JPH10251646A - 液晶配向剤 - Google Patents
液晶配向剤Info
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- JPH10251646A JPH10251646A JP9078985A JP7898597A JPH10251646A JP H10251646 A JPH10251646 A JP H10251646A JP 9078985 A JP9078985 A JP 9078985A JP 7898597 A JP7898597 A JP 7898597A JP H10251646 A JPH10251646 A JP H10251646A
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- acid
- dianhydride
- meth
- acrylate
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
- G02F1/133723—Polyimide, polyamide-imide
-
- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/02—Alignment layer characterised by chemical composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/02—Alignment layer characterised by chemical composition
- C09K2323/027—Polyimide
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 液晶の配向制御が容易であり、静電気やほこ
りが発生することがなく、量産性にも優れている液晶配
向膜の形成方法に用いられる液晶配向剤を提供する。 【解決手段】 下記式（Ｉ）、（II）、（III）および
（IV）から選ばれる少なくとも１つの構造を有する重合
体からなることを特徴とする、液晶配向剤。 （式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３お
よびＱ４は芳香環を含有する有機基を表し、Ｐ１、
Ｐ４、Ｑ１およびＱ３は２価の有機基、Ｐ２、Ｐ３およ
びＱ４は１価の有機基、Ｑ２は３価の有機基を表す。Ｒ
１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は
水素原子またはアルキル基を表す。）
りが発生することがなく、量産性にも優れている液晶配
向膜の形成方法に用いられる液晶配向剤を提供する。 【解決手段】 下記式（Ｉ）、（II）、（III）および
（IV）から選ばれる少なくとも１つの構造を有する重合
体からなることを特徴とする、液晶配向剤。 （式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３お
よびＱ４は芳香環を含有する有機基を表し、Ｐ１、
Ｐ４、Ｑ１およびＱ３は２価の有機基、Ｐ２、Ｐ３およ
びＱ４は１価の有機基、Ｑ２は３価の有機基を表す。Ｒ
１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は
水素原子またはアルキル基を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶配向剤に関す
る。さらに詳しくは、ラビング処理を行わずに、直線偏
光された放射線の照射によって液晶配向能を付与するこ
とが可能な液晶配向膜の形成に用いられる、液晶配向剤
に関する。
る。さらに詳しくは、ラビング処理を行わずに、直線偏
光された放射線の照射によって液晶配向能を付与するこ
とが可能な液晶配向膜の形成に用いられる、液晶配向剤
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、正の誘電異方性を有するネマチッ
ク型液晶を、液晶配向膜を有する透明電極付き基板でサ
ンドイッチ構造にし、液晶分子の長軸が基板間で９０度
以上連続的に捻れるようにしてなるＴＮ（Twisted Nem
atic）型、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型液晶
セルを有する液晶表示素子が知られている。
ク型液晶を、液晶配向膜を有する透明電極付き基板でサ
ンドイッチ構造にし、液晶分子の長軸が基板間で９０度
以上連続的に捻れるようにしてなるＴＮ（Twisted Nem
atic）型、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型液晶
セルを有する液晶表示素子が知られている。
【０００３】前記、液晶セルにおける液晶を配向させる
手段には、基板表面に有機膜を形成し、次いでその有機
膜表面をレーヨンなどの布材で一方向にこすることによ
り液晶配向能を付与する（ラビング処理を施す）という
方法、基板表面に酸化珪素を斜方蒸着する方法、ラング
ミュア・ブロジェット法（ＬＢ法）を用いて長鎖アルキ
ル基を有する単分子膜を形成する方法などがあるが、処
理する基板のサイズに制約があったり、液晶の配向均一
性が不十分なため、工業的には処理時間や処理コストの
面で有利なラビング処理による液晶の配向が一般的であ
る。
手段には、基板表面に有機膜を形成し、次いでその有機
膜表面をレーヨンなどの布材で一方向にこすることによ
り液晶配向能を付与する（ラビング処理を施す）という
方法、基板表面に酸化珪素を斜方蒸着する方法、ラング
ミュア・ブロジェット法（ＬＢ法）を用いて長鎖アルキ
ル基を有する単分子膜を形成する方法などがあるが、処
理する基板のサイズに制約があったり、液晶の配向均一
性が不十分なため、工業的には処理時間や処理コストの
面で有利なラビング処理による液晶の配向が一般的であ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶の
配向をラビング処理によって行うと、その工程中にほこ
りが発生したり、静電気が発生しやすいという問題点が
ある。静電気が発生すると、配向膜表面にほこりが付着
し、表示不良が発生する原因となり、また、ＴＦＴ（th
in film transistor）素子を有する基板の場合、発生
した静電気によってＴＦＴ素子の回路破壊が起こり、歩
留まり低下の原因ともなる。さらに、今後ますます高精
彩化される液晶表示素子においては、画素の高密度化に
ともなう基板表面の凹凸のため、ラビング処理の均一性
が問題になる。本発明の目的は、液晶の配向制御が容易
であり、静電気やほこりが発生することがなく、量産性
にも優れている液晶配向膜の形成方法に用いられる液晶
配向剤を提供するものである。
配向をラビング処理によって行うと、その工程中にほこ
りが発生したり、静電気が発生しやすいという問題点が
ある。静電気が発生すると、配向膜表面にほこりが付着
し、表示不良が発生する原因となり、また、ＴＦＴ（th
in film transistor）素子を有する基板の場合、発生
した静電気によってＴＦＴ素子の回路破壊が起こり、歩
留まり低下の原因ともなる。さらに、今後ますます高精
彩化される液晶表示素子においては、画素の高密度化に
ともなう基板表面の凹凸のため、ラビング処理の均一性
