JPH10244707A - 光偏向走査装置 - Google Patents
光偏向走査装置Info
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- JPH10244707A JPH10244707A JP9063894A JP6389497A JPH10244707A JP H10244707 A JPH10244707 A JP H10244707A JP 9063894 A JP9063894 A JP 9063894A JP 6389497 A JP6389497 A JP 6389497A JP H10244707 A JPH10244707 A JP H10244707A
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- light
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 駆動基板に小基板を設けて半導体レーザとと
もに回転させてビームアレイの角度調節を行なう。 【解決手段】 複数のレーザビームを発生する半導体レ
ーザ１の各リードピン１ａは、小基板１５にハンダ付け
され、小基板１５を介して駆動基板１４上のレーザ駆動
回路に電気接続される。半導体レーザ１を回転させてビ
ームアレイの角度を調節し、ビーム間隔を調整するとき
に、大面積の駆動基板１４を回転させる必要がないか
ら、そのための逃げのスペースが不要であり、光偏向走
査装置の設置スペースを縮小できる。
もに回転させてビームアレイの角度調節を行なう。 【解決手段】 複数のレーザビームを発生する半導体レ
ーザ１の各リードピン１ａは、小基板１５にハンダ付け
され、小基板１５を介して駆動基板１４上のレーザ駆動
回路に電気接続される。半導体レーザ１を回転させてビ
ームアレイの角度を調節し、ビーム間隔を調整するとき
に、大面積の駆動基板１４を回転させる必要がないか
ら、そのための逃げのスペースが不要であり、光偏向走
査装置の設置スペースを縮小できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームプリ
ンタやレーザファクシミリ等の画像形成装置に用いられ
るマルチビームタイプの光偏向走査装置に関するもので
ある。
ンタやレーザファクシミリ等の画像形成装置に用いられ
るマルチビームタイプの光偏向走査装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザビームプリンタやレーザフ
ァクシミリ等の画像形成装置において、記録速度を上げ
るために、複数のレーザビーム等を用いて複数のライン
を同時に書き込むマルチビーム書き込み方法の光偏向走
査装置が開発された。
ァクシミリ等の画像形成装置において、記録速度を上げ
るために、複数のレーザビーム等を用いて複数のライン
を同時に書き込むマルチビーム書き込み方法の光偏向走
査装置が開発された。
【０００３】これは、互に離間した複数のレーザービー
ムを同時に走査するもので、図８に示すように、半導体
レーザ１０１から例えば３本のレーザビームを発生さ
せ、これらをそれぞれコリメータレンズ１０２によって
平行化したうえでシリンドリカルレンズ１０４を経て回
転多面鏡１０５の反射面１０５ａに照射し、結像レンズ
系１０６を経て回転ドラム１０７の感光体に結像させ
る。
ムを同時に走査するもので、図８に示すように、半導体
レーザ１０１から例えば３本のレーザビームを発生さ
せ、これらをそれぞれコリメータレンズ１０２によって
平行化したうえでシリンドリカルレンズ１０４を経て回
転多面鏡１０５の反射面１０５ａに照射し、結像レンズ
系１０６を経て回転ドラム１０７の感光体に結像させ
る。
【０００４】３本のレーザビームは回転多面鏡１０５の
回転軸に沿った方向（以下、「Ｚ軸方向」という）に離
間した状態で回転多面鏡１０５の反射面１０５ａに入射
し、それぞれＺ軸に直交する主走査方向（Ｙ軸方向）に
走査され、回転多面鏡１０５の回転によるＹ軸方向の主
走査と回転ドラム１０７の回転によるＺ軸方向の副走査
によって感光体に静電潜像を形成する。
回転軸に沿った方向（以下、「Ｚ軸方向」という）に離
間した状態で回転多面鏡１０５の反射面１０５ａに入射
し、それぞれＺ軸に直交する主走査方向（Ｙ軸方向）に
走査され、回転多面鏡１０５の回転によるＹ軸方向の主
走査と回転ドラム１０７の回転によるＺ軸方向の副走査
によって感光体に静電潜像を形成する。
【０００５】なお、シリンドリカルレンズ１０４は、各
レーザビームを回転多面鏡１０５の反射面１０５ａに線
状に集光する。これは、前述のように感光体に結像する
点像が、回転多面鏡１０５の面倒れによって歪を発生す
るのを防止する機能を有する。また、結像レンズ系１０
