JPH10246954A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高感度で保存安定性に優れた光重合性組成物
を提供する。 【解決手段】 少なくともi)付加重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物、ii) チタノセン化合物、ii
i)メロシアニン色素またはベンゾピラン色素、およびi
v)下記式一般式(I)で表されるアミノ酸の塩を含有さ
せた光重合性組成物とする。 【化24】 [一般式(I)中、R1〜R3は水素原子または不飽和結
合を含んでいてもよい炭化水素基を表し、Arはアリー
ル基を表す。nは1〜4の整数である。n=1のとき、
M+はアルカリ金属イオンまたは四級アンモニウムイオ
ンを表す。n=2〜4のとき、Mn+は3級アミノ基が窒
素原子でn個、n価の炭化水素基に結合して形成された
四級アンモニウムイオンを表す。]
を提供する。 【解決手段】 少なくともi)付加重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物、ii) チタノセン化合物、ii
i)メロシアニン色素またはベンゾピラン色素、およびi
v)下記式一般式(I)で表されるアミノ酸の塩を含有さ
せた光重合性組成物とする。 【化24】 [一般式(I)中、R1〜R3は水素原子または不飽和結
合を含んでいてもよい炭化水素基を表し、Arはアリー
ル基を表す。nは1〜4の整数である。n=1のとき、
M+はアルカリ金属イオンまたは四級アンモニウムイオ
ンを表す。n=2〜4のとき、Mn+は3級アミノ基が窒
素原子でn個、n価の炭化水素基に結合して形成された
四級アンモニウムイオンを表す。]
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光重合性組成物に関
するものである。さらに詳しくは、少なくとも付加重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物、チタノセン化合物、分光増感色素およびアミノ酸の
塩を含有する光重合性組成物に関する。
するものである。さらに詳しくは、少なくとも付加重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物、チタノセン化合物、分光増感色素およびアミノ酸の
塩を含有する光重合性組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、光重合系を利用した画像形成法は
多数知られており、印刷版、プリント回路、塗料、イン
キ、ホログラム記録、3次元造形等の広い分野に用いら
れている。例えば、付加重合可能なエチレン性二重結合
を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望により用いら
れる有機高分子結合剤、熱重合禁止剤等からなる光重合
性組成物を、支持体上に皮膜層として設け、所望画像を
像露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分を溶解
除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方法、
少なくとも一方が透明である2枚の支持体間に上述の光
重合性組成物の層を設け、透明支持体側より像露光し光
による接着強度の変化を誘起させた後、支持体を剥離す
ることにより画像を形成する方法、光重合性組成物およ
びロイコ色素等の色材料を内容物に有するマイクロカプ
セル層を設けた感光材料を作成し、この感光材料を画像
露光して露光部分のカプセルを光硬化させ、未露光部分
のカプセルを加圧処理、あるいは加熱処理により破壊
し、色材料顕色剤と接触させることにより発色させ、着
色画像を形成する方法、その他、光重合性組成物の光に
よるトナー付着性の変化を利用した画像形成法、光重合
性組成物の光による屈折率の変化を利用した画像形成法
等が知られている。
多数知られており、印刷版、プリント回路、塗料、イン
キ、ホログラム記録、3次元造形等の広い分野に用いら
れている。例えば、付加重合可能なエチレン性二重結合
を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望により用いら
れる有機高分子結合剤、熱重合禁止剤等からなる光重合
性組成物を、支持体上に皮膜層として設け、所望画像を
像露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分を溶解
除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方法、
少なくとも一方が透明である2枚の支持体間に上述の光
重合性組成物の層を設け、透明支持体側より像露光し光
による接着強度の変化を誘起させた後、支持体を剥離す
ることにより画像を形成する方法、光重合性組成物およ
びロイコ色素等の色材料を内容物に有するマイクロカプ
セル層を設けた感光材料を作成し、この感光材料を画像
露光して露光部分のカプセルを光硬化させ、未露光部分
のカプセルを加圧処理、あるいは加熱処理により破壊
し、色材料顕色剤と接触させることにより発色させ、着
色画像を形成する方法、その他、光重合性組成物の光に
よるトナー付着性の変化を利用した画像形成法、光重合
性組成物の光による屈折率の変化を利用した画像形成法
等が知られている。
【0003】これらの方法に応用されている光重合組成
物の多くは、光重合開始剤として、ベンジル、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノン、アクリ
ジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が用いられてき
た。しかしながら、これらの光重合開始剤は400nm以
下の紫外光に対する光重合開始能力に比較し、400nm
以上の可視光に対する光重合開始能力が顕著に低く、そ
の結果その応用範囲が著しく限定されていた。
物の多くは、光重合開始剤として、ベンジル、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノン、アクリ
ジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が用いられてき
た。しかしながら、これらの光重合開始剤は400nm以
下の紫外光に対する光重合開始能力に比較し、400nm
以上の可視光に対する光重合開始能力が顕著に低く、そ
の結果その応用範囲が著しく限定されていた。
【0004】近年、画像形成技術の発展に伴い、可視領
域の光線に対し高い感応性を有するフォトポリマーが要
請されている。それは、例えば非接触型の投影露光製版
や可視光レーザー製版等に適合した感光材料である。こ
のような可視光レーザーとしてはAr+ レーザーの48
8nm光、YAG−SHGレーザーの532nm光などが、
有望視されている。
域の光線に対し高い感応性を有するフォトポリマーが要
請されている。それは、例えば非接触型の投影露光製版
や可視光レーザー製版等に適合した感光材料である。こ
のような可視光レーザーとしてはAr+ レーザーの48
8nm光、YAG−SHGレーザーの532nm光などが、
有望視されている。
【0005】可視光領域の光線に感応することのできる
光重合開始系については、従来、多くの提案がなされて
きた。例えば、米国特許2,850,445号に記載のある
種の感応性染料、染料とアミンの複合開始系(特公昭4
4−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾールと
ラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−373
77号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアル
キルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−25
28号、特開昭54−155292号)、環状シス−α
−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭54−841
83号)、置換トリアジンとメロシアニン色素の系(特
開昭54−151024号)、3−ケトクマリンと活性
剤の系(特開昭52−112681号、特開昭58−1
5503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオ
ールの系(特開昭59−140203号)、有機過酸化
物と色素の系(特開昭59−140203号、特開昭5
9−189340号)、ローダニン骨格の色素とラジカ
ル発生剤の系(特開平2−244050号)等が挙げら
れる。
光重合開始系については、従来、多くの提案がなされて
きた。例えば、米国特許2,850,445号に記載のある
種の感応性染料、染料とアミンの複合開始系(特公昭4
4−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾールと
ラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−373
77号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアル
キルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−25
28号、特開昭54−155292号)、環状シス−α
−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭54−841
83号)、置換トリアジンとメロシアニン色素の系(特
開昭54−151024号)、3−ケトクマリンと活性
剤の系(特開昭52−112681号、特開昭58−1
5503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオ
ールの系(特開昭59−140203号)、有機過酸化
物と色素の系(特開昭59−140203号、特開昭5
9−189340号)、ローダニン骨格の色素とラジカ
ル発生剤の系(特開平2−244050号)等が挙げら
れる。
【0006】また、チタノセンが光重合開始剤として有
効であることは、特開昭59−152396号、特開昭
61−151197号、特開昭63−10602号、特
開昭63−41484号、特開平3−12403号に記
載されており、併用系としての使用例としては、チタノ
センと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221
110号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ
基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性
不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−22195
8号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定
のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号、
特開平8−220758号、特開平8−262714
号、特願平8−226919号)、あるいはチタノセン
と特定のベンゾピラン系色素の系(特願平7−1645
83号)等を挙げることができる。また、チタノセン化
合物の系に対し、さらに共増感剤としてアミノ酸あるい
はその誘導体を組み合わせた色素(特開平5−1325
07号、W09509383号、特開平4−19485
7号、特開平7−267907号)等を挙げることがで
きる。
効であることは、特開昭59−152396号、特開昭
61−151197号、特開昭63−10602号、特
開昭63−41484号、特開平3−12403号に記
載されており、併用系としての使用例としては、チタノ
センと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221
110号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ
基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性
不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−22195
8号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定
のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号、
特開平8−220758号、特開平8−262714
号、特願平8−226919号)、あるいはチタノセン
と特定のベンゾピラン系色素の系(特願平7−1645
83号)等を挙げることができる。また、チタノセン化
合物の系に対し、さらに共増感剤としてアミノ酸あるい
はその誘導体を組み合わせた色素(特開平5−1325
07号、W09509383号、特開平4−19485
7号、特開平7−267907号)等を挙げることがで
きる。
【0007】しかしながら、これらの従来技術は確かに
可視光線に対し有効であるが、感度が十分でない、ある
いは高感度を示すが、保存安定性が乏しい等の問題があ
り、実用に供することができなかった。
可視光線に対し有効であるが、感度が十分でない、ある
いは高感度を示すが、保存安定性が乏しい等の問題があ
り、実用に供することができなかった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高感度
の光重合性組成物を提供することである。特に、400
nm以上の可視光線、Ar+ レーザー、YAG−SHGレ
ーザーの出力に対応する488nm、532nmのような光
に対し、感度が高く、保存安定性に優れた光重合性組成
物を提供することである。
の光重合性組成物を提供することである。特に、400
nm以上の可視光線、Ar+ レーザー、YAG−SHGレ
ーザーの出力に対応する488nm、532nmのような光
に対し、感度が高く、保存安定性に優れた光重合性組成
物を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究の結果、特定の構造を有する色素と
アミノ酸の塩との共存下で光照射時に活性ラジカルを発
生しうるチタノセン化合物の併用系が、400nm以上の
可視光線に対し極めて感度が高く、かつ保存安定性に優
れることを見出し、本発明に到達したものである。
達成すべく鋭意研究の結果、特定の構造を有する色素と
アミノ酸の塩との共存下で光照射時に活性ラジカルを発
生しうるチタノセン化合物の併用系が、400nm以上の
可視光線に対し極めて感度が高く、かつ保存安定性に優
れることを見出し、本発明に到達したものである。
【0010】すなわち、本発明は下記(1)である。 (1) 少なくともi)付加重合可能なエチレン性不飽和
結合を有する化合物、ii) チタノセン化合物、iii)分光
増感色素としてメロシアニン色素またはベンゾピラン色
素、およびiv)下記式一般式(I)で表されるアミノ酸
の塩を含有することを特徴とする光重合性組成物。
結合を有する化合物、ii) チタノセン化合物、iii)分光
増感色素としてメロシアニン色素またはベンゾピラン色
素、およびiv)下記式一般式(I)で表されるアミノ酸
の塩を含有することを特徴とする光重合性組成物。
【0011】
【化2】
【0012】[一般式(I)中、R1、R2およびR3は
各々水素原子または不飽和結合を含んでいてもよい炭化
水素基を表す。Arはアリール基を表す。nは1〜4の
整数である。n=1のとき、M+はアルカリ金属イオン
または(R4)(R5)(R6)(R7)N+で表される四
級アンモニウムイオンを表す。n=2、3または4のと
き、Mn+は[(R4)(R5)(R6)N+]n−rを表
す。ここで、R4、R5、R6およびR7は各々不飽和結合
を含んでいてもよい炭化水素基を表し、rはn価の炭化
水素基を表す。]
各々水素原子または不飽和結合を含んでいてもよい炭化
水素基を表す。Arはアリール基を表す。nは1〜4の
整数である。n=1のとき、M+はアルカリ金属イオン
または(R4)(R5)(R6)(R7)N+で表される四
級アンモニウムイオンを表す。n=2、3または4のと
き、Mn+は[(R4)(R5)(R6)N+]n−rを表
す。ここで、R4、R5、R6およびR7は各々不飽和結合
を含んでいてもよい炭化水素基を表し、rはn価の炭化
水素基を表す。]
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【0014】本発明の光重合組成物は、i)付加重合可
能なエチレン性不飽和結合を有する化合物と、ii)チタ
ノセン化合物と、iii)分光増感色素としてメロシアニ
ン色素および/またはベンゾピラン色素と、iv)一般式
(I)で表されるアミノ酸の塩とを含有するものであ
る。
能なエチレン性不飽和結合を有する化合物と、ii)チタ
ノセン化合物と、iii)分光増感色素としてメロシアニ
ン色素および/またはベンゾピラン色素と、iv)一般式
(I)で表されるアミノ酸の塩とを含有するものであ
る。
【0015】このように、光重合性開始系として、チタ
ノセン化合物と、メロシアニン色素およびベンゾピラン
色素から選ばれた分光増感色素と、上記のアミノ酸の塩
とを用いることによって、400nm以上の可視光線やレ
ーザー光に対して高感度で保存安定性に優れた光重合組
成物が得られる。このような効果は、分光増感色素によ
って増感されたチタノセン化合物とアミノ酸の塩との相
互作用によって得られると推定されるが、このような系
において、上記のメロシアニン色素、ベンゾピラン色素
が極めて有効に作用すると考えられる。これに対し、上
記のアミノ酸の塩を含有させないと感度が低くなり、類
似化合物であるアミノ酸を用いると保存安定性が悪くな
り、またアミノ酸エステルでは感度が低くなる。
ノセン化合物と、メロシアニン色素およびベンゾピラン
色素から選ばれた分光増感色素と、上記のアミノ酸の塩
とを用いることによって、400nm以上の可視光線やレ
ーザー光に対して高感度で保存安定性に優れた光重合組
成物が得られる。このような効果は、分光増感色素によ
って増感されたチタノセン化合物とアミノ酸の塩との相
互作用によって得られると推定されるが、このような系
において、上記のメロシアニン色素、ベンゾピラン色素
が極めて有効に作用すると考えられる。これに対し、上
記のアミノ酸の塩を含有させないと感度が低くなり、類
似化合物であるアミノ酸を用いると保存安定性が悪くな
り、またアミノ酸エステルでは感度が低くなる。
【0016】以下、本発明の光重合性組成物の各成分に
ついて詳しく説明する。
ついて詳しく説明する。
【0017】本発明に使用される成分i)の付加重合性不
飽和結合を有する重合可能な化合物は、末端エチレン性
不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有す
る化合物から選ばれる。
飽和結合を有する重合可能な化合物は、末端エチレン性
不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有す
る化合物から選ばれる。
【0018】モノマーとしては、不飽和カルボン酸(例
えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価
アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価
アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
【0019】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
【0020】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【0021】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
【0022】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
【0023】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
【0024】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
【0025】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
も挙げることができる。
も挙げることができる。
【0026】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
【0027】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノ
マーを付加した1分子中に2個以上の重合性ビニル基を
含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノ
マーを付加した1分子中に2個以上の重合性ビニル基を
含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【0028】 CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH (A) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3 を示す。)
【0029】また、特開昭51−37193号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−
64183号、特公昭49−43191号、特公昭52
−30490号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートを挙げることができる。さ
らに日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜30
8ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用することができ
る。本発明において、これらのモノマーはプレポリマ
ー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、または
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態で使用しうる。
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−
64183号、特公昭49−43191号、特公昭52
−30490号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートを挙げることができる。さ
