JPH10251186A - ハロゲン置換ベンゼン誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents
ハロゲン置換ベンゼン誘導体、液晶組成物および液晶表示素子Info
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- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 345
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 204
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 149
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 128
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 56
- -1 1,2-ethylene, 1,4-butylene group Chemical group 0.000 description 50
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 32
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 29
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 25
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 23
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 150000002022 dithiocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 17
- 125000005407 trans-1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])[C@]([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[C@@]1([H])[*:1] 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 13
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 150000004768 bromobenzenes Chemical class 0.000 description 12
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 11
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 9
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 9
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004361 3,4,5-trifluorophenyl group Chemical group [H]C1=C(F)C(F)=C(F)C([H])=C1* 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 6
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 5
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSJLBAMHHLJAAS-UHFFFAOYSA-N diethylaminosulfur trifluoride Chemical compound CCN(CC)S(F)(F)F CSJLBAMHHLJAAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008423 fluorobenzenes Chemical class 0.000 description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical class CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 4
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 3
- MTOBKXCDXASEGN-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trifluoro-5-(3,4,5-trifluorophenoxy)benzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=CC(OC=2C=C(F)C(F)=C(F)C=2)=C1 MTOBKXCDXASEGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZRTWIJKGTUGZJY-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trifluorophenol Chemical compound OC1=CC(F)=C(F)C(F)=C1 ZRTWIJKGTUGZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAXMOTRFVPINOJ-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4,5-trifluorophenyl)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC(F)=C(F)C(F)=C1 IAXMOTRFVPINOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical class COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 3
- 125000005701 difluoromethyleneoxy group Chemical group FC(F)([*:1])O[*:2] 0.000 description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N methanedithioic acid Chemical compound SC=S WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930000044 secondary metabolite Natural products 0.000 description 3
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- SXLHAMYMTUEALX-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenoxy)boronic acid Chemical compound COC1=CC=C(OB(O)O)C=C1 SXLHAMYMTUEALX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOYDNIKZWGIXJT-UHFFFAOYSA-N 1,2-difluorobenzene Chemical class FC1=CC=CC=C1F GOYDNIKZWGIXJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005714 2,5- (1,3-dioxanylene) group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([*:1])OC([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 2
- PIXPCUOWSHDLII-UHFFFAOYSA-N 4-[3,5-difluoro-4-(trifluoromethyl)phenyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC(F)=C(C(F)(F)F)C(F)=C1 PIXPCUOWSHDLII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 125000004431 deuterium atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000004786 difluoromethoxy group Chemical group [H]C(F)(F)O* 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M phenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940031826 phenolate Drugs 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- GRJJQCWNZGRKAU-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;fluoride Chemical compound F.C1=CC=NC=C1 GRJJQCWNZGRKAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BHFAESCLOLGZOF-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trifluoro-5-(4-methoxyphenyl)benzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=CC(F)=C(F)C(F)=C1 BHFAESCLOLGZOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-nitro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC(C(F)(F)F)=C1 ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- IJGSULQFKYOYEU-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trifluorophenol Chemical compound OC1=CC=C(F)C(F)=C1F IJGSULQFKYOYEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEIYYIGMDPTAPL-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluoro-4-hydroxybenzonitrile Chemical compound OC1=CC(F)=C(C#N)C(F)=C1 KEIYYIGMDPTAPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNCQVRBWJWWJBF-UHFFFAOYSA-N 2-chloropyrimidine Chemical compound ClC1=NC=CC=N1 UNCQVRBWJWWJBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCSHACFHMFHFKK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,3,5-trinitrobenzene;2,4,6-trinitro-1,3,5-triazinane Chemical compound [O-][N+](=O)C1NC([N+]([O-])=O)NC([N+]([O-])=O)N1.CC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O ZCSHACFHMFHFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKZCRWFNSBIBEW-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,2-trimethylpropane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C(C)(C)CN PKZCRWFNSBIBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAOKJLSRDFRVLJ-UHFFFAOYSA-N 3,5-difluoro-4-(trifluoromethyl)phenol Chemical compound OC1=CC(F)=C(C(F)(F)F)C(F)=C1 NAOKJLSRDFRVLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- FURZYCFZFBYJBT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-pentylcyclohexyl)benzonitrile Chemical compound C1CC(CCCCC)CCC1C1=CC=C(C#N)C=C1 FURZYCFZFBYJBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXUSEPRYHRDKFV-UHFFFAOYSA-N 4-(4-propylcyclohexyl)benzonitrile Chemical compound C1CC(CCC)CCC1C1=CC=C(C#N)C=C1 XXUSEPRYHRDKFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFMPTZWVMVMELB-UHFFFAOYSA-N 4-(4-propylphenyl)benzonitrile Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1C1=CC=C(C#N)C=C1 XFMPTZWVMVMELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005254 4-(trans-4-Propylcyclohexyl)benzonitrile Substances 0.000 description 1
- QJPJQTDYNZXKQF-UHFFFAOYSA-N 4-bromoanisole Chemical compound COC1=CC=C(Br)C=C1 QJPJQTDYNZXKQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNMSDZVJUSZUDB-UHFFFAOYSA-N 4-propylbenzenecarbodithioic acid Chemical compound CCCC1=CC=C(C(S)=S)C=C1 XNMSDZVJUSZUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical class C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZIVLCFBZJWSBQD-QAQDUYKDSA-N C(CC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)Br Chemical group C(CC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)Br ZIVLCFBZJWSBQD-QAQDUYKDSA-N 0.000 description 1
- YILSKTLGXQKJMI-VVPTUSLJSA-N C(CC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(C=C1)Br Chemical compound C(CC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(C=C1)Br YILSKTLGXQKJMI-VVPTUSLJSA-N 0.000 description 1
- GHOUEKQRKXYGHJ-HAQNSBGRSA-N C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1=CC(F)=CC(F)=C1 Chemical compound C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1=CC(F)=CC(F)=C1 GHOUEKQRKXYGHJ-HAQNSBGRSA-N 0.000 description 1
- UCPPGQWSQUGPEY-JOCQHMNTSA-N C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1=CC=CC(F)=C1 Chemical compound C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1=CC=CC(F)=C1 UCPPGQWSQUGPEY-JOCQHMNTSA-N 0.000 description 1
- PWGUTKLGUISGAE-CTYIDZIISA-N C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 PWGUTKLGUISGAE-CTYIDZIISA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABOHTXPWIRAITE-UHFFFAOYSA-N Fc1cc(Oc2cc(F)c(c(F)c2)C(F)(F)F)cc(F)c1C(F)(F)F Chemical compound Fc1cc(Oc2cc(F)c(c(F)c2)C(F)(F)F)cc(F)c1C(F)(F)F ABOHTXPWIRAITE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical group [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N Tetrazine Chemical compound C1=CN=NN=N1 DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTCNTBPBIWITIK-UHFFFAOYSA-N [difluoro(phenoxy)methyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(F)(F)OC1=CC=CC=C1 UTCNTBPBIWITIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 125000005337 azoxy group Chemical group [N+]([O-])(=N*)* 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- KFGVRWGDTLZAAO-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene dicyclohexyl(cyclopenta-1,3-dien-1-yl)phosphane iron(2+) Chemical compound [Fe++].c1cc[cH-]c1.C1CCC(CC1)P(C1CCCCC1)c1ccc[cH-]1 KFGVRWGDTLZAAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000532 dioxanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002023 dithiocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 125000004428 fluoroalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- KWHDXJHBFYQOTK-UHFFFAOYSA-N heptane;toluene Chemical compound CCCCCCC.CC1=CC=CC=C1 KWHDXJHBFYQOTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000006138 lithiation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- SJFNDMHZXCUXSA-UHFFFAOYSA-M methoxymethyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(COC)C1=CC=CC=C1 SJFNDMHZXCUXSA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000006053 organic reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006233 propoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004360 trifluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N tripropan-2-yl borate Chemical compound CC(C)OB(OC(C)C)OC(C)C NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 大きな△εを有する上にその温度依存性が小
さく、低粘性でかつ特に低温においても他の液晶組成物
との相溶性に優れた液晶性化合物、これを含む液晶組成
物およびこの液晶組成物を用いて構成した低電圧駆動性
の液晶表示素子を提供することにある。 【解決手段】一般式(1) 具体的には、例えば
さく、低粘性でかつ特に低温においても他の液晶組成物
との相溶性に優れた液晶性化合物、これを含む液晶組成
物およびこの液晶組成物を用いて構成した低電圧駆動性
の液晶表示素子を提供することにある。 【解決手段】一般式(1) 具体的には、例えば
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶組成物の成分
として好適な液晶性化合物のハロゲン置換ベンゼン誘導
体、これを含む液晶組成物およびこの液晶組成物を用い
て構成した液晶表示素子に関する。
として好適な液晶性化合物のハロゲン置換ベンゼン誘導
体、これを含む液晶組成物およびこの液晶組成物を用い
て構成した液晶表示素子に関する。
【0002】
【背景技術】液晶表示素子は液晶物質が有する光学(屈
折率)異方性および誘電率異方性を利用するもので、表
示様式面より見てねじれネマチック型(TN型)、スー
パーツイストネマチック型(STN型)、動的散乱型
(DS型)、ゲスト・ホスト型(G−H型)、DAP型
等のものが、また駆動方式面より見てスタティック駆動
方式、時分割駆動方式、アクティブマトリックス駆動方
式、2周波駆動方式等のものがそれぞれ知られている。
これらの液晶表示素子にはその使用用途に応じ性質の異
なる種々の液晶物質が用いられている。いずれの液晶物
質も共通の性質として水分、空気、熱、光等の外的環境
因子に対して安定であり、室温を中心としてできるだけ
広い温度範囲で液晶相を示し、低粘性であり、かつ表示
素子を駆動させた場合にその駆動電圧を低くなし得るこ
とが必要とされるが、さらに個々の表示素子に応じて望
まれる性質、例えば最適な誘電率異方性(△ε)や同屈
折率異方性(△n)といった特性を有することも必要と
される。しかし、現在のところ単一化合物ではこの様な
条件を全て満たす物質はなく、数種〜十数種の液晶性化
合物(以下、液晶相を有する化合物および他の液晶化合
物と混合しても液晶相を損なわない化合物の総称として
用いる。)を混合して液晶組成物とし、これを液晶物質
として使用しているのが現状である。そのため、組成物
成分として用いられる液晶性化合物は相互に良好な相溶
性、特に最近では種々の環境下での使用要求が増大して
いることから低温においても良好な相溶性を示すことが
望まれている。
折率)異方性および誘電率異方性を利用するもので、表
示様式面より見てねじれネマチック型(TN型)、スー
パーツイストネマチック型(STN型)、動的散乱型
(DS型)、ゲスト・ホスト型(G−H型)、DAP型
等のものが、また駆動方式面より見てスタティック駆動
方式、時分割駆動方式、アクティブマトリックス駆動方
式、2周波駆動方式等のものがそれぞれ知られている。
これらの液晶表示素子にはその使用用途に応じ性質の異
なる種々の液晶物質が用いられている。いずれの液晶物
質も共通の性質として水分、空気、熱、光等の外的環境
因子に対して安定であり、室温を中心としてできるだけ
広い温度範囲で液晶相を示し、低粘性であり、かつ表示
素子を駆動させた場合にその駆動電圧を低くなし得るこ
とが必要とされるが、さらに個々の表示素子に応じて望
まれる性質、例えば最適な誘電率異方性(△ε)や同屈
折率異方性(△n)といった特性を有することも必要と
される。しかし、現在のところ単一化合物ではこの様な
条件を全て満たす物質はなく、数種〜十数種の液晶性化
合物(以下、液晶相を有する化合物および他の液晶化合
物と混合しても液晶相を損なわない化合物の総称として
用いる。)を混合して液晶組成物とし、これを液晶物質
として使用しているのが現状である。そのため、組成物
成分として用いられる液晶性化合物は相互に良好な相溶
性、特に最近では種々の環境下での使用要求が増大して
いることから低温においても良好な相溶性を示すことが
望まれている。
【0003】近年は特に表示性能、例えばコントラス
ト、表示容量、応答時間等のより高い液晶表示素子が要
求されており、その要求に応えるためTFT(薄膜トラ
ンジスタ)方式に代表されるアクティブマトリックス方
式の表示素子に対する需要が主にテレビジョンやビュー
ファインダー等の表示モード分野で高まっているが、S
TN方式の表示素子についても、大きな表示容量を持ち
ながら製造工程が簡単で低コストであることからパーソ
ナルコンピューター等のディスプレー分野に多用されて
いる。これらの分野における近年の開発傾向は、小型か
つ軽量化により携帯可能としたテレビやノート型パーソ
ナルコンピューターに見られるごとく液晶表示素子の小
型化や携帯化を中心に進められており、これに伴って使
用される液晶材料には駆動電圧の低いもの、すなわちし
きい値電圧の低下を可能とする液晶性化合物およびこれ
を含む低駆動電圧の液晶組成物が要求されている。しき
い値電圧(Vth)はよく知られているように、下式によ
り示される(H.J.Deuling, et al.,Mol.Cryst.Liq.Crys
t.,27 (1975)81)。 Vth=π(K/ε0△ε)1/2 上式において、Kは弾性定数、ε0は真空の誘電率であ
る。該式から判るように、Vthを低下させるには、△ε
を大きくするかまたはKを小さくするかの2通りの方法
が考えられる。しかし、現在の技術では未だ実際にKを
コントロールすることは困難であるため、通常は△εの
大きな液晶材料を用いて要求に対処しているのが現状で
あり、このような事情から△εの大きな液晶性化合物の
開発が盛んに行われてきた。
ト、表示容量、応答時間等のより高い液晶表示素子が要
求されており、その要求に応えるためTFT(薄膜トラ
ンジスタ)方式に代表されるアクティブマトリックス方
式の表示素子に対する需要が主にテレビジョンやビュー
