JPH1172729A - マルチビーム走査装置 - Google Patents
マルチビーム走査装置Info
- Publication number
- JPH1172729A JPH1172729A JP9249902A JP24990297A JPH1172729A JP H1172729 A JPH1172729 A JP H1172729A JP 9249902 A JP9249902 A JP 9249902A JP 24990297 A JP24990297 A JP 24990297A JP H1172729 A JPH1172729 A JP H1172729A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡便な回転調整によりレーザースポット光の
間隔を調整する。 【解決手段】 レーザーユニット２１は半導体レーザー
光源２２とホルダ２３とコリメータレンズ２４が内蔵さ
れた鏡筒２５とから構成されている。半導体レーザー光
源２２は圧入や接着によってホルダ２３に固定され、ホ
ルダ２３はコリメータレンズ２４が内蔵された鏡筒２５
に接着固定されている。レーザーユニット２１は光学箱
２６の圧入孔２７に圧入によって仮固定される。その後
に、副走査ピッチ間隔の調整をレーザーユニット２１を
Ｂ−Ｂ’方向に回転することで行う。Ｂ−Ｂ’方向への
回転調整は、ホルダ２３に設けられた回転調整用孔２９
に回転調整用治具３０に設けられた回転調整用ピン３１
を嵌合させて、回転調整用治具を回転させて行い、所定
の解像度に対応したピッチ間隔になったところで回転調
整を完了する。
間隔を調整する。 【解決手段】 レーザーユニット２１は半導体レーザー
光源２２とホルダ２３とコリメータレンズ２４が内蔵さ
れた鏡筒２５とから構成されている。半導体レーザー光
源２２は圧入や接着によってホルダ２３に固定され、ホ
ルダ２３はコリメータレンズ２４が内蔵された鏡筒２５
に接着固定されている。レーザーユニット２１は光学箱
２６の圧入孔２７に圧入によって仮固定される。その後
に、副走査ピッチ間隔の調整をレーザーユニット２１を
Ｂ−Ｂ’方向に回転することで行う。Ｂ−Ｂ’方向への
回転調整は、ホルダ２３に設けられた回転調整用孔２９
に回転調整用治具３０に設けられた回転調整用ピン３１
を嵌合させて、回転調整用治具を回転させて行い、所定
の解像度に対応したピッチ間隔になったところで回転調
整を完了する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザプリンタや
デジタル複写機などにおいて光書き込みに用いられるマ
ルチビーム走査装置に関するものである。
デジタル複写機などにおいて光書き込みに用いられるマ
ルチビーム走査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種のマルチビームレーザーユ
ニット１では、例えば図７に示すように複数個の発光点
を有する半導体レーザー光源２が、ホルダ３の圧入孔４
に圧入又は接着等で固定される。この固定後に、図示し
ないコリメータレンズを内蔵する鏡筒５が、ＸＹＺの３
方向に調整されホルダ３に接着固定される。
ニット１では、例えば図７に示すように複数個の発光点
を有する半導体レーザー光源２が、ホルダ３の圧入孔４
に圧入又は接着等で固定される。この固定後に、図示し
ないコリメータレンズを内蔵する鏡筒５が、ＸＹＺの３
方向に調整されホルダ３に接着固定される。
【０００３】このように、調整が完了したレーザーユニ
ット１を、例えばｆθレンズ６、回転多面鏡７等の光学
部品を内蔵する図８に示す光学箱８に固定する必要があ
るが、その際に図９に示すように感光体上における複数
個のスポットＳを副走査方向において所定のピッチ間隔
Ｄに調整するために、レーザーユニット１を図７で示す
Ａ−Ａ’方向に回転調整する必要がある。例えば、この
ピッチ間隔Ｄは解像度６００ＤＰＩ（ドット／インチ）
では４２μｍ程度、１２００ＤＰＩでは２１μｍ程度と
非常に細かいピッチ間隔を±数μｍ程度で調整する必要
がある。
ット１を、例えばｆθレンズ６、回転多面鏡７等の光学
部品を内蔵する図８に示す光学箱８に固定する必要があ
るが、その際に図９に示すように感光体上における複数
個のスポットＳを副走査方向において所定のピッチ間隔
Ｄに調整するために、レーザーユニット１を図７で示す
Ａ−Ａ’方向に回転調整する必要がある。例えば、この
ピッチ間隔Ｄは解像度６００ＤＰＩ（ドット／インチ）
では４２μｍ程度、１２００ＤＰＩでは２１μｍ程度と
非常に細かいピッチ間隔を±数μｍ程度で調整する必要
がある。
【０００４】このようなＡ−Ａ’方向の回転調整は、ホ
ルダ３を光学箱８の圧入孔９に挿入してから、雄ねじ１
０をホルダ３に設けられた長孔１１に挿入し、光学箱８
に設けられた雌ねじ孔１２に螺合しておいてから、レー
ザーユニット１を光学箱８に対し回転調整を行い、その
