 変則コーンビーム・パラレルビーム変換を行
い、歪み補正を行い、変則パラレルビーム逆投影する。 ( 2 ) リサンプリング面をボクセル列と平行にする。 ( 3 ) ボクセル列をある軸に平行にする( 変形例記載
のセンタリング類似法 )。
して、ファン・パラ変換法と同様な方法を適用した場
合、図3( a )に示すように、Z軸方向から円筒形のF
OVを観察すると、コーンビームでもファンビームでも
同じように見えるので、チャンネル方向のパラレルビー
ムへの変換はファン・パラ変換法で実施できる。ファン
角をαとすると、焦点位置Fsのチャンネル角度ψs=
( α/2 )、焦点位置Feのチャンネル角度ψe=−ψ
s=−( α/2 )である。このときの焦点位置Fsの焦
点角度φs=θ+( α/2 )、焦点位置Feの焦点角度
φe=θ−( α/2 )である。焦点位置Fs、つまり、
図3( b )に示すように、焦点位置Fsの焦点角度φs
=θ+( α/2 )でのチャンネル角度ψs=( α/2 )
のビームから、焦点位置Fiの焦点角度φi=θ+ψi
でのチャンネル角度ψiのビームを順に、焦点位置F
e、つまり、焦点位置Feの焦点角度φe=θ−( α/
2 )でのチャンネル角度ψe=−( α/2 )のビームま
でを集めて、位相θのパラレルビームとする。
変化に伴い歪みが生じる。位相θのパラレルビームに垂
直な面P( 図3( b )では直線により表現されている。
以下この垂直な面を位相θの中央断面と称する )を考え
ると、焦点位置Fsを通る位相θの中央断面( 直線に沿
った断面 )は図4( a )のようになる。同様に焦点位置
Fiでは図4( b )、焦点位置Fcでは図4( c )、焦
点位置Feでは図4(d )のようになる。なお、図4で
は、X線のミッドプレーン(Midplane)の上の部分につい
てのみ図示しているが、ミッドプレーンの下の部分につ
いても同様である。
と検出器間の距離はFDDで一定であり、照射するX線
ビームのコーン角もβで一定であるのに対し、焦点位置
Fxと位相θの中央断面間の距離Lxは焦点位置に応じ
てチャンネル角度ψxの関数 cosψxでLs、Li、L
c、Leと変化する。すなわち、焦点位置FxからFO
Vの中心までの距離をFCDとすると、図3を参照し
て、距離Ls=FCD・ cosψs=FCD・ cos( α/
2 )=距離Leである。距離Li=FCD・ cosψi、
距離Lc=FCD・ cosψcである。ここで、ψc=0
であるから、距離Lc=FCDである。
ーン角度βが異なる。すなわち、焦点位置Fsでの見か
け上のコーン角度βsについて、すなわち、焦点位置F
eでの見かけ上のコーン角度βeについて、 tanβs=( H/Ls )=( H/[FCD・ cos( α/
2 )] )= tanβe が成立する。また、焦点位置Fiでの見かけ上のコーン
角度βiについて、 tanβi=( H/Li )=[H/( FCD・ cosψi
)]、 焦点位置Fcでの見かけ上のコーン角度βcについて、 tanβc=( H/Lc )=( H/FCD )が成立する。
さは、焦点位置Fsでの検出面高さ Zs=FDD・ tanβs=( FDD/FCD )・[H/
cos( α/2 )]=Ze であり、焦点位置Fiでの検出面高さZiは、 Zi=FDD・ tanβi=( FDD/FCD )・( H/
cosψi )、 焦点位置Fcでの検出面高さZc=FDD・ tanβc=
( FDD/FCD )・Hである。その結果、各中央断面
に高さHの格子状の物体が存在する場合を想定すると、
円筒形2次元X線検出器では、位相θにおけるZ軸方向
に広がりを持った投影データは、図5に示すように非線
形な歪みを生じてしまう。
場合には、図6に示すように、さらに大きな歪みが生じ
ることになる。すなわち、焦点位置と平面形2次元X線
検出器との間の距離の最小値をFDDoとする。焦点位
置から角度ψiのX線が到達する検出器までの距離FD