が問題になる。本発明の目的は、液晶の配向制御が容易
であり、静電気やほこりが発生することがなく、量産性
にも優れている液晶配向膜の形成方法に用いられる液晶
配向剤を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明における液晶配向
剤は、下記式（Ｉ）、（II）、（III） および（IV）か
ら選ばれる少なくとも１つの構造を有する重合体からな
ることを特徴とする。
剤は、下記式（Ｉ）、（II）、（III） および（IV）か
ら選ばれる少なくとも１つの構造を有する重合体からな
ることを特徴とする。
【０００６】
【化１】 −Ｐ1 −ＣＲ1 ＝ＣＲ2 −ＣＯ−Ｑ1 − ・・・・・（Ｉ） Ｐ3 −ＣＲ5 ＝ＣＲ6 −ＣＯ−Ｑ3 − ・・・・・（III） −Ｐ4 −ＣＲ7 ＝ＣＲ8 −ＣＯ−Ｑ4 ・・・・・（IV）
【０００７】（式中、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 、Ｐ4 、Ｑ1 、
Ｑ2 、Ｑ3 およびＱ4 は芳香環を含有する有機基を表
し、Ｐ1 、Ｐ4 、Ｑ1 およびＱ3 は２価の有機基、
Ｐ2 、Ｐ3 およびＱ4 は１価の有機基、Ｑ2 は３価の有
機基を表す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ
7 およびＲ8 は水素原子またはアルキル基を表す。）
Ｑ2 、Ｑ3 およびＱ4 は芳香環を含有する有機基を表
し、Ｐ1 、Ｐ4 、Ｑ1 およびＱ3 は２価の有機基、
Ｐ2 、Ｐ3 およびＱ4 は１価の有機基、Ｑ2 は３価の有
機基を表す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ
7 およびＲ8 は水素原子またはアルキル基を表す。）
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。液晶配向剤 本発明の液晶配向剤は、放射線に官能する構造を有する
重合体からなる。ここでいう”官能”とは、放射線の照
射を受けると、光励起反応によってエネルギー準位が高
まり、次いでエネルギーを放出して安定状態に戻ること
を意味する。このような構造としては、上記式（Ｉ）、
（II）、（III） および（IV）で示される共役エノン構
造（以下、「特定構造」ともいう）が挙げられる。式
中、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 、Ｐ4 、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3 および
Ｑ4 は、芳香環を含有する有機基であり、好ましくは、
炭素数６〜２０の有機基である。これらの有機基には、
ハロゲン原子が含まれていても良い。具体的には、１，
２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フ
ェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、４−ペンチル
フェニル基、４−フルオロフェニル基、３，４−ジフル
オロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル
基、４−オクチルフェニル基、４−ペンチルビフェニル
基、４−オクチルビフェニル基、４−フルオロビフェニ
ル基、３，４−ジフルオロビフェニル基、３，４，５−
トリフルオロビフェニル基、４−オクチル−１−ナフチ
ル基、５−ペンチル−１−ナフチル基、６−オクチル−
２−ナフチル基、９−アントラセニル基、１０−ペンチ
ル−９−アントラセニル基などが挙げられ、これらは互
いに同一でも異なっていても良い。また、式中、Ｒ1 、
Ｒ2、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は水素
原子またはアルキル基であり、好ましくは水素原子また
は炭素数１〜６のアルキル基である。これらのアルキル
基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、互いに同一でも異な
っていてもよい。本発明の液晶配向剤を構成する重合体
は、上記特定構造を主鎖または側鎖に有する重合体であ
る。重合体の骨格には特に制限はないが、（１）ポリイ
ミド、（２）ポリエステル、（３）ポリアミドおよび
（４）ポリ（メタ）アクリレートから選ばれるものが好
ましい。特に、耐熱性に優れている点からポリイミドが
好ましい。
重合体からなる。ここでいう”官能”とは、放射線の照
射を受けると、光励起反応によってエネルギー準位が高
まり、次いでエネルギーを放出して安定状態に戻ること
を意味する。このような構造としては、上記式（Ｉ）、
（II）、（III） および（IV）で示される共役エノン構
造（以下、「特定構造」ともいう）が挙げられる。式
中、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 、Ｐ4 、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3 および
Ｑ4 は、芳香環を含有する有機基であり、好ましくは、
炭素数６〜２０の有機基である。これらの有機基には、
ハロゲン原子が含まれていても良い。具体的には、１，
２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フ
ェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、４−ペンチル
フェニル基、４−フルオロフェニル基、３，４−ジフル
オロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル
基、４−オクチルフェニル基、４−ペンチルビフェニル
基、４−オクチルビフェニル基、４−フルオロビフェニ
ル基、３，４−ジフルオロビフェニル基、３，４，５−
トリフルオロビフェニル基、４−オクチル−１−ナフチ
ル基、５−ペンチル−１−ナフチル基、６−オクチル−
２−ナフチル基、９−アントラセニル基、１０−ペンチ
ル−９−アントラセニル基などが挙げられ、これらは互
いに同一でも異なっていても良い。また、式中、Ｒ1 、
Ｒ2、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は水素
原子またはアルキル基であり、好ましくは水素原子また
は炭素数１〜６のアルキル基である。これらのアルキル
基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、互いに同一でも異な
っていてもよい。本発明の液晶配向剤を構成する重合体
は、上記特定構造を主鎖または側鎖に有する重合体であ
る。重合体の骨格には特に制限はないが、（１）ポリイ
ミド、（２）ポリエステル、（３）ポリアミドおよび
（４）ポリ（メタ）アクリレートから選ばれるものが好
ましい。特に、耐熱性に優れている点からポリイミドが
好ましい。
【０００９】前記ポリイミドは、（イ）テトラカルボン
酸二無水物と、（ロ）ジアミン化合物とを反応させ、中
間体のポリアミック酸を経て得られる。本発明において
用いられるポリイミドは、（イ）テトラカルボン酸二無
水物成分と（ロ）ジアミン成分の少なくともひとつの成
分に、上記特定構造を有する化合物が用いられる。