後に雄ねじ１０を増締めして固定する。
ルダ３を光学箱８の圧入孔９に挿入してから、雄ねじ１
０をホルダ３に設けられた長孔１１に挿入し、光学箱８
に設けられた雌ねじ孔１２に螺合しておいてから、レー
ザーユニット１を光学箱８に対し回転調整を行い、その
後に雄ねじ１０を増締めして固定する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の従
来例では、回転調整後にホルダ３を固定するために増締
めをすると、レーザーユニット１が変形又は移動してし
まい、調整したピッチ間隔Ｄが狂ってしまうことがあ
る。また、回転調整後にホルダ３を接着すると、接着剤
によるホルダ３の変形が生じ、調整したピッチ間隔Ｄが
同様に変化してしまうこともある。更に、ホルダ３と光
学箱８の熱膨張率の違いにより、高温時と低温時では副
走査ピッチ間隔Ｄが異なるという問題点がある。
来例では、回転調整後にホルダ３を固定するために増締
めをすると、レーザーユニット１が変形又は移動してし
まい、調整したピッチ間隔Ｄが狂ってしまうことがあ
る。また、回転調整後にホルダ３を接着すると、接着剤
によるホルダ３の変形が生じ、調整したピッチ間隔Ｄが
同様に変化してしまうこともある。更に、ホルダ３と光
学箱８の熱膨張率の違いにより、高温時と低温時では副
走査ピッチ間隔Ｄが異なるという問題点がある。
【０００６】また、レーザーユニット１を回転する際
に、図１０に示すようにレーザーユニット１が光学箱８
の底面から下方に突出し、光学箱８を安定して設置でき
ない場合が生ずることがある。
に、図１０に示すようにレーザーユニット１が光学箱８
の底面から下方に突出し、光学箱８を安定して設置でき
ない場合が生ずることがある。
【０００７】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
簡便な回転調整、装置の小型化を実現するマルチビーム
走査装置を提供することにある。
簡便な回転調整、装置の小型化を実現するマルチビーム
走査装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めの本発明に係るマルチビーム走査装置は、複数の発光
点を有する半導体レーザー光源、該半導体レーザー光源
を保持するホルダ、及び発光されたビームを略平行光と
するコリメータレンズを有するレーザーユニットと、感
光体に向けて偏向走査するための各種レンズ、偏向器を
内蔵する光学箱とを有するマルチビーム走査装置におい
て、前記レーザーユニットを前記光学箱に取り付ける際
に、前記光学箱の圧入孔に前記ホルダを圧入したことを
特徴とする。
めの本発明に係るマルチビーム走査装置は、複数の発光
点を有する半導体レーザー光源、該半導体レーザー光源
を保持するホルダ、及び発光されたビームを略平行光と
するコリメータレンズを有するレーザーユニットと、感
光体に向けて偏向走査するための各種レンズ、偏向器を
内蔵する光学箱とを有するマルチビーム走査装置におい
て、前記レーザーユニットを前記光学箱に取り付ける際
に、前記光学箱の圧入孔に前記ホルダを圧入したことを
特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明を図１〜図６に図示の実施
例に基づいて詳細に説明する。図１は第１の実施例の分
解斜視図を示し、レーザーユニット２１は半導体レーザ
ー光源２２とホルダ２３とコリメータレンズ２４が内蔵
された鏡筒２５とから構成されている。半導体レーザー
光源２２は圧入や接着によってホルダ２３に固定され、
ホルダ２３は鏡筒２５に接着固定されている。このホル
ダ２３を鏡筒２５に接着固定する際には、半導体レーザ
ー光源２２に対してＸＹＺの３方向に調整される。そし
て、レーザーユニット２１は光学箱２６の圧入孔２７に
固定されている。
例に基づいて詳細に説明する。図１は第１の実施例の分
解斜視図を示し、レーザーユニット２１は半導体レーザ
ー光源２２とホルダ２３とコリメータレンズ２４が内蔵
された鏡筒２５とから構成されている。半導体レーザー
光源２２は圧入や接着によってホルダ２３に固定され、
ホルダ２３は鏡筒２５に接着固定されている。このホル
ダ２３を鏡筒２５に接着固定する際には、半導体レーザ
ー光源２２に対してＸＹＺの３方向に調整される。そし
て、レーザーユニット２１は光学箱２６の圧入孔２７に
固定されている。
【００１０】レーザーユニット２１を光学箱２６に取り
付ける際には、光学箱２６の圧入孔２７に対して、ホル
ダ２３に設けられた圧入部２８を軽圧入することによ
り、レーザーユニット２１は光学箱２６に仮固定され
る。ここで云う軽圧入とは、数μｍから高々数１０μｍ
程度の圧入代であり、例えばホルダ２３の圧入部２８の
外径を＋０．００２ｍｍ〜＋０．０１７ｍｍの寸法公差
で仕上げ、圧入孔２７の内径を０．０００ｍｍ〜−０．
０１５ｍｍの寸法公差にした場合に、最大で０．０３２
ｍｍ、最小で０．００２ｍｍの圧入代となる。この程度