６は、球面レンズ１０６ａとトーリックレンズ１０６ｂ
からなり、これらは、シリンドリカルレンズ１０４と同
様に感光体上の点像の歪を防ぐ機能を有するとともに、
前記点像が感光体上で主走査方向に等速度で走査される
ように補正するいわゆるＦθ機能を有する。
レーザビームを回転多面鏡１０５の反射面１０５ａに線
状に集光する。これは、前述のように感光体に結像する
点像が、回転多面鏡１０５の面倒れによって歪を発生す
るのを防止する機能を有する。また、結像レンズ系１０
６は、球面レンズ１０６ａとトーリックレンズ１０６ｂ
からなり、これらは、シリンドリカルレンズ１０４と同
様に感光体上の点像の歪を防ぐ機能を有するとともに、
前記点像が感光体上で主走査方向に等速度で走査される
ように補正するいわゆるＦθ機能を有する。
【０００６】また、３本のレーザビームは、それぞれ、
主走査面（ＸＹ平面）のＹ軸方向の末端で検出ミラー１
０８によって主走査面の下方へ分離されて、光センサ１
０９に導入され、書き込み開始信号に変換されて半導体
レーザ１０１に送信される。半導体レーザ１０１は書き
込み開始信号を受けて各レーザビームの書き込み変調を
開始する。
主走査面（ＸＹ平面）のＹ軸方向の末端で検出ミラー１
０８によって主走査面の下方へ分離されて、光センサ１
０９に導入され、書き込み開始信号に変換されて半導体
レーザ１０１に送信される。半導体レーザ１０１は書き
込み開始信号を受けて各レーザビームの書き込み変調を
開始する。
【０００７】このように各レーザビームの書き込み変調
のタイミングを調節することで、感光体に形成される各
ラインの静電潜像の書き込み開始（書き出し）位置を制
御する。
のタイミングを調節することで、感光体に形成される各
ラインの静電潜像の書き込み開始（書き出し）位置を制
御する。
【０００８】半導体レーザ１０１は、前述のように複数
のレーザビームを同時に発光するマルチビームレーザで
あって、図７に示すように、駆動基板１１４およびレー
ザホルダ１１２を介してコリメータレンズ１０２と一体
的に結合された光源ユニットＥ0 として、光学箱１１０
の側壁等に組み付けられる。
のレーザビームを同時に発光するマルチビームレーザで
あって、図７に示すように、駆動基板１１４およびレー
ザホルダ１１２を介してコリメータレンズ１０２と一体
的に結合された光源ユニットＥ0 として、光学箱１１０
の側壁等に組み付けられる。
【０００９】光源ユニットＥ0 は、基台１１１の中心穴
１１１ａに半導体レーザ１０１を圧入し、コリメータレ
ンズ１０２を保持する鏡筒１１３を基台１１１とともに
接着やビス止め等の方法でレーザホルダ１１２に固着し
たものである。レーザホルダ１１２に基台１１１をビス
止めする前に、半導体レーザ１０１を発光させながら基
台１１１をその中心軸のまわりに回転させて、半導体レ
ーザ１０１の複数のレーザビームの発光点の配列方向
（レーザアレイ）の角度調節を行ない、感光体上の書き
込みラインの間隔が設計値に合致するようにビーム間隔
を調節する。
１１１ａに半導体レーザ１０１を圧入し、コリメータレ
ンズ１０２を保持する鏡筒１１３を基台１１１とともに
接着やビス止め等の方法でレーザホルダ１１２に固着し
たものである。レーザホルダ１１２に基台１１１をビス
止めする前に、半導体レーザ１０１を発光させながら基
台１１１をその中心軸のまわりに回転させて、半導体レ
ーザ１０１の複数のレーザビームの発光点の配列方向
（レーザアレイ）の角度調節を行ない、感光体上の書き
込みラインの間隔が設計値に合致するようにビーム間隔
を調節する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、光源ユニットを光学箱
に組み付けるに際して、マルチビームレーザである半導
体レーザを発光させながら、基台を回転させることで、
複数のレーザビームのビーム間隔を最終調節する工程が
必要であるが、このとき、基台にビス止めされた駆動基
板も同じ角度まで回転する。このように、駆動基板も半
導体レーザと同じ角度まで回転させるものであるため、
広い面積を有する駆動基板を回転させるための逃げのス
ペースを光源ユニットの周辺に確保しておかなければな
らない。
の技術によれば、前述のように、光源ユニットを光学箱
に組み付けるに際して、マルチビームレーザである半導
体レーザを発光させながら、基台を回転させることで、
複数のレーザビームのビーム間隔を最終調節する工程が
必要であるが、このとき、基台にビス止めされた駆動基
板も同じ角度まで回転する。このように、駆動基板も半
導体レーザと同じ角度まで回転させるものであるため、
広い面積を有する駆動基板を回転させるための逃げのス
ペースを光源ユニットの周辺に確保しておかなければな
らない。
【００１１】その結果、光学箱が大型化したり、画像形