ファインダー等の表示モード分野で高まっているが、S
TN方式の表示素子についても、大きな表示容量を持ち
ながら製造工程が簡単で低コストであることからパーソ
ナルコンピューター等のディスプレー分野に多用されて
いる。これらの分野における近年の開発傾向は、小型か
つ軽量化により携帯可能としたテレビやノート型パーソ
ナルコンピューターに見られるごとく液晶表示素子の小
型化や携帯化を中心に進められており、これに伴って使
用される液晶材料には駆動電圧の低いもの、すなわちし
きい値電圧の低下を可能とする液晶性化合物およびこれ
を含む低駆動電圧の液晶組成物が要求されている。しき
い値電圧(Vth)はよく知られているように、下式によ
り示される(H.J.Deuling, et al.,Mol.Cryst.Liq.Crys
t.,27 (1975)81)。 Vth=π(K/ε0△ε)1/2 上式において、Kは弾性定数、ε0は真空の誘電率であ
る。該式から判るように、Vthを低下させるには、△ε
を大きくするかまたはKを小さくするかの2通りの方法
が考えられる。しかし、現在の技術では未だ実際にKを
コントロールすることは困難であるため、通常は△εの
大きな液晶材料を用いて要求に対処しているのが現状で
あり、このような事情から△εの大きな液晶性化合物の
開発が盛んに行われてきた。
【0004】現在、TFT方式の表示素子に使用されて
いる液晶組成物のほとんどはフッ素系の液晶性化合物か
ら構成されているが、その理由はTFT方式の表示素子
にはその構成上高い電圧保持率(V.H.R)を低い温度依
存性下に与えることができる液晶組成物を必要とする
が、このような要求を満たすものがフッ素系の液晶性化
合物を除いては見いだされていないからである。液晶性
化合物においてその△εを増大させるには、よく知られ
ているようにシアノ基やCF3基といった大きなダイポ
ールモーメントを有する置換基を分子末端基として保有
させるか、または化合物を構成する1、4−フェニレン
基にダイポールモーメントの向きが末端置換基のそれと
同一方向となるようフッ素原子等のハロゲン原子を置換
することが効果的である。しかし、一般的にフッ素原子
の置換数と粘性とは比例的な関係があることおよびフッ
素原子の置換数が増えれば液晶相温度範囲が低下するこ
とから、粘性の上昇と液晶相温度範囲の低下を共に抑制
しながら△εのみを向上させることは困難と考えられて
きた。従来、フッ素系の低電圧液晶性化合物として以下
の式(A)および(B)で表される化合物(U.S.P
at.5032313号)並びに式(C)で表される化
合物(DE−19531165号またはWO96/11
897号)がそれぞれ知られている。
いる液晶組成物のほとんどはフッ素系の液晶性化合物か
ら構成されているが、その理由はTFT方式の表示素子
にはその構成上高い電圧保持率(V.H.R)を低い温度依
存性下に与えることができる液晶組成物を必要とする
が、このような要求を満たすものがフッ素系の液晶性化
合物を除いては見いだされていないからである。液晶性
化合物においてその△εを増大させるには、よく知られ
ているようにシアノ基やCF3基といった大きなダイポ
ールモーメントを有する置換基を分子末端基として保有
させるか、または化合物を構成する1、4−フェニレン
基にダイポールモーメントの向きが末端置換基のそれと
同一方向となるようフッ素原子等のハロゲン原子を置換
することが効果的である。しかし、一般的にフッ素原子
の置換数と粘性とは比例的な関係があることおよびフッ
素原子の置換数が増えれば液晶相温度範囲が低下するこ
とから、粘性の上昇と液晶相温度範囲の低下を共に抑制
しながら△εのみを向上させることは困難と考えられて
きた。従来、フッ素系の低電圧液晶性化合物として以下
の式(A)および(B)で表される化合物(U.S.P
at.5032313号)並びに式(C)で表される化
合物(DE−19531165号またはWO96/11
897号)がそれぞれ知られている。
【0005】
【化11】 (各式中、Raはアルキル基、アルケニル基、アルコキ
シ基またはアルコキシアルキル基を示す。)
シ基またはアルコキシアルキル基を示す。)
【0006】これらの公知化合物のうち、式(A)で表
される化合物は3、4、5−トリフルオロフェニル基を
部分構造として有しており、式(B)で表される化合物
は上記トリフルオロフェニル基から延びる環間結合の単
結合がエステル結合基に替わる以外は式(A)で表され
る化合物と同一の構造のものであるが、共に比較的大き
な△εを示し、現在主流の3〜5V駆動用液晶組成物の
成分として多く使用されている。 しかし、今後主流に
なることが予想される3V以下の駆動用液晶組成物の成
分としては△εが未だ十分とは云えない。さらに、式
(B)の化合物は式(A)の化合物に比べエステル結合
基が存在するので、その寄与により大きな△εを示すも
のの、高温領域(100℃付近)での電圧保持率につい
ては低下が認められ、従って特に高信頼性が要求される
分野には使用できない。
される化合物は3、4、5−トリフルオロフェニル基を
部分構造として有しており、式(B)で表される化合物
は上記トリフルオロフェニル基から延びる環間結合の単
結合がエステル結合基に替わる以外は式(A)で表され
る化合物と同一の構造のものであるが、共に比較的大き
な△εを示し、現在主流の3〜5V駆動用液晶組成物の
成分として多く使用されている。 しかし、今後主流に
なることが予想される3V以下の駆動用液晶組成物の成
分としては△εが未だ十分とは云えない。さらに、式
(B)の化合物は式(A)の化合物に比べエステル結合
基が存在するので、その寄与により大きな△εを示すも
のの、高温領域(100℃付近)での電圧保持率につい
ては低下が認められ、従って特に高信頼性が要求される
分野には使用できない。
【0007】また、式(C)で表される化合物は最近、
低粘性かつ大きな△εを示す液晶性化合物として知られ
ている。この化合物は前記DE等の公報によれば、結合
基として挿入したジフルオロメチレンオキシ基が△εの
増大と粘性の低減化に大きく寄与し、以て表示素子の高
速応答化と低電圧駆動化の両立を可能とすること、およ
び単結合の化合物とほぼ同等の電圧保持率を示すことか
ら高信頼性が要求される表示素子の分野でも使用が可能
であるとされている。しかし、該DE等の公報はジフル
オロメチレンオキシ基のフッ素原子が置換している炭素
原子側のフェニル基の環上にフッ素原子が置換した化合
物等については単に化合物名を記載するに止まり、それ
らの構造を特定可能とする手段、例えばスペクトルデー
タ、転移点等の物理的なデータまたは当業者が液晶性化
合物としての有用性を評価するに足る具体的な液晶物性
値等を何ら示していないので、これらの化合物は実質的
に開示された状態にはない。
低粘性かつ大きな△εを示す液晶性化合物として知られ
ている。この化合物は前記DE等の公報によれば、結合
基として挿入したジフルオロメチレンオキシ基が△εの
増大と粘性の低減化に大きく寄与し、以て表示素子の高
速応答化と低電圧駆動化の両立を可能とすること、およ
び単結合の化合物とほぼ同等の電圧保持率を示すことか
ら高信頼性が要求される表示素子の分野でも使用が可能
であるとされている。しかし、該DE等の公報はジフル
オロメチレンオキシ基のフッ素原子が置換している炭素
原子側のフェニル基の環上にフッ素原子が置換した化合
物等については単に化合物名を記載するに止まり、それ
らの構造を特定可能とする手段、例えばスペクトルデー
タ、転移点等の物理的なデータまたは当業者が液晶性化
合物としての有用性を評価するに足る具体的な液晶物性
値等を何ら示していないので、これらの化合物は実質的
に開示された状態にはない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
した従来技術の欠点を解消し、大きな△εを有し、その
温度依存性が小さくかつ低粘性である新規な液晶性化合
物のハロゲン置換ベンゼン誘導体、これを含む液晶組成
物、およびこの液晶組成物を用いて構成した液晶表示素
子を提供することにある。
した従来技術の欠点を解消し、大きな△εを有し、その
温度依存性が小さくかつ低粘性である新規な液晶性化合
物のハロゲン置換ベンゼン誘導体、これを含む液晶組成
物、およびこの液晶組成物を用いて構成した液晶表示素
子を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記した
DE−19531165号またはWO 96/1189
7号公報に記載されたジフルオロメチレンオキシ基を結
合基とする液晶性化合物のうち、化学構造や特性の特定
を可能とする具体的確認手段が何ら示されていない複数
の化合物を実際に合成してその液晶物性を検討したとこ
ろ、それらの中に非常に大きな△εを有し、かつその温
度依存性が小さい化合物があることを見い出した。さら
に、これら化合物の末端にハロゲン原子、ハロゲン置換
アルキル基またはハロゲン置換アルコキシ基を置換基と
して選択導入したものはアクティブマトリックス方式に
おいて、また該化合物の末端にシアノ基を置換基として
選択導入ししたものはSTNを初めとする種々のモード
においてそれぞれ有用な低電圧用の液晶性化合物である
ことを見い出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明の構成は、上記の知見に基づき以下の通りで
ある。 (1)一般式(1)
DE−19531165号またはWO 96/1189
7号公報に記載されたジフルオロメチレンオキシ基を結
合基とする液晶性化合物のうち、化学構造や特性の特定
を可能とする具体的確認手段が何ら示されていない複数
の化合物を実際に合成してその液晶物性を検討したとこ
ろ、それらの中に非常に大きな△εを有し、かつその温
度依存性が小さい化合物があることを見い出した。さら
に、これら化合物の末端にハロゲン原子、ハロゲン置換
アルキル基またはハロゲン置換アルコキシ基を置換基と
して選択導入したものはアクティブマトリックス方式に
おいて、また該化合物の末端にシアノ基を置換基として
選択導入ししたものはSTNを初めとする種々のモード
においてそれぞれ有用な低電圧用の液晶性化合物である
ことを見い出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明の構成は、上記の知見に基づき以下の通りで
ある。 (1)一般式(1)
【0010】
【化12】
【0011】(式中A1、A2およびA4はそれぞれ独
立してトランス−1,4−シクロヘキシレン基、環上の
1個以上の水素原子がハロゲン原子により置換されてい
てもよい1,4−フェニレン基、トランス−1,3−ジ
オキサン−2,5−ジイル基またはピリミジン2,5−
ジイル基を示し、A3は環上の1個以上の水素原子がハ
ロゲン原子により置換されていてもよい1,4−フェニ
レン基、トランス−1,3−ジオキサン−2,5−ジイ
ル基またはピリミジン−2,5−ジイル基を示し、Z
1、Z2、Z3およびZ4はそれぞれ独立して共有結
合、−(CH2)2−、−(CH2)4−、−CF2O−、
−CH2O−または−COO−を示し、L1、L2、L3お
よびL4はそれぞれ独立して水素原子またはハロゲン原
子を示し、Xは水素原子、ハロゲン原子、CN基、また
は基中の1つ以上の水素原子がハロゲン原子により置換
されておりかつ基中の相隣り合わない一つ以上の−CH
2−が酸素原子、硫黄原子または−CH=CH−により
置き換えられていてもよい炭素数1〜5の 直鎖または
分岐のアルキル基を示し、Rは基中の1つ以上の水素原
子がハロゲン原子により置換されていてもよくかつ基中
の1つ以上の−CH2−が酸素原子、硫黄原子または−
CH=CH−により置き換えられていてもよい炭素数1
〜10の直鎖または分岐のアルキル基を示し、l、m、
nおよびoはそれぞれ独立して0または1であるがl+
m+n+o≦2であり、l+mが0または1である場合
にはL1はハロゲン原子であり、Xがシアノ基である場
合にはL1、L2、L3またはL4のうちそれら少なくとも
1つ以上はハロゲン原子である。化合物を構成する各原
子はそれらの同位体から選ばれるものを含んでもよ
い。)で表されるハロゲン置換ベンゼン誘導体。
立してトランス−1,4−シクロヘキシレン基、環上の
1個以上の水素原子がハロゲン原子により置換されてい
てもよい1,4−フェニレン基、トランス−1,3−ジ
オキサン−2,5−ジイル基またはピリミジン2,5−
ジイル基を示し、A3は環上の1個以上の水素原子がハ
ロゲン原子により置換されていてもよい1,4−フェニ
レン基、トランス−1,3−ジオキサン−2,5−ジイ
ル基またはピリミジン−2,5−ジイル基を示し、Z
1、Z2、Z3およびZ4はそれぞれ独立して共有結
合、−(CH2)2−、−(CH2)4−、−CF2O−、
−CH2O−または−COO−を示し、L1、L2、L3お
よびL4はそれぞれ独立して水素原子またはハロゲン原
子を示し、Xは水素原子、ハロゲン原子、CN基、また
は基中の1つ以上の水素原子がハロゲン原子により置換
されておりかつ基中の相隣り合わない一つ以上の−CH
2−が酸素原子、硫黄原子または−CH=CH−により
置き換えられていてもよい炭素数1〜5の 直鎖または
分岐のアルキル基を示し、Rは基中の1つ以上の水素原
子がハロゲン原子により置換されていてもよくかつ基中
の1つ以上の−CH2−が酸素原子、硫黄原子または−
CH=CH−により置き換えられていてもよい炭素数1
〜10の直鎖または分岐のアルキル基を示し、l、m、
nおよびoはそれぞれ独立して0または1であるがl+
m+n+o≦2であり、l+mが0または1である場合
にはL1はハロゲン原子であり、Xがシアノ基である場
合にはL1、L2、L3またはL4のうちそれら少なくとも
1つ以上はハロゲン原子である。化合物を構成する各原
子はそれらの同位体から選ばれるものを含んでもよ
い。)で表されるハロゲン置換ベンゼン誘導体。
【0012】(2)L1がフッ素原子である(1)に記
載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (3)L1とL2が共にフッ素原子である(1)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (4)L1とL3が共にフッ素原子である(1)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (5)L1、L2およびL3が全てフッ素原子である
(1)に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (6)L1、L3およびL4が全てフッ素原子である
(1)に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (7)L1、L2、L3およびL4が全てフッ素原子である
(1)に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (8)l=1、m=n=o=0である(2)に記載のハ
ロゲン置換ベンゼン誘導体。 (9)l=1、m=n=o=0である(3)に記載のハ
ロゲン置換ベンゼン誘導体。 (10)l=1、m=n=o=0である(4)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (11)l=1、m=n=o=0である(6)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (12)l=1、m=n=o=0である(6)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (13)l=1、m=n=o=0である(7)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (14)n=1、l=m=o=0である(5)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (15)n=1、l=m=o=0である(6)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (16)n=1、l=m=o=0である(7)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (17)l=n=1、m=o=0である(5)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (18)l=n=1、m=o=0である(6)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (19)l=n=1、m=o=0である(7)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (20)l=m=1、n=o=0である(1)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (21)n=o=1、l=m=0である(1)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (22)Xがシアノ基である(1)に記載のハロゲン置
換ベンゼン誘導体。 (23)L3とL4が共にフッ素原子である(22)に記
載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。
載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (3)L1とL2が共にフッ素原子である(1)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (4)L1とL3が共にフッ素原子である(1)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (5)L1、L2およびL3が全てフッ素原子である
(1)に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (6)L1、L3およびL4が全てフッ素原子である
(1)に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (7)L1、L2、L3およびL4が全てフッ素原子である
(1)に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (8)l=1、m=n=o=0である(2)に記載のハ
ロゲン置換ベンゼン誘導体。 (9)l=1、m=n=o=0である(3)に記載のハ
ロゲン置換ベンゼン誘導体。 (10)l=1、m=n=o=0である(4)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (11)l=1、m=n=o=0である(6)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (12)l=1、m=n=o=0である(6)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (13)l=1、m=n=o=0である(7)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (14)n=1、l=m=o=0である(5)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (15)n=1、l=m=o=0である(6)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (16)n=1、l=m=o=0である(7)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (17)l=n=1、m=o=0である(5)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (18)l=n=1、m=o=0である(6)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (19)l=n=1、m=o=0である(7)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (20)l=m=1、n=o=0である(1)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (21)n=o=1、l=m=0である(1)に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 (22)Xがシアノ基である(1)に記載のハロゲン置
換ベンゼン誘導体。 (23)L3とL4が共にフッ素原子である(22)に記
載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。
【0013】(24)(1)〜(23)のいずれか1項
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくとも1種
類含有することを特徴とする液晶組成物。 (25)第一成分として、(1)から(23)のいずれ
か1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくと
も1種類含有し、第二成分として、一般式(2)、
(3)および(4)
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくとも1種
類含有することを特徴とする液晶組成物。 (25)第一成分として、(1)から(23)のいずれ
か1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくと
も1種類含有し、第二成分として、一般式(2)、
(3)および(4)
【0014】
【化13】
【0015】(各式中、R1、Y1、La、Lb、Z5お
よびZ6は各式間で同一または互いに異なっていてもよ
く、R1は炭素数1〜10のアルキル基であって、該ア
ルキル基中、相隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸
素原子または−CH=CH−で置き換えられてもよく、
また任意の水素原子はフッ素原子で置換されてもよい。
Y1はフッ素原子、塩素原子、OCF3、OCF2H、C
F3、CF2H、CFH2、OCF2CF2HまたはOCF2
CFHCF3を示し、LaおよびLbは各々独立して水
素原子またはフッ素原子を示し、Z5およびZ6は各々独
立して1,2−エチレン基、1,4−ブチレン基、−C
OO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−ま
たは共有結合を示す。環Bはトランスー1,4−シクロ
ヘキシレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイルまた
は環上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい1,
4−フェニレンを示し、環Cはトランスー1,4−シク
ロヘキシレンまたは環上の水素原子がフッ素原子で置換
されてもよい1,4−フェニレンを示す。各式の化合物
において、それらを構成する各原子はそれらの同位体か
ら選ばれるものを含んでもよい。)からなる群から選択
される化合物を少なくとも1種類含有することを特徴と
する液晶組成物。 (26)第一成分として、(1)から(23)のいずれ
か1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくと
も1種類含有し、第二成分として、一般式(5)および
/または(6)
よびZ6は各式間で同一または互いに異なっていてもよ
く、R1は炭素数1〜10のアルキル基であって、該ア
ルキル基中、相隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸
素原子または−CH=CH−で置き換えられてもよく、
また任意の水素原子はフッ素原子で置換されてもよい。
Y1はフッ素原子、塩素原子、OCF3、OCF2H、C
F3、CF2H、CFH2、OCF2CF2HまたはOCF2
CFHCF3を示し、LaおよびLbは各々独立して水
素原子またはフッ素原子を示し、Z5およびZ6は各々独
立して1,2−エチレン基、1,4−ブチレン基、−C
OO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−ま
たは共有結合を示す。環Bはトランスー1,4−シクロ
ヘキシレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイルまた
は環上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい1,
4−フェニレンを示し、環Cはトランスー1,4−シク
ロヘキシレンまたは環上の水素原子がフッ素原子で置換
されてもよい1,4−フェニレンを示す。各式の化合物
において、それらを構成する各原子はそれらの同位体か
ら選ばれるものを含んでもよい。)からなる群から選択
される化合物を少なくとも1種類含有することを特徴と
する液晶組成物。 (26)第一成分として、(1)から(23)のいずれ
か1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくと
も1種類含有し、第二成分として、一般式(5)および
/または(6)
【0016】
【化14】
【0017】(各式中、R2およびR3は各々独立して炭
素数1〜10のアルキル基を示が、該アルキル基中、相
隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸素原子または−
CH=CH−で置き換えられてもよく、また任意の水素
原子はフッ素原子で置換されてもよい。Y2は−CN基
または−C≡C−CNを示し、環Eはトランスー1,4
−シクロヘキシレン、1,4−フェニレン、1,3−ジ
オキサン−2,5−ジイルまたはピリミジン−2,5−
ジイルを示し、環Gはトランスー1,4−シクロヘキシ
レン、環上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい
1,4−フェニレンまたはピリミジン−2,5−ジイル
を示し、環Hはトランスー1,4−シクロヘキシレンま
たは1,4−フェニレンを示し、Z7は1,2−エチレ
ン基、−COO−または共有結合を示し、Lc、Ldおよ
びLeは各々独立して水素原子またはフッ素原子を示
し、b、cおよびdは各々独立して0または1である。
各式の化合物において、それらを構成する各原子はそれ
らの同位体から選ばれるものを含んでもよい。)から選
択される化合物を少なくとも1種類含有することを特徴
とする液晶組成物。 (27)第一成分として、(1)から(23)のいずれ
か1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくと
も1種含有し、第二成分として、前記一般式(2)、
(3)および(4)からなる群から選択される化合物を
少なくとも1種類含有し、第三成分として、一般式
(7)、(8)および(9)
素数1〜10のアルキル基を示が、該アルキル基中、相
隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸素原子または−
CH=CH−で置き換えられてもよく、また任意の水素
原子はフッ素原子で置換されてもよい。Y2は−CN基
または−C≡C−CNを示し、環Eはトランスー1,4
−シクロヘキシレン、1,4−フェニレン、1,3−ジ
オキサン−2,5−ジイルまたはピリミジン−2,5−
ジイルを示し、環Gはトランスー1,4−シクロヘキシ
レン、環上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい
1,4−フェニレンまたはピリミジン−2,5−ジイル
を示し、環Hはトランスー1,4−シクロヘキシレンま
たは1,4−フェニレンを示し、Z7は1,2−エチレ
ン基、−COO−または共有結合を示し、Lc、Ldおよ
びLeは各々独立して水素原子またはフッ素原子を示
し、b、cおよびdは各々独立して0または1である。
各式の化合物において、それらを構成する各原子はそれ
らの同位体から選ばれるものを含んでもよい。)から選
択される化合物を少なくとも1種類含有することを特徴
とする液晶組成物。 (27)第一成分として、(1)から(23)のいずれ