らに日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜30
8ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用することができ
る。本発明において、これらのモノマーはプレポリマ
ー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、または
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態で使用しうる。
【0030】また、これらの使用量は、光重合性組成物
の全成分に対して5〜70重量%(以下%と略称す
る。)、好ましくは10〜60%である。使用量が多い
場合には塗膜形成不良(べとつき)となりやすく、ま
た、使用量が少ない場合には硬化不良となりやすくなる
ため好ましくない。
の全成分に対して5〜70重量%(以下%と略称す
る。)、好ましくは10〜60%である。使用量が多い
場合には塗膜形成不良(べとつき)となりやすく、ま
た、使用量が少ない場合には硬化不良となりやすくなる
ため好ましくない。
【0031】次に成分ii)のチタノセン化合物について
詳述する。
詳述する。
【0032】成分ii)のチタノセン化合物は既に公知の
チタノセン化合物を挙げることができる。すなわち、チ
タノセン化合物の例としては、特開昭59−15239
6号、特開昭61−151197号、特開昭63−41
484号、特開平2−249号、特開平2−4705号
記載のチタノセン化合物が挙げられる。上記のチタノセ
ン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−ト
リフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフエニ−1−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−
ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフ
ルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフ
エニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−T
i−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−1−イル、ビス
(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ
−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム(後記
実施例使用のA−1)、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(メチルスルホンアミ
ド)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルビアロイ
ル−アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−エチル
アセチルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−メ
チルアセチルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N
−エチルプロピオニルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチル−(2,2−ジメチルブタノイル)ア
ミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−
(2,2−ジメチルブタノイル)アミノ)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジ
フルオロ−3−(N−ペンチル−(2,2−ジメチルブ
タノイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
ヘキシル)−(2,2−ジメチルブタノイル)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−メチルブチリルアミノ)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−メチルペンタノイル
アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−エチルシク
ロヘキシルカルボニルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチルイソブチリルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−エチルアセチルアミノ)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(2,2,5,5−テトラメチル−
1,2,5−アザジシロリジニ−1−イル)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(オクチルスルホンアミド)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(4−トリルスルホンアミド)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(4−ドデシルフェニルス
ルホニルアミド)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(4−
(1−ペンチルヘプチル)フェニルスルホニルアミド)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(エチルスルホニルアミ
ド)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−((4−ブロモフェニ
ル)−スルホニルアミド)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(2−ナフチルスルホニルアミド)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(ヘキサデシルスルホニルアミド)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(N−メチル−(4−ドデシルフェニ
ル)−スルホニルアミド)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−メチル−4−(1−ペンチルヘプチル)フェニ
ル)スルホニルアミド)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシル−(4−トリル)−スルホニルアミド)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(ピロリジン−2,5−ジ
オニ−1−イル)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3,4
−ジメチル−3−ピロリジン−2,5−ジオニ−1−イ
ル)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(フタルイミド)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−イソブトキシカルボニルア
ミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(エトキシカルボ
ニルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−((2−クロ
ロエトキシ)−カルボニルアミノ)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(フェノキシカルボニルアミノ)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジ
フルオロ−3−(3−フェニルチオウレイド)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(3−ブチルチオウレイド)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(3−フェニルウレイド)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(3−ブチルウレイド)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N,N−ジアセチルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3,3−ジメチルウ
レイド)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(アセチルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ブチリルアミノ)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(デカノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(オクタデカノイルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(イソブチリルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2−エチルヘキサノ
イルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2−メチル
ブタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ピバ
ロイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,2−
ジメチルブタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(2−エチル−2−メチルヘプタノイルアミノ)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(シクロヘキシルカルボニ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメ
チル−3−クロロプロパノイルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(3−フェニルプロパノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(2−クロロメチル−2−
メチル−3−クロロプロパノイルアミノ)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジ
フルオロ−3−(3,4−キシロイルアミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(4−エチルベンゾイルアミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(2,4,6−メシチルカ
ルボニルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ベンゾ
イルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−
フェニルプロピル)ベンゾイルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−(3−エチルヘプチル)−2,2−
ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−イソブチル−(4−トルイル)アミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチルベンゾイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘ
キシルメチルピバロイルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−(オクソラニ−2−イルメチル)ベンゾイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−エ
チルヘプチル)−2,2−ジメチルブタノイルアミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−フェニルプロ
ピル−(4−トルイル)アミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−(オクソラニ−2−イルメチル)−(4−
トルイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
(4−トルイルメチル)ベンゾイルアミノ)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(N−(4−トルイルメチル)−(4
−トルイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N
−(ブチルベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−(ブチル−(4−トルイル)アミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−(ヘキシル−(4−トルイ
ル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(2,
4−ジメチルペンチル)−2,2−ジメチルブタノイル
アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,4−ジメチ
ルペンチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−((4−トルイル)アミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチルペ
ンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,
2−ジメチル−3−エトキシプロパノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチル−3−
アリルオキシプロパノルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−アリルアセチルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(2−エチルブタノイルアミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチルベン
ゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−シク
ロヘキシルメチル−(4−トルイル)アミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−2−エチルヘキシル)ベン
ゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソ
プロピルベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−(3−フェニルプロピル)−2,2−ジメチ
ルペンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシルベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチ
ルペンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチルベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−(2−エチルヘキシル)−2,2−ジメチ
ルペンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシル−2,2−ジメチルペンタノイルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソプロピル−
2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−(3−フェニルプロピル)ピバロイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−
2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−(2−メトキシエチル)ベンゾイル
アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ベンジルベ
ンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ベ
ンジル−(4−トルイル)アミノ)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−(2−メトキシエチル)−(4−トルイ
ル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(4−
メチルフェニルメチル)−2,2−ジメチルペンタノイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(2−メ
トキシエチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシル
メチル−(2−エチル−2−メチルヘプタノイル)アミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(4−
クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−ヘキシル−(2−エチル−2−メチルブタノ
イルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロ
ヘキシル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−(オクソラニ−2−
イルメチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシル−
(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−シクロヘキシル−(2−クロロベンゾイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3,3−ジメ
チル−2,2−アゼチジノニ−1−イル)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジ
フルオロ−3−イソシアナトフェニル)チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチル−(4−トリルスルホニル)アミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4−ト
リルスルホニル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチル−(4−トリルスルホニル)アミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチル−(4−
トリルスルホニル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプ
ロパノイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N
−(3−フェニルプロピル)−2,2−ジメチル−3−
クロロプロパノイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−シクロヘキシルメチル−(2,2−ジメチル
−3−クロロプロパノイル)アミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−イソブチル−(2,2−ジメチル−
3−クロロプロパノイル)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチル−(2−クロロメチル−2−メチル−3−
クロロプロパノイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(ブチルチオカルボニルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(フェニルチオカルボニルアミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−2,2−
ジメチルブタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(メチルシクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフル
オロ−3−(N−ヘキシル−2,2−ジメチルペンタノ
イルアミノ)フェニル]チタン、ビス(メチルシクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
エチルアセチルアミノ)フェニル]チタン、ビス(メチ
ルシクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチルプロピオニルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(トリメチルシリルペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−2,2−ジ
メチルプロパノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−(2−メトキシエチル)−トリメチルシリル
アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルヘキ
シルジメチルシリルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチル−(1,1,2−トリルメチルプロピ
ル)ジメチルシリルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(3−エトキシメチル−3−メチル−2−アゼチオ