酸二無水物と、（ロ）ジアミン化合物とを反応させ、中
間体のポリアミック酸を経て得られる。本発明において
用いられるポリイミドは、（イ）テトラカルボン酸二無
水物成分と（ロ）ジアミン成分の少なくともひとつの成
分に、上記特定構造を有する化合物が用いられる。
【００１０】特定構造を有するテトラカルボン酸二無水
物としては、例えば３，３’，４，４’−カルコンテト
ラカルボン酸二無水物、４，４’，５，５’−カルコン
テトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，５’−カル
コンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ジヒドロキ
シカルコンビストリメリテート、３，４’−ジヒドロキ
シカルコンビストリメリテート、３’，５’−ジヒドロ
キシカルコンビストリメリテート、２，４−ジヒドロキ
シカルコンビストリメリテートなどが挙げられる。特定
構造を有するジアミン化合物としては、例えば３，３’
−ジアミノカルコン、４，４’−ジアミノカルコン、
３，４’−ジアミノカルコン、３，４−ジアミノカルコ
ン、４（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコン、４’
（２，４−ジアミノフェノキシ）カルコン、下記式
（Ｖ）で表される化合物などが挙げられる。
物としては、例えば３，３’，４，４’−カルコンテト
ラカルボン酸二無水物、４，４’，５，５’−カルコン
テトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，５’−カル
コンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ジヒドロキ
シカルコンビストリメリテート、３，４’−ジヒドロキ
シカルコンビストリメリテート、３’，５’−ジヒドロ
キシカルコンビストリメリテート、２，４−ジヒドロキ
シカルコンビストリメリテートなどが挙げられる。特定
構造を有するジアミン化合物としては、例えば３，３’
−ジアミノカルコン、４，４’−ジアミノカルコン、
３，４’−ジアミノカルコン、３，４−ジアミノカルコ
ン、４（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコン、４’
（２，４−ジアミノフェノキシ）カルコン、下記式
（Ｖ）で表される化合物などが挙げられる。
【００１１】
【化２】
【００１２】（式中、Ａ1 およびＡ2 は２価の芳香族基
を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。）
を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。）
【００１３】これらのうち、上記式（Ｖ）で表される化
合物が好ましい。上記式（Ｖ）中、ＣnＨ2n+1−で表さ
れるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であって
もよく、直鎖状のものがより好ましい。Ａ1 およびＡ2
で表される２価の芳香族基としては、例えばフェニレン
基、ビフェニレン基、ナフチレン基、ビナフチレン基、
アントリレン基、フェナントリレン基；ピレン、クリセ
ン、ナフタセンなどの多環芳香族化合物から水素原子２
個を除いた有機基などが挙げられる。上記式（Ｖ）で表
される化合物の具体例としては、４−イソプロピル−
４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−ア
ミル−４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコン、
４−ペンチル−４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カ
ルコン、４−オクチル−４’（３，５−ジアミノフェノ
キシ）カルコン、４−ペンチル−２−メチル−４’
（２，４−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−ペンチ
ル−２，５ジメチル−４’（３，５−ジアミノフェノキ
シ）カルコン、４−オクチル−２−メチル−４’（３，
５−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−ペンチル−
４’（２，４−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−オ
クチル−４’（２，４−ジアミノフェノキシ）カルコ
ン、４−ペンチル−４’（３，５−ジアミノベンゾイロ
キシ）カルコン、４−オクチル−４’（３，５−ジアミ
ノベンゾイロキシ）カルコン、４−ペンチル−３’
（２，４−ジアミノベンゾイロキシ）カルコン、４−オ
クチル−３’（２，４−ジアミノベンゾイロキシ）カル
コンなどが挙げられ、中でも４−ペンチル−４’（３，
５−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−オクチル−
４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコンが特に好
ましい。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて
使用できる。
合物が好ましい。上記式（Ｖ）中、ＣnＨ2n+1−で表さ
れるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であって
もよく、直鎖状のものがより好ましい。Ａ1 およびＡ2
で表される２価の芳香族基としては、例えばフェニレン
基、ビフェニレン基、ナフチレン基、ビナフチレン基、
アントリレン基、フェナントリレン基；ピレン、クリセ
ン、ナフタセンなどの多環芳香族化合物から水素原子２
個を除いた有機基などが挙げられる。上記式（Ｖ）で表
される化合物の具体例としては、４−イソプロピル−
４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−ア
ミル−４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコン、
４−ペンチル−４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カ
ルコン、４−オクチル−４’（３，５−ジアミノフェノ
キシ）カルコン、４−ペンチル−２−メチル−４’
（２，４−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−ペンチ
ル−２，５ジメチル−４’（３，５−ジアミノフェノキ
シ）カルコン、４−オクチル−２−メチル−４’（３，
５−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−ペンチル−
４’（２，４−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−オ
クチル−４’（２，４−ジアミノフェノキシ）カルコ
ン、４−ペンチル−４’（３，５−ジアミノベンゾイロ
キシ）カルコン、４−オクチル−４’（３，５−ジアミ
ノベンゾイロキシ）カルコン、４−ペンチル−３’
（２，４−ジアミノベンゾイロキシ）カルコン、４−オ
クチル−３’（２，４−ジアミノベンゾイロキシ）カル