か1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくと
も1種含有し、第二成分として、前記一般式(2)、
(3)および(4)からなる群から選択される化合物を
少なくとも1種類含有し、第三成分として、一般式
(7)、(8)および(9)
【0018】
【化15】
【0019】(各式中、R4、R5、I、JおよびKは各
式間で同一または互いに異なっていてもよく、R4およ
びR5は各々独立して炭素数1〜10のアルキル基であ
って、該アルキル基中、相隣り合わない一つ以上のメチ
レン基は酸素原子または−CH=CH−で置き換えられ
てもよく、また任意の水素原子はフッ素原子で置換され
てもよい。I、JおよびKは各々独立して、トランスー
1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイ
ルまたは環上の水素原子原子がフッ素原子で置換されて
もよい1,4−フェニレンを示し、Z8およびZ9は各々
独立して、−C≡C−、−COO−、−CH2CH2−、
−CH=CH−または共有結合を示す。各式の化合物に
おいて、それらを構成する各原子はそれらの同位体から
選ばれるものを含んでもよい。)からなる群から選択さ
れる化合物を少なくとも1種類含有することを特徴とす
る液晶組成物。
式間で同一または互いに異なっていてもよく、R4およ
びR5は各々独立して炭素数1〜10のアルキル基であ
って、該アルキル基中、相隣り合わない一つ以上のメチ
レン基は酸素原子または−CH=CH−で置き換えられ
てもよく、また任意の水素原子はフッ素原子で置換され
てもよい。I、JおよびKは各々独立して、トランスー
1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイ
ルまたは環上の水素原子原子がフッ素原子で置換されて
もよい1,4−フェニレンを示し、Z8およびZ9は各々
独立して、−C≡C−、−COO−、−CH2CH2−、
−CH=CH−または共有結合を示す。各式の化合物に
おいて、それらを構成する各原子はそれらの同位体から
選ばれるものを含んでもよい。)からなる群から選択さ
れる化合物を少なくとも1種類含有することを特徴とす
る液晶組成物。
【0020】(28)第一成分として、(1)から(2
3)のいずれか1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導
体を少なくとも1種含有し、第二成分として、前記一般
式(5)および/または(6)から選択される化合物を
少なくとも1種類含有し、第三成分として、前記一般式
(7)、(8)および(9)からなる群から選択される
化合物を少なくとも1種類含有することを特徴とする液
晶組成物。 (29)第一成分として、(1)から(23)のいずれ
か1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくと
も1種類含有し、第二成分の一部分として、前記一般式
(2)、(3)および(4)からなる群から選択される
化合物を少なくとも1種類含有し、第二成分の他の部分
として、前記一般式(5)および/または(6)から選
択される化合物を少なくとも1種類含有し、第三成分と
して、前記一般式(7)、(8)および(9)からなる
群から選択される化合物を少なくとも1種類含有するこ
とを特徴とする液晶組成物。 (30)光学活性化合物をさらに含有することを特徴と
する(24)から(29)のいずれか1項に記載の液晶
組成物。 (31)(24)から(30)のいずれか1項に記載の
液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
3)のいずれか1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導
体を少なくとも1種含有し、第二成分として、前記一般
式(5)および/または(6)から選択される化合物を
少なくとも1種類含有し、第三成分として、前記一般式
(7)、(8)および(9)からなる群から選択される
化合物を少なくとも1種類含有することを特徴とする液
晶組成物。 (29)第一成分として、(1)から(23)のいずれ
か1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくと
も1種類含有し、第二成分の一部分として、前記一般式
(2)、(3)および(4)からなる群から選択される
化合物を少なくとも1種類含有し、第二成分の他の部分
として、前記一般式(5)および/または(6)から選
択される化合物を少なくとも1種類含有し、第三成分と
して、前記一般式(7)、(8)および(9)からなる
群から選択される化合物を少なくとも1種類含有するこ
とを特徴とする液晶組成物。 (30)光学活性化合物をさらに含有することを特徴と
する(24)から(29)のいずれか1項に記載の液晶
組成物。 (31)(24)から(30)のいずれか1項に記載の
液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明の一般式(1)で表される
ハロゲン置換ベンゼン誘導体は、α、α−ジフルオロベ
ンジルフェニルエーテルからなる部分構造を有すること
と、1、4−フェニレン基上に置換ハロゲン原子を有す
ることの相乗効果により、後記参照通りの優れた特性、
特に大きな△εを示すことになったと思われる。該化合
物は式中のl、m、nまたはoを適宜選択することによ
りさらに次の下位一次式(1a)〜(1f)で表される
化合物群に展開される。
ハロゲン置換ベンゼン誘導体は、α、α−ジフルオロベ
ンジルフェニルエーテルからなる部分構造を有すること
と、1、4−フェニレン基上に置換ハロゲン原子を有す
ることの相乗効果により、後記参照通りの優れた特性、
特に大きな△εを示すことになったと思われる。該化合
物は式中のl、m、nまたはoを適宜選択することによ
りさらに次の下位一次式(1a)〜(1f)で表される
化合物群に展開される。
【0022】
【化16】
【0023】(各式中、R、A1、A2、A3、A4、
Z1、Z2、Z3、Z4、L1、L2、L3、L4およびX
は前記と同一の意味を示す。) これらの下位一次化合物のうち、l+m+n+o=0で
あって式(1a)で表される2環系の化合物は、低粘性
であると共に低温における相溶性が良好なため液晶組成
物の成分として添加した場合△εを維持したまま粘性を
低下させ、高速応答用の組成物を与えることができる。
また、l+m+n+o=1であって式(1b)および
(1c)で表される3環系の化合物は、△εと粘性のバ
ランスに優れているため液晶組成物の成分として添加し
た場合粘性を増加させるこなく△εのみを効率的に増大
させることができ、上記と同様に高速応答用の組成物を
与えることができる。さらに、l+m+n+o=2であ
って式(1d)、(1e)および(1f)で表される4
環系の化合物は、高い透明点を有するため液晶組成物の
成分として添加した場合△εを維持したまま透明点を効
果的に上昇させることができ、ワイドレンジの組成物を
与えることができる。なお、l+m=0の場合、これに
相当する化合物として式(1a)、(1c)および(1
f)を挙げることができるが、これらの化合物では式中
のL1がハロゲン原子であることが本発明目的を達成す
る上で必要である。
Z1、Z2、Z3、Z4、L1、L2、L3、L4およびX
は前記と同一の意味を示す。) これらの下位一次化合物のうち、l+m+n+o=0で
あって式(1a)で表される2環系の化合物は、低粘性
であると共に低温における相溶性が良好なため液晶組成
物の成分として添加した場合△εを維持したまま粘性を
低下させ、高速応答用の組成物を与えることができる。
また、l+m+n+o=1であって式(1b)および
(1c)で表される3環系の化合物は、△εと粘性のバ
ランスに優れているため液晶組成物の成分として添加し
た場合粘性を増加させるこなく△εのみを効率的に増大
させることができ、上記と同様に高速応答用の組成物を
与えることができる。さらに、l+m+n+o=2であ
って式(1d)、(1e)および(1f)で表される4
環系の化合物は、高い透明点を有するため液晶組成物の
成分として添加した場合△εを維持したまま透明点を効
果的に上昇させることができ、ワイドレンジの組成物を
与えることができる。なお、l+m=0の場合、これに
相当する化合物として式(1a)、(1c)および(1
f)を挙げることができるが、これらの化合物では式中
のL1がハロゲン原子であることが本発明目的を達成す
る上で必要である。
【0024】上記下位一次化合物のうち、式(1b)に
含まれる化合物の好適例として次の式(1b−1)〜
(1b−4)、式(1c)に含まれる化合物の好適例と
して式(1c−1)、式(1d)に含まれる化合物の好
適例として式(1d−1)〜(1d−5)、式(1e)
に含まれる化合物の好適例として式(1e−1)〜(1
e−3)、式(1f)に含まれる化合物の好適例として
式(1f−1)および(1f−1)をそれぞれ下位二次
化合物として挙げることができる。
含まれる化合物の好適例として次の式(1b−1)〜
(1b−4)、式(1c)に含まれる化合物の好適例と
して式(1c−1)、式(1d)に含まれる化合物の好
適例として式(1d−1)〜(1d−5)、式(1e)
に含まれる化合物の好適例として式(1e−1)〜(1
e−3)、式(1f)に含まれる化合物の好適例として
式(1f−1)および(1f−1)をそれぞれ下位二次
化合物として挙げることができる。
【0025】
【化17】
【0026】
【化18】
【0027】(各式中、R、Z1、Z2、Z3、Z4、
L1、L2、L3、L4およびXは前記と同一の意味を示
し、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11およびL12
は水素またはハロゲン原子を示す。) これらの下位二次化合物のうち、分子内の環が1、4−
フェニレン基に富むもの、例えば式(1b−3)、(1
c−1)、(1d−4)、(1e−1)、(1f−1)
および(1f−2)で表される化合物は特に大きな△n
を示す。また、これらの化合物を含め分子内の環がトラ
ンス−1、4−シクロヘキシレン基または1、4−フェ
ニレン基のみからなる化合物、例えば式(1b−1)、
(1b−3)、(1c−1)、(1d−1)、(1d−
4)、(1e−1)および(1f−1)で表されるもの
並びに前記下位一次化合物の式(1a)で表されるもの
は、さらに低粘性である上電圧保持率が高くかつその温
度依存性が小さいので、低電圧−高信頼性が求められる
液晶材料として有用である。また、分子内にトランス−
1、3−ジオキサン−2、5−ジイル基またはピリミジ
ン−2、5−ジイル基を骨格構造として有する化合物、
例えば式(1b−2)、(1b−4)、(1d−2)、
(1d−3)、(1d−5)、(1e−2)、(1e−
3)および(1f−2)で表される化合物は特に極めて
大きな△εを示すので、極低電圧が要求される分野にお
いて非常に有用である。なお、上記の下位二次化合物お
よび式(1a)で表される下位一次化合物において、
1、4−フェニレン基上の置換基L1〜L12がハロゲン
原子、特にフッ素原子により置換されたものは、その置
換数が増すにつれて△εが大きくなり、また低温相溶性
についても向上する。
L1、L2、L3、L4およびXは前記と同一の意味を示
し、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11およびL12
は水素またはハロゲン原子を示す。) これらの下位二次化合物のうち、分子内の環が1、4−
フェニレン基に富むもの、例えば式(1b−3)、(1
c−1)、(1d−4)、(1e−1)、(1f−1)
および(1f−2)で表される化合物は特に大きな△n
を示す。また、これらの化合物を含め分子内の環がトラ
ンス−1、4−シクロヘキシレン基または1、4−フェ
ニレン基のみからなる化合物、例えば式(1b−1)、
(1b−3)、(1c−1)、(1d−1)、(1d−
4)、(1e−1)および(1f−1)で表されるもの
並びに前記下位一次化合物の式(1a)で表されるもの
は、さらに低粘性である上電圧保持率が高くかつその温
度依存性が小さいので、低電圧−高信頼性が求められる
液晶材料として有用である。また、分子内にトランス−
1、3−ジオキサン−2、5−ジイル基またはピリミジ
ン−2、5−ジイル基を骨格構造として有する化合物、
例えば式(1b−2)、(1b−4)、(1d−2)、
(1d−3)、(1d−5)、(1e−2)、(1e−
3)および(1f−2)で表される化合物は特に極めて
大きな△εを示すので、極低電圧が要求される分野にお
いて非常に有用である。なお、上記の下位二次化合物お
よび式(1a)で表される下位一次化合物において、
1、4−フェニレン基上の置換基L1〜L12がハロゲン
原子、特にフッ素原子により置換されたものは、その置
換数が増すにつれて△εが大きくなり、また低温相溶性
についても向上する。
【0028】これらの化合物において、式中のコ−ド
R、Z1〜Z4、L1〜L12、X、R、A1〜A4は前
記した通りであるが、これらを適宜選択した化合物を成
分として用いることにより種々の要求に応じた液晶組成
物を調製することができる。例えば、特に高い電圧保持
率が要求させるアクティブマトリックス用液晶組成物を
調製する場合には、上記A1〜A4についてはトランス
−1、4−シクロヘキシレン基または1、4−フェニレ
ン基を、XについてはCN基以外の置換基等を、Rにつ
いてはアルキル基を、結合基Z1〜Z4については単結
合または−(CH2)2−もしくは−(CH2)4−をそれ
ぞれ選択した化合物を成分として用いればよい。また、
極低電圧駆動が要求される素子用液晶組成物を調製する
場合には、Xについてはハロゲン原子、CN基、CF3
基またはOCF3基もしくはOCF2H基等のフルオロア
ルコキシ基を選択し、またL1〜L4についてはハロゲン
原子、好ましくはフッ素原子を選択し、以て1、4−フ
ェニレン基上に置換されたこれらのハロゲン原子により
双極子が同一方向となるようにされた化合物を成分とし
て用いればよい。
R、Z1〜Z4、L1〜L12、X、R、A1〜A4は前
記した通りであるが、これらを適宜選択した化合物を成
分として用いることにより種々の要求に応じた液晶組成
物を調製することができる。例えば、特に高い電圧保持
率が要求させるアクティブマトリックス用液晶組成物を
調製する場合には、上記A1〜A4についてはトランス
−1、4−シクロヘキシレン基または1、4−フェニレ
ン基を、XについてはCN基以外の置換基等を、Rにつ
いてはアルキル基を、結合基Z1〜Z4については単結
合または−(CH2)2−もしくは−(CH2)4−をそれ
ぞれ選択した化合物を成分として用いればよい。また、
極低電圧駆動が要求される素子用液晶組成物を調製する
場合には、Xについてはハロゲン原子、CN基、CF3
基またはOCF3基もしくはOCF2H基等のフルオロア
ルコキシ基を選択し、またL1〜L4についてはハロゲン
原子、好ましくはフッ素原子を選択し、以て1、4−フ
ェニレン基上に置換されたこれらのハロゲン原子により
双極子が同一方向となるようにされた化合物を成分とし
て用いればよい。
【0029】前記のRとして、アルキル基、アルコキシ
基、アルコキシアルキル基、アルケニル基およびアルケ
ニルオキシ基を示すことができる。より具体的には、ア
ルキル基としてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基及びデシル基、アルコキシ基としてメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペント
キシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基およびオ
クチルオキシ基、アルコキシアルキル基としてメトキシ
メチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブ
トキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル
基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキ
シプロピル基、プロポキシプロピル基、アルケニル基と
してビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1
−ペンテニル基、3−ブテニル基および3−ペンテニル
基、アルケニルオキシ基としてアリルオキシ基等を挙げ
ることができる。
基、アルコキシアルキル基、アルケニル基およびアルケ
ニルオキシ基を示すことができる。より具体的には、ア
ルキル基としてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基及びデシル基、アルコキシ基としてメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペント
キシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基およびオ
クチルオキシ基、アルコキシアルキル基としてメトキシ
メチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブ
トキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル
基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキ
シプロピル基、プロポキシプロピル基、アルケニル基と
してビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1
−ペンテニル基、3−ブテニル基および3−ペンテニル
基、アルケニルオキシ基としてアリルオキシ基等を挙げ
ることができる。
【0030】また、前記のXとして、水素原子、ハロゲ
ン原子、CN基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置
換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシアルキル基お
よびハロゲン置換アルケニル基を示すことができる。よ
り具体的には、ハロゲン原子としてフッ素原子、塩素原
子および臭素原子、ハロゲン置換アルキル基としてトリ
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ジフルオロク
ロロメチル基、2、2、2−トリフルオロエチル基、2
−フルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、4−フ
ルオロブチル基、5−フルオロペンチル基、3−クロロ
プロピル基、ハロゲン置換アルコキシ基としてトリフル
オロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロク
ロロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、1,1,
2,2−テトラフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプ
ロポキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ
プロポキシ基、ハロゲン置換アルコキシアルキル基とし
てトリフルオロメトキシメチル基、ハロゲン置換アルケ
ニル基として2−フルオロエテニル基、2,2−ジフル
オロエテニル基、1,2,2−トリフルオロエテニル
基、3−フルオロ−1−ブテニル基および4−フルオロ
−1−ブテニル基等を挙げることができる。
ン原子、CN基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置
換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシアルキル基お
よびハロゲン置換アルケニル基を示すことができる。よ
り具体的には、ハロゲン原子としてフッ素原子、塩素原
子および臭素原子、ハロゲン置換アルキル基としてトリ
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ジフルオロク
ロロメチル基、2、2、2−トリフルオロエチル基、2
−フルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、4−フ
ルオロブチル基、5−フルオロペンチル基、3−クロロ
プロピル基、ハロゲン置換アルコキシ基としてトリフル
オロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロク
ロロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、1,1,
2,2−テトラフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプ
ロポキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ
プロポキシ基、ハロゲン置換アルコキシアルキル基とし
てトリフルオロメトキシメチル基、ハロゲン置換アルケ
ニル基として2−フルオロエテニル基、2,2−ジフル
オロエテニル基、1,2,2−トリフルオロエテニル
基、3−フルオロ−1−ブテニル基および4−フルオロ
−1−ブテニル基等を挙げることができる。
【0031】本発明により提供される液晶組成物は、第
一成分として一般式(1)で表される液晶性化合物を少
なくとも1種類含有することからなる。その含有量は、
液晶組成物の重量に基づき0.1〜99.9重量%とす
ることが優良な特性を発現せしめるために必要であり、
好ましくは1〜50重量%、より好ましくは3〜20重
量%である。本発明の液晶組成物は、上記第一成分のみ
でもよいが、これに加え、第二成分として既述参照の一
般式(2)、(3)および(4)からなる群から選択さ
れる少なくとも1種類の化合物(以下第二A成分と称す
る)および一般式(5)および/または(6)からなる
群から選択される少なくとも1種類の化合物(以下第二
B成分と称する)を混合したものや、これに第三成分と
して一般式(7)、(8)および(9)からなる群から
選択される少なくとも1種類の化合物を混合したものが
好ましく、さらにその他の成分として光学活性化合物
や、しきい値電圧、液晶相温度範囲、△n、△εおよび
粘度等を調整する目的で公知の化合物を適宜混合するこ
ともできる。
一成分として一般式(1)で表される液晶性化合物を少
なくとも1種類含有することからなる。その含有量は、
液晶組成物の重量に基づき0.1〜99.9重量%とす
ることが優良な特性を発現せしめるために必要であり、
好ましくは1〜50重量%、より好ましくは3〜20重
量%である。本発明の液晶組成物は、上記第一成分のみ
でもよいが、これに加え、第二成分として既述参照の一
般式(2)、(3)および(4)からなる群から選択さ
れる少なくとも1種類の化合物(以下第二A成分と称す
る)および一般式(5)および/または(6)からなる
群から選択される少なくとも1種類の化合物(以下第二
B成分と称する)を混合したものや、これに第三成分と
して一般式(7)、(8)および(9)からなる群から
選択される少なくとも1種類の化合物を混合したものが
好ましく、さらにその他の成分として光学活性化合物
や、しきい値電圧、液晶相温度範囲、△n、△εおよび
粘度等を調整する目的で公知の化合物を適宜混合するこ
ともできる。
【0032】上記第二A成分のうち、一般式(2)に含
まれる化合物の好適例として次の式(2−1)〜(2−
9)、一般式(3)に含まれる化合物の好適例として式
(3−1)〜(3−63)、一般式(4)に含まれる化
合物の好適例として式(4−1)〜(4−15)で表さ
れる化合物をそれぞれ挙げることができる。
まれる化合物の好適例として次の式(2−1)〜(2−
9)、一般式(3)に含まれる化合物の好適例として式
(3−1)〜(3−63)、一般式(4)に含まれる化
合物の好適例として式(4−1)〜(4−15)で表さ
れる化合物をそれぞれ挙げることができる。
【0033】
【化19】
【0034】
【化20】
【0035】
【化21】
【0036】
【化22】
【0037】
【化23】
【0038】
【化24】
【0039】
【化25】
【0040】
【化26】
【0041】
【化27】
【0042】(各式中、R1、Y1は前記と同一の意味を
示す。) これらの一般式(2)〜(4)で表される化合物は、△
εが正を示し、熱的安定性や化学的安定性に優れてお
り、電圧保持率が高い(比抵抗値が大きい)といった高
信頼性が要求されるTFT用の液晶組成物を調製する場
合には有用な化合物である。該化合物の使用量は、TF
T用の液晶組成物を調製する場合、液晶組成物の全重量
に対して1〜99重量%の範囲が適するが、好ましくは
10〜97重量%、より好ましくは40〜95重量%で
ある。 その際には、式(7)〜(9)で表される化合
物を含有してもよい。上記の一般式(2)〜(4)で表
される化合物は、低い電圧で駆動するSTN表示方式や
TN表示方式用の液晶組成物を調製する場合にも使用で
きるが、その際の使用量は液晶組成物の全重量に対して
50重量%以下であることが好ましい。
示す。) これらの一般式(2)〜(4)で表される化合物は、△
εが正を示し、熱的安定性や化学的安定性に優れてお
り、電圧保持率が高い(比抵抗値が大きい)といった高
信頼性が要求されるTFT用の液晶組成物を調製する場
合には有用な化合物である。該化合物の使用量は、TF
T用の液晶組成物を調製する場合、液晶組成物の全重量
に対して1〜99重量%の範囲が適するが、好ましくは
10〜97重量%、より好ましくは40〜95重量%で
ある。 その際には、式(7)〜(9)で表される化合
物を含有してもよい。上記の一般式(2)〜(4)で表
される化合物は、低い電圧で駆動するSTN表示方式や
TN表示方式用の液晶組成物を調製する場合にも使用で
きるが、その際の使用量は液晶組成物の全重量に対して
50重量%以下であることが好ましい。
【0043】次に、前記第二B成分のうち、一般式
(5)に含まれる化合物の好適例として次の式(5−
1)〜(5−40)、一般式(6)に含まれる化合物の
好適例として式(6−1)〜(6−3)で表される化合
物をそれぞれ挙げることができる。
(5)に含まれる化合物の好適例として次の式(5−
1)〜(5−40)、一般式(6)に含まれる化合物の
好適例として式(6−1)〜(6−3)で表される化合
物をそれぞれ挙げることができる。
【0044】
【化28】
【0045】
【化29】
【0046】
【化30】
【0047】
【化31】
【0048】
【化32】
【0049】(各式中、R2、R3、Y2は前記と同一の
意味を示す。) これらの一般式(5)または(6)で表される化合物
は、△εが正でその値が大きく、特にしきい値電圧を低
くする目的で使用される。また、電気光学特性曲線にお
ける急峻性の改良、△nの調整や透明点を高くしてネマ
チック相範囲を広げる目的にも使用されるもので、特に
低い電圧で駆動する液晶表示素子用の液晶組成物を調製
する場合に適している。この化合物は、その使用量を増
大させるに従い液晶組成物のしきい値電圧をより低くで
きるが、一方で粘度の上昇を来す。従って、液晶組成物
の粘度が要求物性値を満足する限り、その使用量は多量
である方が低電圧駆動上有利である。このような事情か
ら、上記の使用量は、液晶組成物の全重量に対して0.
1〜99.9重量%の範囲が適するが、好ましくは10
〜97重量%、より好ましくは40〜95重量%であ
る。
意味を示す。) これらの一般式(5)または(6)で表される化合物
は、△εが正でその値が大きく、特にしきい値電圧を低
くする目的で使用される。また、電気光学特性曲線にお
ける急峻性の改良、△nの調整や透明点を高くしてネマ
チック相範囲を広げる目的にも使用されるもので、特に
低い電圧で駆動する液晶表示素子用の液晶組成物を調製
する場合に適している。この化合物は、その使用量を増
大させるに従い液晶組成物のしきい値電圧をより低くで
きるが、一方で粘度の上昇を来す。従って、液晶組成物
の粘度が要求物性値を満足する限り、その使用量は多量
である方が低電圧駆動上有利である。このような事情か
ら、上記の使用量は、液晶組成物の全重量に対して0.