成装置に光学箱を搭載するときの必要スペースが大きく
なる等の不都合を招き、画像形成装置を小型化するうえ
での大きな障害となる。
成装置に光学箱を搭載するときの必要スペースが大きく
なる等の不都合を招き、画像形成装置を小型化するうえ
での大きな障害となる。
【００１２】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、駆動基板を回転させ
ることなく、マルチビームレーザ等のビーム間隔等の調
節を行なうことのできる小型で高性能な光偏向走査装置
を提供することを目的とするものである。
課題に鑑みてなされたものであり、駆動基板を回転させ
ることなく、マルチビームレーザ等のビーム間隔等の調
節を行なうことのできる小型で高性能な光偏向走査装置
を提供することを目的とするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の光偏向走査装置は、回転多面鏡を有する走
査光学系に向かって光ビームを発生する発光源と、これ
を保持する保持手段と、前記発光源の電気接続手段に結
合された小基板と、前記発光源を駆動する駆動回路を搭
載する駆動基板を有し、該駆動基板の前記駆動回路が、
前記小基板を介して前記発光源に電気接続されているこ
とを特徴とする。
めに本発明の光偏向走査装置は、回転多面鏡を有する走
査光学系に向かって光ビームを発生する発光源と、これ
を保持する保持手段と、前記発光源の電気接続手段に結
合された小基板と、前記発光源を駆動する駆動回路を搭
載する駆動基板を有し、該駆動基板の前記駆動回路が、
前記小基板を介して前記発光源に電気接続されているこ
とを特徴とする。
【００１４】小基板の替わりに、発光源の電気接続手段
に結合されたフレキシブルケーブルが配設されていても
よい。
に結合されたフレキシブルケーブルが配設されていても
よい。
【００１５】
【作用】マルチビームレーザ等の複数の光ビームを発生
する発光源を用いて複数のラインを同時に書き込むよう
に構成されたマルチビームタイプの光偏向走査装置等に
おいては、光源ユニットの組立工程で、発光源を発光さ
せながら回転させて光ビームの間隔を調節するいわゆる
レーザアレイの調節等が必要である。
する発光源を用いて複数のラインを同時に書き込むよう
に構成されたマルチビームタイプの光偏向走査装置等に
おいては、光源ユニットの組立工程で、発光源を発光さ
せながら回転させて光ビームの間隔を調節するいわゆる
レーザアレイの調節等が必要である。
【００１６】このとき、一般的に大面積である駆動基板
も発光源と同じ角度まで回転させてしまうと、光源ユニ
ットの周辺の部品に駆動基板が干渉しないように充分な
逃げのスペースが必要となる。そこで、発光源のリード
ピン等の電気接続手段に小基板を結合させ、小基板のみ
を発光源の回転位置まで回転させたうえで駆動基板に組
み付けるように構成すれば、大面積の駆動基板を回転さ
せることなく、前述のレーザアレイの調節等を行なうこ
とができる。
も発光源と同じ角度まで回転させてしまうと、光源ユニ
ットの周辺の部品に駆動基板が干渉しないように充分な
逃げのスペースが必要となる。そこで、発光源のリード
ピン等の電気接続手段に小基板を結合させ、小基板のみ
を発光源の回転位置まで回転させたうえで駆動基板に組
み付けるように構成すれば、大面積の駆動基板を回転さ
せることなく、前述のレーザアレイの調節等を行なうこ
とができる。
【００１７】駆動基板を回転させるための逃げのスペー
スを設ける必要がないため、光学箱の小型化や、画像形
成装置内における光偏向走査装置の設置スペースの節減
に大きく貢献できる。
スを設ける必要がないため、光学箱の小型化や、画像形
成装置内における光偏向走査装置の設置スペースの節減
に大きく貢献できる。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図面に基づいて
説明する。
説明する。
【００１９】図１は、第１実施例による光偏向走査装置
を示すもので、これは、発光源である半導体レーザ１か
ら２本の光ビームであるレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を発生
させ、それぞれコリメータレンズ２によって平行化した
うえで絞り３とシリンドリカルレンズ４を経て、これら
とともに走査光学系を構成する回転多面鏡５の反射面５
ａに照射し、結像レンズ系６を経て回転ドラム７上の感
光体に結像させる。
を示すもので、これは、発光源である半導体レーザ１か
ら２本の光ビームであるレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を発生
させ、それぞれコリメータレンズ２によって平行化した