コンなどが挙げられ、中でも４−ペンチル−４’（３，
５−ジアミノフェノキシ）カルコン、４−オクチル−
４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコンが特に好
ましい。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて
使用できる。
【００１４】本発明において用いられるポリイミドに
は、本発明の効果を損なわない程度に他のテトラカルボ
ン酸二無水物および／またはジアミン化合物を併用する
ことができる。
は、本発明の効果を損なわない程度に他のテトラカルボ
ン酸二無水物および／またはジアミン化合物を併用する
ことができる。
【００１５】他のテトラカルボン酸二無水物としては、
例えば、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢
酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，
２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタ
ンテトラカルボン酸二無水物、３，５，６−トリカルボ
キシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５
−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラ
ヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト
［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、５−（２，
５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−
シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシ
クロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，３，５，
６−テトラカルボン酸二無水物などの脂肪族および脂環
式テトラカルボン酸二無水物；
例えば、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢
酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，
２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタ
ンテトラカルボン酸二無水物、３，５，６−トリカルボ
キシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５
−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラ
ヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト
［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、５−（２，
５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−
シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシ
クロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，３，５，
６−テトラカルボン酸二無水物などの脂肪族および脂環
式テトラカルボン酸二無水物；
【００１６】ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，
４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジ
フェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，
４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無
水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水
物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキ
シ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホ
ン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフ
ェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，
４，４’−パーフルオロイソプロピリデンテトラカルボ
ン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフ
ィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリ
フェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス
（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニ
ルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水
物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェ
ニルメタン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無
水物を挙げることができる。
４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、
１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジ
フェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，
４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無
水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水
物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキ
シ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホ
ン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフ
ェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，
４，４’−パーフルオロイソプロピリデンテトラカルボ
ン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフ
ィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリ
フェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス
（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニ
ルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水
物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェ
ニルメタン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無
水物を挙げることができる。
【００１７】これらのうち、２，３，５−トリカルボキ
シシクロペンチル酢酸二無水物、ブタンテトラカルボン
酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シク
ロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット
酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホン
テトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタ
レンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−
ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物が好まし
い。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用
できる。
シシクロペンチル酢酸二無水物、ブタンテトラカルボン
酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シク
ロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット
酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホン
テトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタ
レンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−
ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物が好まし
い。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用
できる。
【００１８】他のジアミン化合物としては、例えばｐ−
フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ
ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスル
フィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，
３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，
４’−ジアミノベンズアニリド、４，４’−ジアミノジ
フェニルエーテル、１，５−ジアミノナフタレン、３，
３−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、５−ア
ミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−ト
リメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフ
ェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、３，４’
−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）プロパン、２，２−ビス［４−（４−
アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘ
キサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミ
ノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４
−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノ
フェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェ
ニル）−１０−ヒドロアントラセン、２，７−ジアミノ
フルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フル
オレン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリ
ン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−
ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−
ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３’
−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、１，
４．４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスア
ニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデ
ン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、４，４’−ジアミノ−２，２’−
ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４’−ビ
ス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキ
シ］−オクタフルオロビフェニルなどの芳香族ジアミ
ン；ジアミノテトラフェニルチオフェンなどのヘテロ原
子を有する芳香族ジアミン；
フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ
ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスル
フィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，
３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，
４’−ジアミノベンズアニリド、４，４’−ジアミノジ
フェニルエーテル、１，５−ジアミノナフタレン、３，
３−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、５−ア
ミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−ト
リメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフ
ェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、３，４’
−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）プロパン、２，２−ビス［４−（４−
アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘ
キサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミ
ノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４
−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノ
フェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェ
ニル）−１０−ヒドロアントラセン、２，７−ジアミノ
フルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フル
オレン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリ
ン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−
ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−
ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３’
−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、１，
４．４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスア
ニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデ
ン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、４，４’−ジアミノ−２，２’−
ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４’−ビ
ス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキ
シ］−オクタフルオロビフェニルなどの芳香族ジアミ
ン；ジアミノテトラフェニルチオフェンなどのヘテロ原
子を有する芳香族ジアミン；
【００１９】１，１−メタキシリレンジアミン、１，３
−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタ
メチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメ
チレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレ
ンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレンジアミ
ン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジア
ミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミ
ン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチ
レンジアミン、トリシクロ［６．２．１．０2,7］−ウ
ンデシレンジメチルジアミン、４，４’−メチレンビス
（シクロヘキシルアミン）などの脂肪族および脂環式ジ
アミン；ジアミノヘキサメチルジシロキサンなどのジア
ミノオルガノシロキサンが挙げられる。
−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタ
メチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメ
チレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレ
ンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレンジアミ
ン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジア
ミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミ
ン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチ
レンジアミン、トリシクロ［６．２．１．０2,7］−ウ
ンデシレンジメチルジアミン、４，４’−メチレンビス
（シクロヘキシルアミン）などの脂肪族および脂環式ジ
アミン；ジアミノヘキサメチルジシロキサンなどのジア
ミノオルガノシロキサンが挙げられる。
【００２０】これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，５−ジアミ
ノナフタレン、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’
−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−（ｐ−フェ
ニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘ
キサフルオロプロパン、２，２’−ビス［４−（４−ア
ミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］
ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノ−２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，
４’−ビス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）
フェノキシ］−オクタフルオロビフェニルが好ましい。
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用でき
る。
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，５−ジアミ
ノナフタレン、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’
−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−（ｐ−フェ
ニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘ
キサフルオロプロパン、２，２’−ビス［４−（４−ア
ミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］
ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノ−２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，
４’−ビス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）