1〜99.9重量%の範囲が適するが、好ましくは10
〜97重量%、より好ましくは40〜95重量%であ
る。
【0050】前記第三成分のうち、一般式(7)に含ま
れる化合物の好適例として次の式(7−1)〜(7−1
1)、一般式(8)に含まれる化合物の好適例として式
(8−1)〜(8−18)、一般式(9)に含まれる化
合物の好適例として式(9−1)〜(9−6)で表され
る化合物をそれぞれ挙げることができる。
れる化合物の好適例として次の式(7−1)〜(7−1
1)、一般式(8)に含まれる化合物の好適例として式
(8−1)〜(8−18)、一般式(9)に含まれる化
合物の好適例として式(9−1)〜(9−6)で表され
る化合物をそれぞれ挙げることができる。
【0051】
【化33】
【0052】
【化34】
【0053】
【化35】
【0054】
【化36】
【0055】(各式中、R4、R5は前記と同一の意味を
示す。) これらの一般式(7)〜(9)で表される化合物は、△
εの絶対値が小さくゼロに近い化合物であり、それらの
うち一般式(7)で表される化合物は主として液晶組成
物の粘度調整または△n調整の目的に、また一般式
(8)および(9)の化合物は透明点を高くして液晶組
成物のネマチック相範囲を広げる目的や△n調整の目的
で使用される。この化合物は、その使用量を増大させる
に従い液晶組成物のしきい値電圧を高くするが、一方で
粘度を小さくする。従って、液晶組成物のしきい値電圧
が要求特性を満足する限り、その使用量は多量な程望ま
しい。このような事情から、TFT用の液晶組成物のご
とく高い信頼性を必要とする場合には、上記の使用量は
液晶組成物の全重量に対して40重量%以下が適し、好
ましくは35重量%以下である。一方、STN表示方式
やTN表示方式用の液晶組成物のごとく低いしきい値電
圧を必要とする場合には、上記の使用量は液晶組成物の
全重量に対して70重量%以下が適し、好ましくは60
重量%以下である。
示す。) これらの一般式(7)〜(9)で表される化合物は、△
εの絶対値が小さくゼロに近い化合物であり、それらの
うち一般式(7)で表される化合物は主として液晶組成
物の粘度調整または△n調整の目的に、また一般式
(8)および(9)の化合物は透明点を高くして液晶組
成物のネマチック相範囲を広げる目的や△n調整の目的
で使用される。この化合物は、その使用量を増大させる
に従い液晶組成物のしきい値電圧を高くするが、一方で
粘度を小さくする。従って、液晶組成物のしきい値電圧
が要求特性を満足する限り、その使用量は多量な程望ま
しい。このような事情から、TFT用の液晶組成物のご
とく高い信頼性を必要とする場合には、上記の使用量は
液晶組成物の全重量に対して40重量%以下が適し、好
ましくは35重量%以下である。一方、STN表示方式
やTN表示方式用の液晶組成物のごとく低いしきい値電
圧を必要とする場合には、上記の使用量は液晶組成物の
全重量に対して70重量%以下が適し、好ましくは60
重量%以下である。
【0056】次に、その他の成分のうち、光学活性化合
物は特別な場合、例えばOCB(Optically Compensate
d Birefringence)モ−ド用の液晶組成物の場合を除
き、一般に液晶組成物のらせん構造を誘起して必要なね
じれ角を調整し、以て逆ねじれ(reverse twist)を防
ぐ目的で添加される。この光学活性化合物は、上記目的
が達成される限り公知のものから広く選択されるが、好
ましくは以下の式(Op−1)〜(Op−8)で表され
る光学活性化合物を挙げることができる。
物は特別な場合、例えばOCB(Optically Compensate
d Birefringence)モ−ド用の液晶組成物の場合を除
き、一般に液晶組成物のらせん構造を誘起して必要なね
じれ角を調整し、以て逆ねじれ(reverse twist)を防
ぐ目的で添加される。この光学活性化合物は、上記目的
が達成される限り公知のものから広く選択されるが、好
ましくは以下の式(Op−1)〜(Op−8)で表され
る光学活性化合物を挙げることができる。
【0057】
【化37】
【0058】これらの光学活性化合物を添加することに
より、液晶組成物はねじれのピッチ(pitch)長が調整
される。このねじれのピッチ長は、STN用のものであ
れば6〜20μmの範囲に、また双安定TN(Bistable
TN)モ−ド用のものであれば1.5〜4μmの範囲に
それぞれ調整することが好ましい。なおその際、ピッチ
長の温度依存性を調整する目的で2種以上の光学活性化
合物を添加してもよい。
より、液晶組成物はねじれのピッチ(pitch)長が調整
される。このねじれのピッチ長は、STN用のものであ
れば6〜20μmの範囲に、また双安定TN(Bistable
TN)モ−ド用のものであれば1.5〜4μmの範囲に
それぞれ調整することが好ましい。なおその際、ピッチ
長の温度依存性を調整する目的で2種以上の光学活性化
合物を添加してもよい。
【0059】本発明の液晶組成物は、電界効果型および
電流効果型のいずれの表示素子にも使用できる。例え
ば、ねじれネマチックモード、アクティブマトリックス
方式と組み合わせたねじれネマチックモード、超ねじれ
ネマチックモードおよび電界制御複屈折モード素子用を
初め、さらにメロシアニン系、スチリル系、アゾ系、ア
ゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキ
ノン系またはテトラジン系等の二色性色素を添加すれば
ゲストホストモード素子用の液晶組成物としても使用で
きる。また、ポリマー中にカプセル状の液晶組成物が分
散した表示素子やスポンジ状のポリマーに液晶組成物が
存在する表示素子の用途にも使用できる。
電流効果型のいずれの表示素子にも使用できる。例え
ば、ねじれネマチックモード、アクティブマトリックス
方式と組み合わせたねじれネマチックモード、超ねじれ
ネマチックモードおよび電界制御複屈折モード素子用を
初め、さらにメロシアニン系、スチリル系、アゾ系、ア
ゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキ
ノン系またはテトラジン系等の二色性色素を添加すれば
ゲストホストモード素子用の液晶組成物としても使用で
きる。また、ポリマー中にカプセル状の液晶組成物が分
散した表示素子やスポンジ状のポリマーに液晶組成物が
存在する表示素子の用途にも使用できる。
【0060】本発明の一般式(1)で表される化合物
は、通常の有機合成化学の手法、例えばオーガニックシ
ンセシス(John Wiley & Sons, Inc)、オーガニックリ
アクションズ(John Wiley & Sons, Inc)、実験化学講
座(丸善株式会社)および/または公知の特許文献等に
記載された方法を適当に選択、組み合わせることにより
製造することができる。
は、通常の有機合成化学の手法、例えばオーガニックシ
ンセシス(John Wiley & Sons, Inc)、オーガニックリ
アクションズ(John Wiley & Sons, Inc)、実験化学講
座(丸善株式会社)および/または公知の特許文献等に
記載された方法を適当に選択、組み合わせることにより
製造することができる。
【0061】すなわち、既述の特許公報DE−1953
1165号またはWO96/11897号等に記載の方
法に準じ、ジチオカルボン酸誘導体(10)とフェノー
ル誘導体(11)からなる混合物に水素化ナトリウムを
作用させてそれぞれナトリウム塩とフェノラートを反応
系中で得、これらにヨウ素を作用させることによりチオ
ン−O−エステル誘導体(12)を製造する。次いでこ
のものにジエチルアミノサルファートリフルオリド(以
下DASTと省略する)を作用させるか、あるいは特開
平5−255165号に記載の方法に準じて、N−ブロ
モスクシンイミド(以下NBSと省略する)または1、
3−ジブロモ−5、5−ジメチルヒダントイン(以下D
BHと省略する)等の酸化剤の存在下に二水素三フッ化
テトラブチルアンモニウムまたはHF−ピリジンを作用
させてフッ素化することにより、目的とする本発明の一
般式(1)で表される化合物を製造することができる。
1165号またはWO96/11897号等に記載の方
法に準じ、ジチオカルボン酸誘導体(10)とフェノー
ル誘導体(11)からなる混合物に水素化ナトリウムを
作用させてそれぞれナトリウム塩とフェノラートを反応
系中で得、これらにヨウ素を作用させることによりチオ
ン−O−エステル誘導体(12)を製造する。次いでこ
のものにジエチルアミノサルファートリフルオリド(以
下DASTと省略する)を作用させるか、あるいは特開
平5−255165号に記載の方法に準じて、N−ブロ
モスクシンイミド(以下NBSと省略する)または1、
3−ジブロモ−5、5−ジメチルヒダントイン(以下D
BHと省略する)等の酸化剤の存在下に二水素三フッ化
テトラブチルアンモニウムまたはHF−ピリジンを作用
させてフッ素化することにより、目的とする本発明の一
般式(1)で表される化合物を製造することができる。
【0062】
【化38】 (式中、R、A1、A2、A3、A4、Z1、Z2、Z
3、Z4、L1、L2、L3、L4、X、l、m、nおよび
oは前記と同一の意味を示す。)
3、Z4、L1、L2、L3、L4、X、l、m、nおよび
oは前記と同一の意味を示す。)
【0063】なお、上記出発物質のうち、ジチオカルボ
ン酸誘導体(10)とフェノール誘導体(11)はそれ
ぞれ以下の方法により好適に製造することができる。 (ジチオカルボン酸誘導体(10)の製造)式(10)
において、L1=L2=Hの場合:ブロモベンゼン誘導
体(13−1)から常法に従い調製したグリニャ−ル試
薬に二硫化炭素を作用させることにより、目的のジチオ
カルボン酸誘導体例(10−1)を容易に製造すること
ができる。 式(10)において、L1=F、L2=Hの場合:フル
オロベンゼン誘導体(13−2)に対しsec-ブチルリチ
ウムをテトラヒドロフラン(以下THFと省略する)
中、−65℃以下で作用させてリチオ化し、次いでN、
N、N’、N’−テトラメチルエチレンジアミン(以下
TMEDAと省略する)を添加した後二硫化炭素を作用
させることにより、目的のジチオカルボン酸誘導体例
(10−2)を容易に製造することができる。 式(10)において、L1=L2=Fの場合:ジフルオ
ロベンゼン誘導体(13−3)をフルオロベンゼン誘導
体(13−2)に替えて用い、これに作用させるリチオ
化剤をsec-ブチルリチウムに替えn−ブチルリチウムと
する以外は上記と同様に操作して、目的のジチオカルボ
ン酸誘導体例(10−3)を容易に製造することができ
る。
ン酸誘導体(10)とフェノール誘導体(11)はそれ
ぞれ以下の方法により好適に製造することができる。 (ジチオカルボン酸誘導体(10)の製造)式(10)
において、L1=L2=Hの場合:ブロモベンゼン誘導
体(13−1)から常法に従い調製したグリニャ−ル試
薬に二硫化炭素を作用させることにより、目的のジチオ
カルボン酸誘導体例(10−1)を容易に製造すること
ができる。 式(10)において、L1=F、L2=Hの場合:フル
オロベンゼン誘導体(13−2)に対しsec-ブチルリチ
ウムをテトラヒドロフラン(以下THFと省略する)
中、−65℃以下で作用させてリチオ化し、次いでN、
N、N’、N’−テトラメチルエチレンジアミン(以下
TMEDAと省略する)を添加した後二硫化炭素を作用
させることにより、目的のジチオカルボン酸誘導体例
(10−2)を容易に製造することができる。 式(10)において、L1=L2=Fの場合:ジフルオ
ロベンゼン誘導体(13−3)をフルオロベンゼン誘導
体(13−2)に替えて用い、これに作用させるリチオ
化剤をsec-ブチルリチウムに替えn−ブチルリチウムと
する以外は上記と同様に操作して、目的のジチオカルボ
ン酸誘導体例(10−3)を容易に製造することができ
る。
【0064】
【化39】 (式中、R、A1、A2、Z1、Z2、lおよびmは前
記と同一の意味を示す)
記と同一の意味を示す)
【0065】(フェノール誘導体(11)の製造)入手
可能ななものについてはこれに従えばよいが、さにあら
ざるものについては例えば以下により製造することがで
きる。 式(11)において、n=o=0、Z3およびZ4が共
に単結合である場合:ブロモベンゼン誘導体(14)か
ら調製したグリニャール試薬にほう酸トリアルキルを作
用させ得られるボロン酸エステル誘導体を過酢酸にて酸
化するか(R.L. Kidwell等、オーガニックシンセシス、
5巻、P918(1973))またはボロン酸エステル
の酸加水分解にて容易に得られるボロン酸誘導体(1
5)を過酢酸にて酸化することにより、目的のフェノー
ル誘導体例(11−1)を容易に製造することができ
る。
可能ななものについてはこれに従えばよいが、さにあら
ざるものについては例えば以下により製造することがで
きる。 式(11)において、n=o=0、Z3およびZ4が共
に単結合である場合:ブロモベンゼン誘導体(14)か
ら調製したグリニャール試薬にほう酸トリアルキルを作
用させ得られるボロン酸エステル誘導体を過酢酸にて酸
化するか(R.L. Kidwell等、オーガニックシンセシス、
5巻、P918(1973))またはボロン酸エステル
の酸加水分解にて容易に得られるボロン酸誘導体(1
5)を過酢酸にて酸化することにより、目的のフェノー
ル誘導体例(11−1)を容易に製造することができ
る。
【0066】
【化40】 (式中、L3およびL4は前記と同一の意味を示し、X
1は水素原子、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメ
チル基、ジフルオロメチル基、フルオロアルキル基、ト
リフルオロメトキシ基を示す。)
1は水素原子、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメ
チル基、ジフルオロメチル基、フルオロアルキル基、ト
リフルオロメトキシ基を示す。)
【0067】式(11)において、n=1、o=0、A
3がハロゲン置換していてもよい1、4−フェニレン
基、Z3およびZ4が共に単結合である場合:ボロン酸
誘導体(15)に対し、テトラキストリフェニルホスフ
ィンパラジウム(0)を触媒としてアニソール誘導体
(17)を作用、カップリングすることにより化合物
(18)を得る(鈴木章等、有機合成化学協会誌、第4
6巻第9号、848(1988))。次いでこのものに
三臭化ホウ素を作用させて脱メチル化することにより、
目的のフェノール誘導体例(11−2)を製造すること
ができる。
3がハロゲン置換していてもよい1、4−フェニレン
基、Z3およびZ4が共に単結合である場合:ボロン酸
誘導体(15)に対し、テトラキストリフェニルホスフ
ィンパラジウム(0)を触媒としてアニソール誘導体
(17)を作用、カップリングすることにより化合物
(18)を得る(鈴木章等、有機合成化学協会誌、第4
6巻第9号、848(1988))。次いでこのものに
三臭化ホウ素を作用させて脱メチル化することにより、
目的のフェノール誘導体例(11−2)を製造すること
ができる。
【0068】
【化41】 (式中、L3およびL4は前記と同一の意味を示し、L
9およびL10は水素原子、フッ素原子または塩素原子
を示し、X1は水素原子、フッ素原子、塩素原子、トリ
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、フルオロアル
キル基、トリフルオロメトキシ基を示す。)
9およびL10は水素原子、フッ素原子または塩素原子
を示し、X1は水素原子、フッ素原子、塩素原子、トリ
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、フルオロアル
キル基、トリフルオロメトキシ基を示す。)
【0069】式(11)において、n=o=0、Z3お
よびZ4が共に単結合である場合:ベンジルエーテル誘
導体(19)に対しn−またはsec−ブチルリチウムを
THF中、−70℃以下で作用させ、次いでホウ酸トリ
アルキルを作用させる。かくして得られるホウ酸エステ
ル誘導体またはこのものを酸加水分解して得られるボロ
ン酸誘導体を過酢酸で酸化することによりフェノール誘
導体(20)を得、これを水素化ナトリウムでフェノー
ラートとした後フルオロアルキルブロミドを作用させエ
ーテル化した後、接触水素還元に付して脱保護すること
により、目的のフェノール誘導体例(11−3)を製造
することができる。
よびZ4が共に単結合である場合:ベンジルエーテル誘
導体(19)に対しn−またはsec−ブチルリチウムを
THF中、−70℃以下で作用させ、次いでホウ酸トリ
アルキルを作用させる。かくして得られるホウ酸エステ
ル誘導体またはこのものを酸加水分解して得られるボロ
ン酸誘導体を過酢酸で酸化することによりフェノール誘
導体(20)を得、これを水素化ナトリウムでフェノー
ラートとした後フルオロアルキルブロミドを作用させエ
ーテル化した後、接触水素還元に付して脱保護すること
により、目的のフェノール誘導体例(11−3)を製造
することができる。
【0070】
【化42】 (式中、L3およびL4は前記と同一の意味を表し、R
fはトリフルオロメチル基を除くフルオロアルキル基を
示す。)
fはトリフルオロメチル基を除くフルオロアルキル基を
示す。)
【0071】本発明の一般式(1)で表される化合物の
うち、右側の部位がビフェニル構造を有する誘導体、例
えばo=1、n=0、A4がハロゲン置換していてもよ
い1、4−フェニレン基、Z3およびZ4が共に単結合
であるもの、またはターフェニル構造を有する化合物、
例えばo=1、n=1、A3およびA4が共にハロゲン
置換していてもよい1、4−フェニレン基、Z3および
Z4が共に単結合である誘導体(1−2)については、
特に以下に示す方法により好適に製造することができ
る。すなわち、前記に示したジチオカルボン酸誘導体例
(10−1)〜(10−3)とフェノール誘導体例(1
1−1)または(11−2)から一般式(1)で表され
る化合物を製造する方法と同様にして化合物(21)を
得、これにn−またはsec-ブチルリチウムを作用させて
リチオ化し、次いで塩化亜鉛を添加して有機金属化合物
に変換した後、テトラキストリフェニルホスフィンパラ
ジウム(0)等の触媒の存在下、前記のブロモベンゼン
誘導体(14)またはブロモベンゼン誘導体(23)
(化合物(22)とフルオロアルキルのエーテル化で得
られる)を作用させることにより製造することができ
る。
うち、右側の部位がビフェニル構造を有する誘導体、例
えばo=1、n=0、A4がハロゲン置換していてもよ
い1、4−フェニレン基、Z3およびZ4が共に単結合
であるもの、またはターフェニル構造を有する化合物、
例えばo=1、n=1、A3およびA4が共にハロゲン
置換していてもよい1、4−フェニレン基、Z3および
Z4が共に単結合である誘導体(1−2)については、
特に以下に示す方法により好適に製造することができ
る。すなわち、前記に示したジチオカルボン酸誘導体例
(10−1)〜(10−3)とフェノール誘導体例(1
1−1)または(11−2)から一般式(1)で表され
る化合物を製造する方法と同様にして化合物(21)を
得、これにn−またはsec-ブチルリチウムを作用させて
リチオ化し、次いで塩化亜鉛を添加して有機金属化合物
に変換した後、テトラキストリフェニルホスフィンパラ
ジウム(0)等の触媒の存在下、前記のブロモベンゼン
誘導体(14)またはブロモベンゼン誘導体(23)
(化合物(22)とフルオロアルキルのエーテル化で得
られる)を作用させることにより製造することができ
る。
【0072】
【化43】 (式中R、A1、A2、Z1、Z2、L1、L2、L3、
L4およびXは前記と同一の意味を示し、L9、L10、L
11、L12は水素原子、フッ素原子または塩素原子を示
し、Rfはトリフルオロメチル基を除くフルオロアルキ
ル基を示す。)
L4およびXは前記と同一の意味を示し、L9、L10、L
11、L12は水素原子、フッ素原子または塩素原子を示
し、Rfはトリフルオロメチル基を除くフルオロアルキ
ル基を示す。)
【0073】また、トランス−1,3−ジオキサン−
2,5−ジイル基を環構造として有する化合物について
は、以下に示す方法にて好適に製造することができる。
すなわち、プロパンジオール誘導体(24)に対しp−
トルエンスルホン酸等の酸触媒の存在下にアルデヒド誘
導体(25)を作用させてジオキサン環を有する中間体
(26)を製造し、このものをフルオロベンゼン誘導体
(13−2)に替えて用いる以外は前記ジチオカルボン
酸誘導体例(10−2)を製造する場合と同様にしてジ
チオカルボン酸を製造し、このものをジチオカルボン酸
誘導体(10)に替えて用いる以外は前記本発明の一般
式(1)で表される化合物を製造する場合と同様にして
チオン−O−エステル誘導体を得、これをフッ素化する
ことにより目的とする本発明化合物を製造することがで
きる。
2,5−ジイル基を環構造として有する化合物について
は、以下に示す方法にて好適に製造することができる。
すなわち、プロパンジオール誘導体(24)に対しp−
トルエンスルホン酸等の酸触媒の存在下にアルデヒド誘
導体(25)を作用させてジオキサン環を有する中間体
(26)を製造し、このものをフルオロベンゼン誘導体
(13−2)に替えて用いる以外は前記ジチオカルボン
酸誘導体例(10−2)を製造する場合と同様にしてジ
チオカルボン酸を製造し、このものをジチオカルボン酸
誘導体(10)に替えて用いる以外は前記本発明の一般
式(1)で表される化合物を製造する場合と同様にして
チオン−O−エステル誘導体を得、これをフッ素化する
ことにより目的とする本発明化合物を製造することがで
きる。
【0074】
【化44】 (式中R、A1、A2、Z1、Z2、L1およびL2は前
記と同一の意味を示し、X2は水素原子または臭素原子
を示し、pおよびqは0または1であるが、p+q≦1
である。)
記と同一の意味を示し、X2は水素原子または臭素原子
を示し、pおよびqは0または1であるが、p+q≦1
である。)
【0075】さらに、ピリミジン−2、5−ジイル基を
有する化合物については、以下に示す方法にて好適に製
造することができる。すなわち、メトキシメチルトリフ
ェニルホスホニウムクロリドにカリウム−t−ブトキシ
ド、水素化ナトリウムまたはアルキルリチウム等の塩基
を作用させて得られるイリドにアルデヒド誘導体(2
7)を作用させてビニルエーテル誘導体(28)を得、
これに三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体の存在
下、オルトギ酸エチルを作用させて化合物(29)を製
造する。次いでこの化合物をp−トルエンスルホン酸等
の酸触媒の存在下に加熱、脱保護してアクロレイン誘導
体(30)とした後塩酸酸性にて尿素を作用させ、次い
でオキシ塩化リンにより塩素化してクロロピリミジン誘
導体(31)を製造する。次いでこのものを塩化パラジ
ウム−1、1’−ビス(ジフェニルホスフィノフェロセ
ン)錯体等の触媒の存在下ブロモベンゼン誘導体(3
2)とカップリング反応を行うことにより、ピリミジン
−2、5−ジイル基を骨格内に有する中間体(33)を
製造する。この中間体をフルオロベンゼン誘導体(13
−2)に替えて用いる以外は前記ジチオカルボン酸誘導
体例(10−2)を製造するする場合と同様にしてジチ
オカルボン酸を製造し、このジチオカルボン酸をチオン
−O−エステル誘導体(12)に替えて用いる以外は前
記した本発明の一般式(1)で表される化合物を製造す
る同様にしてフッ素化することにより、目的とする本発
明化合物を製造することができる。
有する化合物については、以下に示す方法にて好適に製
造することができる。すなわち、メトキシメチルトリフ
ェニルホスホニウムクロリドにカリウム−t−ブトキシ
ド、水素化ナトリウムまたはアルキルリチウム等の塩基
を作用させて得られるイリドにアルデヒド誘導体(2
7)を作用させてビニルエーテル誘導体(28)を得、
これに三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体の存在
下、オルトギ酸エチルを作用させて化合物(29)を製
造する。次いでこの化合物をp−トルエンスルホン酸等
の酸触媒の存在下に加熱、脱保護してアクロレイン誘導
体(30)とした後塩酸酸性にて尿素を作用させ、次い
でオキシ塩化リンにより塩素化してクロロピリミジン誘
導体(31)を製造する。次いでこのものを塩化パラジ
ウム−1、1’−ビス(ジフェニルホスフィノフェロセ
ン)錯体等の触媒の存在下ブロモベンゼン誘導体(3
2)とカップリング反応を行うことにより、ピリミジン
−2、5−ジイル基を骨格内に有する中間体(33)を
製造する。この中間体をフルオロベンゼン誘導体(13
−2)に替えて用いる以外は前記ジチオカルボン酸誘導
体例(10−2)を製造するする場合と同様にしてジチ
オカルボン酸を製造し、このジチオカルボン酸をチオン
−O−エステル誘導体(12)に替えて用いる以外は前
記した本発明の一般式(1)で表される化合物を製造す
る同様にしてフッ素化することにより、目的とする本発
明化合物を製造することができる。
【0076】
【化45】
【0077】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。各実施例中において、Crは結晶、N
はネマチック相、Sはスメクチック相、Isoは等方性
液体を示し、相転位温度の単位は全て℃である。また、
1H−NMRにおいて、sは一重線、dは二重線、tは
三重線、mは多重線、Jはカップリング定数(Hz)を
示し、19F−NMRは内部標準物質としてCFCl3を使用
して測定した値を示す。質量スペクトル(GC-MS)にお
いてM+は分子イオンピークを、また()内の数値はフ
ラグメント強度を示す。なお、使用例に係る実施例にお
いて、化合物の含有量は特に規定のない限り重量%を意
味する。
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。各実施例中において、Crは結晶、N
はネマチック相、Sはスメクチック相、Isoは等方性
液体を示し、相転位温度の単位は全て℃である。また、
1H−NMRにおいて、sは一重線、dは二重線、tは
三重線、mは多重線、Jはカップリング定数(Hz)を
示し、19F−NMRは内部標準物質としてCFCl3を使用
して測定した値を示す。質量スペクトル(GC-MS)にお
いてM+は分子イオンピークを、また()内の数値はフ
ラグメント強度を示す。なお、使用例に係る実施例にお
いて、化合物の含有量は特に規定のない限り重量%を意
味する。
【0078】実施例1 α、α−ジフルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3、4、5−
トリフルオロフェニル=エーテル(一般式(1)におい
て、R=C3H7、l=1、m=n=o=0、A1がトラ
ンス−1、4−シクロヘキシレン基、Z1、Z2、Z3
およびZ4は全て単結合、L1=L3=L4=F、L2=
H、X=Fである化合物(No.57))の製造
4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3、4、5−