ジノニ−1−イル)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3−
アリルオキシメチル−3−メチル−2−アゼチジノニ−
1−イル)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3−クロロメ
チル−3−メチル−2−アゼチジノニ−1−イル)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ベンジル−2,2−
ジメチルプロパノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(5,5−ジメチル−2−ピロリジノニ−1−イ
ル)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(6,6−ジフェニル
−2−ピペリジノニ−1−イル)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンジンチア
ゾロ−3−オン(1,1−ジオキシド)−2−イル)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4−ク
ロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシル−(2−クロロベンゾイル)アミノ)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソプロピル−(4
−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−(4−メチルフェニルメチル)−(4−クロ
ロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−(4−メチルフェニルメチル)−(2−クロロベ
ンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
ブチル−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(N−ベンジル−2,2−ジメチルペ
ンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
(2−エチルヘキシル)−4−トリル−スルホニル)ア
ミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−オキ
サヘプチル)ベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−(3,6−ジオキサデシル)ベンゾイルア
ミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(トリフルオロメ
チルスルホニル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(トリフルオロアセチルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(2−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジ
フルオロ−3−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,6−ジオキサ
デシル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,7−ジメチル
−7−メトキシオクチル)ベンゾイルアミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルベンゾイル
アミノ)フェニル]チタン、等を挙げることができる。
チタノセン化合物を挙げることができる。すなわち、チ
タノセン化合物の例としては、特開昭59−15239
6号、特開昭61−151197号、特開昭63−41
484号、特開平2−249号、特開平2−4705号
記載のチタノセン化合物が挙げられる。上記のチタノセ
ン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−ト
リフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフエニ−1−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−
ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフ
ルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフ
エニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−T
i−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−1−イル、ビス
(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ
−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム(後記
実施例使用のA−1)、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(メチルスルホンアミ
ド)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルビアロイ
ル−アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−エチル
アセチルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−メ
チルアセチルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N
−エチルプロピオニルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチル−(2,2−ジメチルブタノイル)ア
ミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−
(2,2−ジメチルブタノイル)アミノ)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジ
フルオロ−3−(N−ペンチル−(2,2−ジメチルブ
タノイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
ヘキシル)−(2,2−ジメチルブタノイル)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−メチルブチリルアミノ)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−メチルペンタノイル
アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−エチルシク
ロヘキシルカルボニルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチルイソブチリルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−エチルアセチルアミノ)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(2,2,5,5−テトラメチル−
1,2,5−アザジシロリジニ−1−イル)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(オクチルスルホンアミド)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(4−トリルスルホンアミド)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(4−ドデシルフェニルス
ルホニルアミド)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(4−
(1−ペンチルヘプチル)フェニルスルホニルアミド)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(エチルスルホニルアミ
ド)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−((4−ブロモフェニ
ル)−スルホニルアミド)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(2−ナフチルスルホニルアミド)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(ヘキサデシルスルホニルアミド)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(N−メチル−(4−ドデシルフェニ
ル)−スルホニルアミド)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−メチル−4−(1−ペンチルヘプチル)フェニ
ル)スルホニルアミド)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシル−(4−トリル)−スルホニルアミド)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(ピロリジン−2,5−ジ
オニ−1−イル)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3,4
−ジメチル−3−ピロリジン−2,5−ジオニ−1−イ
ル)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(フタルイミド)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−イソブトキシカルボニルア
ミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(エトキシカルボ
ニルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−((2−クロ
ロエトキシ)−カルボニルアミノ)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(フェノキシカルボニルアミノ)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジ
フルオロ−3−(3−フェニルチオウレイド)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(3−ブチルチオウレイド)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(3−フェニルウレイド)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(3−ブチルウレイド)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N,N−ジアセチルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3,3−ジメチルウ
レイド)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(アセチルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ブチリルアミノ)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(デカノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(オクタデカノイルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(イソブチリルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2−エチルヘキサノ
イルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2−メチル
ブタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ピバ
ロイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,2−
ジメチルブタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(2−エチル−2−メチルヘプタノイルアミノ)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(シクロヘキシルカルボニ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメ
チル−3−クロロプロパノイルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(3−フェニルプロパノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(2−クロロメチル−2−
メチル−3−クロロプロパノイルアミノ)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジ
フルオロ−3−(3,4−キシロイルアミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(4−エチルベンゾイルアミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(2,4,6−メシチルカ
ルボニルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ベンゾ
イルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−
フェニルプロピル)ベンゾイルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−(3−エチルヘプチル)−2,2−
ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−イソブチル−(4−トルイル)アミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチルベンゾイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘ
キシルメチルピバロイルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−(オクソラニ−2−イルメチル)ベンゾイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−エ
チルヘプチル)−2,2−ジメチルブタノイルアミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−フェニルプロ
ピル−(4−トルイル)アミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−(オクソラニ−2−イルメチル)−(4−
トルイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
(4−トルイルメチル)ベンゾイルアミノ)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(N−(4−トルイルメチル)−(4
−トルイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N
−(ブチルベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−(ブチル−(4−トルイル)アミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−(ヘキシル−(4−トルイ
ル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(2,
4−ジメチルペンチル)−2,2−ジメチルブタノイル
アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,4−ジメチ
ルペンチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−((4−トルイル)アミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチルペ
ンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(2,
2−ジメチル−3−エトキシプロパノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチル−3−
アリルオキシプロパノルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−アリルアセチルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(2−エチルブタノイルアミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチルベン
ゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−シク
ロヘキシルメチル−(4−トルイル)アミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−2−エチルヘキシル)ベン
ゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソ
プロピルベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−(3−フェニルプロピル)−2,2−ジメチ
ルペンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシルベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチ
ルペンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチルベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−(2−エチルヘキシル)−2,2−ジメチ
ルペンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシル−2,2−ジメチルペンタノイルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソプロピル−
2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−(3−フェニルプロピル)ピバロイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−
2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−(2−メトキシエチル)ベンゾイル
アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ベンジルベ
ンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ベ
ンジル−(4−トルイル)アミノ)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−(2−メトキシエチル)−(4−トルイ
ル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(4−
メチルフェニルメチル)−2,2−ジメチルペンタノイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(2−メ
トキシエチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシル
メチル−(2−エチル−2−メチルヘプタノイル)アミ
ノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(4−
クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−ヘキシル−(2−エチル−2−メチルブタノ
イルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロ
ヘキシル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−(オクソラニ−2−
イルメチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシル−
(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−シクロヘキシル−(2−クロロベンゾイ
ルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3,3−ジメ
チル−2,2−アゼチジノニ−1−イル)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジ
フルオロ−3−イソシアナトフェニル)チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチル−(4−トリルスルホニル)アミノ)
フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4−ト
リルスルホニル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチル−(4−トリルスルホニル)アミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチル−(4−
トリルスルホニル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプ
ロパノイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N
−(3−フェニルプロピル)−2,2−ジメチル−3−
クロロプロパノイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−シクロヘキシルメチル−(2,2−ジメチル
−3−クロロプロパノイル)アミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−イソブチル−(2,2−ジメチル−