うえで絞り３とシリンドリカルレンズ４を経て、これら
とともに走査光学系を構成する回転多面鏡５の反射面５
ａに照射し、結像レンズ系６を経て回転ドラム７上の感
光体に結像させる。
【００２０】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は回転多面
鏡５の回転軸に沿った方向（Ｚ軸方向）に離間した状態
で回転多面鏡５の反射面５ａに入射し、それぞれＺ軸に
直交する主走査方向（Ｙ軸方向）に走査され、回転多面
鏡５の回転によるＹ軸方向の主走査と回転ドラム７の回
転によるＺ軸方向の副走査によって感光体に静電潜像を
形成する。
鏡５の回転軸に沿った方向（Ｚ軸方向）に離間した状態
で回転多面鏡５の反射面５ａに入射し、それぞれＺ軸に
直交する主走査方向（Ｙ軸方向）に走査され、回転多面
鏡５の回転によるＹ軸方向の主走査と回転ドラム７の回
転によるＺ軸方向の副走査によって感光体に静電潜像を
形成する。
【００２１】なお、シリンドリカルレンズ４は、各レー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡５の反射面５ａに線状
に集光する。これは、前述のように感光体に結像する点
像が、回転多面鏡５の面倒れによって歪を発生するのを
防止する機能を有し、また、結像レンズ系６は、球面レ
ンズ６ａとトーリックレンズ６ｂからなり、これらは、
シリンドリカルレンズ４と同様に感光体上の点像の歪を
防ぐ機能を有するとともに、前記点像が感光体上で主走
査方向に等速度で走査されるように補正する機能を有す
る。
ザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡５の反射面５ａに線状
に集光する。これは、前述のように感光体に結像する点
像が、回転多面鏡５の面倒れによって歪を発生するのを
防止する機能を有し、また、結像レンズ系６は、球面レ
ンズ６ａとトーリックレンズ６ｂからなり、これらは、
シリンドリカルレンズ４と同様に感光体上の点像の歪を
防ぐ機能を有するとともに、前記点像が感光体上で主走
査方向に等速度で走査されるように補正する機能を有す
る。
【００２２】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、それぞ
れ、主走査面（ＸＹ平面）のＹ軸方向の末端で検出ミラ
ー８によって主走査面の下方へ分離され、主走査面を横
切ってその反対側の光センサ９に導入され、書き込み開
始信号に変換されて半導体レーザ１に送信される。半導
体レーザ１は書き込み開始信号を受けて両レーザビーム
Ｐ1 ，Ｐ2 の書き込み変調を開始する。
れ、主走査面（ＸＹ平面）のＹ軸方向の末端で検出ミラ
ー８によって主走査面の下方へ分離され、主走査面を横
切ってその反対側の光センサ９に導入され、書き込み開
始信号に変換されて半導体レーザ１に送信される。半導
体レーザ１は書き込み開始信号を受けて両レーザビーム
Ｐ1 ，Ｐ2 の書き込み変調を開始する。
【００２３】このように両レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書
き込み変調のタイミングを調節することで、感光体に形
成される静電潜像の書き込み開始（書き出し）位置を制
御する。
き込み変調のタイミングを調節することで、感光体に形
成される静電潜像の書き込み開始（書き出し）位置を制
御する。
【００２４】半導体レーザ１は、前述のように複数のレ
ーザビームを同時に発光するマルチビームレーザであっ
て、図２に示すように、駆動基板１４および保持手段で
あるレーザホルダ１２を介してコリメータレンズ２と一
体的に結合された光源ユニットＥ1 として光学箱１０の
側壁等に組み付けられる。
ーザビームを同時に発光するマルチビームレーザであっ
て、図２に示すように、駆動基板１４および保持手段で
あるレーザホルダ１２を介してコリメータレンズ２と一
体的に結合された光源ユニットＥ1 として光学箱１０の
側壁等に組み付けられる。
【００２５】光源ユニットＥ1 は、半導体レーザ１を中
心穴１１ａに圧入した基台１１と、レーザホルダ１２
と、コリメータレンズ２を保持する鏡筒１３を有し、半
導体レーザ１は、前述のように２つの発光点を有するマ
ルチビームレーザである。基台１１と鏡筒１３は、ビス
止めや接着等の公知の方法でレーザホルダ１２に固着さ
れる。半導体レーザ１の電気接続手段である複数のリー
ドピン１ａは、駆動基板１４の貫通孔１４ａを通り小基
板１５の反対側の表面に引き出されて、小基板１５の接
続パターン１５ａ（図５参照）にハンダ付けされる。
心穴１１ａに圧入した基台１１と、レーザホルダ１２
と、コリメータレンズ２を保持する鏡筒１３を有し、半
導体レーザ１は、前述のように２つの発光点を有するマ