であれば、ホルダ２３を殆ど変形させることなく圧入す
ることができる。
付ける際には、光学箱２６の圧入孔２７に対して、ホル
ダ２３に設けられた圧入部２８を軽圧入することによ
り、レーザーユニット２１は光学箱２６に仮固定され
る。ここで云う軽圧入とは、数μｍから高々数１０μｍ
程度の圧入代であり、例えばホルダ２３の圧入部２８の
外径を＋０．００２ｍｍ〜＋０．０１７ｍｍの寸法公差
で仕上げ、圧入孔２７の内径を０．０００ｍｍ〜−０．
０１５ｍｍの寸法公差にした場合に、最大で０．０３２
ｍｍ、最小で０．００２ｍｍの圧入代となる。この程度
であれば、ホルダ２３を殆ど変形させることなく圧入す
ることができる。
【００１１】その後に、レーザーユニット２１をＢ−
Ｂ’方向に回転することにより副走査ピッチ間隔の調整
を行う。Ｂ−Ｂ’方向への回転調整は回転調整用治具３
０を用いて行い、ホルダ２３に設けられた回転調整用孔
２９に、回転調整用治具３０に設けられた回転調整用ピ
ン３１を嵌合させて、回転調整用治具３０を回転させな
がら、所定の解像度に対応したピッチ間隔になったとこ
ろで回転調整を完了する。
Ｂ’方向に回転することにより副走査ピッチ間隔の調整
を行う。Ｂ−Ｂ’方向への回転調整は回転調整用治具３
０を用いて行い、ホルダ２３に設けられた回転調整用孔
２９に、回転調整用治具３０に設けられた回転調整用ピ
ン３１を嵌合させて、回転調整用治具３０を回転させな
がら、所定の解像度に対応したピッチ間隔になったとこ
ろで回転調整を完了する。
【００１２】図２は第２の実施例のレーザーユニット２
１の断面図を示している。なお、第１の実施例と同一の
符号は、同一機能の部材であるので説明を省略する。こ
の第２の実施例においては、ホルダ２３の板体部を埋め
込む程度の段差を有する凹部４１が光学箱２６の表面に
設けられている。なお、圧入部２８を圧入孔２７に圧入
する手順は、第１の実施例と同様である。
１の断面図を示している。なお、第１の実施例と同一の
符号は、同一機能の部材であるので説明を省略する。こ
の第２の実施例においては、ホルダ２３の板体部を埋め
込む程度の段差を有する凹部４１が光学箱２６の表面に
設けられている。なお、圧入部２８を圧入孔２７に圧入
する手順は、第１の実施例と同様である。
【００１３】このように、凹部４１にホルダ２３を埋め
込むことにより、ホルダ２３が図１０に示すように光学
箱２６の外側に突出する虞れがなくなり、ホルダ２３に
誤って接触したり、衝撃を加える可能性が低減し、調整
後の所定の副走査ピッチ間隔を維持することが可能とな
る。
込むことにより、ホルダ２３が図１０に示すように光学
箱２６の外側に突出する虞れがなくなり、ホルダ２３に
誤って接触したり、衝撃を加える可能性が低減し、調整
後の所定の副走査ピッチ間隔を維持することが可能とな
る。
【００１４】図３は第３の実施例を示し、ホルダ２３の
圧入部２８の外周面に複数個の短冊状の凸条部４２が長
手方向に向けて配列されている。これらの凸条部４２に
よりホルダ２３の圧入部２８の周長が短くなり、圧入孔
２７への圧入力を低減することができる。
圧入部２８の外周面に複数個の短冊状の凸条部４２が長
手方向に向けて配列されている。これらの凸条部４２に
よりホルダ２３の圧入部２８の周長が短くなり、圧入孔
２７への圧入力を低減することができる。
【００１５】また、図４は第４の実施例を示し、光学箱
２６の圧入孔２７に関しても同様な効果を得るために、
圧入孔２７の内周面にも複数個の凹条部４３が長手方向
に向けて形成されている。これにより、圧入孔２７への
圧入力を低減し、ホルダ２３の変形を小さくすることが
可能になる。
２６の圧入孔２７に関しても同様な効果を得るために、
圧入孔２７の内周面にも複数個の凹条部４３が長手方向
に向けて形成されている。これにより、圧入孔２７への
圧入力を低減し、ホルダ２３の変形を小さくすることが
可能になる。
【００１６】図５は第５の実施例を示し、円筒状のホル
ダ２３の基部の両側面に、Ｄカット部４４が設けられて
いる。半導体レーザー光源２２はホルダ２３に圧入又は
固定されており、半導体レーザー光源２２のほぼ外側位
置に圧入部２８が設けられている。圧入部２８を光学箱
２６の圧入孔２７に圧入する際に、圧入部２８は半導体
レーザー光源２２のほぼ外側位置に設けられているの
で、圧入の際のホルダ２３の変形によるレーザーユニッ
ト２１におけるピント変動や照射位置変動が殆ど生ずる
ことはない。
ダ２３の基部の両側面に、Ｄカット部４４が設けられて
いる。半導体レーザー光源２２はホルダ２３に圧入又は
固定されており、半導体レーザー光源２２のほぼ外側位
置に圧入部２８が設けられている。圧入部２８を光学箱
２６の圧入孔２７に圧入する際に、圧入部２８は半導体
レーザー光源２２のほぼ外側位置に設けられているの
で、圧入の際のホルダ２３の変形によるレーザーユニッ
ト２１におけるピント変動や照射位置変動が殆ど生ずる
ことはない。