3−クロロプロパノイル)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチル−(2−クロロメチル−2−メチル−3−
クロロプロパノイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(ブチルチオカルボニルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフ
ルオロ−3−(フェニルチオカルボニルアミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−2,2−
ジメチルブタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(メチルシクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフル
オロ−3−(N−ヘキシル−2,2−ジメチルペンタノ
イルアミノ)フェニル]チタン、ビス(メチルシクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
エチルアセチルアミノ)フェニル]チタン、ビス(メチ
ルシクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチルプロピオニルアミノ)フェニル]チタ
ン、ビス(トリメチルシリルペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−2,2−ジ
メチルプロパノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−(2−メトキシエチル)−トリメチルシリル
アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルヘキ
シルジメチルシリルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−エチル−(1,1,2−トリルメチルプロピ
ル)ジメチルシリルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(3−エトキシメチル−3−メチル−2−アゼチオ
ジノニ−1−イル)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3−
アリルオキシメチル−3−メチル−2−アゼチジノニ−
1−イル)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(3−クロロメ
チル−3−メチル−2−アゼチジノニ−1−イル)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ベンジル−2,2−
ジメチルプロパノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(5,5−ジメチル−2−ピロリジノニ−1−イ
ル)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス[2,6−ジフルオロ−3−(6,6−ジフェニル
−2−ピペリジノニ−1−イル)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−2,3−ジヒドロ−1,2−ベンジンチア
ゾロ−3−オン(1,1−ジオキシド)−2−イル)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4−ク
ロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシル−(2−クロロベンゾイル)アミノ)フ
ェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−イソプロピル−(4
−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(N−(4−メチルフェニルメチル)−(4−クロ
ロベンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(N−(4−メチルフェニルメチル)−(2−クロロベ
ンゾイル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
ブチル−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−
ジフルオロ−3−(N−ベンジル−2,2−ジメチルペ
ンタノイルアミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−
(2−エチルヘキシル)−4−トリル−スルホニル)ア
ミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−オキ
サヘプチル)ベンゾイルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(N−(3,6−ジオキサデシル)ベンゾイルア
ミノ)フェニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(トリフルオロメ
チルスルホニル)アミノ)フェニル]チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−
(トリフルオロアセチルアミノ)フェニル]チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ
−3−(2−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル]チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジ
フルオロ−3−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,6−ジオキサ
デシル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェ
ニル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,7−ジメチル
−7−メトキシオクチル)ベンゾイルアミノ)フェニ
ル]チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス[2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルベンゾイル
アミノ)フェニル]チタン、等を挙げることができる。
【0033】本発明の光重合性組成物に用いられる成分
ii)のチタノセン化合物は単独でまたは2種以上併用し
て用いることができる。
ii)のチタノセン化合物は単独でまたは2種以上併用し
て用いることができる。
【0034】次に成分iii)の分光増感色素について詳述
する。
する。
【0035】本発明においては、分光増感色素としてメ
ロシアニン色素および/またはベンゾピラン色素を用い
る。これらの色素としては既に公知のものを挙げること
ができるが、好ましくは450〜600nmに吸収極大を
有するものである。
ロシアニン色素および/またはベンゾピラン色素を用い
る。これらの色素としては既に公知のものを挙げること
ができるが、好ましくは450〜600nmに吸収極大を
有するものである。
【0036】メロシアニン色素の好適例としては、特公
昭61−9621号記載の以下の一般式[1]〜[8]
で表されるメロシアニン色素がある。
昭61−9621号記載の以下の一般式[1]〜[8]
で表されるメロシアニン色素がある。
【0037】
【化3】
【0038】一般式[3]〜[8]において、X8は水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、
アリール基、置換アリール基、アリールオキシ基、アラ
ルキル基またはハロゲン原子を表す。一般式[2]にお
いてPhはフェニル基を表す。一般式[1]〜[8]に
おいて、R48、R49およびR50はそれぞれアルキル基、
置換アルキル基、アルケニル基、アリール基、置換アリ
ール基またはアラルキル基を表し、互いに同一でも異な
ってもよい。
素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、
アリール基、置換アリール基、アリールオキシ基、アラ
ルキル基またはハロゲン原子を表す。一般式[2]にお
いてPhはフェニル基を表す。一般式[1]〜[8]に
おいて、R48、R49およびR50はそれぞれアルキル基、
置換アルキル基、アルケニル基、アリール基、置換アリ
ール基またはアラルキル基を表し、互いに同一でも異な
ってもよい。
【0039】また、メロシアニン色素としては特開平2
−179643号記載の以下の一般式[9]〜[11]
で表される色素がある。
−179643号記載の以下の一般式[9]〜[11]
で表される色素がある。
【0040】
【化4】
【0041】一般式[9]〜[11]において、Aは酸
素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキ
ルもしくはアリール置換された窒素原子、またはジアル
キル置換された炭素原子を表す。
素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキ
ルもしくはアリール置換された窒素原子、またはジアル
キル置換された炭素原子を表す。
【0042】Y3は水素原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ア
シル基、または置換アルコキシカルボニル基を表す。
ル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ア
シル基、または置換アルコキシカルボニル基を表す。
【0043】R51、R52は水素原子、炭素数1〜18の
アルキル基、または置換基として、ハロゲン原子(F、
Cl、Br、I)、R53O−、−(CH2CH2O)x−
R53、もしくは下記の基を有する炭素数1〜18の置換
アルキル基を表す。
アルキル基、または置換基として、ハロゲン原子(F、
Cl、Br、I)、R53O−、−(CH2CH2O)x−
R53、もしくは下記の基を有する炭素数1〜18の置換
アルキル基を表す。
【0044】
【化5】
【0045】但し、R53は水素原子または炭素数1〜1
0のアルキル基を表し、Bは、ジアルキルアミノ基、水
酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表
す。
0のアルキル基を表し、Bは、ジアルキルアミノ基、水
酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表
す。
【0046】wは0〜4の整数、xは1〜20の整数を
表す。
表す。
【0047】また、特開平2−244050号記載の以
下の一般式[12]で表されるメロシアニン色素があ
る。
下の一般式[12]で表されるメロシアニン色素があ
る。
【0048】
【化6】
【0049】一般式[12]において、R54およびR55
は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルコキシカルボニル基、アリール基、置換アリー
ル基またはアラルキル基を表す。A2は酸素原子、イオ
ウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキルないしはア
リール置換された窒素原子、またはジアルキル置換され
た炭素原子を表す。X9は含窒素ヘテロ五員環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表す。
は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルコキシカルボニル基、アリール基、置換アリー
ル基またはアラルキル基を表す。A2は酸素原子、イオ
ウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキルないしはア
リール置換された窒素原子、またはジアルキル置換され
た炭素原子を表す。X9は含窒素ヘテロ五員環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表す。
【0050】Y4は置換フェニル基、無置換ないし置換
された多核芳香炭化水素環基、または無置換ないしは置
換されたヘテロ芳香環基を表す。Z3は水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコ
キシカルボニル基を表し、Y4と互いに結合して環を形
成してもよい。
された多核芳香炭化水素環基、または無置換ないしは置
換されたヘテロ芳香環基を表す。Z3は水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコ
キシカルボニル基を表し、Y4と互いに結合して環を形
成してもよい。
【0051】一般式[12]で表されるメロシアニン色
素の好ましい具体例としては、以下のものが挙げられ
る。
素の好ましい具体例としては、以下のものが挙げられ
る。
【0052】
【化7】
【0053】さらに、特公昭59−28326号記載の
以下の一般式[13]で表されるメロシアニン色素があ
る。
以下の一般式[13]で表されるメロシアニン色素があ
る。
【0054】
【化8】
【0055】一般式[13]において、R56およびR57
はそれぞれ水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基、置換アリールまたはアラルキル基を表し、そ
れらは互いに同一でも異なってもよい。X10はハメット
(Hammett)のシグマ(σ)値が−0.9から+0.5ま
での範囲内の置換基を表す。
はそれぞれ水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基、置換アリールまたはアラルキル基を表し、そ
れらは互いに同一でも異なってもよい。X10はハメット
(Hammett)のシグマ(σ)値が−0.9から+0.5ま
での範囲内の置換基を表す。
【0056】また、特開昭59−89303号記載の以
下の一般式[14]で表されるメロシアニン色素があ
る。
下の一般式[14]で表されるメロシアニン色素があ
る。
【0057】
【化9】
【0058】一般式[14]において、R58およびR59
は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を
表す。X11はハメット(Hammett)のシグマ(σ)値が−
0.9から+0.5までの範囲内の置換基を表す。Y5
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基またはア
ルコキシカルボニル基を表す。
は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を
表す。X11はハメット(Hammett)のシグマ(σ)値が−
0.9から+0.5までの範囲内の置換基を表す。Y5
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基またはア
ルコキシカルボニル基を表す。
【0059】一般式[14]で表されるメロシアニン色
素の好ましい具体例としては、以下のものが挙げられ
る。
素の好ましい具体例としては、以下のものが挙げられ
る。
【0060】
【化10】
【0061】また、特願平6−269047号記載の以
下の一般式[15]で表されるメロシアニン色素があ
る。
下の一般式[15]で表されるメロシアニン色素があ
る。
【0062】
【化11】
【0063】一般式[15]において、R60、R61、R
62、R63、R68、R69、R70、R71はそれぞれ独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、置換アリール基、ヒドロキシル基、
置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、
置換アミノ基、置換カルボニル基、スルホ基、スルホナ
ト基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスフ
ォノ基、置換ホスフォノ基、ホスフォナト基、置換ホス
フォナト基、シアノ基またはニトロ基を表す。R60とR
61、R61とR62、R62とR63、R68とR69、R69と
R70、R70とR71がそれぞれ互いに結合して脂肪族また
は芳香族環を形成していてもよい。R64は水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、または置換ア
リール基を表し、R65は置換もしくは無置換のアルケニ
ルアルキル基、または置換もしくは無置換のアルキニル
アルキル基を表し、R66、R67はそれぞれ独立して、水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、または置換カルボニル基
を表す。
62、R63、R68、R69、R70、R71はそれぞれ独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、置換アリール基、ヒドロキシル基、
置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、
置換アミノ基、置換カルボニル基、スルホ基、スルホナ
ト基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスフ
ォノ基、置換ホスフォノ基、ホスフォナト基、置換ホス
フォナト基、シアノ基またはニトロ基を表す。R60とR
61、R61とR62、R62とR63、R68とR69、R69と
R70、R70とR71がそれぞれ互いに結合して脂肪族また
は芳香族環を形成していてもよい。R64は水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、または置換ア
リール基を表し、R65は置換もしくは無置換のアルケニ
ルアルキル基、または置換もしくは無置換のアルキニル
アルキル基を表し、R66、R67はそれぞれ独立して、水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、または置換カルボニル基
を表す。
【0064】一般式[15]で表されるメロシアニン色
素の好ましい具体例としては、以下のものが挙げられ、
後記実施例でB−1として使用されているものもある。
素の好ましい具体例としては、以下のものが挙げられ、
後記実施例でB−1として使用されているものもある。
【0065】
【化12】
【0066】また、特願平7−164583号記載の以
下の一般式[16]で表されるベンゾピラン色素があ
る。
下の一般式[16]で表されるベンゾピラン色素があ
る。
【0067】
【化13】
【0068】一般式[16]において、R72〜R75はお
互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アリール基、水酸基、アルコキシ基またはアミノ基
を表す。また、R72〜R75はそれらが各々結合できる炭
素原子と共に非金属原子から成る環を形成していても良
い。
互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アリール基、水酸基、アルコキシ基またはアミノ基
を表す。また、R72〜R75はそれらが各々結合できる炭
素原子と共に非金属原子から成る環を形成していても良
い。
【0069】R76は、水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アルコキシ基、カルボ
キシ基またはアルケニル基を表す。R77はR76で表され
る基、または−Z−R76であり、Zはカルボニル基、ス
ルホニル基、スルフィニル基またはアリーレンジカルボ
ニル基を表す。またR76とR77は共に非金属原子から成
る環を形成しても良い。
基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アルコキシ基、カルボ
キシ基またはアルケニル基を表す。R77はR76で表され
る基、または−Z−R76であり、Zはカルボニル基、ス
ルホニル基、スルフィニル基またはアリーレンジカルボ
ニル基を表す。またR76とR77は共に非金属原子から成
る環を形成しても良い。
【0070】A1はO原子、S原子、NHまたは置換基
を有するN原子を表す。
を有するN原子を表す。
【0071】B1はO原子または下記の基を表す。
【0072】
【化14】
【0073】G1、G2は同一でも異なっていても良く、
水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、またはフルオロスルホ
ニル基を表す。但し、G1とG2は同時に水素原子となる
ことはない。またG1およびG2は炭素原子と共に非金属
原子からなる環を形成していても良い。
水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、またはフルオロスルホ
ニル基を表す。但し、G1とG2は同時に水素原子となる
ことはない。またG1およびG2は炭素原子と共に非金属
原子からなる環を形成していても良い。
【0074】一般式[16]で表されるベンゾピラン色
素の具体例としては後記実施例使用のB−2等が挙げら
れる。
素の具体例としては後記実施例使用のB−2等が挙げら
れる。
【0075】以上の分光増感色素のうち、より好ましく
は、特公昭61−9621号記載のメロシアニン色素、
特願平6−269047号のメロシアニン色素および特
願平7−164583号記載のベンゾピラン色素が挙げ
られ、最も好ましくは、特願平6−269047号記載
のメロシアニン色素および特願平7−164583号記
載のベンゾピラン色素が挙げられる。
は、特公昭61−9621号記載のメロシアニン色素、
特願平6−269047号のメロシアニン色素および特
願平7−164583号記載のベンゾピラン色素が挙げ
られ、最も好ましくは、特願平6−269047号記載
のメロシアニン色素および特願平7−164583号記
載のベンゾピラン色素が挙げられる。
【0076】これらの分光増感色素は単独で用いても2
種以上を併用してもよい。
種以上を併用してもよい。
【0077】次に、成分iv)の一般式(I)で表される
アミノ酸の塩について詳述する。
アミノ酸の塩について詳述する。
【0078】一般式(I)中、R1〜R3は各々水素原子
または不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基を表
し、このような炭化水素基は置換基を有していてもよ
い。
または不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基を表
し、このような炭化水素基は置換基を有していてもよ
い。