ルチビームレーザである。基台１１と鏡筒１３は、ビス
止めや接着等の公知の方法でレーザホルダ１２に固着さ
れる。半導体レーザ１の電気接続手段である複数のリー
ドピン１ａは、駆動基板１４の貫通孔１４ａを通り小基
板１５の反対側の表面に引き出されて、小基板１５の接
続パターン１５ａ（図５参照）にハンダ付けされる。
【００２６】駆動基板１４は、半導体レーザ１を発光さ
せるための駆動回路であるレーザ駆動回路等を搭載して
おり、ビス１６によってレーザホルダ１２に固着され
る。このようにして駆動基板１４を固着したうえで、図
３に示すように、ビス１７を用いてレーザホルダ１２を
光学箱１０の側壁等に固定する。
せるための駆動回路であるレーザ駆動回路等を搭載して
おり、ビス１６によってレーザホルダ１２に固着され
る。このようにして駆動基板１４を固着したうえで、図
３に示すように、ビス１７を用いてレーザホルダ１２を
光学箱１０の側壁等に固定する。
【００２７】光源ユニットＥ1 の組み付けに際しては、
半導体レーザ１を固着した基台１１を回転させること
で、半導体レーザ１のレーザアレイの配列方向を調節
し、半導体レーザ１から発生される２つのレーザビーム
Ｐ1 ，Ｐ2 のビーム間隔△Ｐ（図４参照）を回転ドラム
７上で設計値に一致させる作業を行ない、駆動基板１４
の貫通孔１４ａを経て小基板１５の表面に半導体レーザ
１の各リードピン１ａを、引出して、小基板１５の接続
パターン１５ａにハンダ付けする。ついで、小基板１５
の外周縁から突出する接続部材１５ｂを駆動基板１４の
接続パターン１４ｂにハンダ付けする。このようにし
て、半導体レーザ１を駆動基板１４上のレーザ駆動回路
に電気接続する。次に、光源ユニットＥ1 の組み付け工
程全体を説明する。
半導体レーザ１を固着した基台１１を回転させること
で、半導体レーザ１のレーザアレイの配列方向を調節
し、半導体レーザ１から発生される２つのレーザビーム
Ｐ1 ，Ｐ2 のビーム間隔△Ｐ（図４参照）を回転ドラム
７上で設計値に一致させる作業を行ない、駆動基板１４
の貫通孔１４ａを経て小基板１５の表面に半導体レーザ
１の各リードピン１ａを、引出して、小基板１５の接続
パターン１５ａにハンダ付けする。ついで、小基板１５
の外周縁から突出する接続部材１５ｂを駆動基板１４の
接続パターン１４ｂにハンダ付けする。このようにし
て、半導体レーザ１を駆動基板１４上のレーザ駆動回路
に電気接続する。次に、光源ユニットＥ1 の組み付け工
程全体を説明する。
【００２８】まず、コリメータレンズ２を保持する鏡筒
１３をレーザホルダ１２の筒状部分に嵌合させ、半導体
レーザ１を圧入した基台１１をレーザホルダ１２に固着
する前に、半導体レーザ１のリードピン１ａに公知のレ
ーザ発光治具を接続し、半導体レーザ１を発光させなが
ら、基台１１を軸Ｏのまわりに回転させて、前述のよう
にビーム間隔△Ｐを調整する。
１３をレーザホルダ１２の筒状部分に嵌合させ、半導体
レーザ１を圧入した基台１１をレーザホルダ１２に固着
する前に、半導体レーザ１のリードピン１ａに公知のレ
ーザ発光治具を接続し、半導体レーザ１を発光させなが
ら、基台１１を軸Ｏのまわりに回転させて、前述のよう
にビーム間隔△Ｐを調整する。
【００２９】続いて、基台１１を軸Ｏと直交する方向に
移動させて光軸合わせを行なったうえで、基台１１をレ
ーザホルダ１２にビス止めし、さらに、鏡筒１３を軸方
向に移動させてコリメータレンズ２のピント調整を行な
ったのちに、接着等の公知の方法によって鏡筒１３をレ
ーザホルダ１２に固着する。
移動させて光軸合わせを行なったうえで、基台１１をレ
ーザホルダ１２にビス止めし、さらに、鏡筒１３を軸方
向に移動させてコリメータレンズ２のピント調整を行な
ったのちに、接着等の公知の方法によって鏡筒１３をレ
ーザホルダ１２に固着する。
【００３０】ついで、ビス１６によって駆動基板１４を
レーザホルダ１２にビス止めし、半導体レーザ１の各リ
ードピン１ａを小基板１５の表面に引き出してその接続
パターン１５ａにハンダ付けする。
レーザホルダ１２にビス止めし、半導体レーザ１の各リ
ードピン１ａを小基板１５の表面に引き出してその接続
パターン１５ａにハンダ付けする。
【００３１】小基板１５の接続部材１５ｂを駆動基板１
４の接続パターン１４ａにハンダ付けし、最後にレーザ
ホルダ１２をビス１７によって光学箱１０にビス止めす
る。光学箱１０は、突出ピン１０ａ（図３参照）を有
し、これをレーザホルダ１２の位置決め穴１２ａに係合
させることで、レーザホルダ１２を光学箱１０にビス止
めするまでの回転位置ずれを防ぐ。
４の接続パターン１４ａにハンダ付けし、最後にレーザ
ホルダ１２をビス１７によって光学箱１０にビス止めす
る。光学箱１０は、突出ピン１０ａ（図３参照）を有
し、これをレーザホルダ１２の位置決め穴１２ａに係合