【００１７】その後に、Ｄカット部４４に回転調整治具
５０の爪部を嵌合し、ホルダ２３をＣ−Ｃ’方向に回転
調整する。この場合でも、圧入部２８の近傍にＤカット
部４４を設けているので、レーザーユニット２１におけ
るピント変動や照射位置の変動は殆ど生じない。
５０の爪部を嵌合し、ホルダ２３をＣ−Ｃ’方向に回転
調整する。この場合でも、圧入部２８の近傍にＤカット
部４４を設けているので、レーザーユニット２１におけ
るピント変動や照射位置の変動は殆ど生じない。
【００１８】図６は第６の実施例を示し、半導体レーザ
ー光源２２のほぼ外側に圧入部２８が設けられており、
回転調整用のＤカット部４５はホルダ２３の先端部分に
設けられている。
ー光源２２のほぼ外側に圧入部２８が設けられており、
回転調整用のＤカット部４５はホルダ２３の先端部分に
設けられている。
【００１９】このように、ホルダ２３の先端部にＤカッ
ト部４５を設けても、光学箱２３の内部から回転調整治
具５０を使用してホルダ２３の回転調整が可能となり、
レーザーユニット２１のピント変動や照射位置変動を効
果的に抑制することができる。
ト部４５を設けても、光学箱２３の内部から回転調整治
具５０を使用してホルダ２３の回転調整が可能となり、
レーザーユニット２１のピント変動や照射位置変動を効
果的に抑制することができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るマルチ
ビーム走査装置は、ホルダを光学箱に圧入しているの
で、ホルダを回転調整後に増締めする必要がなく、再度
ピントが変動したり、照射位置が変動することがない。
ビーム走査装置は、ホルダを光学箱に圧入しているの
で、ホルダを回転調整後に増締めする必要がなく、再度
ピントが変動したり、照射位置が変動することがない。
【００２１】また、光学箱外にホルダが突出しないよう
にすれば、組立作業中に誤ってホルダに触れてピント変
動や照射位置変動を発生させることはない。
にすれば、組立作業中に誤ってホルダに触れてピント変
動や照射位置変動を発生させることはない。
【００２２】更に、光学箱の圧入孔の内周、ホルダの圧
入部の外周の何れか一方が凹凸を持つようにすれば、圧
入力を緩和することができ、回転調整が容易になる。
入部の外周の何れか一方が凹凸を持つようにすれば、圧
入力を緩和することができ、回転調整が容易になる。
【００２３】また、ホルダの圧入部を半導体レーザー光
源のほぼ外側に位置させれば、ホルダの変形が無くな
り、ピントや照射位置変動を発生させることはない。
源のほぼ外側に位置させれば、ホルダの変形が無くな
り、ピントや照射位置変動を発生させることはない。
【図１】第１の実施例の分解斜視図である。
【図２】第２の実施例の断面図である。
【図３】第３の実施例の斜視図である。
【図４】第４の実施例の斜視図である。
【図５】第４の実施例の斜視図である。
【図６】第６の実施例の斜視図である。
【図７】従来例の斜視図である。
【図８】従来例の走査光学装置の斜視図である。
【図９】スポットの副走査間隔の説明図である。
【図１０】レーザーユニットが光学箱の下方に突出した
状態の説明図である。
状態の説明図である。
２１ レーザーユニット ２２ 半導体レーザー光源 ２３ ホルダ ２５ 鏡筒 ２６ 光学箱 ２７ 圧入孔 ２８ 圧入部 ２９ 回転調整用孔 ３０、５０ 回転調整用治具 ４１ 凹部 ４２ 凸条部 ４３ 凹条部 ４４、４５ Ｄカット部
Claims (4)
- 【請求項１】 複数の発光点を有する半導体レーザー光
源、該半導体レーザー光源を保持するホルダ、及び発光
されたビームを略平行光とするコリメータレンズを有す
るレーザーユニットと、感光体に向けて偏向走査するた
めの各種レンズ、偏向器を内蔵する光学箱とを有するマ
ルチビーム走査装置において、前記レーザーユニットを
前記光学箱に取り付ける際に、前記光学箱の圧入孔に前
記ホルダを圧入したことを特徴とするマルチビーム走査
装置。 - 【請求項２】 前記ホルダは前記光学箱よりも外側に突
出しないようにした請求項１に記載のマルチビーム走査
走査。 - 【請求項３】 前記光学箱の圧入孔の内周又は前記ホル
ダの圧入部外周の何れか一方を凹凸面とした請求項１に
記載のマルチビーム走査装置。 - 【請求項４】 前記ホルダの圧入部を前記半導体レーザ
ー光源のほぼ外側に位置させた請求項１に記載のマルチ
ビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9249902A JPH1172729A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | マルチビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9249902A JPH1172729A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | マルチビーム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1172729A true JPH1172729A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=17199915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9249902A Pending JPH1172729A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | マルチビーム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1172729A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6320647B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-11-20 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam light source unit, multi-beam scanner and image forming apparatus |
| JP2006171159A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
| JP2012027395A (ja) * | 2010-07-27 | 2012-02-09 | Brother Ind Ltd | マルチビーム光源装置およびマルチビーム光走査装置 |
| JP2012056285A (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Ricoh Co Ltd | 光源装置、光走査装置および画像形成装置 |
| WO2013133242A1 (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-12 | シャープ株式会社 | 光走査装置、その製造方法、及びそれを備えた画像形成装置 |
-
1997
- 1997-08-29 JP JP9249902A patent/JPH1172729A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6320647B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-11-20 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam light source unit, multi-beam scanner and image forming apparatus |
| JP2006171159A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
| JP2012027395A (ja) * | 2010-07-27 | 2012-02-09 | Brother Ind Ltd | マルチビーム光源装置およびマルチビーム光走査装置 |
| US8559087B2 (en) | 2010-07-27 | 2013-10-15 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Multi-beam light source device and multi-beam light scanning device |
| JP2012056285A (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Ricoh Co Ltd | 光源装置、光走査装置および画像形成装置 |
| WO2013133242A1 (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-12 | シャープ株式会社 | 光走査装置、その製造方法、及びそれを備えた画像形成装置 |
| CN104160319A (zh) * | 2012-03-07 | 2014-11-19 | 夏普株式会社 | 光扫描装置、其制造方法和具有其的图像形成装置 |
| US9170522B2 (en) | 2012-03-07 | 2015-10-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Light scanning device, method for manufacturing the same, and image forming apparatus with the same |
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