【0079】R1〜R3で表される置換基を有していても
よく、不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基として
はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリ
ール基が挙げられる。
よく、不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基として
はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリ
ール基が挙げられる。
【0080】R1〜R3 で表されるアルキル基としては
炭素原子数が1〜20の直鎖状、分岐状または環状のア
ルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソ
プロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチ
ル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メ
チルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル
基、2−ノルボニル基を挙げることができる。これらの
中では、炭素原子数1〜12の直鎖状、炭素原子数3〜
12の分岐状、ならびに炭素原子数5〜10の環状のア
ルキル基がより好ましい。
炭素原子数が1〜20の直鎖状、分岐状または環状のア
ルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソ
プロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチ
ル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メ
チルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル
基、2−ノルボニル基を挙げることができる。これらの
中では、炭素原子数1〜12の直鎖状、炭素原子数3〜
12の分岐状、ならびに炭素原子数5〜10の環状のア
ルキル基がより好ましい。
【0081】R1〜R3 で表される置換アルキル基のア
ルキレン基に結合する置換基としては、水素を除く一価
の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロ
ゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシ
ル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、
アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、
N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、
N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリ
ールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリール
カルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ
基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミ
ノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’
−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイ
ド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリ
ールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレ
イド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイ
ド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’
−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジ
アルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジア
ルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N
−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリール
ウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウ
レイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレ
イド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキ
ルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−
アルコキシカルボニルアミノ基、Nーアルキル−N−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基およびその共役塩基(以下、カルボキシ
ラートと称す。金属塩も含む)、アルコキシカルボニル
基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−
アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモ
イル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリ
ールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカル
バモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホ基(−SO3 H)およびその共役塩基基(ス
ルホナト基と称す。金属塩も含む)、アルコキシスルホ
ニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル
基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアル
キルスルフィイナモイル基、N−アリールスルフィナモ
イル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−
アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファ
モイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジ
アルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイ
ル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アル
キル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスル
ファモイル基およびその共役塩基基、N−アルキルスル
ホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl):a
lkyl=アルキル基、以下同)およびその共役塩基基、N
−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NH
SO2(aryl):aryl=アリール基、以下同)およびその
共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基
(−CONHSO2(alkyl))およびその共役塩基基、N
−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO
2(aryl))およびその共役塩基基、アルコキシシリル基
(−Si(Oalkyl)3)、アリールオキシシリル基(−S
i(Oaryl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(O
H)3)およびその共役塩基基、ホスホノ基(−PO3
H2 )およびその共役塩基基(ホスホナト基と称す。金
属塩も含む)、ジアルキルホスホノ基(−PO3 (alky
l )2)、ジアリールホスホノ基(−PO3 (aryl)
2 、アルキルアリールホスホノ基(−PO3 (alkyl )
(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3 H(al
kyl ))およびその共役塩基基(アルキルホスホナト基
と称す。金属塩も含む)、モノアリールホスホノ基(−
PO3 H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホ
スホナト基と称す。金属塩も含む)、ホスホノオキシ基
(−OPO3 H2 )およびその共役塩基基(ホスホナト
オキシ基と称す。金属塩も含む)、ジアルキルホスホノ
オキシ基(−OPO3 (alkyl )2 )、ジアリールホス
ホノオキシ基(−OPO3 (aryl)2 )、アルキルアリ
ールホスホノオキシ基(−OPO3 (alkyl )(ary
l))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3 H
(alkyl )およびその共役塩基基(アルキルホスホナト
オキシ基と称す。金属塩も含む)、モノアリールホスホ
ノオキシ基(−OPO3 H(aryl))およびその共役塩
基基(アリールホスホナトオキシ基と称す。金属塩も含
む)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基等が挙げられる。
ルキレン基に結合する置換基としては、水素を除く一価
の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロ
ゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシ
ル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、
アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、
N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、
N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリ
ールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリール
カルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ
基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミ
ノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’
−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイ
ド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリ
ールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレ
イド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイ
ド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’
−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジ
アルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジア
ルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N
−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリール
ウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウ
レイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレ
イド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキ
ルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−
アルコキシカルボニルアミノ基、Nーアルキル−N−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基およびその共役塩基(以下、カルボキシ
ラートと称す。金属塩も含む)、アルコキシカルボニル
基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−
アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモ
イル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリ
ールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカル
バモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホ基(−SO3 H)およびその共役塩基基(ス
ルホナト基と称す。金属塩も含む)、アルコキシスルホ
ニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル
基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアル
キルスルフィイナモイル基、N−アリールスルフィナモ
イル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−
アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファ
モイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジ
アルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイ
ル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アル
キル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスル
ファモイル基およびその共役塩基基、N−アルキルスル
ホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl):a
lkyl=アルキル基、以下同)およびその共役塩基基、N
−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NH
SO2(aryl):aryl=アリール基、以下同)およびその
共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基
(−CONHSO2(alkyl))およびその共役塩基基、N
−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO
2(aryl))およびその共役塩基基、アルコキシシリル基
(−Si(Oalkyl)3)、アリールオキシシリル基(−S
i(Oaryl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(O
H)3)およびその共役塩基基、ホスホノ基(−PO3
H2 )およびその共役塩基基(ホスホナト基と称す。金
属塩も含む)、ジアルキルホスホノ基(−PO3 (alky
l )2)、ジアリールホスホノ基(−PO3 (aryl)
2 、アルキルアリールホスホノ基(−PO3 (alkyl )
(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3 H(al
kyl ))およびその共役塩基基(アルキルホスホナト基
と称す。金属塩も含む)、モノアリールホスホノ基(−
PO3 H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホ
スホナト基と称す。金属塩も含む)、ホスホノオキシ基
(−OPO3 H2 )およびその共役塩基基(ホスホナト
オキシ基と称す。金属塩も含む)、ジアルキルホスホノ
オキシ基(−OPO3 (alkyl )2 )、ジアリールホス
ホノオキシ基(−OPO3 (aryl)2 )、アルキルアリ
ールホスホノオキシ基(−OPO3 (alkyl )(ary
l))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3 H
(alkyl )およびその共役塩基基(アルキルホスホナト
オキシ基と称す。金属塩も含む)、モノアリールホスホ
ノオキシ基(−OPO3 H(aryl))およびその共役塩
基基(アリールホスホナトオキシ基と称す。金属塩も含
む)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基等が挙げられる。
【0082】これらの置換アルキル基中の置換基におけ
るアルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙
げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビ
フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシ
フェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニ
ル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル
基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル
基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカ
ルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニ
ル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフ
ェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル
基、ホスフォナトフェニル基等が挙げることができる。
るアルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙
げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビ
フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシ
フェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニ
ル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル
基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル
基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカ
ルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニ
ル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフ
ェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル
基、ホスフォナトフェニル基等が挙げることができる。
【0083】また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル
基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル
基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フ
ェニルエチニル基等が挙げられる。
基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル
基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル
基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フ
ェニルエチニル基等が挙げられる。
【0084】上述のアシル基(R8CO−)としては、
R8が水素原子または上記のアルキル基、アリール基、
アルケニル基、アルキニル基であるものを挙げることが
できる。
R8が水素原子または上記のアルキル基、アリール基、
アルケニル基、アルキニル基であるものを挙げることが
できる。
【0085】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数1〜20のアルキル基上の水素
原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたもの
を挙げることができ、好ましくは炭素原子数1〜12の
直鎖状、炭素原子数3〜12の分岐状ならびに炭素原子
数5〜10の環状のアルキレン基を挙げることができ
る。このような置換基とアルキレン基を組み合わせるこ
とで得られるR1〜R3で表される置換アルキル基の具体
例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−ク
ロロエチル基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、メ
トキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェ
ノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチ
ル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニ
ル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホ
フェニル)カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルス
ルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノ
フェニル)スルファモイルオクチル基、下記の基、
基としては前述の炭素数1〜20のアルキル基上の水素
原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたもの
を挙げることができ、好ましくは炭素原子数1〜12の
直鎖状、炭素原子数3〜12の分岐状ならびに炭素原子
数5〜10の環状のアルキレン基を挙げることができ
る。このような置換基とアルキレン基を組み合わせるこ
とで得られるR1〜R3で表される置換アルキル基の具体
例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−ク
ロロエチル基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、メ
トキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェ
ノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチ
ル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニ
ル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホ
フェニル)カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルス
ルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノ
フェニル)スルファモイルオクチル基、下記の基、
【0086】
【化15】
【0087】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プ
ロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル
基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル
基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることが
できる。
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プ
ロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル
基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル
基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることが
できる。
【0088】R1〜R3 で表されるアリール基としては
1個〜3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、また
はベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものか
ら誘導される基を挙げることができる。具体例として
は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナン
トリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレ
ニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニ
ル基、ナフチル基がより好ましい。
1個〜3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、また
はベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものか
ら誘導される基を挙げることができる。具体例として
は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナン
トリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレ
ニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニ
ル基、ナフチル基がより好ましい。
【0089】R1〜R3 で表される置換アリール基とし
ては、置換基がアリール基に結合したものであり、前述
のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素
を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。
好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換ア
ルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換
基として示したものを挙げることができる。このよう
な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェ
ニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフ
ェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロメチルフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフ
ェニル基、メトキシフェニル基、トリメトキシフェニル
基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、
トリルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、エチ
ルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モル
ホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾ
イルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイ
ルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベ
ンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニル
フェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、
カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェ
ニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、
N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N
−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニ
ル基、メチルスルホニルフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル
基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジ
プロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルフ
ァモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスホノフェ
ニル)スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル
基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル
基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフ
ェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホ
ノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリルフ
ェニル基、1−プロペニルメチルフェニル基、2−ブテ
ニルフェニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メ
チルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル
基、2−ブチルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、
シアノフェニル基等を挙げることができる。
ては、置換基がアリール基に結合したものであり、前述
のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素
を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。
好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換ア
ルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換
基として示したものを挙げることができる。このよう
な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェ
ニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフ
ェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロメチルフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフ
ェニル基、メトキシフェニル基、トリメトキシフェニル
基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、
トリルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、エチ
ルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モル
ホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾ
イルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイ
ルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベ
ンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニル
フェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、
カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェ
ニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、
N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N
−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニ
ル基、メチルスルホニルフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル
基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジ
プロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルフ
ァモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスホノフェ
ニル)スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル
基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル
基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフ
ェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホ
ノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリルフ
ェニル基、1−プロペニルメチルフェニル基、2−ブテ
ニルフェニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メ
チルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル
基、2−ブチルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、
シアノフェニル基等を挙げることができる。
【0090】一般式(I)中、Arはアリール基を表
し、置換基を有していてもよい。
し、置換基を有していてもよい。
【0091】Arで表されるアリール基および置換アリ
ール基としては、上述のR1〜R3で述べたアリール基お
よび置換アリール基と同義のものが挙げられる。
ール基としては、上述のR1〜R3で述べたアリール基お
よび置換アリール基と同義のものが挙げられる。
【0092】n=1〜4の整数である。
【0093】一般式(I)中、n=1のとき、M+はア
ルカリ金属イオン(好ましくはLi+、Na+、K+、R
b+)または(R4)(R5)(R6)(R7)N+で表され
る四級アンモニウムイオンを表す。n=2〜4のとき、
Mn+は[(R4)(R5)(R6)N+]n−rを表す。こ
こで、R4〜R7は各々不飽和結合を含んでいてもよい炭
化水素基を表し、さらに置換基を有していてもよい。r
はn価の炭化水素基を表し、さらに置換基を有していて
もよい。
ルカリ金属イオン(好ましくはLi+、Na+、K+、R
b+)または(R4)(R5)(R6)(R7)N+で表され
る四級アンモニウムイオンを表す。n=2〜4のとき、
Mn+は[(R4)(R5)(R6)N+]n−rを表す。こ
こで、R4〜R7は各々不飽和結合を含んでいてもよい炭
化水素基を表し、さらに置換基を有していてもよい。r
はn価の炭化水素基を表し、さらに置換基を有していて
もよい。
【0094】R4〜R7で表される置換基を有していても
よく、かつ不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基と
しては、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基が挙げられる。
よく、かつ不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基と
しては、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基が挙げられる。
【0095】このようなアルキル基、置換アルキル基、
アリール基および置換アリール基としては、上記のR1
〜R3で述べたアルキル基、置換アルキル基、アリール
基および置換アリール基と同義のものが挙げられ、好ま
しくはメチル基、エチル基、ベンジル基、フェニル基等
である。
アリール基および置換アリール基としては、上記のR1
〜R3で述べたアルキル基、置換アルキル基、アリール
基および置換アリール基と同義のものが挙げられ、好ま
しくはメチル基、エチル基、ベンジル基、フェニル基等
である。
【0096】rで表されるn価の炭化水素基としては炭
素数1〜10のアルキレン基、アルカントリイル基もし
くはアルカンテトライル基、または炭素数6〜20のア
リーレン基、アレーントリイル基もしくはアレーンテト
ライル基等が挙げられ、好ましくはヘキサメチレン基、
フェニレン基、ペンタントリイル基、ペンタンテトライ
ル基等である。
素数1〜10のアルキレン基、アルカントリイル基もし
くはアルカンテトライル基、または炭素数6〜20のア
リーレン基、アレーントリイル基もしくはアレーンテト
ライル基等が挙げられ、好ましくはヘキサメチレン基、
フェニレン基、ペンタントリイル基、ペンタンテトライ
ル基等である。
【0097】以下に、一般式(I)で表されるアミノ酸
の塩の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
の塩の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
【0098】
【化16】
【0099】
【化17】
【0100】
【化18】
【0101】
【化19】
【0102】一般式(I)で表されるアミノ酸の塩のう
ち、例えばn=1のものは一般的には、例えば、下記の
方法1に示すようなスキームに従ってアミノ酸を有機ア
ルカリまたは無機アルカリで中和することで容易に合成
できる。
ち、例えばn=1のものは一般的には、例えば、下記の
方法1に示すようなスキームに従ってアミノ酸を有機ア
ルカリまたは無機アルカリで中和することで容易に合成
できる。
【0103】
【化20】
【0104】ここで言う有機アルカリ、無機アルカリと
はM+OH-のことであり、方法1のスキーム中のAr、
R1〜R3、M+は上述の一般式(I)と同一のものであ
る。
はM+OH-のことであり、方法1のスキーム中のAr、
R1〜R3、M+は上述の一般式(I)と同一のものであ
る。
【0105】また、出発物質であるアミノ酸は、例え
ば、市販のものを使用するか、あるいは丸善発行、社団
法人日本化学会編集「新実験化学講座」(有機化合物の
合成と反応[III])1672頁〜1692頁(197
8)記載の各種α−アミノ酸の合成法、あるいはそれに
準ずる方法で容易に合成できる。
ば、市販のものを使用するか、あるいは丸善発行、社団
法人日本化学会編集「新実験化学講座」(有機化合物の
合成と反応[III])1672頁〜1692頁(197
8)記載の各種α−アミノ酸の合成法、あるいはそれに
準ずる方法で容易に合成できる。
【0106】なお、n=2〜4のものも上記に準じて合
成することができる。
成することができる。
【0107】得られた化合物の同定は、マススペクト
ル、1H核磁気共鳴スペクトル(1HNMR)等によって
行うことができる。
ル、1H核磁気共鳴スペクトル(1HNMR)等によって
行うことができる。
【0108】以下に合成例を示す。
【0109】[合成例1]化合物I−1の合成 市販のN−フェニルグリシン(7.56g)、メタノー
ル(100ml)をフラスコに入れ、1.0M NaOH
水溶液(50.0ml)を滴下し、30分後、溶媒を減圧
除去し、アセトン(200ml)中に濃縮物を入れ、1時
間攪拌すると白晶が得られた。この白晶をろ取後、真空
乾燥することで目的物I−1(6.10g)を収率70
%で得た。構造は1HNMR、マススペクトルにより確
認した。
ル(100ml)をフラスコに入れ、1.0M NaOH
水溶液(50.0ml)を滴下し、30分後、溶媒を減圧
除去し、アセトン(200ml)中に濃縮物を入れ、1時
間攪拌すると白晶が得られた。この白晶をろ取後、真空
乾燥することで目的物I−1(6.10g)を収率70
%で得た。構造は1HNMR、マススペクトルにより確
認した。
【0110】[合成例2]化合物I−7の合成 市販のN−フェニルグリシン(7.56g)、メタノー
ル(100ml)をフラスコに入れ、1.0Mに調整した
テトラブチルアンモニウムハイドロキシドのメタノール
溶液(50ml)を滴下し、30分後、溶媒を減圧除去
し、酸酸エチル(200ml)中に濃縮物を入れ、1時間
攪拌すると、白晶が得られた。この白晶をろ取後、真空
乾燥することで、目的物I−7(11.8g)を収率6
0%で得た。構造は1HNMR、マススペクトルにより
確認した。
ル(100ml)をフラスコに入れ、1.0Mに調整した
テトラブチルアンモニウムハイドロキシドのメタノール
溶液(50ml)を滴下し、30分後、溶媒を減圧除去
し、酸酸エチル(200ml)中に濃縮物を入れ、1時間
攪拌すると、白晶が得られた。この白晶をろ取後、真空
乾燥することで、目的物I−7(11.8g)を収率6
0%で得た。構造は1HNMR、マススペクトルにより
確認した。
【0111】[合成例3]化合物I−16の合成 市販のヒドロキシエチルアニリン(13.7g)、クロ
ロ酢酸メチル(10.9g)、メタノール(100ml)
をフラスコに入れ、NaOMeの28%メタノール溶液
(19.3g)をゆっくりと滴下し、滴下後3時間攪拌
した。こののち、水200mlを加え、酢酸エチルで抽出
し、Na2SO4で乾燥後、酢酸エチルを減圧除去し、続
いて1.0M KOH水溶液(50ml)を加えて攪拌し
た。1時間攪拌後、溶媒を減圧除去し、アセトン(20
0ml)中に濃縮物を入れ、1時間攪拌すると、粘調オイ
ルが得られた。これを取り出し、真空乾燥することで、
目的物I−16(12.1g)を収率52%で得た。構
造は1HNMR、マススペクトルにより確認した。
ロ酢酸メチル(10.9g)、メタノール(100ml)
をフラスコに入れ、NaOMeの28%メタノール溶液
(19.3g)をゆっくりと滴下し、滴下後3時間攪拌
した。こののち、水200mlを加え、酢酸エチルで抽出
し、Na2SO4で乾燥後、酢酸エチルを減圧除去し、続
いて1.0M KOH水溶液(50ml)を加えて攪拌し
た。1時間攪拌後、溶媒を減圧除去し、アセトン(20
0ml)中に濃縮物を入れ、1時間攪拌すると、粘調オイ
ルが得られた。これを取り出し、真空乾燥することで、
目的物I−16(12.1g)を収率52%で得た。構
造は1HNMR、マススペクトルにより確認した。
【0112】また、本発明における化合物I−1、I−
7およびI−16以外の一般式(I)で表される化合物
も同様の方法により容易に合成することができる。
7およびI−16以外の一般式(I)で表される化合物
も同様の方法により容易に合成することができる。
【0113】本発明の光重合性組成物に用いられる一般
式(I)で表されるアミノ酸の塩は、単独、あるいは2
種以上を併用してもよい。
式(I)で表されるアミノ酸の塩は、単独、あるいは2
種以上を併用してもよい。
【0114】また、一般式(I)の化合物は光重合性組
成物の全成分に対して、通常0.05〜50重量%、好
ましくは0.5〜35重量%、さらに好ましくは、1〜
25重量%の量が使用される。この量が多すぎると塗膜
形成不良(ひびわれ)となりやすく、少なすぎると硬化
不良となりやすくなって好ましくない。
成物の全成分に対して、通常0.05〜50重量%、好
ましくは0.5〜35重量%、さらに好ましくは、1〜
25重量%の量が使用される。この量が多すぎると塗膜