D( ψi )は、 FDD( ψi )=( FDDo/ cosψi )であり、焦点位置での 検出面高さZ( ψi )=FDD( ψi )・ tanβi =( FDDo/ cosψi )・[H/( FCD・ cosψi )] =( FDDo/FCD )・[H/(cosψi・ cosψi )] となる。
影データにおけるチャンネル方向のサンプリングピッチ
を均等にするためには、以下の3つの方法がある。 1.サンプリングピッチが均等になるように、もともと
のコーンビームでの投影データ収集のピッチ( ビューの
ピッチ及びチャンネル方向のピッチ )を変則にする。 2.コーンビームの投影データからパラレルビームの投
影データを生成する際に、コーンビームの投影データ間
( 2ビュー×1チャンネル、又は1ビュー×2チャンネ
ル、又は2ビュー×2チャンネル )で補間して均等ピッ
チの投影データを計算する。 3.抜き出した位相θのパラレルビームをチャンネル方
向に補間して均等ピッチの投影データを計算する。
られた均等なパラレルビームに対して歪み補正処理( リ
サンプリング処理 )を行う。パラレルビームの歪みはス
ライス方向( Z軸方向 )のみに生じるので、投影データ
をスライス方向に等間隔なデータになるようにリサンプ
リングを行う。図7、図8、図9及び図10には、再構
成画像Z0の再構成に必要なデータの領域を、6列にリ
サンプリングする例を示した。リサンプリングピッチ及
びリサンプリング数は任意であるが、リサンプリングピ
ッチは小さくリサンプリング数は大きい方がより効果的
に非線形な歪みを補正することができる。これによっ
て、位相θに垂直な直線n上( 図11参照 )を焦点が移
動したときに得られる三角形状のビーム( 歪み補正付き
変則パラレルビーム )による投影データが得られる。
られたリサンプリングデータに補正項を乗算する。第4
処理工程としては、チャンネル方向のコンボリュ−ショ
ン処理を行う。これは従来の2次元再構成と同じ処理で
ある。最終工程としては、変則パラレルビーム逆投影処
理を行う。変則パラレルビーム逆投影処理は図11に示
すように、X線焦点Fcから逆投影するボクセル列まで
の距離をLiとすると、Zi=( FDD/Li )・Z0
によってボクセル列ごとにどのリサンプリングデータを
逆投影するかを決定し、そのまま逆投影する。これによ
って3次元逆投影ができる。
成を示すブロック図である。再構成処理部12は、画像
再構成制御部21、変則パラレルビーム逆投影処理部2
2及びメモリ23等を備えている。前記画像再構成制御
部21は、前記メモリ23からデータ( 収集データ )を
読出して変則パラレルビームを作成し、リサンプリング
処理による歪み補正後、補正項との乗算、コンボリュー
ションなどの所定の処理を行い、その処理したデータを
前記変則パラレルビーム逆投影処理部22へ出力する。
さらに、前記画像再構成制御部21は各ボクセル列に逆
投影するリサンプリング列を決定し、処理したデータを
前記変則パラレルビーム逆投影処理部へ出力する。
は、前記画像再構成制御部21から入力されたデータと
逆投影するリサンプリング列にしたがって、所定の領域
に逆投影処理を行い、その結果を前記メモリ23のデー
タ記憶部23-1に記憶する。逆投影時に複数のリサンプ
リング列のデータを重み付け加算しても良い。なお、こ
の第1の実施の形態では、チャンネル方向のファン・パ
ラ変換とスライス方向の歪み補正とを別々に行う方法で
説明したが、この発明はこれに限定されるものではな
く、これを2ビュー×2チャンネルの4点補間などで1
回の処理で行い、コーンビーム投影データから歪み補正
付き変則パラレルビーム投影データを得ても良い。こう
することにより、画像再構成処理の処理速度をより高速
にすることができる。
ンタリング類似法について説明する。図11に示したよ
うな変則パラレルビームの逆投影処理では、リサンプリ
ングデータ列とボクセル列とを平行に設定したので、ボ
クセル列に逆投影するリサンプリングデータは、ボクセ