トリフルオロフェニル=エーテル(一般式(1)におい
て、R=C3H7、l=1、m=n=o=0、A1がトラ
ンス−1、4−シクロヘキシレン基、Z1、Z2、Z3
およびZ4は全て単結合、L1=L3=L4=F、L2=
H、X=Fである化合物(No.57))の製造
【0079】第1工程 攪拌機、温度計、滴下ロートおよび窒素導入管を備えた
500ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下で2−フルオロ−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼ
ン15.0g(68.1mmol)をTHF80mlに溶解し、冷媒下-75℃
まで冷却した後、sec−ブチルリチウムの1Mシクロヘ
キサン溶液75mlを同温度を維持しながら25分を要して滴
下し、同温度で1時間攪拌した後TMEDA8.7g(68.1m
mol)を添加してさらに30分間攪拌し、次いで二硫化炭素
15.5g(204.3mmol)を10分を要して滴下した。滴下後室温
まで昇温し、さらに2時間攪拌した。反応溶液に3規定
塩酸水溶液50mlを添加して反応を終了させた後、ジエチ
ルエーテル300mlで抽出した。抽出層は飽和食塩水(200
mlX2)で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
して赤紫結晶状のジチオカルボン酸誘導体20.1gを得
た。
500ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下で2−フルオロ−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼ
ン15.0g(68.1mmol)をTHF80mlに溶解し、冷媒下-75℃
まで冷却した後、sec−ブチルリチウムの1Mシクロヘ
キサン溶液75mlを同温度を維持しながら25分を要して滴
下し、同温度で1時間攪拌した後TMEDA8.7g(68.1m
mol)を添加してさらに30分間攪拌し、次いで二硫化炭素
15.5g(204.3mmol)を10分を要して滴下した。滴下後室温
まで昇温し、さらに2時間攪拌した。反応溶液に3規定
塩酸水溶液50mlを添加して反応を終了させた後、ジエチ
ルエーテル300mlで抽出した。抽出層は飽和食塩水(200
mlX2)で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
して赤紫結晶状のジチオカルボン酸誘導体20.1gを得
た。
【0080】第2工程 上記と同一仕様の三口フラスコ中、窒素雰囲気下で水素
化ナトリウム4.3g(179.8mmol)をTHF25mlに懸濁し、
この中に上記のジチオカルボン酸誘導体20.1gのTHF
溶液60mlを氷冷下10℃以下で、攪拌しながら15分を要し
て滴下した。滴下後同温度にて30分間攪拌し、さらに
3、4、5−トリフルオロフェノール12.1g(81.7mmol)
のTHF溶液40mlを10分を要して滴下し、さらに1時間
攪拌した。次いで反応溶液にヨウ素22.8gのTHF溶液1
00mlを20分を要して滴下後、室温まで昇温し、3時間
攪拌した。反応溶液に10%チオ硫酸ナトリウム水溶液100
mlを添加して反応を終了させた後、反応物をジエチルエ
ーテル400mlで抽出した。抽出層は水(200mlX2)、飽和炭
酸ナトリウム水溶液(150ml)および水(200mlX2)で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留
去、濃縮して褐色結晶状の反応物26.9gを得た。これを
シリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘプタン)
にて処理した後再結晶にて精製し、黄色針状結晶状の式
(34)で表されるチオン−O−エステル誘導体13.5g
を得た。
化ナトリウム4.3g(179.8mmol)をTHF25mlに懸濁し、
この中に上記のジチオカルボン酸誘導体20.1gのTHF
溶液60mlを氷冷下10℃以下で、攪拌しながら15分を要し
て滴下した。滴下後同温度にて30分間攪拌し、さらに
3、4、5−トリフルオロフェノール12.1g(81.7mmol)
のTHF溶液40mlを10分を要して滴下し、さらに1時間
攪拌した。次いで反応溶液にヨウ素22.8gのTHF溶液1
00mlを20分を要して滴下後、室温まで昇温し、3時間
攪拌した。反応溶液に10%チオ硫酸ナトリウム水溶液100
mlを添加して反応を終了させた後、反応物をジエチルエ
ーテル400mlで抽出した。抽出層は水(200mlX2)、飽和炭
酸ナトリウム水溶液(150ml)および水(200mlX2)で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留
去、濃縮して褐色結晶状の反応物26.9gを得た。これを
シリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘプタン)
にて処理した後再結晶にて精製し、黄色針状結晶状の式
(34)で表されるチオン−O−エステル誘導体13.5g
を得た。
【0081】
【化46】
【0082】1H-NMR(δppm)0.8-2.2(m, 16H), 2.53
(m, 1H), 6.69-7.1(m, 4H), 8.01(t, J=8.35Hz) 19F-NMR -109.8(1F), -132.9(2F), -163.0(1F)
(m, 1H), 6.69-7.1(m, 4H), 8.01(t, J=8.35Hz) 19F-NMR -109.8(1F), -132.9(2F), -163.0(1F)
【0083】第3工程 内容積が200mlである以外は前記と同一仕様の三口フラ
スコ中、窒素雰囲気下でNBS11.8g(65.8mmol)をT
HF60mlに懸濁し、冷媒下-65℃以下まで冷却した後攪
拌しながら市販のHF-ピリジン15mlを添加し、次いで上
記のチオン−O−エステル誘導体13.5g(32.9mmol)のT
HF溶液80mlを同温度を保ちながら16分を要して滴下
した。同温度にて2.5時間攪拌した後反応溶液を飽和
炭酸ナトリウム水溶液200ml中に投じて反応を終了さ
せ、ジエチルエーテル300mlで抽出した後、抽出層は1
0%チオ硫酸ナトリウム水溶液(150ml)および水(150ml
X2)で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後
溶媒を留去、濃縮して黄褐色結晶物12.9gを得た。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒ヘプ
タン)で精製した後さらにヘプタンから再結晶を行い無
色結晶物4.1gを得た。これが目的とするα、α−ジフル
オロ−2−フルオロ−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)ベンジル=3、4、5−トリフルオロフ
ェニル=エーテルである。 Cr 55.0℃ Iso
スコ中、窒素雰囲気下でNBS11.8g(65.8mmol)をT
HF60mlに懸濁し、冷媒下-65℃以下まで冷却した後攪
拌しながら市販のHF-ピリジン15mlを添加し、次いで上
記のチオン−O−エステル誘導体13.5g(32.9mmol)のT
HF溶液80mlを同温度を保ちながら16分を要して滴下
した。同温度にて2.5時間攪拌した後反応溶液を飽和
炭酸ナトリウム水溶液200ml中に投じて反応を終了さ
せ、ジエチルエーテル300mlで抽出した後、抽出層は1
0%チオ硫酸ナトリウム水溶液(150ml)および水(150ml
X2)で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後
溶媒を留去、濃縮して黄褐色結晶物12.9gを得た。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒ヘプ
タン)で精製した後さらにヘプタンから再結晶を行い無
色結晶物4.1gを得た。これが目的とするα、α−ジフル
オロ−2−フルオロ−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)ベンジル=3、4、5−トリフルオロフ
ェニル=エーテルである。 Cr 55.0℃ Iso
【0084】なお、各種スペクトルの測定結果は上記化
合物の構造を支持した。 GC-MS:416(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.2(m, 16H), 2.52(m, 1H), 6.8-
7.2(m, 4H), 7.54(t, J=8.4Hz) 19F-NMR -66.1(2F), -115.2(1F), -133.3(2F), -164.1
(1F)
合物の構造を支持した。 GC-MS:416(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.2(m, 16H), 2.52(m, 1H), 6.8-
7.2(m, 4H), 7.54(t, J=8.4Hz) 19F-NMR -66.1(2F), -115.2(1F), -133.3(2F), -164.1
(1F)
【0085】実施例2 α、α−ジフルオロ−2、6−ジフルオロ−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3、
4、5−トリフルオロフェニル=エーテル(一般式
(1)において、R=C3H7、l=1、m=n=o=
0、A1がトランス−1、4−シクロヘキシレン基、Z
1、Z2、Z3およびZ4は全て単結合、L1=L2=L
3=L4=F、X=Fである化合物(No.60))の製
造
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3、
4、5−トリフルオロフェニル=エーテル(一般式
(1)において、R=C3H7、l=1、m=n=o=
0、A1がトランス−1、4−シクロヘキシレン基、Z
1、Z2、Z3およびZ4は全て単結合、L1=L2=L
3=L4=F、X=Fである化合物(No.60))の製
造
【0086】2−フルオロ−4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ベンゼン15.0g(68.1mmol)に替え
2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)ベンゼン10.0g(41.9mmol)を出発原料と
して用いる以外は実施例1と同様にして、目的とする
α、α−ジフルオロ−2、6−ジフルオロ−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3、
4、5−トリフルオロフェニルエーテル1.5gを得た。 Cr 40.7 Iso
ピルシクロヘキシル)ベンゼン15.0g(68.1mmol)に替え
2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)ベンゼン10.0g(41.9mmol)を出発原料と
して用いる以外は実施例1と同様にして、目的とする
α、α−ジフルオロ−2、6−ジフルオロ−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3、
4、5−トリフルオロフェニルエーテル1.5gを得た。 Cr 40.7 Iso
【0087】なお、各種スペクトルの測定結果は上記化
合物の構造を支持した。 GC-MS:287(100%), 189(6.5%), 176(4.3%), 163(26.6
%), 55(3.4%), 41(4.0%) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.5(m, 1H), 6.5-7.
1(m, 4H) 19F-NMR -66.06(2F), -111.95(2F), -133.08(2F), -16
3.85(1F)
合物の構造を支持した。 GC-MS:287(100%), 189(6.5%), 176(4.3%), 163(26.6
%), 55(3.4%), 41(4.0%) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.5(m, 1H), 6.5-7.
1(m, 4H) 19F-NMR -66.06(2F), -111.95(2F), -133.08(2F), -16
3.85(1F)
【0088】実施例3 α、α−ジフルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=4−(3、
4、5−トリフルオロフェニル)フェニル=エーテル
(一般式(1)において、R=C3H7、l=n=1、m
=o=0、A1がトランス−1、4−シクロヘキシレン
基、A3が1、4−フェニレン基、Z1、Z2、Z3お
よびZ4が全て単結合、L1=L3=L4=F、L2=H、
X=Fである化合物(No.445))の製造
4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=4−(3、
4、5−トリフルオロフェニル)フェニル=エーテル
(一般式(1)において、R=C3H7、l=n=1、m
=o=0、A1がトランス−1、4−シクロヘキシレン
基、A3が1、4−フェニレン基、Z1、Z2、Z3お
よびZ4が全て単結合、L1=L3=L4=F、L2=H、
X=Fである化合物(No.445))の製造
【0089】4−(3、4、5−トリフルオロフェニ
ル)フェノールの製造 第1工程 前記と同一仕様の500ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下
で削り状マグネシウム4.3g(176.4mmol)をTHF20mlに
懸濁させ、攪拌しながら4−ブロモアニソール30g(160.
4mmol)のTHF溶液80mlを60℃以下を保ちながら50分を
要して滴下した。滴下後温浴にて55℃に保ちながら2時
間攪拌し、グリニャール試薬を調製した。次いで反応溶
液を冷媒下-20℃まで冷却し、ホウ酸トリイソプロピル4
5.2g(240.6mmol)のTHF溶液を-20℃以下を維持しなが
ら、40分を要して滴下した。さらに同温度で30分間
攪拌した後、3規定塩酸水溶液50mlを滴下、室温まで昇
温後30分間攪拌した。反応溶液にジエチルエーテル30
0mlを添加して抽出し、抽出層を水洗(150mlX2)し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去、濃縮した。
濃縮残査をヘプタン200mlにて洗浄、減圧乾燥し、無色
固体の4−メトキシフェニルホウ酸19.3gを得た。
ル)フェノールの製造 第1工程 前記と同一仕様の500ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下
で削り状マグネシウム4.3g(176.4mmol)をTHF20mlに
懸濁させ、攪拌しながら4−ブロモアニソール30g(160.
4mmol)のTHF溶液80mlを60℃以下を保ちながら50分を
要して滴下した。滴下後温浴にて55℃に保ちながら2時
間攪拌し、グリニャール試薬を調製した。次いで反応溶
液を冷媒下-20℃まで冷却し、ホウ酸トリイソプロピル4
5.2g(240.6mmol)のTHF溶液を-20℃以下を維持しなが
ら、40分を要して滴下した。さらに同温度で30分間
攪拌した後、3規定塩酸水溶液50mlを滴下、室温まで昇
温後30分間攪拌した。反応溶液にジエチルエーテル30
0mlを添加して抽出し、抽出層を水洗(150mlX2)し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去、濃縮した。
濃縮残査をヘプタン200mlにて洗浄、減圧乾燥し、無色
固体の4−メトキシフェニルホウ酸19.3gを得た。
【0090】第2工程 冷却管をさらに備える以外は前記と同一仕様の1000ml三
口フラスコ中、窒素雰囲気下で上記の4−メトキシフェ
ニルホウ酸19.3g(127.0mmol)、3、4、5−トリフルオ
ロブロモベンゼン32.1g(152.4mmol)、トルエン160ml、
水80ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
(0)7.3g(6.4mmol)および炭酸ナトリウム26.9g(254.0
mmol)を混合し、攪拌しながら8時間加熱還流を行っ
た。室温まで冷却した後、反応溶液にジエチルエーテル
300mlを添加して反応物を抽出した。抽出層は水(200ml
X2)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒
を留去、濃縮して黄褐色の結晶物30.4gを得た。これを
ヘプタン−トルエンの混合溶媒を展開溶媒として使用し
たシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無
色結晶状の4−(3、4、5−トリフルオロフェニル)
アニソール23.9gを得た。
口フラスコ中、窒素雰囲気下で上記の4−メトキシフェ
ニルホウ酸19.3g(127.0mmol)、3、4、5−トリフルオ
ロブロモベンゼン32.1g(152.4mmol)、トルエン160ml、
水80ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
(0)7.3g(6.4mmol)および炭酸ナトリウム26.9g(254.0
mmol)を混合し、攪拌しながら8時間加熱還流を行っ
た。室温まで冷却した後、反応溶液にジエチルエーテル
300mlを添加して反応物を抽出した。抽出層は水(200ml
X2)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒
を留去、濃縮して黄褐色の結晶物30.4gを得た。これを
ヘプタン−トルエンの混合溶媒を展開溶媒として使用し
たシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無
色結晶状の4−(3、4、5−トリフルオロフェニル)
アニソール23.9gを得た。
【0091】第3工程 前記と同一仕様の500ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下
で上記の4−(3、4、5−トリフルオロフェニル)ア
ニソール23.9g(100.3mmol)をジクロロメタン200mlに溶
解し、冷媒下-70℃以下まで冷却した後三臭化ホウ素37.
6g(150.5mmol)を-70℃以下を保ちながら20分を要して
滴下した。同温度にて1時間攪拌した後室温まで昇温
し、さらに10時間攪拌した。反応溶液に水200mlを添
加して反応を終了させた後、ジクロロメタン層を分離
し、さらに水層をジクロロメタン150mlにて抽出した。
有機層を混合した後水洗(200mlX2)し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後溶媒を留去、濃縮し、かくして得ら
れた濃縮残査を減圧蒸留して沸点130〜135℃/1.5mmHg
の目的とする4−(3、4、5−トリフルオロフェニ
ル)フェノールの留分14.3gを分取した。なお、各種ス
ペクトルの測定結果はその構造を支持した。 1H-NMR(δppm)5.2(s, 1H), 2.5(m, 1H), 6.8-7.5(m,
6H)
で上記の4−(3、4、5−トリフルオロフェニル)ア
ニソール23.9g(100.3mmol)をジクロロメタン200mlに溶
解し、冷媒下-70℃以下まで冷却した後三臭化ホウ素37.
6g(150.5mmol)を-70℃以下を保ちながら20分を要して
滴下した。同温度にて1時間攪拌した後室温まで昇温
し、さらに10時間攪拌した。反応溶液に水200mlを添
加して反応を終了させた後、ジクロロメタン層を分離
し、さらに水層をジクロロメタン150mlにて抽出した。
有機層を混合した後水洗(200mlX2)し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後溶媒を留去、濃縮し、かくして得ら
れた濃縮残査を減圧蒸留して沸点130〜135℃/1.5mmHg
の目的とする4−(3、4、5−トリフルオロフェニ
ル)フェノールの留分14.3gを分取した。なお、各種ス
ペクトルの測定結果はその構造を支持した。 1H-NMR(δppm)5.2(s, 1H), 2.5(m, 1H), 6.8-7.5(m,
6H)
【0092】また、上記の方法に準じて4−(3、5−
ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェノ
ールを得た。 1H-NMR(δppm)5.2(s, 1H), 2.5(m, 1H), 6.8-7.5(m,
6H) 19F-NMR -56.7(3F), -111.4(2F)
ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェノ
ールを得た。 1H-NMR(δppm)5.2(s, 1H), 2.5(m, 1H), 6.8-7.5(m,
6H) 19F-NMR -56.7(3F), -111.4(2F)
【0093】α、α−ジフルオロ−2−フルオロ−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=
4−(3、4、5−トリフルオロフェニル)フェニル=
エーテルの製造 実施例1の第1工程で得られるジチオカルボン酸誘導体
と上記の4−(3、4、5−トリフルオロフェニル)フ
ェノールを用い、これらから実施例1の第2工程と第3
工程と同様にしてチオン−O−エステル化とこれに続く
フッ素化を行い、無色結晶状のα、α−ジフルオロ−2
−フルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)ベンジル=4−(3、4、5−トリフルオロフェ
ニル)フェニル=エーテル1.1gを得た。 Cr 75.5 N 151.8 Iso
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=
4−(3、4、5−トリフルオロフェニル)フェニル=
エーテルの製造 実施例1の第1工程で得られるジチオカルボン酸誘導体
と上記の4−(3、4、5−トリフルオロフェニル)フ
ェノールを用い、これらから実施例1の第2工程と第3
工程と同様にしてチオン−O−エステル化とこれに続く
フッ素化を行い、無色結晶状のα、α−ジフルオロ−2
−フルオロ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)ベンジル=4−(3、4、5−トリフルオロフェ
ニル)フェニル=エーテル1.1gを得た。 Cr 75.5 N 151.8 Iso
【0094】なお、各種スペクトルの測定結果は上記化
合物の構造を支持した。 GC-MS:492(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.5(m, 1H), 6.5-7.
1(m, 9H) 19F-NMR -65.14(2F), -115.19(1F), -134.46(2F), -16
3.03(1F)
合物の構造を支持した。 GC-MS:492(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.5(m, 1H), 6.5-7.
1(m, 9H) 19F-NMR -65.14(2F), -115.19(1F), -134.46(2F), -16
3.03(1F)
【0095】実施例4 α、α−ジフルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=4−(3、5
−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェ
ニル=エーテル(一般式(1)において、R=C3H7、
l=n=1、m=o=0、A1がトランス−1、4−シ
クロヘキシレン基、A3が1、4−フェニレン基、Z
1、Z2、Z3およびZ4が全て単結合、L1=L3=L
4=F、L2=H、X=CF3である化合物(No.45
4))の製造
4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=4−(3、5
−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェ
ニル=エーテル(一般式(1)において、R=C3H7、
l=n=1、m=o=0、A1がトランス−1、4−シ
クロヘキシレン基、A3が1、4−フェニレン基、Z
1、Z2、Z3およびZ4が全て単結合、L1=L3=L
4=F、L2=H、X=CF3である化合物(No.45
4))の製造
【0096】実施例1の第1工程で得られるジチオカル
ボン酸誘導体と実施例3記載の方法に準じて製造される
4−(3、5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフ
ェニル)フェノールを用い、これらから実施例1の第2
工程と第3工程と同様にしてチオン−O−エステル化と
これに続くフッ素化を行い、無色結晶状のα、α−ジフ
ルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)ベンジル=4−(3、5−ジフルオロ
−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル=エーテ
ル1.6gを得た。 Cr 112.5 N 149.6 Iso
ボン酸誘導体と実施例3記載の方法に準じて製造される
4−(3、5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフ
ェニル)フェノールを用い、これらから実施例1の第2
工程と第3工程と同様にしてチオン−O−エステル化と
これに続くフッ素化を行い、無色結晶状のα、α−ジフ
ルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)ベンジル=4−(3、5−ジフルオロ
−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル=エーテ
ル1.6gを得た。 Cr 112.5 N 149.6 Iso
【0097】なお、各種スペクトルの測定結果は上記化
合物の構造を支持した。 GC-MS:542(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.5(m, 1H), 6.9-7.
8(m, 9H) 19F-NMR -57.11(3F), -65.16(2F), -110.87(2F), -115.
67(1F)
合物の構造を支持した。 GC-MS:542(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.5(m, 1H), 6.9-7.
8(m, 9H) 19F-NMR -57.11(3F), -65.16(2F), -110.87(2F), -115.