形成不良(ひびわれ)となりやすく、少なすぎると硬化
不良となりやすくなって好ましくない。
【0115】さらに本発明の光重合性組成物には、感度
を一層向上させる、あるいは酸素による重合阻害を抑制
する等の作用を有する公知の化合物を共増感剤として加
えても良い。
を一層向上させる、あるいは酸素による重合阻害を抑制
する等の作用を有する公知の化合物を共増感剤として加
えても良い。
【0116】このような共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM.R.Sanderら著「Journal of Polymer Socie
ty」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−2
0189号、特開昭51−82102号、特開昭52−
134692号、特開昭59−138205号、特開昭
60−84305号、特開昭62−18537号、特開
昭64−33104号、Research Disclosure 3382
5号記載の化合物、等が挙げられ、具体的には、トリエ
タノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチ
オジメチルアニリン、等が挙げられる。
類、例えばM.R.Sanderら著「Journal of Polymer Socie
ty」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−2
0189号、特開昭51−82102号、特開昭52−
134692号、特開昭59−138205号、特開昭
60−84305号、特開昭62−18537号、特開
昭64−33104号、Research Disclosure 3382
5号記載の化合物、等が挙げられ、具体的には、トリエ
タノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチ
オジメチルアニリン、等が挙げられる。
【0117】共増感剤の別の例としてはチオールおよび
スルフィド類、例えば、特開昭53−702号、特公昭
55−500806号、特開平5−142772号記載
のチオール化合物、特開昭56−75643号のジスル
フィド化合物等が挙げられ、具体的には、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプ
ト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレ
ン等が挙げられる。
スルフィド類、例えば、特開昭53−702号、特公昭
55−500806号、特開平5−142772号記載
のチオール化合物、特開昭56−75643号のジスル
フィド化合物等が挙げられ、具体的には、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプ
ト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレ
ン等が挙げられる。
【0118】また別の例としては、特公昭48−429
65号記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテ
ート等)、特公昭55−34414号記載の水素供与
体、特願平5−91089号記載のイオウ化合物(例、
トリチアン等)、特願平5−32147号記載のリン化
合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6−1916
05号記載のSi−H、Ge−H化合物等が挙げられ
る。
65号記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテ
ート等)、特公昭55−34414号記載の水素供与
体、特願平5−91089号記載のイオウ化合物(例、
トリチアン等)、特願平5−32147号記載のリン化
合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6−1916
05号記載のSi−H、Ge−H化合物等が挙げられ
る。
【0119】本発明における組成物中の成分ii)、iii)
およびiv)の量はそれぞれ、光重合可能なエチレン性不
飽和化合物と必要に応じて添加されるバインダーとして
の線状有機高分子重合体との合計に対して0.01〜6
0重量%、より好ましくは、1〜30重量%の範囲であ
る。
およびiv)の量はそれぞれ、光重合可能なエチレン性不
飽和化合物と必要に応じて添加されるバインダーとして
の線状有機高分子重合体との合計に対して0.01〜6
0重量%、より好ましくは、1〜30重量%の範囲であ
る。
【0120】本発明に使用される成分iv)と成分iii)の
比は成分iv)のアミノ酸の塩1重量部に対し、成分iii)
を0.01〜50重量部使用するのが適当であり、さら
に好ましくは0.02〜20重量部、最も好ましくは
0.05〜10重量部である。本発明に使用される成分
iv)と成分ii)の比は成分iv)のアミノ酸の塩1重量部に
対し、成分ii)を0.01〜50重量部使用するのが適
当であり、さらに好ましくは0.02〜20重量部、最
も好ましくは0.05〜10重量部である。
比は成分iv)のアミノ酸の塩1重量部に対し、成分iii)
を0.01〜50重量部使用するのが適当であり、さら
に好ましくは0.02〜20重量部、最も好ましくは
0.05〜10重量部である。本発明に使用される成分
iv)と成分ii)の比は成分iv)のアミノ酸の塩1重量部に
対し、成分ii)を0.01〜50重量部使用するのが適
当であり、さらに好ましくは0.02〜20重量部、最
も好ましくは0.05〜10重量部である。
【0121】上記共増感剤を使用する場合には、成分i
v)のアミノ酸の塩1重量部に対して、0.01〜50重
量部使用するのが適当であり、より好ましくは0.02
〜20重量部、最も好ましくは0.05〜10重量部で
ある。
v)のアミノ酸の塩1重量部に対して、0.01〜50重
量部使用するのが適当であり、より好ましくは0.02
〜20重量部、最も好ましくは0.05〜10重量部で
ある。
【0122】本発明の光重合性組成物には、バインダー
としての線状有機高分子重合体を含有させることが好ま
しい。このような「線状有機高分子重合体」としては、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有して
いる線状有機高分子重合体である限り、どれを使用して
も構わない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現
像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨
潤性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有
機高分子重合体は、光重合性組成物の皮膜形成剤として
だけでなく、現像剤として水、弱アルカリ水あるいは有
機溶剤のいずれが使用されるかに応じて適宜選択使用さ
れる。例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水
現像が可能になる。このような線状有機高分子重合体と
しては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例え
ば特開昭59−44615号、特公昭54−34327
号、特公昭58−12577号、特公昭54−2595
7号、特開昭54−92723号、特開昭59−538
36号、特開昭59−71048号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付加重
合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用であ
る。
としての線状有機高分子重合体を含有させることが好ま
しい。このような「線状有機高分子重合体」としては、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有して
いる線状有機高分子重合体である限り、どれを使用して
も構わない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現
像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨
潤性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有
機高分子重合体は、光重合性組成物の皮膜形成剤として
だけでなく、現像剤として水、弱アルカリ水あるいは有
機溶剤のいずれが使用されるかに応じて適宜選択使用さ
れる。例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水
現像が可能になる。このような線状有機高分子重合体と
しては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例え
ば特開昭59−44615号、特公昭54−34327
号、特公昭58−12577号、特公昭54−2595
7号、特開昭54−92723号、特開昭59−538
36号、特開昭59−71048号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付加重
合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用であ
る。
【0123】特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アク
リレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好
適である。さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし90重量%を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85
重量%である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は3/7〜5/5である。
リレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好
適である。さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし90重量%を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85
重量%である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は3/7〜5/5である。
【0124】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要
な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加す
ることが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイド
ロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−
p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニト
ロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げ
られる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対
して約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必
要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘ
ン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添
加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させ
てもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約
0.5重量%〜約10重量%が好ましい。さらに、感光
層の着色を目的として染料もしくは顔料を添加してもよ
い。染料および顔料の添加量は全組成物の約0.5重量
%〜約5重量%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を
改良するために無機充填剤や、その他の公知の添加剤を
加えてもよい。
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要
な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加す
ることが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイド
ロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−
p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニト
ロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げ
られる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対
して約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必
要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘ
ン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添
加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させ
てもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約
0.5重量%〜約10重量%が好ましい。さらに、感光
層の着色を目的として染料もしくは顔料を添加してもよ
い。染料および顔料の添加量は全組成物の約0.5重量
%〜約5重量%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を
改良するために無機充填剤や、その他の公知の添加剤を
加えてもよい。
【0125】本発明の光重合性組成物は通常支持体上に
塗布して使用される。本発明の光重合性組成物を支持体
上に塗布する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供
される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレ
ンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセ
トン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノ
ール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メト
キシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸
メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独
あるいは混合して使用することができる。そして、塗布
溶液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当であ
る。その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10
g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/
m2である。
塗布して使用される。本発明の光重合性組成物を支持体
上に塗布する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供
される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレ
ンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセ
トン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノ
ール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メト
キシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸
メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独
あるいは混合して使用することができる。そして、塗布
溶液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当であ
る。その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10
g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/
m2である。
【0126】上記支持体としては、寸度的に安定な板状
物が用いられる。寸度的に安定な板状物としては、紙、
プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、また、例え
ばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、
銅などのような金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロ
ース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセタールなどのようなプラスチックのフィルム、上記
のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしく
はプラスチックフィルムなどが挙げられる。これらの支
持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であ
り、しかも安価であるので特に好ましい。さらに、特公
昭48−18327号に記載されているようなポリエチ
レンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが
結合された複合体シートも好ましい。
物が用いられる。寸度的に安定な板状物としては、紙、
プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、また、例え
ばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、
銅などのような金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロ
ース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセタールなどのようなプラスチックのフィルム、上記
のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしく
はプラスチックフィルムなどが挙げられる。これらの支
持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であ
り、しかも安価であるので特に好ましい。さらに、特公
昭48−18327号に記載されているようなポリエチ
レンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが
結合された複合体シートも好ましい。
【0127】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。
る支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。
【0128】さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウ
ム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使
用できる。特公昭47−5125号に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカ
リ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用
される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム
酸、硫酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶
液の単独または二種以上を組み合わせた電解液中でアル
ミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施され
る。
ム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使
用できる。特公昭47−5125号に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカ
リ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用
される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム
酸、硫酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶
液の単独または二種以上を組み合わせた電解液中でアル
ミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施され
る。
【0129】また、米国特許第3658662号に記載
されているようなシリケート電着も有効である。
されているようなシリケート電着も有効である。
【0130】さらに、特公昭46−27481号、特開
昭52−58602号、特開昭52−30503号に開
示されているような電解グレインと、上記陽極酸化処理
および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用であ
る。
昭52−58602号、特開昭52−30503号に開
示されているような電解グレインと、上記陽極酸化処理
および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用であ
る。
【0131】また、特開昭56−28893号に開示さ