ル列毎に固定のリサンプリング列から抜き出せるので、
リサンプリング列の選択は容易であるが、ボクセル列は
位相θにしたがって回転してしまうので、逆投影するボ
クセルを決定するのは困難になる。
してもボクセル列をX軸あるはY軸などのある軸( 固定
軸 )に平行なもの( ボクセルはFOVを含んでいるが、
位相の変化に対応して傾き、正立方体となるのは90°
間隔の4位相のみ )とし、そのボクセル列に平行な直線
n´( 仮想的なパラレルビームのX線源( 焦点 )の軌道
)に平行なリサンプリング面を想定して、コーンビーム
投影データを変則コーンビーム・パラレルビーム変換処
理して、そのリサンプリング面上に第2の変則パラレル
ビーム投影データを得る( 類似センタリング処理 )。こ
れは、直線n´上を焦点Fが移動したときに得られる第
2の変則パラレルビームによる投影データである。これ
を図13に示すように逆投影する。この方法によれば、
逆投影するボクセルの選択とリサンプリングデータの選
択との両方が容易になり、さらに逆投影処理速度を高速
化することができる。
の再構成画像Aに対して位相φのときの想定されるパラ
レルビームの焦点( φ )は軌道B上を移動する。再構成
画像Aの焦点側辺VE( φ )及び2次元X線検出器側辺
VS( φ )の投影データは、2次元X線検出器5の検出
器面CにおいてVce( φ,s )及びVcs( φ,s )とと
して検出される。これは類似センタリング処理( ボクセ
ル列に平行な直線n´に平行なリサンプリング面を想定
する処理 )を行わなければ、図15( a )に示すよう
に、投影データVce( φ,s )及びVcs( φ,s )は検
出器列と平行とはならず、再構成画像Aの投影データは
歪んだ四角形として検出されるため、逆投影処理が複雑
になり逆投影処理速度を低下させる原因になる。一方、
類似センタリング処理を行った場合には、図15( b )
に示すように、投影データVce( φ,s )及びVcs(
φ,s )は共にセンタリング列に対して平行となり、こ
のセンタリング面Dにおける再構成画像の投影データは
正確に平行四辺形となるので、逆投影処理速度の高速化
を図ることができる。ボクセル列とリサンプリングデー
タをある軸に平行にする方法は、特願平8−1015号
「画像再構成処理装置」に記載されている方法を応用す
れば良い。
ビームをパラレルビームに変換したときに投影データに
生じる非線形の歪みを補正処理として別途時間をかけて
補正するようになっていたが、画像再構成制御部21が
歪みを考慮して逆投影するデータをチャンネル毎に決定
し、その結果を変則パラレルビーム逆投影処理部22に
与えてやれば、逆投影処理で同時に歪み補正処理を行う
ことができる。これによれば、逆投影処理にかかる時間
は長くなると推測されるが、歪み補正処理だけを行う時
間を省略することができるので、逆投影処理で同時に歪
み補正処理を効率的に行うことができれば、画像再構成
処理全体の処理速度を高速化することができる。なお、
この第1の実施の形態では、図4乃至図6、図8乃至図
11、図13においてコーンビームのMidplane( Z=0
)の上半分の画像再構成処理について説明したが、コー
ンビームのMidplaneの下半分の画像再構成処理について
も対照的に処理すれば同様にして画像を再構成すること
ができる。
図24を参照して説明する。前述の第1の実施の形態で
はコンベンショナルスキャンの場合について説明した
が、この第2の実施の形態ではヘリカルスキャンの場合
について説明する。この第2の実施の形態のヘリカルス
キャンの場合も、前述の第1の実施の形態のコンベンシ
ョナルスキャンの場合と基本的に同じであるが、異なる
点は、変則コーンビーム・パラレルビーム変換処理と歪
み補正処理だけであり、その後の補正項の乗算処理、チ
ャンネル方向のコンボリューション処理、変則パラレル
ビーム逆投影処理は同じである。
態は図3( a )及び図3( b )に示す状態と同じである
ので、チャンネル方向のコーンビーム・パラレルビーム