させることで、レーザホルダ１２を光学箱１０にビス止
めするまでの回転位置ずれを防ぐ。
【００３２】なお、駆動基板１４の接続パターン１４ｂ
の寸法は、前述のようにビーム間隔△Ｐを調整するため
に小基板１５を相対的に回転させても接続部材１５ｂに
重なった状態が維持できるように充分な幅が必要である
ことは言うまでもない。
の寸法は、前述のようにビーム間隔△Ｐを調整するため
に小基板１５を相対的に回転させても接続部材１５ｂに
重なった状態が維持できるように充分な幅が必要である
ことは言うまでもない。
【００３３】本実施例によれば、半導体レーザのリード
ピンを接続する小基板が駆動基板と別体であるため、ビ
ーム間隔の調整のために半導体レーザを回転させるとき
に、基台とともに小基板のみを半導体レーザの回転位置
まで回転させればよい。従って、レーザアレイの調節工
程で駆動基板が回転してしまう場合のように光学箱やそ
の周辺に逃げのスペースを必要とせず、光偏向走査装置
およびこれを搭載する画像形成装置の小型化に大きく貢
献できる。
ピンを接続する小基板が駆動基板と別体であるため、ビ
ーム間隔の調整のために半導体レーザを回転させるとき
に、基台とともに小基板のみを半導体レーザの回転位置
まで回転させればよい。従って、レーザアレイの調節工
程で駆動基板が回転してしまう場合のように光学箱やそ
の周辺に逃げのスペースを必要とせず、光偏向走査装置
およびこれを搭載する画像形成装置の小型化に大きく貢
献できる。
【００３４】なお、小基板の替わりに公知のフレキシブ
ルケーブルを配設し、これを弛ませた状態で駆動基板の
接続パターンに接続することもできる。
ルケーブルを配設し、これを弛ませた状態で駆動基板の
接続パターンに接続することもできる。
【００３５】図６は第２実施例による光偏向走査装置の
光源ユニットＥ2 を示す。これは、レーザホルダ２２に
長穴２２ｂを設け、これを貫通するビス２７によってレ
ーザホルダ２２を光学箱２０にビス止めするとともに、
光学箱２０にねじ穴を有するボス２０ｂを設けて、これ
に螺合するビス２６によって駆動基板２４を直接光学箱
２０に固着するように構成したものである。基台２１、
鏡筒２３、小基板２５等については第１実施例の基台１
１、鏡筒１３、小基板１５等と同様であるから説明は省
略する。
光源ユニットＥ2 を示す。これは、レーザホルダ２２に
長穴２２ｂを設け、これを貫通するビス２７によってレ
ーザホルダ２２を光学箱２０にビス止めするとともに、
光学箱２０にねじ穴を有するボス２０ｂを設けて、これ
に螺合するビス２６によって駆動基板２４を直接光学箱
２０に固着するように構成したものである。基台２１、
鏡筒２３、小基板２５等については第１実施例の基台１
１、鏡筒１３、小基板１５等と同様であるから説明は省
略する。
【００３６】第１実施例と同様にビーム間隔の調整と、
光軸合わせと、ピント調整を行なったうえで、レーザホ
ルダ２２を光学箱１０にビス止めする前に、レーザホル
ダ２２を軸Ｏのまわりに回転させて、再度ビーム間隔の
調整を行なうことができる。第１実施例と同様に半導体
レーザ１を保持する基台２１をレーザホルダ２２に対し
て回転させることでビーム間隔の調整を行なった後で
も、光偏向走査装置のレンズ系や回転多面鏡の組み付け
誤差、傾き等のためにビーム間隔に誤差が発生すること
が多いため、再度ビーム間隔を修正するのが望ましい。
そこで、レーザホルダ２２を光学箱２０にビス止めする
直前にレーザホルダ２２の回転位置を調節し、ビーム間
隔の修正を行なうように構成する。このようにビーム間
隔を厳密に調整したうえで、小基板２５を駆動基板２４
にハンダ付けし、駆動基板２４を光学箱２０にビス止め
する。これによって、より一層高性能なマルチビームタ
イプの光偏向走査装置を実現できる。その他の点は第１
実施例と同様である。
光軸合わせと、ピント調整を行なったうえで、レーザホ
ルダ２２を光学箱１０にビス止めする前に、レーザホル
ダ２２を軸Ｏのまわりに回転させて、再度ビーム間隔の
調整を行なうことができる。第１実施例と同様に半導体
レーザ１を保持する基台２１をレーザホルダ２２に対し
て回転させることでビーム間隔の調整を行なった後で
も、光偏向走査装置のレンズ系や回転多面鏡の組み付け
誤差、傾き等のためにビーム間隔に誤差が発生すること
が多いため、再度ビーム間隔を修正するのが望ましい。
そこで、レーザホルダ２２を光学箱２０にビス止めする
直前にレーザホルダ２２の回転位置を調節し、ビーム間
隔の修正を行なうように構成する。このようにビーム間
隔を厳密に調整したうえで、小基板２５を駆動基板２４
にハンダ付けし、駆動基板２４を光学箱２０にビス止め
する。これによって、より一層高性能なマルチビームタ
イプの光偏向走査装置を実現できる。その他の点は第１
実施例と同様である。