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。
【0132】さらに、これらの処理を行った後に、水溶
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
【0133】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。
【0134】支持体上に設けられた光重合性組成物の層
の上には、空気中の酸素による重合禁止作用を防止する
ため、例えばポリビニルアルコール、特にケン化度95
%以上のポリビニルアルコール、酸性セルロース類など
のような酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を
設けてもよい。このような保護層の塗布方法について
は、例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−
49729号に詳しく記載されている。
の上には、空気中の酸素による重合禁止作用を防止する
ため、例えばポリビニルアルコール、特にケン化度95
%以上のポリビニルアルコール、酸性セルロース類など
のような酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を
設けてもよい。このような保護層の塗布方法について
は、例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−
49729号に詳しく記載されている。
【0135】また本発明の光重合性組成物は通常の光重
合反応に使用できる。さらに、印刷版、プリント基板等
作成の際のフォトレジスト等多方面に適用することが可
能である。特に本発明の光重合性組成物の特徴である高
感度性と可視光領域までの幅広い分光感度特性により、
Ar+ レーザー、YAG−SHGレーザー等の可視光レ
ーザー用の感光材料に適用すると良好な効果が得られ
る。
合反応に使用できる。さらに、印刷版、プリント基板等
作成の際のフォトレジスト等多方面に適用することが可
能である。特に本発明の光重合性組成物の特徴である高
感度性と可視光領域までの幅広い分光感度特性により、
Ar+ レーザー、YAG−SHGレーザー等の可視光レ
ーザー用の感光材料に適用すると良好な効果が得られ
る。
【0136】また、本発明の光重合性組成物は、高感度
でかつ可視光に感光性があるため、マイクロカプセルを
利用した画像形成システム用として特に有利に用いるこ
とができる。
でかつ可視光に感光性があるため、マイクロカプセルを
利用した画像形成システム用として特に有利に用いるこ
とができる。
【0137】マイクロカプセルを利用した画像形成シス
テムに利用するには例えば、特開昭57−197538
号、同61−130945号、同58−88739号、
同58−88740号、欧州特許第223,587A1
号明細書等を参考にできる。この画像形成方法は例え
ば、エチレン性のビニル化合物および光重合開始剤から
成る光重合開始剤組成物と色素プレカーサーを含むマイ
クロカプセルを支持体に塗設し、この感光シートを画像
様露光して露光部のマイクロカプセルを硬化させた後、
顕色剤シートを重ねて全面加圧することにより、未露光
部のマイクロカプセルを破壊し、色画像形成物質(例え
ば色素プレカーサー)を受像要素(例えば顕色剤層)に
転写し、発色させる方式である。
テムに利用するには例えば、特開昭57−197538
号、同61−130945号、同58−88739号、
同58−88740号、欧州特許第223,587A1
号明細書等を参考にできる。この画像形成方法は例え
ば、エチレン性のビニル化合物および光重合開始剤から
成る光重合開始剤組成物と色素プレカーサーを含むマイ
クロカプセルを支持体に塗設し、この感光シートを画像
様露光して露光部のマイクロカプセルを硬化させた後、
顕色剤シートを重ねて全面加圧することにより、未露光
部のマイクロカプセルを破壊し、色画像形成物質(例え
ば色素プレカーサー)を受像要素(例えば顕色剤層)に
転写し、発色させる方式である。
【0138】本発明の光重合性組成物を用いた感光材料
は、画像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除
去し、画像を得る。これらの光重合性組成物を平版印刷
版の作成に使用する際の好ましい現像液としては、特公
昭57−7427号に記載されているような現像液が挙
げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アン
モニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無
機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノー
ルアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当で
ある。このようなアルカリ剤は、溶液の濃度が0.1〜
10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように
添加される。
は、画像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除
去し、画像を得る。これらの光重合性組成物を平版印刷
版の作成に使用する際の好ましい現像液としては、特公
昭57−7427号に記載されているような現像液が挙
げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アン
モニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無
機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノー
ルアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当で
ある。このようなアルカリ剤は、溶液の濃度が0.1〜
10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように
添加される。
【0139】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭5
0−26601号、同58−54341号、特公昭56
−39464号、同56−42860号の各公報に記載
されている現像液も優れている。
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭5
0−26601号、同58−54341号、特公昭56
−39464号、同56−42860号の各公報に記載
されている現像液も優れている。
【0140】本発明に用いられる活性光線は紫外光から
可視光の幅広い領域のものであってよい。
可視光の幅広い領域のものであってよい。
【0141】
【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0142】実施例1 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと4
00メッシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10重量%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングし
た後、流水で水洗後20重量%硝酸で中和洗浄し、次い
で水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波
の交番波形電流を用いて1重量%硝酸水溶液中で160
クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行っ
た。その表面粗さを測定したところ、0.6μm(Ra表
示)であった。引き続いて30重量%の硫酸水溶液中に
浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20重量%硫
酸水溶液中、電流密度2A/dm2 において、陽極酸化皮膜
の厚さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理
した。
00メッシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10重量%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングし
た後、流水で水洗後20重量%硝酸で中和洗浄し、次い
で水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波
の交番波形電流を用いて1重量%硝酸水溶液中で160
クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行っ
た。その表面粗さを測定したところ、0.6μm(Ra表
示)であった。引き続いて30重量%の硫酸水溶液中に
浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20重量%硫
酸水溶液中、電流密度2A/dm2 において、陽極酸化皮膜
の厚さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理
した。
【0143】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が1.4
g/m2となるように塗布し、80℃2分間乾燥させた感光
層を形成した。
に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が1.4
g/m2となるように塗布し、80℃2分間乾燥させた感光
層を形成した。
【0144】 [組成] ペンタエリスリトールテトラアクリレート 2.0g アリルメタアクリレート/メタクリル酸共重合体 2.0g (共重合モル比85/15) 成分ii) Xg(表1、2) 成分iii) Yg(表1、2) 成分iv) Zg(表1、2) メチルエチルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20g この感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モ
ル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布
重量が2g/m2となるように塗布し、100℃で2分間乾
燥させて感光材料のサンプルを調製した(表1、2)。
この感光材料のサンプルについて次の感光性試験を行っ
た。
ル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布
重量が2g/m2となるように塗布し、100℃で2分間乾
燥させて感光材料のサンプルを調製した(表1、2)。
この感光材料のサンプルについて次の感光性試験を行っ
た。
【0145】感光性試験には、可視光、およびAr+レ
ーザー光(波長=488nm)の各単色光を用いた。可視
光はタングステンランプを光源とし、ケンコー光学フィ
ルター(kenko optical filter)BP−49を通して得
た。感度測定には富士PSステップガイド(富士写真フ
イルム株式会社製、初段の透過光学濃度が0.05で順
次0.15増えていき15段まであるステップタブレッ
ト)を使用して行った。感度は、感材膜面部での露光エ
ネルギーが0.25mJとなるように、露光した時のP
Sステップガイドのクリアー段数で示した。この段数の
値が大きいほど感度が高い。
ーザー光(波長=488nm)の各単色光を用いた。可視
光はタングステンランプを光源とし、ケンコー光学フィ
ルター(kenko optical filter)BP−49を通して得
た。感度測定には富士PSステップガイド(富士写真フ
イルム株式会社製、初段の透過光学濃度が0.05で順
次0.15増えていき15段まであるステップタブレッ
ト)を使用して行った。感度は、感材膜面部での露光エ
ネルギーが0.25mJとなるように、露光した時のP
Sステップガイドのクリアー段数で示した。この段数の
値が大きいほど感度が高い。
【0146】現像は、下記の現像液に25℃、1分間浸
漬して行った。
漬して行った。
【0147】 [現像液] 1Kケイ酸カリウム 30g 水酸化カリウム 15g C12H25−C6H4−O−C6H4−SO3Na 3g 水 1000g また、保存安定性の試験を同時に行った。保存安定性の
モデル試験は、上記で作成した未露光の感光材料(塗布
板)を強制経時(温度60℃、湿度75%RHで3日間
放置)したのち、上述と同様に露光−現像を行い感度を
調べることにより行い、このような強制経時をしなかっ
たときとの感度差(△クリア段数)で評価した。△クリ
ア段数が小さい方が保存安定性がよく、製造上は△クリ
ア段数が0.5段以下が良好である。
モデル試験は、上記で作成した未露光の感光材料(塗布
板)を強制経時(温度60℃、湿度75%RHで3日間
放置)したのち、上述と同様に露光−現像を行い感度を
調べることにより行い、このような強制経時をしなかっ
たときとの感度差(△クリア段数)で評価した。△クリ
ア段数が小さい方が保存安定性がよく、製造上は△クリ
ア段数が0.5段以下が良好である。
【0148】結果を表1、2に示す。なお、表1、2中
の化合物A−1、B−1、C−1〜C−7、X−1の構
造は後に記す。
の化合物A−1、B−1、C−1〜C−7、X−1の構
造は後に記す。
【0149】
【表1】
【0150】
【表2】
【0151】表1、2から明らかなように本発明の一般
式(I)で表されるアミノ酸の塩を用いることで高感度
でかつ保存安定性の優れたものを得ることができる。
式(I)で表されるアミノ酸の塩を用いることで高感度
でかつ保存安定性の優れたものを得ることができる。
【0152】実施例2 実施例1の感光材料のサンプルにおいて、光重合組成物
を下記組成のものにかえる以外は同様にして感光材料の
サンプルを調製し(表3)、実施例1と同様の試験を行
った。ただし、感度測定には実施例1と同じ可視光、お
よびYAG−SHGレーザー光(波長=532nm)の各
単色光を用いた。
を下記組成のものにかえる以外は同様にして感光材料の
サンプルを調製し(表3)、実施例1と同様の試験を行
った。ただし、感度測定には実施例1と同じ可視光、お
よびYAG−SHGレーザー光(波長=532nm)の各
単色光を用いた。
【0153】 [組成] ペンタエリスリトールテトラアクリレート 2.0g エチルメタアクリレート/アリルメタアクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合モル比20/60/20) 2.0g 成分ii) Xg(表3) 成分iii) Yg(表3) 成分iv) Zg(表3) メチルエチルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20g 結果を表3に示す。
【0154】
【表3】
【0155】表3から明らかなように、本発明の一般式
(I)で表されるアミノ酸の塩を用いることで高感度
で、かつ保存安定性の優れたものを得ることができる。
(I)で表されるアミノ酸の塩を用いることで高感度
で、かつ保存安定性の優れたものを得ることができる。
【0156】なお、表1〜表3中の化合物A−1、B−
1、B−2、C−1〜C−10、X−1の構造は以下に
示すとおりである。
1、B−2、C−1〜C−10、X−1の構造は以下に
示すとおりである。
【0157】
【化21】
【0158】
【化22】
【0159】
【化23】
【0160】
【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、紫外線から
可視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度を有する
と共に保存安定性に優れる。従って、これを用いて得ら
れる感光材料は高感度で保存安定性が良好である。
可視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度を有する
と共に保存安定性に優れる。従って、これを用いて得ら
れる感光材料は高感度で保存安定性が良好である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/027 502 G03F 7/027 502 7/031 7/031
Claims (1)
- 【請求項1】 少なくともi)付加重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物、ii) チタノセン化合物、ii
i)分光増感色素としてメロシアニン色素またはベンゾピ
ラン色素、およびiv)下記式一般式(I)で表されるア
ミノ酸の塩を含有することを特徴とする光重合性組成
物。 【化1】 [一般式(I)中、R1、R2およびR3は各々水素原子
または不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基を表
す。Arはアリール基を表す。nは1〜4の整数であ
る。n=1のとき、M+はアルカリ金属イオンまたは
(R4)(R5)(R6)(R7)N+で表される四級アン
モニウムイオンを表す。n=2、3または4のとき、M
n+は[(R4)(R5)(R6)N+]n−rを表す。ここ
で、R4、R5、R6およびR7は各々不飽和結合を含んで
いてもよい炭化水素基を表し、rはn価の炭化水素基を
表す。]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6550797A JPH10246954A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6550797A JPH10246954A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10246954A true JPH10246954A (ja) | 1998-09-14 |
Family
ID=13289059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6550797A Pending JPH10246954A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10246954A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002148790A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-05-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱性組成物、それを用いた平版印刷版原版及びスルホニウム塩化合物 |
| JP2011175256A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-09-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| US8892260B2 (en) | 2007-03-20 | 2014-11-18 | Irobot Corporation | Mobile robot for telecommunication |
| US8930019B2 (en) | 2010-12-30 | 2015-01-06 | Irobot Corporation | Mobile human interface robot |
| US8935005B2 (en) | 2010-05-20 | 2015-01-13 | Irobot Corporation | Operating a mobile robot |
| US8965579B2 (en) | 2011-01-28 | 2015-02-24 | Intouch Technologies | Interfacing with a mobile telepresence robot |
| US9014848B2 (en) | 2010-05-20 | 2015-04-21 | Irobot Corporation | Mobile robot system |
| US9251313B2 (en) | 2012-04-11 | 2016-02-02 | Intouch Technologies, Inc. | Systems and methods for visualizing and managing telepresence devices in healthcare networks |
| US9498886B2 (en) | 2010-05-20 | 2016-11-22 | Irobot Corporation | Mobile human interface robot |
| CN110172031A (zh) * | 2019-05-23 | 2019-08-27 | 北京师范大学 | 一种阴离子型n-取代苯胺离子液体及其制备方法 |
| KR20200094116A (ko) * | 2019-01-29 | 2020-08-06 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 포지티브형 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
-
1997
- 1997-03-04 JP JP6550797A patent/JPH10246954A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002148790A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-05-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱性組成物、それを用いた平版印刷版原版及びスルホニウム塩化合物 |
| US9296109B2 (en) | 2007-03-20 | 2016-03-29 | Irobot Corporation | Mobile robot for telecommunication |
| US8892260B2 (en) | 2007-03-20 | 2014-11-18 | Irobot Corporation | Mobile robot for telecommunication |
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| CN110172031A (zh) * | 2019-05-23 | 2019-08-27 | 北京师范大学 | 一种阴离子型n-取代苯胺离子液体及其制备方法 |
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