変換は、第1の実施の形態と同じ2次元のファン・パラ
変換処理と同じ処理である。しかし、焦点Fは、コンベ
ンショナルスキャンの場合では同一円周軌道上を移動す
るのに対して、ヘリカルスキャンの場合では螺旋軌道上
を移動するので、位相θの変則パラレルビームを得るの
に必要な焦点角度Fs〜( Fi )〜Fc〜Feにおい
て、焦点Fが、 ( I ) その全域にわたって再構成画像面( Z軸座標=
ZI )より下側の場合。 ( II ) その全域にわたって再構成画像面( Z軸座標=
ZI )より上側の場合。 ( III) 再構成画像面( Z軸座標=ZI )の下側から上
側へ遷移する場合。 ( IV ) 再構成画像面( Z軸座標=ZI )の上側から下
側へ遷移する場合。 の4通りに分類される。ところで、焦点角度φiにおけ
る焦点位置FiのZ座標Z( φi )は、 Z( φi )=Z0+[( φi/360 )・HP] で与えられる。なお、HPはヘリカルピッチである。
の場合には2次元X線検出器5の上半面側で、再構成画
像が検出される( 投影データが収集される )ことにな
る。再構成画像のZ軸座標をZ=ZI( 一定 )とする
と、図16及び図17に示すように、最初のビームにな
る焦点位置Fsでは、そのZ軸座標Zs=Z( φs )か
ら見た再構成画像の相対的Z軸座標は、dZ=ZI−Z
( φs )であり、最後のビームになる焦点位置Fe( Z
軸座標Ze=Z( φe ) )では、dZ=ZI−Z( φe
)である。さらに途中のビームの焦点位置FI( Z軸座
標Zi=Z( φi ) )では、dZ=ZI−Z( φi )で
ある。このヘリカルスキャンの場合は、前述の第1の実
施の形態のコンベンショナルスキャンの場合に比べて、
投影データの非線形の歪みがより大きく、焦点角度φに
応じて必要な投影データが存在する位置及び範囲の領域
が変化していることが判る。なお、As付近の投影デー
タは実際には得られないので、外挿補間処理によって投
影データを計算から得ている。
きい投影データに対して、図18に示すように、前述の
第1の実施の形態で説明したようなリサンプリング処理
を行って、歪みの補正処理を行う。以降の補正項の乗算
処理、チャンネル方向のコンボリューション処理及び変
則パラレルビーム逆投影処理は、前述の第1の実施の形
態と同様なのでここではその説明は省略する。
の場合には2次元X線検出器5の下半面側で再構成画像
が検出される( 投影データが収集される )ことになる。
この( II )の場合では、前述の( I )の場合のZ軸方向
について鏡像的に反転した領域の投影データとなる。す
なわち、A( As、Ai、Ac、Ae )とB(Bs、B
i、Bc、Be )とが反転した領域の投影データとな
る。従って、( I )の場合と同様に歪み補正処理を行
う。
の場合には2次元X線検出器の上半面側から下半面側へ
検出領域が移動することになる。変則コーンビーム・パ
ラレルビーム変換は、図19、図20、図21に示すよ
うに、焦点Fが再構成画像を横切る焦点角度をφi、(
Fi )とすると、焦点位置Fsから焦点位置Fiまで
は、画像の焦点側のボクセルに相当するAs〜Aiが上
側で、画像の2次元X線検出器側のボクセルに相当する
Bs〜Biが下側となり、焦点位置Fiでは全ての画像
のボクセルが1つの投影データとなってAiとBiとは
同じとなる。さらに、焦点位置Fiから焦点位置Feま
では、Ai〜Aeが下側で、Bi〜Beが上側となって
反転している。従って、この( III)の場合における歪み
補正処理では、リサンプリング処理と上下反転処理を行
って図22に示すような歪み補正付き変則パラレルビー
ム投影データを得る。以降の補正項の乗算処理、チャン
ネル方向のコンボリューション処理及び変則パラレルビ
ーム逆投影処理は、前述の第1の実施の形態と同様なの
でここではその説明は省略する。
II )の場合と同じように、( III)の場合のZ軸方向につ
いて鏡像的に反転した領域の投影データとなる。すなわ