67(1F)
【0098】実施例5 α、α−ジフルオロ−4−(トランス−4−(トランス
−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベン
ジル=3、4、5−トリフルオロフェニル=エーテル
(一般式(1)において、R=C3H7、l=m=1、n
=o=0、A1およびA2が共にトランス−1、4−シ
クロヘキシレン基、Z1、Z2、Z3およびZ4が全て
単結合、L1=L2=H、L3=L4=F、X=Fである化
合物(No.289))の製造
−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベン
ジル=3、4、5−トリフルオロフェニル=エーテル
(一般式(1)において、R=C3H7、l=m=1、n
=o=0、A1およびA2が共にトランス−1、4−シ
クロヘキシレン基、Z1、Z2、Z3およびZ4が全て
単結合、L1=L2=H、L3=L4=F、X=Fである化
合物(No.289))の製造
【0099】第1工程 耐圧ガラス製の300ml封管中に4−(トランス−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキ
シル)ブロモベンゼン5.0g(13.7mmol)、削り状マグネシ
ウム0.37g(15.1mmol)およびTHF50mlを添加し、マグ
ネチックスターラーで撹拌しながら180℃まで加熱し、
4時間反応させた。室温まで冷却した後、反応物を前記
と同一仕様の500ml三口フラスコ中に移し、氷冷下-10℃
以下まで冷却し、撹拌しながら二硫化炭素3.1g(41.1mmo
l)を5分を要して滴下した。反応溶液を室温まで昇温
し、さらに4時間撹拌した後3規定塩酸水溶液50mlを添
加して反応を終了させた。反応溶液にジエチルエーテル
200mlを加えて抽出し、抽出層を水(100mlX2)で洗浄した
後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去、濃縮
し、得られた濃縮残査をヘプタンから再結晶して赤紫結
晶状の4−(トランス−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)シクロヘキシル)ジチオ安息香酸3.5g
を得た。
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキ
シル)ブロモベンゼン5.0g(13.7mmol)、削り状マグネシ
ウム0.37g(15.1mmol)およびTHF50mlを添加し、マグ
ネチックスターラーで撹拌しながら180℃まで加熱し、
4時間反応させた。室温まで冷却した後、反応物を前記
と同一仕様の500ml三口フラスコ中に移し、氷冷下-10℃
以下まで冷却し、撹拌しながら二硫化炭素3.1g(41.1mmo
l)を5分を要して滴下した。反応溶液を室温まで昇温
し、さらに4時間撹拌した後3規定塩酸水溶液50mlを添
加して反応を終了させた。反応溶液にジエチルエーテル
200mlを加えて抽出し、抽出層を水(100mlX2)で洗浄した
後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去、濃縮
し、得られた濃縮残査をヘプタンから再結晶して赤紫結
晶状の4−(トランス−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)シクロヘキシル)ジチオ安息香酸3.5g
を得た。
【0100】第2工程 この4−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)シクロヘキシル)ジチオ安息香酸と3、
4、5−トリフルオロフェノールを用い、これらから実
施例1の第2工程と第3工程と同様にしてチオン−O−
エステル化とこれに続くフッ素化を行い、α、α−ジフ
ルオロ−4−(トランス−4−(トランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベンジル=3、
4、5−トリフルオロフェニルエーテルを1.2g得た。 Sm 92.9 N 194.5 Iso
クロヘキシル)シクロヘキシル)ジチオ安息香酸と3、
4、5−トリフルオロフェノールを用い、これらから実
施例1の第2工程と第3工程と同様にしてチオン−O−
エステル化とこれに続くフッ素化を行い、α、α−ジフ
ルオロ−4−(トランス−4−(トランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベンジル=3、
4、5−トリフルオロフェニルエーテルを1.2g得た。 Sm 92.9 N 194.5 Iso
【0101】なお、各種スペクトルの測定結果は上記化
合物の構造を支持した。 GC-MS:480(M+) 1H-NMR(δppm)0.7-2.1(m, 26H), 2.51(m, 1H), 6.94
(m, 2H), 7.29(d,J=8.7Hz,2H), 7.59(d, J=8.7Hz, 2H) 19F-NMR -66.14(2F), -133.02(2F), -164.11(1F)
合物の構造を支持した。 GC-MS:480(M+) 1H-NMR(δppm)0.7-2.1(m, 26H), 2.51(m, 1H), 6.94
(m, 2H), 7.29(d,J=8.7Hz,2H), 7.59(d, J=8.7Hz, 2H) 19F-NMR -66.14(2F), -133.02(2F), -164.11(1F)
【0102】実施例6 α、α−ジフルオロ−4−(4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)フェニル)ベンジル=3、4、5
−トリフルオロフェニル=エーテル(一般式(1)式に
おいて、R=C3H7、l=m=1、n=o=0、A1が
トランス−1、4−シクロヘキシレン基、A2が1、4
−フェニレン基、Z1、Z2、Z3およびZ4が全て単
結合、L1=L2=H、L3=L4=F、X=Fである(N
o.325)の製造
ピルシクロヘキシル)フェニル)ベンジル=3、4、5
−トリフルオロフェニル=エーテル(一般式(1)式に
おいて、R=C3H7、l=m=1、n=o=0、A1が
トランス−1、4−シクロヘキシレン基、A2が1、4
−フェニレン基、Z1、Z2、Z3およびZ4が全て単
結合、L1=L2=H、L3=L4=F、X=Fである(N
o.325)の製造
【0103】4−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ブロモベンゼ
ン5.0g(13.7mmol)に替え4−(4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)フェニル)ブロモベンゼン6.5g
(18.2mmol)を用いる以外は実施例5の第1工程と同様に
して 4−(4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)フェニル)ジチオ安息香酸を製造し、さらにこれ
と3、4、5−トリフルオロフェノールを用い、これら
から実施例1の第2工程と第3工程と同様にして反応を
行い無色結晶状のα、α−ジフルオロ−4−(4−(ト
ランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)ベン
ジル=3、4、5−トリフルオロフェニル=エーテル1.
0gを得た。 Cr 65.6 Sm 92.7 N 186.1 I
so
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ブロモベンゼ
ン5.0g(13.7mmol)に替え4−(4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)フェニル)ブロモベンゼン6.5g
(18.2mmol)を用いる以外は実施例5の第1工程と同様に
して 4−(4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)フェニル)ジチオ安息香酸を製造し、さらにこれ
と3、4、5−トリフルオロフェノールを用い、これら
から実施例1の第2工程と第3工程と同様にして反応を
行い無色結晶状のα、α−ジフルオロ−4−(4−(ト
ランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)ベン
ジル=3、4、5−トリフルオロフェニル=エーテル1.
0gを得た。 Cr 65.6 Sm 92.7 N 186.1 I
so
【0104】なお、、各種スペクトルの測定結果は上記
化合物の構造を支持した。 GC-MS:474(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.54(m, 1H), 6.98
(m, 2H), 7.31(d,J=8.4Hz,2H), 7.54(d, J=8.4Hz, 2H),
7.70(bs, 4H) 19F-NMR -66.56(2F), -133.17(2F), -164.49(1F)
化合物の構造を支持した。 GC-MS:474(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.54(m, 1H), 6.98
(m, 2H), 7.31(d,J=8.4Hz,2H), 7.54(d, J=8.4Hz, 2H),
7.70(bs, 4H) 19F-NMR -66.56(2F), -133.17(2F), -164.49(1F)
【0105】実施例7 α、α−ジフルオロ−4−(4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)フェニル)ベンジル=3、5−ジ
フルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル=エーテル
(一般式(1)において、R=C3H7、l=m=1、n
=o=0、A1がトランス−1、4−シクロヘキシレン
基、A2が1、4−フェニレン基、Z1、Z2、Z3お
よびZ4が全て単結合、L1=L2=H、L3=L4=F、
X=CF3である化合物(No.334))の製造
ピルシクロヘキシル)フェニル)ベンジル=3、5−ジ
フルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル=エーテル
(一般式(1)において、R=C3H7、l=m=1、n
=o=0、A1がトランス−1、4−シクロヘキシレン
基、A2が1、4−フェニレン基、Z1、Z2、Z3お
よびZ4が全て単結合、L1=L2=H、L3=L4=F、
X=CF3である化合物(No.334))の製造
【0106】3、4、5−トリフルオロフェノールに替
え3、5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノ
ールを用いる以外は実施例5の第2工程と同様にして反
応を行い、無色結晶状のα、α−ジフルオロ−4−(4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニ
ル)ベンジル=3、5−ジフルオロ−4−トリフルオロ
メチルフェニル=エーテル1.0gを得た。 Cr 66.9 Sm 107.5 N 173.0
Iso
え3、5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノ
ールを用いる以外は実施例5の第2工程と同様にして反
応を行い、無色結晶状のα、α−ジフルオロ−4−(4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニ
ル)ベンジル=3、5−ジフルオロ−4−トリフルオロ
メチルフェニル=エーテル1.0gを得た。 Cr 66.9 Sm 107.5 N 173.0
Iso
【0107】なお、各種スペクトルの測定結果は上記化
合物の構造を支持した。 GC-MS:524(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.5(m, 1H), 7.0(b
d, 2H), 7.3(d,J=8.4Hz,2H), 7.6(d, J=8.4Hz, 2H), 7.
70(bs, 4H) 19F-NMR -56.63(3F), -66.65(2F), -108.74(2F)
合物の構造を支持した。 GC-MS:524(M+) 1H-NMR(δppm)0.8-2.1(m, 16H), 2.5(m, 1H), 7.0(b
d, 2H), 7.3(d,J=8.4Hz,2H), 7.6(d, J=8.4Hz, 2H), 7.
70(bs, 4H) 19F-NMR -56.63(3F), -66.65(2F), -108.74(2F)
【0108】実施例8 α、α−ジフルオロ−4−プロピルベンジル=3、5−
ジフルオロ−4−シアノフェニル=エーテル(一般式
(1)において、R=C3H7、l=m=n=o=0、Z
1、Z2、Z3およびZ4が全て単結合、L1=L2=
H、L3=L4=F、X=CNである化合物(No.
2))の製造
ジフルオロ−4−シアノフェニル=エーテル(一般式
(1)において、R=C3H7、l=m=n=o=0、Z
1、Z2、Z3およびZ4が全て単結合、L1=L2=
H、L3=L4=F、X=CNである化合物(No.
2))の製造
【0109】ジチオカルボン酸誘導体に替え4−プロピ
ルジチオ安息香酸を、3、4、5−トリフルオロフェノ
ールに替え3、5−ジフルオロ−4−シアノフェノール
をそれぞれ用いる以外は実施例1の方法と同様にして反
応を行い、無色結晶状のα、α−ジフルオロ−4−プロ
ピルベンジル=3、5−ジフルオロ−4−シアノフェニ
ル=エーテル1.2gを得た。
ルジチオ安息香酸を、3、4、5−トリフルオロフェノ
ールに替え3、5−ジフルオロ−4−シアノフェノール
をそれぞれ用いる以外は実施例1の方法と同様にして反
応を行い、無色結晶状のα、α−ジフルオロ−4−プロ
ピルベンジル=3、5−ジフルオロ−4−シアノフェニ
ル=エーテル1.2gを得た。
【0110】なお、各種スペクトルの測定結果は上記化
合物の構造を支持した。 GC-MS:323(M+) 1H-NMR(δppm)0.95(t,J=7.4Hz, 3H), 1.5-1.9(m, 2
H), 2.66(t, J=7.9Hz, 2H),6.98(bd, 2H), 7.29(d,J=8.
6Hz, 2H), 7.58(d, J=8.6Hz, 2H) 19F-NMR -66.69(2F), -102.15(2F)
合物の構造を支持した。 GC-MS:323(M+) 1H-NMR(δppm)0.95(t,J=7.4Hz, 3H), 1.5-1.9(m, 2
H), 2.66(t, J=7.9Hz, 2H),6.98(bd, 2H), 7.29(d,J=8.
6Hz, 2H), 7.58(d, J=8.6Hz, 2H) 19F-NMR -66.69(2F), -102.15(2F)
【0111】実施例1〜8に示した製造方法および/ま
たは公知の有機合成法を適宜選択、組み合わせることに
より、以下に示す化合物No.1〜604)を製造する
ことができる。なお、下記には実施例1〜8で得られた
化合物についても合わせ示した。
たは公知の有機合成法を適宜選択、組み合わせることに
より、以下に示す化合物No.1〜604)を製造する
ことができる。なお、下記には実施例1〜8で得られた
化合物についても合わせ示した。
【0112】
【化47】
【0113】
【化48】
【0114】
【化49】
【0115】
【化50】
【0116】
【化51】
【0117】
【化52】
【0118】
【化53】
【0119】
【化54】
【0120】
【化55】
【0121】
【化56】
【0122】
【化57】
【0123】
【化58】
【0124】
【化59】
【0125】
【化60】
【0126】
【化61】
【0127】
【化62】
【0128】
【化63】
【0129】
【化64】
【0130】
【化65】
【0131】
【化66】
【0132】
【化67】
【0133】
【化68】
【0134】
【化69】
【0135】
【化70】
【0136】
【化71】
【0137】
【化72】
【0138】
【化73】
【0139】
【化74】
【0140】
【化75】
【0141】
【化76】
【0142】
【化77】
【0143】
【化78】
【0144】
【化79】
【0145】
【化80】
【0146】
【化81】
【0147】
【化82】
【0148】
【化83】
【0149】
【化84】
【0150】
【化85】
【0151】
【化86】
【0152】
【化87】
【0153】
【化88】
【0154】
【化89】
【0155】
【化90】
【0156】
【化91】
【0157】
【化92】
【0158】
【化93】
【0159】
【化94】
【0160】
【化95】
【0161】
【化96】
【0162】
【化97】
【0163】
【化98】
【0164】
【化99】
【0165】
【化100】
【0166】
【化101】
【0167】
【化102】
【0168】
【化103】
【0169】
【化104】
【0170】
【化105】
【0171】
【化106】
【0172】
【化107】
【0173】
【化108】
【0174】
【化109】
【0175】
【化110】
【0176】
【化111】
【0177】
【化112】
【0178】
【化113】
【0179】 実施例9(使用例1) 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾニトリル 24% 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニトリル 36% 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)ベンゾニトリル 25% 4−(4−プロピルフェニル)ベンゾニトリル 15% からなるネマチック液晶組成物は以下の特性を有する。 透明点(TNI):71.7℃、セル厚9μmでの動作し
きい値電圧(Vth):1.78V、△ε:+11.0、
△n:0.137、20℃における粘度(η20):2
7.0mPa・s。 この液晶組成物(母液晶)A1の85重量部に実施例1
で得られたα、α−ジフルオロ−2−フルオロ−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=
3、4、5−トリフルオロフェニルエーテル(No.5
7の化合物)を15重量部混合して液晶組成物B1を調
製し、その物性値を測定したところ、以下の通りであっ
た。 透明点(TNI):60.7、セル厚9μmでの動作しき
い値電圧(Vth):1.42、△ε:11.8、△n:
0.127、η20:28.3mPa・s。 また、この組成物B1を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
きい値電圧(Vth):1.78V、△ε:+11.0、
△n:0.137、20℃における粘度(η20):2
7.0mPa・s。 この液晶組成物(母液晶)A1の85重量部に実施例1
で得られたα、α−ジフルオロ−2−フルオロ−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=
3、4、5−トリフルオロフェニルエーテル(No.5
7の化合物)を15重量部混合して液晶組成物B1を調
製し、その物性値を測定したところ、以下の通りであっ
た。 透明点(TNI):60.7、セル厚9μmでの動作しき
い値電圧(Vth):1.42、△ε:11.8、△n:
0.127、η20:28.3mPa・s。 また、この組成物B1を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
【0180】実施例10(使用例2) No.57の化合物に替え実施例2で得られるα、α−
ジフルオロ−2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3、4、5−ト
リフルオロフェニル=エーテル(No.60の化合物)
を用いる以外は実施例9と同様にして組成物B2を調製
し、その物性値を測定したところ、以下の通りであっ
た。 TNI:59.3、Vth:1.35、△ε:12.4、△
n:0.126、η20:28.1mPa・s。 また、この組成物B2を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
ジフルオロ−2、6−ジフルオロ−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)ベンジル=3、4、5−ト
リフルオロフェニル=エーテル(No.60の化合物)
を用いる以外は実施例9と同様にして組成物B2を調製
し、その物性値を測定したところ、以下の通りであっ
た。 TNI:59.3、Vth:1.35、△ε:12.4、△
n:0.126、η20:28.1mPa・s。 また、この組成物B2を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
【0181】実施例11(使用例3) No.57の化合物に替え実施例3で得られるα、α−
ジフルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ベンジル=4−(3、4、5−ト
リフルオロフェニル)フェニル=エーテル(No.44
5の化合物)を用いる以外は実施例9と同様にして組成
物B3を調製し、その物性値を測定したところ、以下の
通りであった。 TNI:76.3、Vth:1.62、△ε:13.0、△
n:0.139、η20:34.0mPa・s。 また、この組成物B3を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
ジフルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ベンジル=4−(3、4、5−ト
リフルオロフェニル)フェニル=エーテル(No.44
5の化合物)を用いる以外は実施例9と同様にして組成
物B3を調製し、その物性値を測定したところ、以下の
通りであった。 TNI:76.3、Vth:1.62、△ε:13.0、△
n:0.139、η20:34.0mPa・s。 また、この組成物B3を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
【0182】実施例12(使用例4) No.57の化合物に替え実施例4で得られるα、α−
ジフルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ベンジル=4−(3、5−ジフル
オロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル=エ
ーテル(No.454の化合物)を用いる以外は実施例
9と同様にして組成物B4を調製し、その物性値を測定
したところ、以下の通りであった。 TNI:75.0、Vth:1.49、△ε:13.6、△
n:0.139、η20:36.9mPa・s。 また、この組成物B4を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
ジフルオロ−2−フルオロ−4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ベンジル=4−(3、5−ジフル
オロ−4−トリフルオロメチルフェニル)フェニル=エ
ーテル(No.454の化合物)を用いる以外は実施例
9と同様にして組成物B4を調製し、その物性値を測定
したところ、以下の通りであった。 TNI:75.0、Vth:1.49、△ε:13.6、△
n:0.139、η20:36.9mPa・s。 また、この組成物B4を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
【0183】実施例13(使用例5) No.57の化合物に替え実施例5で得られるα、α−
ジフルオロ−4−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベンジル=
3、4、5−トリフルオロフェニル=エーテル(No.
289の化合物)を用いる以外は実施例9と同様にして
組成物B5を調製し、その物性値を測定したところ、以
下の通りであった。 TNI:83.4、Vth:1.78、△ε:12.1、△
n:0.134、η20:30.4mPa・s。 また、この組成物B5を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
ジフルオロ−4−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベンジル=
3、4、5−トリフルオロフェニル=エーテル(No.
289の化合物)を用いる以外は実施例9と同様にして
組成物B5を調製し、その物性値を測定したところ、以
下の通りであった。 TNI:83.4、Vth:1.78、△ε:12.1、△
n:0.134、η20:30.4mPa・s。 また、この組成物B5を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
【0184】実施例14(使用例6) No.57の化合物に替え実施例6で得られるα、α−
ジフルオロ−4−(4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)フェニル)ベンジル=3、4、5−トリフ
ルオロフェニル=エーテル(No.325の化合物)を
用いる以外は実施例9と同様にして組成物B6を調製
し、その物性値を測定したところ、以下の通りであっ
た。 TNI:84.6、Vth:1.77、△ε:11.9、△
n:0.143、η20:32.0mPa・s。 また、この組成物B6を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
ジフルオロ−4−(4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)フェニル)ベンジル=3、4、5−トリフ
ルオロフェニル=エーテル(No.325の化合物)を
用いる以外は実施例9と同様にして組成物B6を調製
し、その物性値を測定したところ、以下の通りであっ
た。 TNI:84.6、Vth:1.77、△ε:11.9、△
n:0.143、η20:32.0mPa・s。 また、この組成物B6を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
【0185】実施例15(使用例7) No.57の化合物に替え実施例7で得られるα、α−
ジフルオロ−4−(4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)フェニル)ベンジル=3、5−ジフルオロ
−4−トリフルオロメチルフェニル=エーテル(No.
334の化合物)を用いる以外は実施例9と同様にして
組成物B7を調製し、その物性値を測定したところ、以
下の通りであった。 TNI:82.5、Vth:1.73、△ε:13.0、△
n:0.142、η20:40.7mPa・s。 また、この組成物B7を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
ジフルオロ−4−(4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)フェニル)ベンジル=3、5−ジフルオロ
−4−トリフルオロメチルフェニル=エーテル(No.