【００３７】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
で、次に記載するような効果を奏する。
【００３８】駆動基板を回転させることなくレーザアレ
イの調節等を行なうことができるため、駆動基板を回転
させるための逃げのスペースを省略し、光偏向走査装置
の光学箱の小型化や、画像形成装置における光偏向走査
装置の設置スペースの節減に大きく貢献できる。
イの調節等を行なうことができるため、駆動基板を回転
させるための逃げのスペースを省略し、光偏向走査装置
の光学箱の小型化や、画像形成装置における光偏向走査
装置の設置スペースの節減に大きく貢献できる。
【図１】第１実施例による光偏向走査装置を示す説明図
である。
である。
【図２】図１の光源ユニットのみを示す部分模式断面図
である。
である。
【図３】図２の装置のレーザホルダを示す斜視図であ
る。
る。
【図４】ビーム間隔を調整する方法を説明する図であ
る。
る。
【図５】図２の装置の半導体レーザと駆動基板と小基板
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図６】第２実施例による光源ユニットを分解した状態
で示す分解斜視図である。
で示す分解斜視図である。
【図７】一従来例による光偏向走査装置の光源ユニット
を示す部分模式断面図である。
を示す部分模式断面図である。
【図８】図７の光偏向走査装置の全体を示すものであ
る。
る。
【符号の説明】 １ 半導体レーザ １ａ リードピン ２ コリメータレンズ ４ シリンドリカルレンズ ５ 回転多面鏡 １０，２０ 光学箱 １１，２１ 基台 １２，２２ レーザホルダ １３，２３ 鏡筒 １４，２４ 駆動基板 １５，２５ 小基板 １６，１７，２６，２７ ビス
Claims (6)
- 【請求項１】 回転多面鏡を有する走査光学系に向かっ
て光ビームを発生する発光源と、これを保持する保持手
段と、前記発光源の電気接続手段に結合された小基板
と、前記発光源を駆動する駆動回路を搭載する駆動基板
を有し、該駆動基板の前記駆動回路が、前記小基板を介
して前記発光源に電気接続されていることを特徴とする
光偏向走査装置。 - 【請求項２】 発光源が、複数の光ビームを発生するマ
ルチビームレーザであることを特徴とする請求項１記載
の光偏向走査装置。 - 【請求項３】 保持手段に、光ビームを平行化するコリ
メータレンズが結合されていることを特徴とする請求項
１または２記載の光偏向走査装置。 - 【請求項４】 駆動基板が、保持手段に結合されている
ことを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記載の
光偏向走査装置。 - 【請求項５】 駆動基板と保持手段が、個別に光学箱に
組み付けられていることを特徴とする請求項１ないし４
いずれか１項記載の光偏向走査装置。 - 【請求項６】 小基板の替わりに、発光源の電気接続手
段に結合されたフレキシブルケーブルが配設されている
ことを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の
光偏向走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9063894A JPH10244707A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光偏向走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9063894A JPH10244707A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光偏向走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10244707A true JPH10244707A (ja) | 1998-09-14 |
Family
ID=13242473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9063894A Pending JPH10244707A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光偏向走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10244707A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6179404B1 (en) | 1998-10-27 | 2001-01-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording apparatus and cap for such apparatus |