ち、2次元X線検出器の下半面側から上半面側へ検出領
域が移動することになる。そして焦点位置Fsから焦点
位置Fiまでは、As〜Aiが下側で、Bs〜Biが上
側となり、焦点位置Fiでは、AiとBiとは同じにな
る。さらに、焦点位置Fiから焦点位置Feまでは、A
i〜Aeが上側で、Bi〜Beが下側となって反転して
いる。従って、処理の方法も( III)と同じである。
て、ヘリカルスキャンにおいても変則コーンビーム・パ
ラレルビーム変換による変則パラレルビーム逆投影を行
うことによって、3次元画像再構成を行うことができ
る。再構成制御装置は位相θに応じて( I )〜( IV )の
うちの該当する場合を判断し、この該当する場合にした
がって変則コーンビーム・パラレルビーム変換を行い、
リサンプリング処理( 必要ならば上下反転処理を併用す
る )、歪み補正処理、補正項の乗算、チャンネル方向の
コンボリューション処理、変則パラレルビーム逆投影処
理を行って、3次元画像再構成を行う。
図24を参照して説明する。変則コーンビーム・パラレ
ルビーム変換から変則パラレルビーム逆投影処理の後、
中央断面定理を使用してアーチファクト( 線質硬化を含
む )に対する補正を行う。中央断面定理は、「ある画像
の位相θへのパラレルビームの投影データの1次フーリ
エ変換は、元の画像の2次元フーリエ変換像を対応する
角度θで切断した中心断面の分布に等しい。」というも
のである。すなわち、図23に示すように、実空間にお
ける画像31の位相θ方向へのパラレルビームを考え、
そのパラレルビームにより得られる投影データ32につ
いて、その1次元フーリエ変換したデータは、図24に
示すように、画像31の周波数空間における2次元フー
リエ変換像33を対応する角度θで切断した中心断面の
分布34と等しい。従って、この中心断面の分布34を
1次元逆フーリエ変換すれば、投影データ32が得られ
ることになる。
元フーリエ変換し、ある角度θで切断した中心断面の分
布を求め、この中心断面の分布を1次元逆フーリエ変換
すれば、画像の位相θ方向へのパラレルビームの投影デ
ータが得られる。この投影データを元にして線質硬化な
どの補正係数を求めて、2度目の画像再構成をパラレル
ビーム逆投影で行い、線質硬化などによるアーチファク
トを補正する方法が、2パスBHCなどとして知られて
いる。
逆投影で行い、第2の画像再構成をパラレルビーム逆投
影で行うので、ファンビームの広がりに起因するアーチ
ファクトは逆投影時にファン状に拡散するので、パラレ
ルビーム逆投影による補正では除去できない場合があっ
た。コーンビームにおいても同様にコーンビームの広が
りに起因するアーチファクトは除去できない場合があ
る。
の形態においても、逆投影処理はZ軸方向から見ると、
2パス目のパラレルビームの逆投影と同様に行われるの
で、2パス目の補正効果が大きい。そこで、まず、1回
目に第1の実施の形態あるいは第2の実施の形態に記載
された方法で3次元画像再構成を行い、次にこのZ軸方
向のコーンビームの広がりを無視して、3次元画像の一
断面としての2次元画像ではなく、従来のような2次元
画像と考えて、2次元中央断面定理を適用して2パス目
の補正を2次元画像で行う。一般にアーチファクトは3
次元的に広がるが、ファン角度と比較するとコーン角度
は小さいため、2次元中央断面定理による上述の補正で
充分な補正効果が得られる。
して完全なパラレルビームによる投影データを求め、そ
れを使用して補正を行っても良い。変則パラレルビーム
による投影データと完全なパラレルビームによる投影デ
ータとは比較的に似ているので、ある程度の補正効果は
期待できる。
コーンビームにおけるファン−パラ変換法の適用を確立
し、コーンビームを使用して撮影された画像の正確な再
構成を実現することができる画像再構成処理装置を提供
できる。
ルスキャンの場合 )のX線CT装置の概略の構成を示す
ブロック図。
す図。
元X線検出器の回転軸方向から見たコーンビームの変則