334の化合物)を用いる以外は実施例9と同様にして
組成物B7を調製し、その物性値を測定したところ、以
下の通りであった。 TNI:82.5、Vth:1.73、△ε:13.0、△
n:0.142、η20:40.7mPa・s。 また、この組成物B7を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
【0186】実施例16(使用例8) No.57の化合物に替えα、α−ジフルオロ−2−フ
ルオロ−4−プロピルベンジル=4−(3、4、5−ト
リフルオロフェニル)フェニル=エーテル(No.21
0の化合物)を用いる以外は実施例9と同様にして組成
物B8を調製し、その物性値を測定したところ、以下の
通りであった。 TNI:60.0、Vth:1.47、△ε:12.6、△
n:0.132、η20:30.4mPa・s。 また、この組成物B8を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
ルオロ−4−プロピルベンジル=4−(3、4、5−ト
リフルオロフェニル)フェニル=エーテル(No.21
0の化合物)を用いる以外は実施例9と同様にして組成
物B8を調製し、その物性値を測定したところ、以下の
通りであった。 TNI:60.0、Vth:1.47、△ε:12.6、△
n:0.132、η20:30.4mPa・s。 また、この組成物B8を−20℃のフリーザーに20日
間放置したが、結晶の析出およびスメクチック相の発現
は認められなかった。
【0187】本発明の組成物実施例として、さらに以下
の実施例17(使用例9)〜実施例49(使用例41)
を示すことができる。なお、各組成物実施例中におい
て、化合物の表示は下記表1に示す取り決めに従い、左
末端基、結合基、環構造および右末端基の各欄に示され
た基を記号の欄に示されたそれに対応させることによっ
て行った。また、トランス−1、4−シクロヘキシレン
基上の水素原子が同位体の重水素原子によって置換され
た場合の表示は、上記の基を式(60)で表すとき、環
上の水素原子Q1〜Q8のうちの任意のものが順次対応
する重水素原子1D〜8Dから選ばれるもののみに置換
されるものとして、記号H[1D,〜8D]により示し
た。本発明化合物に付した化合物No.は前記実施例中
に示されるそれと同一である。また、各組成物の特性デ
−タは、TNI(透明点)、η(粘度)、Δn(屈折率異
方性値)、Δε(誘電率異方性値)、Vth(しきい値電
圧)およびP(ピッチ)により示した。
の実施例17(使用例9)〜実施例49(使用例41)
を示すことができる。なお、各組成物実施例中におい
て、化合物の表示は下記表1に示す取り決めに従い、左
末端基、結合基、環構造および右末端基の各欄に示され
た基を記号の欄に示されたそれに対応させることによっ
て行った。また、トランス−1、4−シクロヘキシレン
基上の水素原子が同位体の重水素原子によって置換され
た場合の表示は、上記の基を式(60)で表すとき、環
上の水素原子Q1〜Q8のうちの任意のものが順次対応
する重水素原子1D〜8Dから選ばれるもののみに置換
されるものとして、記号H[1D,〜8D]により示し
た。本発明化合物に付した化合物No.は前記実施例中
に示されるそれと同一である。また、各組成物の特性デ
−タは、TNI(透明点)、η(粘度)、Δn(屈折率異
方性値)、Δε(誘電率異方性値)、Vth(しきい値電
圧)およびP(ピッチ)により示した。
【0188】
【表1】
【0189】
【化114】
【0190】実施例17(使用例9) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 5.0% 1V2−BEB(F,F)−C 5.0% 3−HB−C 25.0% 1−BTB−3 5.0% 2−BTB−1 10.0% 3−HH−4 11.0% 3−HHB−1 6.0% 3−HHB−3 9.0% 3−H2BTB−2 4.0% 3−H2BTB−3 4.0% 3−H2BTB−4 4.0% 3−HB(F)TB−2 6.0% 3−HB(F)TB−3 6.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=83.8℃ η=15.6mPa・s Δn=0.160 Δε=7.7 Vth=2.01V また、上記の一次組成物100部に既述の式(Op−
4)で表される光学活性化合物0.8部を混合して二次
組成物を得、このものの特性を求めたところ以下の通り
であった。 P=11μm
た。 TNI=83.8℃ η=15.6mPa・s Δn=0.160 Δε=7.7 Vth=2.01V また、上記の一次組成物100部に既述の式(Op−
4)で表される光学活性化合物0.8部を混合して二次
組成物を得、このものの特性を求めたところ以下の通り
であった。 P=11μm
【0191】実施例18(使用例10) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 3.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 3.0% V2−HB−C 12.0% 1V2−HB−C 12.0% 3−HB−C 15.0% 3−HB[1D,2D,3D]−C 9.0% 3−HB(F)−C 5.0% 2−BTB−1 2.0% 3−HH−4 8.0% 3−HH−VFF 6.0% 2−H[1D,2D,3D]HB−C 3.0% 3−HHB−C 6.0% 3−HB(F)TB−2 8.0% 3−H2BTB−2 3.0% 3−H2BTB−3 5.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=82.3℃ η=20.4mPa・s Δn=0.145 Δε=9.9 Vth=1.84V
た。 TNI=82.3℃ η=20.4mPa・s Δn=0.145 Δε=9.9 Vth=1.84V
【0192】実施例19(使用例11) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210) 5.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3 (No.334) 5.0% 2O1−BEB(F)−C 5.0% 3O1−BEB(F)−C 15.0% 4O1−BEB(F)−C 13.0% 5O1−BEB(F)−C 8.0% 2−HHB(F)−C 15.0% 3−HHB(F)−C 15.0% 3−HB(F)TB−2 4.0% 3−HB(F)TB−3 4.0% 3−HHB−1 2.0% 3−HHB−O1 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=90.5℃ η=93.2mPa・s Δn=0.148 Δε=32.4 Vth=0.85V
た。 TNI=90.5℃ η=93.2mPa・s Δn=0.148 Δε=32.4 Vth=0.85V
【0193】実施例20(使用例12) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HHBCF2OB(F,F)−F (No.289) 4.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 4.0% 5−PyB−F 4.0% 3−PyB(F)−F 4.0% 2−BB−C 5.0% 4−BB−C 4.0% 5−BB−C 5.0% 2−PyB−2 2.0% 3−PyB−2 2.0% 4−PyB−2 2.0% 6−PyB−O5 3.0% 6−PyB−O6 3.0% 6−PyB−O7 3.0% 6−PyB−O8 3.0% 3−PyBB−F 6.0% 4−PyBB−F 6.0% 5−PyBB−F 3.0% 3−HHB−1 6.0% 3−HHB−3 8.0% 2−H2BTB−2 4.0% 2−H2BTB−3 4.0% 2−H2BTB−4 5.0% 3−H2BTB−2 5.0% 3−H2BTB−3 5.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=95.3℃ η=37.2mPa・s Δn=0.195 Δε=7.1 Vth=2.18V
た。 TNI=95.3℃ η=37.2mPa・s Δn=0.195 Δε=7.1 Vth=2.18V
【0194】実施例21(使用例13) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 3.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 3.0% 3−GB−C 10.0% 4−GB−C 10.0% 2−BEB−C 9.0% 3−BEB−C 4.0% 3−PyB(F)−F 6.0% 3−HEB−O4 8.0% 4−HEB−O2 6.0% 5−HEB−O1 6.0% 3−HEB−O2 5.0% 5−HEB−O2 4.0% 5−HEB−5 5.0% 4−HEB−5 5.0% 1O−BEB−2 4.0% 3−HHB−1 3.0% 3−HHEBB−C 3.0% 3−HBEBB−C 3.0% 5−HBEBB−C 3.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=67.9℃ η=40.5mPa・s Δn=0.119 Δε=11.8 Vth=1.28V
た。 TNI=67.9℃ η=40.5mPa・s Δn=0.119 Δε=11.8 Vth=1.28V
【0195】実施例22(使用例14) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 3.0% 3−HHBCF2OB(F,F)−F (No.289) 3.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3 (No.334) 3.0% 3−HB−C 18.0% 7−HB−C 3.0% 1O1−HB−C 10.0% 3−HB(F)−C 10.0% 2−PyB−2 2.0% 3−PyB−2 2.0% 4−PyB−2 2.0% 1O1−HH−3 7.0% 2−BTB−O1 7.0% 3−HHB−1 7.0% 3−HHB−F 4.0% 3−HHB−O1 4.0% 3−HHB−3 3.0% 3−H2BTB−2 3.0% 3−H2BTB−3 3.0% 3−PyBH−3 3.0% 3−PyBB−2 3.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。TNI=76.1℃ η=22.0mPa・s Δn=0.136 Δε=9.4 Vth=1.62V
た。TNI=76.1℃ η=22.0mPa・s Δn=0.136 Δε=9.4 Vth=1.62V
【0196】実施例23(使用例15) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 4.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 4.0% 2O1−BEB(F)−C 5.0% 3O1−BEB(F)−C 12.0% 5O1−BEB(F)−C 4.0% 1V2−BEB(F,F)−C 10.0% 3−HH−EMe 10.0% 3−HB−O2 18.0% 7−HEB−F 2.0% 3−HHEB−F 2.0% 5−HHEB−F 2.0% 3−HBEB−F 4.0% 2O1−HBEB(F)−C 2.0% 3−HB(F)EB(F)−C 2.0% 3−HBEB(F,F)−C 2.0% 3−HHB−F 4.0% 3−HHB−O1 4.0% 3−HHB−3 5.0% 3−HEBEB−F 2.0% 3−HEBEB−1 2.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=74.0℃ η=40.8mPa・s Δn=0.117 Δε=25.1 Vth=0.98V
た。 TNI=74.0℃ η=40.8mPa・s Δn=0.117 Δε=25.1 Vth=0.98V
【0197】実施例24(使用例16) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3 (No.334) 3.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 3.0% 5−BEB(F)−C 5.0% V−HB−C 11.0% 5−PyB−C 6.0% 4−BB−3 11.0% 3−HH−2V 10.0% 5−HH−V 11.0% V−HHB−1 7.0% V2−HHB−1 4.0% 3−HHB−1 9.0% 1V2−HBB−2 10.0% 3−HHEBH−3 5.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=84.7℃ η=21.0mPa・s Δn=0.118 Δε=6.6 Vth=2.15V
た。 TNI=84.7℃ η=21.0mPa・s Δn=0.118 Δε=6.6 Vth=2.15V
【0198】実施例25(使用例17) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 5.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 3.0% 3−HHBCF2OB(F,F)−F (No.289) 3.0% 2O1−BEB(F)−C 5.0% 3O1−BEB(F)−C 12.0% 1V2−BEB(F,F)−C 16.0% 3−HB−O2 10.0% 3−HH−4 3.0% 3−HHB−F 3.0% 3−HHB−1 5.0% 3−HHB−O1 4.0% 3−HBEB−F 4.0% 3−HHEB−F 7.0% 5−HHEB−F 7.0% 3−H2BTB−2 4.0% 3−H2BTB−3 4.0% 3−HB(F)TB−2 5.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=88.4℃ η=42.0mPa・s Δn=0.137 Δε=28.7 Vth=0.98V
た。 TNI=88.4℃ η=42.0mPa・s Δn=0.137 Δε=28.7 Vth=0.98V
【0199】実施例26(使用例18) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 4.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 4.0% 2−BEB−C 12.0% 4−BEB−C 6.0% 3−HB−C 28.0% 3−HEB−O4 12.0% 4−HEB−O2 8.0% 5−HEB−O1 8.0% 3−HEB−O2 6.0% 5−HEB−O2 5.0% 3−HHB−1 3.0% 3−HHB−O1 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=64.7℃ η=29.5mPa・s Δn=0.113 Δε=10.6 Vth=1.28V
た。 TNI=64.7℃ η=29.5mPa・s Δn=0.113 Δε=10.6 Vth=1.28V
【0200】実施例27(使用例19) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 3.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 3.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 3.0% 2−BEB−C 10.0% 5−BB−C 12.0% 7−BB−C 7.0% 1−BTB−3 7.0% 2−BTB−1 10.0% 1O−BEB−2 10.0% 1O−BEB−5 12.0% 2−HHB−1 4.0% 3−HHB−F 4.0% 3−HHB−1 7.0% 3−HHB−O1 4.0% 3−HHB−3 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=62.7℃ η=24.2mPa・s Δn=0.161 Δε=8.1 Vth=1.63V
た。 TNI=62.7℃ η=24.2mPa・s Δn=0.161 Δε=8.1 Vth=1.63V
【0201】実施例28(使用例20) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210) 3.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 3.0% 1V2−BEB(F,F)−C 8.0% 3−HB−C 10.0% V2V−HB−C 14.0% V2V−HH−3 19.0% 3−HB−O2 4.0% 3−HHB−1 10.0% 3−HHB−3 9.0% 3−HB(F)TB−2 4.0% 3−HB(F)TB−3 4.0% 3−H2BTB−2 4.0% 3−H2BTB−3 4.0% 3−H2BTB−4 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=96.8℃ η=19.7mPa・s Δn=0.131 Δε=9.0 Vth=1.96V
た。 TNI=96.8℃ η=19.7mPa・s Δn=0.131 Δε=9.0 Vth=1.96V
【0202】実施例29(使用例21) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 4.0% 3−HHBCF2OB(F,F)−F (No.289) 3.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3 (No.334) 3.0% 5−BTB(F)TB−3 10.0% V2−HB−TC 10.0% 3−HB−TC 10.0% 3−HB−C 10.0% 5−HB−C 7.0% 5−BB−C 3.0% 2−BTB−1 10.0% 2−BTB−O1 5.0% 3−HH−4 5.0% 3−HHB−3 11.0% 3−H2BTB−2 3.0% 3−H2BTB−3 3.0% 3−HB(F)TB−2 3.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=94.8℃ η=18.9mPa・s Δn=0.203 Δε=8.2 Vth=1.92V
た。 TNI=94.8℃ η=18.9mPa・s Δn=0.203 Δε=8.2 Vth=1.92V
【0203】実施例30(使用例22) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 4.0% 1V2−BEB(F,F)−C 6.0% 3−HB−C 18.0% 2−BTB−1 10.0% 5−HH−VFF 30.0% 1−BHH−VFF 8.0% 1−BHH−2VFF 11.0% 3−H2BTB−2 5.0% 3−H2BTB−3 4.0% 3−HHB−1 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=75.8℃ η=12.7mPa・s Δn=0.123 Δε=6.9 Vth=2.00V
た。 TNI=75.8℃ η=12.7mPa・s Δn=0.123 Δε=6.9 Vth=2.00V
【0204】実施例31(使用例23) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210) 5.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 5.0% 2−HB−C 5.0% 3−HB−C 12.0% 3−HB−O2 15.0% 2−BTB−1 3.0% 3−HHB−1 8.0% 3−HHB−F 4.0% 3−HHB−O1 5.0% 3−HHB−3 4.0% 3−HHEB−F 4.0% 5−HHEB−F 4.0% 2−HHB(F)−F 7.0% 3−HHB(F)−F 7.0% 5−HHB(F)−F 7.0% 3−HHB(F,F)−F 5.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=92.5℃ η=23.7mPa・s Δn=0.099 Δε=6.7 Vth=2.28V
た。 TNI=92.5℃ η=23.7mPa・s Δn=0.099 Δε=6.7 Vth=2.28V
【0205】実施例32(使用例24) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 5.0% 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210) 5.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 5.0% 2−HHB(F)−F 17.0% 3−HHB(F)−F 17.0% 5−HHB(F)−F 6.0% 2−H2HB(F)−F 10.0% 3−H2HB(F)−F 5.0% 5−H2HB(F)−F 10.0% 2−HBB(F)−F 6.0% 3−HBB(F)−F 6.0% 5−HBB(F)−F 3.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=94.2℃ η=29.4mPa・s Δn=0.094 Δε=8.1 Vth=1.72V また、上記の一次組成物100部に既述の式(Op−
8)で表される光学活性化合物0.3部を混合して二次
組成物を得、このものの特性を求めたところ以下の通り
であった。 P=79μm
た。 TNI=94.2℃ η=29.4mPa・s Δn=0.094 Δε=8.1 Vth=1.72V また、上記の一次組成物100部に既述の式(Op−
8)で表される光学活性化合物0.3部を混合して二次
組成物を得、このものの特性を求めたところ以下の通り
であった。 P=79μm
【0206】実施例33(使用例25) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3 (No.334) 5.0% 7−HB(F)−F 5.0% 5−H2B(F)−F 5.0% 3−HB−O2 10.0% 3−HH−4 2.0% 3−HH[5D,6D,7D]−4 3.0% 2−HHB(F)−F 10.0% 3−HHB(F)−F 10.0% 5−HH[5D,6D,7D]B(F)−F 5.0% 3−H2HB(F)−F 5.0% 2−HBB(F)−F 3.0% 3−HBB(F)−F 3.0% 5−HBB(F)−F 6.0% 2−H2BB(F)−F 5.0% 3−H2BB(F)−F 6.0% 3−HHB−1 3.0% 3−HHB−O1 5.0% 3−HHB−3 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=83.2℃ η=24.4mPa・s Δn=0.092 Δε=5.0 Vth=2.37V
た。 TNI=83.2℃ η=24.4mPa・s Δn=0.092 Δε=5.0 Vth=2.37V
【0207】実施例34(使用例26) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210)10.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 3.0% 3−HHBCF2OB(F,F)−F (No.289) 3.0% 7−HB(F,F)−F 3.0% 3−HB−O2 7.0% 2−HHB(F)−F 10.0% 3−HHB(F)−F 10.0% 5−HHB(F)−F 10.0% 2−HBB(F)−F 9.0% 3−HBB(F)−F 9.0% 5−HBB(F)−F 10.0% 2−HBB−F 4.0% 3−HBB−F 4.0% 5−HBB−F 3.0% 3−HBB(F,F)−F 5.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=82.6℃ η=27.3mPa・s Δn=0.113 Δε=8.1 Vth=1.69V
た。 TNI=82.6℃ η=27.3mPa・s Δn=0.113 Δε=8.1 Vth=1.69V
【0208】実施例35(使用例27) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 5.0% 3−HHBCF2OB(F,F)−F (No.289) 3.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 3.0% 7−HB(F,F)−F 3.0% 3−H2HB(F,F)−F 12.0% 4−H2HB(F,F)−F 10.0% 5−H2HB(F,F)−F 9.0% 3−HHB(F,F)−F 5.0% 4−HHB(F,F)−F 5.0% 3−HH2B(F,F)−F 15.0% 3−HBB(F,F)−F 12.0% 5−HBB(F,F)−F 12.0% 3−HBCF2OB(F,F)−F 6.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=71.8℃ η=26.8mPa・s Δn=0.090 Δε=10.0 Vth=1.40V
た。 TNI=71.8℃ η=26.8mPa・s Δn=0.090 Δε=10.0 Vth=1.40V
【0209】実施例36(使用例28) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210) 3.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3 (No.334) 3.0% 7−HB(F,F)−F 5.0% 3−H2HB(F,F)−F 12.0% 4−H2HB(F,F)−F 10.0% 3−HHB(F,F)−F 10.0% 4−HHB(F,F)−F 2.0% 3−HBB(F,F)−F 10.0% 3−HHEB(F,F)−F 10.0% 4−HHEB(F,F)−F 3.0% 2−HBEB(F,F)−F 3.0% 3−HBEB(F,F)−F 5.0% 5−HBEB(F,F)−F 3.0% 3−HGB(F,F)−F 15.0% 3−HHBB(F,F)−F 6.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=74.9℃ η=36.9mPa・s Δn=0.088 Δε=13.8 Vth=1.29V
た。 TNI=74.9℃ η=36.9mPa・s Δn=0.088 Δε=13.8 Vth=1.29V
【0210】実施例37(使用例29) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 5.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 3.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 3.0% 3−HB−CL 10.0% 5−HB−CL 4.0% 7−HB−CL 4.0% 1O1−HH−5 5.0% 2−HBB(F)−F 8.0% 3−HBB(F)−F 8.0% 5−HBB(F)−F 3.0% 4−HHB−CL 8.0% 5−HHB−CL 8.0% 3−H2HB(F)−CL 4.0% 3−HBB(F,F)−F 10.0% 5−H2BB(F,F)−F 9.0% 3−HB(F)VB−2 4.0% 3−HB(F)VB−3 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=88.2℃ η=22.2mPa・s Δn=0.125 Δε=6.8 Vth=1.97V
た。 TNI=88.2℃ η=22.2mPa・s Δn=0.125 Δε=6.8 Vth=1.97V
【0211】実施例38(使用例30) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 3.0% 3−HHBCF2OB(F,F)−F (No.289) 3.0% 3−HHB(F,F)−F 9.0% 3−H2HB(F,F)−F 8.0% 4−H2HB(F,F)−F 8.0% 5−H2HB(F,F)−F 6.0% 3−HBB(F,F)−F 21.0% 5−HBB(F,F)−F 20.0% 3−H2BB(F,F)−F 10.0% 5−HHBB(F,F)−F 3.0% 5−HHEBB−F 2.0% 3−HH2BB(F,F)−F 3.0% 1O1−HBBH−4 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=94.7℃ η=36.3mPa・s Δn=0.115 Δε=10.1 Vth=1.61V
た。 TNI=94.7℃ η=36.3mPa・s Δn=0.115 Δε=10.1 Vth=1.61V
【0212】実施例39(使用例31) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3 (No.334) 5.0% 5−HB−F 12.0% 6−HB−F 9.0% 7−HB−F 7.0% 2−HHB−OCF3 7.0% 3−HHB−OCF3 7.0% 4−HHB−OCF3 7.0% 3−HH2B−OCF3 4.0% 5−HH2B−OCF3 4.0% 3−HHB(F,F)−OCF3 5.0% 3−HBB(F)−F 10.0% 5−HBB(F)−F 5.0% 3−HH2B(F)−F 3.0% 3−HB(F)BH−3 3.0% 5−HBBH−3 3.0% 3−HHB(F,F)−OCF2H 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=83.9℃ η=19.9mPa・s Δn=0.094 Δε=6.4 Vth=2.19V
た。 TNI=83.9℃ η=19.9mPa・s Δn=0.094 Δε=6.4 Vth=2.19V
【0213】実施例40(使用例32) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 5.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 5.0% 5−H4HB(F,F)−F 7.0% 5−H4HB−OCF3 15.0% 3−H4HB(F,F)−CF3 8.0% 3−HB−CL 6.0% 5−HB−CL 4.0% 2−H2BB(F)−F 5.0% 3−H2BB(F)−F 10.0% 5−HVHB(F,F)−F 5.0% 3−HHB−OCF3 5.0% 3−H2HB−OCF3 5.0% V−HHB(F)−F 5.0% 3−HHB(F)−F 5.0% 5−HHEB−OCF3 2.0% 3−HBEB(F,F)−F 5.0% 5−HH−V2F 3.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=70.2℃ η=25.6mPa・s Δn=0.097 Δε=9.0 Vth=1.63V