| US6549228B1 (en) * | 1999-01-08 | 2003-04-15 | Pentax Corporation | Multiple-beam laser diode adjusting device and an adjustable conductive support therefor |
| US6992690B2 (en) * | 1998-09-14 | 2006-01-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-beam scanning apparatus |
| JP2013015557A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-24 | Canon Inc | 光源装置、該光源装置を備える光走査装置、及び該光走査装置を備える画像形成装置 |
| JP2014013349A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Canon Inc | 光ビーム出射装置及び画像形成装置 |
| US8922859B2 (en) | 2011-09-14 | 2014-12-30 | Ricoh Company, Ltd. | Light source device, method of assembling light source device, optical scanning device, and image forming apparatus |
| CN111596516A (zh) * | 2019-02-20 | 2020-08-28 | 青岛海信激光显示股份有限公司 | 激光光源及激光投影装置 |
| US11570411B2 (en) | 2019-01-10 | 2023-01-31 | Hisense Laser Display Co., Ltd. | Laser light source and laser projection device |
| US11592145B2 (en) | 2019-01-10 | 2023-02-28 | Hisense Laser Display Co., Ltd. | Laser light source and laser projection device |
-
1997
- 1997-03-03 JP JP9063894A patent/JPH10244707A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6992690B2 (en) * | 1998-09-14 | 2006-01-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-beam scanning apparatus |
| US6179404B1 (en) | 1998-10-27 | 2001-01-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording apparatus and cap for such apparatus |
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| JP2014013349A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Canon Inc | 光ビーム出射装置及び画像形成装置 |
| US11570411B2 (en) | 2019-01-10 | 2023-01-31 | Hisense Laser Display Co., Ltd. | Laser light source and laser projection device |
| US11592145B2 (en) | 2019-01-10 | 2023-02-28 | Hisense Laser Display Co., Ltd. | Laser light source and laser projection device |
| CN111596516A (zh) * | 2019-02-20 | 2020-08-28 | 青岛海信激光显示股份有限公司 | 激光光源及激光投影装置 |
| CN111596516B (zh) * | 2019-02-20 | 2023-09-26 | 青岛海信激光显示股份有限公司 | 激光光源及激光投影装置 |
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