パラレルビームへの変換を説明するための図。
変則パラレルビームへ変換した時の変則パラレルビーム
に垂直な面の投影状態を示す図。
ームによる円筒形2次元X線検出器の検出面における投
影状態を示す図。
ームによる平面形2次元X線検出器の検出面における投
影状態を示す図。
レルビームと再構成画像面との関係を示す図。
ームに対する再構成画像面の投影状態を示す図。
ームによる2次元X線検出器の検出面における再構成画
像面の投影状態を示す図。
ビームによる投影データをリサンプリング処理したデー
タを示す図。
グ処理したデータの再構成画像面への逆投影処理を説明
するための図。
12の要部構成を示すブロック図。
なボクセル列への類似センタリング処理を使用したリサ
ンプリング面からの逆投影処理を説明するための図。
る再構成画像Aの投影データを示す図。
の類似センタリング処理を行わない時の逆投影データ及
び類似センタリング処理を行った時の逆投影データを示
す図。
ャンの場合 )のX線CT装置の焦点がその全域にわたっ
て再構成画像面より下側の場合( ( I )の場合 )の変則
パラレルビームに対する再構成画像面の投影状態を示す
図。
の変則パラレルビームによる2次元X線検出器の検出面
における再構成画像面の投影状態を示す図。
の変則パラレルビームによる投影データをリサンプリン
グ処理したデータを示す図。
画像面の下側から上側へ遷移する場合( ( III)の場合 )
の変則パラレルビームの前半に対する再構成画像面の投
影状態を示す図。
の変則パラレルビームの後半に対する再構成画像面の投
影状態を示す図。
の変則パラレルビームによる2次元X線検出器の検出面
における再構成画像面の投影状態を示す図。
の変則パラレルビームによる投影データをリサンプリン
グ処理したデータを示す図。
央断面定理のある画像の位相θへのパラレルビームの投
影データを示す図。
央断面定理の元の画像の2次元フーリエ変換像を対応す
る角度θで切断した中央断面の分布を示す図。
を示す図。
器、FOV及びピクセルの関係を示す図。
を説明するための図。
の画像再構成式を説明するための第1の図。
の画像再構成式を説明するための第2の図。
を示す図。
検出器、FOV及びボクセルの関係を示す図。
置における検出器データのピクセルへの逆投影を説明す
るための図。
置における検出器データのボクセルへの逆投影を説明す
るための図。
Claims (8)
- 【請求項1】 X線源から放射された円錐状のX線コー
ンビームを対象物に照射し、この対象物を透過したX線
をX線検出素子を1列に配列した1次元X線検出器を複
数列に配列した2次元X線検出器により検出し、前記X
線源と前記2次元X線検出器とを前記対象物の回りを回
転させて得られた検出データに基づいて、前記対象物の
断層画像を再構成する画像再構成処理装置において、 前記X線源と前記2次元X線検出器の所定の角度分の回
転により得られた検出データから、前記X線源から前記
2次元X線検出器へのビームが前記X線源及び前記2次
元X線検出器の回転軸方向成分を無視して前記対象物へ
の透過角度が平行であった変則パラレルビームの検出デ
ータを前記透過角度毎に収集して処理する変則パラレル
データ変換手段と、 この変則パラレルデータ変換手段により収集処理された
変則パラレルビームの検出データに基づいて前記対象物
の断層画像を再構成するパラレル再構成手段とを設けた
ことを特徴とする画像再構成処理装置。 - 【請求項2】 X線源から放射された円錐状のX線コー
ンビームを対象物に照射し、この対象物を透過したX線
をX線検出素子を1列に配列した1次元X線検出器を複
数列に配列した2次元X線検出器により検出し、前記X
線源と前記2次元X線検出器とを前記対象物の回りを回
転させて得られた検出データに基づいて、前記対象物の
断層画像を再構成する画像再構成処理装置において、 前記X線源と前記2次元X線検出器の所定の角度分の回
転により得られた検出データから、前記X線源から前記