た。 TNI=70.2℃ η=25.6mPa・s Δn=0.097 Δε=9.0 Vth=1.63V
【0214】実施例41(使用例33) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 5.0% 2−HHB(F)−F 2.0% 3−HHB(F)−F 2.0% 5−HHB(F)−F 2.0% 2−HBB(F)−F 6.0% 3−HBB(F)−F 6.0% 2−H2BB(F)−F 9.0% 3−H2BB(F)−F 9.0% 3−HBB(F,F)−F 25.0% 5−HBB(F,F)−F 19.0% 1O1−HBBH−4 5.0% 1O1−HBBH−5 5.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=95.1℃ η=35.3mPa・s Δn=0.132 Δε=8.8 Vth=1.72V
た。 TNI=95.1℃ η=35.3mPa・s Δn=0.132 Δε=8.8 Vth=1.72V
【0215】実施例42(使用例34) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3 (No.334) 2.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 2.0% 5−HB−CL 12.0% 3−HH−4 7.0% 3−HB−O2 20.0% 3−H2HB(F,F)−F 4.0% 3−HHB(F,F)−F 8.0% 3−HBB(F,F)−F 6.0% 2−HHB(F)−F 5.0% 3−HHB(F)−F 5.0% 2−H2HB(F)−F 2.0% 3−H2HB(F)−F 1.0% 5−H2HB(F)−F 2.0% 3−HHBB(F,F)−F 4.0% 3−HBCF2OB−OCF3 4.0% 5−HBCF2OB(F,F)−CF3 4.0% 3−HHB−1 3.0% 3−HHB−O1 4.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=70.6℃ η=18.2mPa・s Δn=0.088 Δε=5.1 Vth=2.07V
た。 TNI=70.6℃ η=18.2mPa・s Δn=0.088 Δε=5.1 Vth=2.07V
【0216】実施例43(使用例35) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 4.0% 3−HHBCF2OB(F,F)−F (No.289) 4.0% 3−BEB(F)−C 8.0% 3−HB−C 8.0% V−HB−C 8.0% 1V−HB−C 8.0% 3−HB−O2 3.0% 3−HH−2V 14.0% 3−HH−2V1 7.0% V2−HHB−1 7.0% 3−HHB−1 5.0% 3−HHEB−F 7.0% 3−H2BTB−2 6.0% 3−H2BTB−3 6.0% 3−H2BTB−4 5.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=92.9℃ η=17.6mPa・s Δn=0.131 Δε=9.5 Vth=1.98V
た。 TNI=92.9℃ η=17.6mPa・s Δn=0.131 Δε=9.5 Vth=1.98V
【0217】実施例44(使用例36) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210) 5.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−CF3 (No.454) 3.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 4.0% 3−H2HB(F,F)−F 7.0% 5−H2HB(F,F)−F 8.0% 3−HHB(F,F)−F 10.0% 4−HHB(F,F)−F 5.0% 3−HH2B(F,F)−F 9.0% 3−HBB(F,F)−F 15.0% 5−HBB(F,F)−F 15.0% 3−HBEB(F,F)−F 2.0% 4−HBEB(F,F)−F 2.0% 5−HBEB(F,F)−F 2.0% 3−HHEB(F,F)−F 10.0% 4−HHEB(F,F)−F 3.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=77.1℃ η=35.7mPa・s Δn=0.099 Δε=13.2 Vth=1.45V
た。 TNI=77.1℃ η=35.7mPa・s Δn=0.099 Δε=13.2 Vth=1.45V
【0218】実施例45(使用例37) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HB(F)CF2OB(F,F)−F (No.57) 10.0% 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F (No.60) 5.0% 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F (No.210) 10.0% 3−HB(F)CF2OBB(F,F)−F (No.445) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−CF3(No.334) 5.0% 3−HBBCF2OB(F,F)−F (No.325) 5.0% 2−HHB(F)−F 17.0% 3−HHB(F)−F 6.0% 2−H2HB(F)−F 10.0% 3−H2HB(F)−F 5.0% 5−H2HB(F)−F 10.0% 2−HBB(F)−F 6.0% 3−HBB(F)−F 6.0% この組成物の特性を求めたところ、以下の通りであっ
た。 TNI=80.9℃ η=36.9mPa・s Δn=0.092 Δε=10.7 Vth=1.48V
た。 TNI=80.9℃ η=36.9mPa・s Δn=0.092 Δε=10.7 Vth=1.48V
【0219】実施例46(使用例38) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HBCF2OB(F,F)−C (No.46) 5.0% 3−BCF2OB(F,F)−C (No.2) 5.0% 3−H2B(F)CF2OB(F,F)−F (No.255) 5.0% 1V2−BEB(F,F)−C 5.0% 3−HB−C 20.0% 1−BTB−3 5.0% 2−BTB−1 10.0% 3−HH−4 11.0% 3−HHB−1 7.0% 3−HHB−3 9.0% 3−H2BTB−2 4.0% 3−H2BTB−3 4.0% 3−H2BTB−4 4.0% 3−HB(F)TB−2 6.0%
【0220】実施例47(使用例39) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 V2−BCF2OB(F,F)−C (No.9) 5.0% 1V2−HBCF2OB(F,F)−C (No.53) 5.0% V2−HB−C 12.0% 1V2−HB−C 12.0% 3−HB−C 19.0% 3−HB(F)−C 5.0% 2−BTB−1 2.0% 3−HH−4 8.0% 3−HH−VFF 6.0% 2−HHB−C 3.0% 3−HHB−C 6.0% 3−HB(F)TB−2 3.0% 3−H2BTB−2 5.0% 3−H2BTB−3 5.0% 3−H2BTB−4 4.0%
【0221】実施例48(使用例40) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−HBCF2OB(F,F)−C (No.46) 3.0% 3−H2B(F)CF2OB(F,F)−F (No.255) 3.0% 1V2−HBCF2OB(F,F)−C (No.53) 3.0% 2O1−BEB(F)−C 5.0% 3O1−BEB(F)−C 15.0% 4O1−BEB(F)−C 13.0% 5O1−BEB(F)−C 13.0% 2−HHB(F)−C 15.0% 3−HHB(F)−C 15.0% 3−HB(F)TB−2 4.0% 3−HB(F)TB−3 4.0% 3−HHB−1 3.0% 3−HHB−O1 4.0%
【0222】実施例49(使用例41) 下記の化合物含量からなる液晶組成物を調製した。 3−BCF2OB(F,F)−C (No.2) 5.0% V2−BCF2OB(F,F)−C (No.9) 5.0% 5−PyB−F 4.0% 3−PyB(F)−F 4.0% 2−BB−C 5.0% 4−BB−C 4.0% 5−BB−C 5.0% 3−PyB−2 2.0% 6−PyB−O5 3.0% 6−PyB−O6 3.0% 3−PyBB−F 6.0% 4−PyBB−F 6.0% 5−PyBB−F 6.0% 3−HHB−1 6.0% 3−HHB−3 8.0% 2−H2BTB−2 4.0% 2−H2BTB−3 4.0% 2−H2BTB−4 5.0% 3−H2BTB−2 5.0% 3−H2BTB−3 5.0% 3−H2BTB−4 5.0%
【0223】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の液晶性化合
物は、大きな△εを有する上にその温度依存性が小さ
く、低粘性でかつ特に低温においても他の液晶組成物と
の相溶性に優れている。従って、本発明の液晶性化合物
を液晶組成物の構成成分として用いた場合、特に低電圧
駆動を可能とする液晶表示素子用の液晶組成物を達成す
ることができる。
物は、大きな△εを有する上にその温度依存性が小さ
く、低粘性でかつ特に低温においても他の液晶組成物と
の相溶性に優れている。従って、本発明の液晶性化合物
を液晶組成物の構成成分として用いた場合、特に低電圧
駆動を可能とする液晶表示素子用の液晶組成物を達成す
ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09K 19/20 C09K 19/20 19/34 19/34 G02F 1/13 500 G02F 1/13 500
Claims (31)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 (式中A1、A2およびA4はそれぞれ独立してトラン
ス−1,4−シクロヘキシレン基、環上の1個以上の水
素原子がハロゲン原子により置換されていてもよい1,
4−フェニレン基、トランス−1,3−ジオキサン−
2,5−ジイル基またはピリミジン2,5−ジイル基を
示し、A3は環上の1個以上の水素原子がハロゲン原子
により置換されていてもよい1,4−フェニレン基、ト
ランス−1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基または
ピリミジン−2,5−ジイル基を示し、Z1、Z2、Z
3およびZ4はそれぞれ独立して共有結合、−(C
H2)2−、−(CH2)4−、−CF2O−、−CH2O−
または−COO−を示し、L1、L2、L3およびL4はそ
れぞれ独立して水素原子またはハロゲン原子を示し、X
は水素原子、ハロゲン原子、CN基、または基中の1つ
以上の水素原子がハロゲン原子により置換されておりか
つ基中の相隣り合わない一つ以上の−CH2−が酸素原
子、硫黄原子または−CH=CH−により置き換えられ
ていてもよい炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル
基を示し、Rは基中の1つ以上の水素原子がハロゲン原
子により置換されていてもよくかつ基中の1つ以上の−
CH2−が酸素原子、硫黄原子または−CH=CH−に
より置き換えられていてもよい炭素数1〜10の直鎖ま
たは分岐のアルキル基を示し、l、m、nおよびoはそ
れぞれ独立して0または1であるがl+m+n+o≦2
であり、l+mが0または1である場合にはL1はハロ
ゲン原子であり、Xがシアノ基である場合にはL1、
L2、L3またはL4のうちそれらの少なくとも1つ以上
はハロゲン原子である。化合物を構成する各原子はそれ
らの同位体から選ばれるものを含んでもよい。)で表さ
れるハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項2】L1がフッ素原子である請求項1に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項3】L1とL2が共にフッ素原子である請求項1
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項4】L1とL3が共にフッ素原子である請求項1
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項5】L1、L2およびL3が全てフッ素原子であ
る請求項1に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項6】L1、L3およびL4が全てフッ素原子であ
る請求項1に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項7】L1、L2、L3およびL4が全てフッ素原子
である請求項1に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項8】l=1、m=n=o=0である請求項2に
記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項9】l=1、m=n=o=0である請求項3に
記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項10】l=1、m=n=o=0である請求項4
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項11】l=1、m=n=o=0である請求項5
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項12】l=1、m=n=o=0である請求項6
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項13】l=1、m=n=o=0である請求項7
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項14】n=1、l=m=o=0である請求項5
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項15】n=1、l=m=o=0である請求項6
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項16】n=1、l=m=o=0である請求項7
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項17】l=n=1、m=o=0である請求項5
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項18】l=n=1、m=o=0である請求項6
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項19】l=n=1、m=o=0である請求項7
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項20】l=m=1、n=o=0である請求項1
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項21】n=o=1、l=m=0である請求項1
に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項22】Xがシアノ基である請求項1に記載のハ
ロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項23】L3とL4が共にフッ素原子である請求項
22に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項24】請求項1〜23のいずれか1項に記載の
ハロゲン置換ベンゼン誘導体を少なくとも1種類含有す
ることを特徴とする液晶組成物。 - 【請求項25】第一成分として、請求項1から23のい
ずれか1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少な
くとも1種類含有し、第二成分として、一般式(2)、
(3)および(4) 【化2】 (各式中、R1、Y1、La、Lb、Z5およびZ6は各式
間で同一または互いに異なっていてもよく、R1は炭素
数1〜10のアルキル基であって、該アルキル基中、相
隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸素原子または−
CH=CH−で置き換えられてもよく、また任意の水素
原子はフッ素原子で置換されてもよい。Y1はフッ素原
子、塩素原子、OCF3、OCF2H、CF3、CF2H、
CFH2、OCF2CF2HまたはOCF2CFHCF3を
示し、LaおよびLbは各々独立して水素原子またはフ
ッ素原子を示し、Z5およびZ6は各々独立して1,2−
エチレン基、1,4−ブチレン基、−COO−、−CF
2O−、−OCF2−、−CH=CH−または共有結合を
示す。環Bはトランスー1,4−シクロヘキシレン、
1,3−ジオキサン−2,5−ジイルまたは環上の水素
原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−フェニレ
ンを示し、環Cはトランスー1,4−シクロヘキシレン
または環上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい
1,4−フェニレンを示す。各式の化合物において、そ
れらを構成する各原子はそれらの同位体から選ばれるも
のを含んでもよい。)からなる群から選択される化合物
を少なくとも1種類含有することを特徴とする液晶組成
物。 - 【請求項26】第一成分として、請求項1から23のい
ずれか1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少な
くとも1種類含有し、第二成分として、一般式(5)お
よび/または(6) 【化3】 (各式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1〜10
のアルキル基を示が、該アルキル基中、相隣り合わない
一つ以上のメチレン基は酸素原子または−CH=CH−
で置き換えられてもよく、また任意の水素原子はフッ素
原子で置換されてもよい。Y2は−CN基または−C≡
C−CNを示し、環Eはトランスー1,4−シクロヘキ
シレン、1,4−フェニレン、1,3−ジオキサン−
2,5−ジイルまたはピリミジン−2,5−ジイルを示
し、環Gはトランスー1,4−シクロヘキシレン、環上
の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−フ
ェニレンまたはピリミジン−2,5−ジイルを示し、環
Hはトランスー1,4−シクロヘキシレンまたは1,4
−フェニレンを示し、Z7は1,2−エチレン基、−C
OO−または共有結合を示し、Lc、LdおよびLeは各
々独立して水素原子またはフッ素原子を示し、b、cお
よびdは各々独立して0または1である。各式の化合物
において、それらを構成する各原子はそれらの同位体か
ら選ばれるものを含んでもよい。)から選択される化合
物を少なくとも1種類含有することを特徴とする液晶組
成物。 - 【請求項27】第一成分として、請求項1から23のい
ずれか1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少な
くとも1種含有し、第二成分として、一般式(2)、
(3)および(4) 【化4】 (各式中、R1、Y1、La、Lb、Z5およびZ6は各式
間で同一または互いに異なっていてもよく、R1は炭素
数1〜10のアルキル基であって、該アルキル基中、相
隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸素原子または−
CH=CH−で置き換えられてもよく、また任意の水素
原子はフッ素原子で置換されてもよい。Y1はフッ素原
子、塩素原子、OCF3、OCF2H、CF3、CF2H、
CFH2、OCF2CF2HまたはOCF2CFHCF3を
示し、LaおよびLbは各々独立して水素原子またはフ
ッ素原子を示し、Z5およびZ6は各々独立して1,2−
エチレン基、1,4−ブチレン基、−COO−、−CF
2O−、−OCF2−、−CH=CH−または共有結合を
示す。環Bはトランスー1,4−シクロヘキシレン、
1,3−ジオキサン−2,5−ジイルまたは環上の水素
原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−フェニレ
ンを示し、環Cはトランスー1,4−シクロヘキシレン
または環上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい
1,4−フェニレンを示す。各式の化合物において、そ
れらを構成する各原子はそれらの同位体から選ばれるも
のを含んでもよい。)からなる群から選択される化合物
を少なくとも1種類含有し、第三成分として、一般式
(7)、(8)および(9) 【化5】 (各式中、R4、R5、I、JおよびKは各式間で同一ま
たは互いに異なっていてもよく、R4およびR5は各々独
立して炭素数1〜10のアルキル基であって、該アルキ
ル基中、相隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸素原
子または−CH=CH−で置き換えられてもよく、また
任意の水素原子はフッ素原子で置換されてもよい。I、
JおよびKは各々独立して、トランスー1,4−シクロ
ヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイルまたは環上の
水素原子原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−
フェニレンを示し、Z8およびZ9は各々独立して、−C
≡C−、−COO−、−CH2CH2−、−CH=CH−
または共有結合を示す。各式の化合物において、それら
を構成する各原子はそれらの同位体から選ばれるものを
含んでもよい。)からなる群から選択される化合物を少
なくとも1種類含有することを特徴とする液晶組成物。 - 【請求項28】第一成分として、請求項1から23のい
ずれか1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少な
くとも1種含有し、第二成分として、一般式(5)およ
び/または(6) 【化6】 (各式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1〜10
のアルキル基を示が、該アルキル基中、相隣り合わない
一つ以上のメチレン基は酸素原子または−CH=CH−
で置き換えられてもよく、また任意の水素原子はフッ素
原子で置換されてもよい。Y2は−CN基または−C≡
C−CNを示し、環Eはトランスー1,4−シクロヘキ
シレン、1,4−フェニレン、1,3−ジオキサン−
2,5−ジイルまたはピリミジン−2,5−ジイルを示
し、環Gはトランスー1,4−シクロヘキシレン、環上
の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−フ
ェニレンまたはピリミジン−2,5−ジイルを示し、環
Hはトランスー1,4−シクロヘキシレンまたは1,4
−フェニレンを示し、Z7は1,2−エチレン基、−C
OO−または共有結合を示し、Lc、LdおよびLeは各
々独立して水素原子またはフッ素原子を示し、b、cお
よびdは各々独立して0または1である。各式の化合物
において、それらを構成する各原子はそれらの同位体か
ら選ばれるものを含んでもよい。)から選択される化合
物を少なくとも1種類含有し、第三成分として、一般式
(7)、(8)および(9) 【化7】 (各式中、R4、R5、I、JおよびKは各式間で同一ま
たは互いに異なっていてもよく、R4およびR5は各々独
立して炭素数1〜10のアルキル基であって、該アルキ
ル基中、相隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸素原
子または−CH=CH−で置き換えられてもよく、また
任意の水素原子はフッ素原子で置換されてもよい。I、
JおよびKは各々独立して、トランスー1,4−シクロ
ヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイルまたは環上の
水素原子原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−
フェニレンを示し、Z8およびZ9は各々独立して、−C
≡C−、−COO−、−CH2CH2−、−CH=CH−
または共有結合を示す。各式の化合物において、それら
を構成する各原子はそれらの同位体から選ばれるものを
含んでもよい。)からなる群から選択される化合物を少
なくとも1種類含有することを特徴とする液晶組成物。 - 【請求項29】第一成分として、請求項1から23のい
ずれか1項に記載のハロゲン置換ベンゼン誘導体を少な
くとも1種類含有し、第二成分の一部分として、一般式
(2)、(3)および(4) 【化8】 (各式中、R1、Y1、La、Lb、Z5およびZ6は各式
間で同一または互いに異なっていてもよく、R1は炭素
数1〜10のアルキル基であって、該アルキル基中、相
隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸素原子または−
CH=CH−で置き換えられてもよく、また任意の水素
原子はフッ素原子で置換されてもよい。Y1はフッ素原
子、塩素原子、OCF3、OCF2H、CF3、CF2H、
CFH2、OCF2CF2HまたはOCF2CFHCF3を
示し、LaおよびLbは各々独立して水素原子またはフ
ッ素原子を示し、Z5およびZ6は各々独立して1,2−
エチレン基、1,4−ブチレン基、−COO−、−CF
2O−、−OCF2−、−CH=CH−または共有結合を
示す。環Bはトランスー1,4−シクロヘキシレン、
1,3−ジオキサン−2,5−ジイルまたは環上の水素
原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−フェニレ
ンを示し、環Cはトランスー1,4−シクロヘキシレン
または環上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい
1,4−フェニレンを示す。各式の化合物において、そ
れらを構成する各原子はそれらの同位体から選ばれるも
のを含んでもよい。)からなる群から選択される化合物
を少なくとも1種類含有し、第二成分の他の部分とし
て、一般式(5)および/または(6) 【化9】 (各式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1〜10
のアルキル基を示が、該アルキル基中、相隣り合わない
一つ以上のメチレン基は酸素原子または−CH=CH−
で置き換えられてもよく、また任意の水素原子はフッ素
原子で置換されてもよい。Y2は−CN基または−C≡
C−CNを示し、環Eはトランスー1,4−シクロヘキ
シレン、1,4−フェニレン、1,3−ジオキサン−
2,5−ジイルまたはピリミジン−2,5−ジイルを示
し、環Gはトランスー1,4−シクロヘキシレン、環上
の水素原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−フ
ェニレンまたはピリミジン−2,5−ジイルを示し、環
Hはトランスー1,4−シクロヘキシレンまたは1,4
−フェニレンを示し、Z7は1,2−エチレン基、−C
OO−または共有結合を示し、Lc、LdおよびLeは各
々独立して水素原子またはフッ素原子を示し、b、cお
よびdは各々独立して0または1である。各式の化合物
において、それらを構成する各原子はそれらの同位体か
ら選ばれるものを含んでもよい。)から選択される化合
物を少なくとも1種類含有し、第三成分として、一般式
(7)、(8)および(9) 【化10】 (各式中、R4、R5、I、JおよびKは各式間で同一ま
たは互いに異なっていてもよく、R4およびR5は各々独
立して炭素数1〜10のアルキル基であって、該アルキ
ル基中、相隣り合わない一つ以上のメチレン基は酸素原
子または−CH=CH−で置き換えられてもよく、また
任意の水素原子はフッ素原子で置換されてもよい。I、
JおよびKは各々独立して、トランスー1,4−シクロ
ヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイルまたは環上の
水素原子原子がフッ素原子で置換されてもよい1,4−
フェニレンを示し、Z8およびZ9は各々独立して、−C
≡C−、−COO−、−CH2CH2−、−CH=CH−
または共有結合を示す。各式の化合物において、それら
を構成する各原子はそれらの同位体から選ばれるものを
含んでもよい。)からなる群から選択される化合物を少
なくとも1種類含有することを特徴とする液晶組成物。 - 【請求項30】光学活性化合物をさらに含有することを
特徴とする請求項24〜29のいずれか1項に記載の液
晶組成物。 - 【請求項31】請求項24〜30のいずれか1項に記載
の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9072708A JPH10251186A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | ハロゲン置換ベンゼン誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9072708A JPH10251186A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | ハロゲン置換ベンゼン誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10251186A true JPH10251186A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=13497132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9072708A Pending JPH10251186A (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | ハロゲン置換ベンゼン誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10251186A (ja) |
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