2次元X線検出器へのビームが前記X線源及び前記2次
元X線検出器の回転軸方向成分を無視して前記対象物へ
の透過角度が平行であった変則パラレルビームの検出デ
ータを前記透過角度毎に収集して処理する変則パラレル
データ変換手段と、 この変則パラレルデータ変換手段により収集処理した変
則パラレルビームの検出データに対して前記回転軸方向
の歪みを補正する変則パラレルデータ補正手段と、 この変則パラレルデータ補正手段により補正された変則
パラレルビームの検出データに基づいて前記対象物の断
層画像を再構成するパラレル再構成手段とを設けたこと
を特徴とする画像再構成処理装置。 - 【請求項3】 前記変則パラレルデータ補正手段は、前
記変則パラレルデータ変換手段により収集処理された検
出データの検出位置を、前記パラレルビームの透過角度
に応じて前記回転軸方向の位置について再配置するリサ
ンプリング処理を行うことを特徴とする請求項2記載の
画像再構成処理装置。 - 【請求項4】 前記変則パラレルデータ補正手段は、逆
投影する空間画素としてのボクセルの列を所定の固定軸
に平行に設定し、このボクセル列に対して平行な前記変
則パラレルビームの焦点の軌道を想定し、この軌道に対
して平行な面に前記変則パラレルデータ変換手段により
収集処理した変則パラレルビームの検出データを予め設
定されたセンタリング面へ前記回転軸方向の歪みを補正
する前処理としての投影を行う類似センタリング処理を
行うことを特徴とする請求項2及び請求項3のいずれか
1項記載の画像再構成処理装置。 - 【請求項5】 前記X線源及び前記2次元X線検出器を
前記対象物の回りを回転軸方向に移動させずに回転させ
るコンベンショナルスキャンにより検出データを得るこ
とを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記
載の画像再構成処理装置。 - 【請求項6】 前記X線源及び前記2次元X線検出器を
前記対象物の回りを回転軸方向に移動させながら回転さ
せるヘリカルスキャンにより検出データを得ることを特
徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の画
像再構成処理装置。 - 【請求項7】 前記パラレル再構成手段により再構成さ
れた断層画像に対するアーチファクト及び線質硬化の補
正を中央断面定理を使用して補正することを特徴とする
請求項1乃至請求項6のいずれか1頁記載の画像再構成
処理装置。 - 【請求項8】 前記パラレル再構成手段により再構成さ
れた断層画像に対するアーチファクト及び線質硬化の補
正を2次元中央断面定理を使用して2次元画像として補
正することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれ
か1頁記載の画像再構成処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05023097A JP3980696B2 (ja) | 1997-03-05 | 1997-03-05 | 画像再構成処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05023097A JP3980696B2 (ja) | 1997-03-05 | 1997-03-05 | 画像再構成処理装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH10243941A true JPH10243941A (ja) | 1998-09-14 |
| JP3980696B2 JP3980696B2 (ja) | 2007-09-26 |
Family
ID=12853232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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