フェノキシ］−オクタフルオロビフェニルが好ましい。
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用でき
る。
【００２１】本発明において用いられるポリイミドは、
前記（イ）テトラカルボン酸二無水物成分と（ロ）ジア
ミン成分を重縮合させてポリアミック酸を得て、次いで
必要に応じて脱水剤およびイミド化触媒の存在下で加熱
して、イミド化することにより得られる。加熱によりイ
ミド化する場合の反応温度は、通常６０〜３００℃、好
ましくは１００〜１７０℃である。反応温度が６０℃未
満では反応の進行が遅れ、また３００℃を越えるとポリ
アミック酸の分子量が大きく低下することがある。ま
た、脱水剤及びイミド化触媒の存在下でイミド化する場
合の反応は、有機溶媒中で行うことができる。反応温度
は、通常０〜１８０℃、好ましくは６０〜１５０℃であ
る。前記脱水剤としては、無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いること
ができる。また、イミド化触媒としては、例えばピリジ
ン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの３級
アミンを用いることができるが、これらに限定されるも
のではない。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸の繰り
返し単位１モルに対して１．６〜２０モルとするのが好
ましい。また、イミド化触媒の使用量は使用する脱水剤
１モルに対し、０．５〜１０モルとするのが好ましい。
このイミド化触媒、脱水剤の使用量によって、ポリイミ
ド中のアミック酸残基の含率を調整することができる。
前記（イ）テトラカルボン酸二無水物成分と（ロ）ジア
ミン成分を重縮合させてポリアミック酸を得て、次いで
必要に応じて脱水剤およびイミド化触媒の存在下で加熱
して、イミド化することにより得られる。加熱によりイ
ミド化する場合の反応温度は、通常６０〜３００℃、好
ましくは１００〜１７０℃である。反応温度が６０℃未
満では反応の進行が遅れ、また３００℃を越えるとポリ
アミック酸の分子量が大きく低下することがある。ま
た、脱水剤及びイミド化触媒の存在下でイミド化する場
合の反応は、有機溶媒中で行うことができる。反応温度
は、通常０〜１８０℃、好ましくは６０〜１５０℃であ
る。前記脱水剤としては、無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いること
ができる。また、イミド化触媒としては、例えばピリジ
ン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの３級
アミンを用いることができるが、これらに限定されるも
のではない。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸の繰り
返し単位１モルに対して１．６〜２０モルとするのが好
ましい。また、イミド化触媒の使用量は使用する脱水剤
１モルに対し、０．５〜１０モルとするのが好ましい。
このイミド化触媒、脱水剤の使用量によって、ポリイミ
ド中のアミック酸残基の含率を調整することができる。
【００２２】前記ポリエステルは、（ハ）ジカルボン酸
類（ジカルボン酸、ジカルボン酸エステルまたはジカル
ボン酸ハロゲン化物）と、（ニ）ジオール化合物とを反
応させて得られる。本発明において用いられるポリエス
テルは、（ハ）ジカルボン酸類成分と、（ニ）ジオール
化合物の少なくともひとつの成分に、上記特定構造を有
する化合物が用いられる。
類（ジカルボン酸、ジカルボン酸エステルまたはジカル
ボン酸ハロゲン化物）と、（ニ）ジオール化合物とを反
応させて得られる。本発明において用いられるポリエス
テルは、（ハ）ジカルボン酸類成分と、（ニ）ジオール
化合物の少なくともひとつの成分に、上記特定構造を有
する化合物が用いられる。
【００２３】特定構造を有するジカルボン酸類として
は、例えばカルコン−３，３’−ジカルボン酸、カルコ
ン−３，４’−ジカルボン酸、カルコン−４，４’−ジ
カルボン酸およびそれぞれのアルキルエステルなどのエ
ステル化合物、カルボン酸クロリドなどのカルボン酸ハ
ロゲン化物が挙げられる。特定構造を有するジオール化
合物としては、例えば３，３’−ジヒドロキシカルコ
ン、４，４’−ジヒドロキシカルコン、３，４’−ジヒ
ドロキシカルコン、４，４’−ジヒドロキシカルコンな
どが挙げられる。これらのうち、カルコン−４，４’−
ジカルボン酸、４，４’−ジヒドロキシカルコンが好ま
しい。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使
用できる。
は、例えばカルコン−３，３’−ジカルボン酸、カルコ
ン−３，４’−ジカルボン酸、カルコン−４，４’−ジ
カルボン酸およびそれぞれのアルキルエステルなどのエ
ステル化合物、カルボン酸クロリドなどのカルボン酸ハ
ロゲン化物が挙げられる。特定構造を有するジオール化
合物としては、例えば３，３’−ジヒドロキシカルコ
ン、４，４’−ジヒドロキシカルコン、３，４’−ジヒ
ドロキシカルコン、４，４’−ジヒドロキシカルコンな
どが挙げられる。これらのうち、カルコン−４，４’−
ジカルボン酸、４，４’−ジヒドロキシカルコンが好ま
しい。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使
用できる。
【００２４】本発明において用いられるポリエステルに
は、本発明の効果を損なわない程度に他のジカルボン酸
類および／またはジオール化合物を併用することができ
る。
は、本発明の効果を損なわない程度に他のジカルボン酸
類および／またはジオール化合物を併用することができ
る。
【００２５】他のジカルボン酸類化合物としては、例え
ばシュウ酸、マロン酸、ジフルオロマロン酸、アルキル
マロン酸、コハク酸、テトラフルオロコハク酸、アルキ
ルコハク酸、（±）−リンゴ酸、ｍｅｓｏ−酒石酸、イ
タコン酸、マレイン酸、メチルマレイン酸、フマル酸、
メチルフマル酸、アセチレンジカルボン酸、グルタル
酸、ヘキサフルオログルタル酸、メチルグルタル酸、グ
ルタコン酸、アジピン酸、ジチオアジピン酸、メチルア
ジピン酸、ジメチルアジピン酸、テトラメチルアジピン
酸、メチレンアジピン酸、ムコン酸、ガラクタル酸、ピ
メリン酸、スベリン酸、パーフルオロスベリン酸、３，
３，６，６−テトラメチルスベリン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、パーフルオロセバシン酸、ブラシル酸、ド
デシルジカルボン酸、トリデシルジカルボン酸、テトラ
デシルジカルボン酸などの脂肪族カルボン酸；
ばシュウ酸、マロン酸、ジフルオロマロン酸、アルキル
マロン酸、コハク酸、テトラフルオロコハク酸、アルキ
ルコハク酸、（±）−リンゴ酸、ｍｅｓｏ−酒石酸、イ
タコン酸、マレイン酸、メチルマレイン酸、フマル酸、
メチルフマル酸、アセチレンジカルボン酸、グルタル
酸、ヘキサフルオログルタル酸、メチルグルタル酸、グ
ルタコン酸、アジピン酸、ジチオアジピン酸、メチルア
ジピン酸、ジメチルアジピン酸、テトラメチルアジピン
酸、メチレンアジピン酸、ムコン酸、ガラクタル酸、ピ
メリン酸、スベリン酸、パーフルオロスベリン酸、３，
３，６，６−テトラメチルスベリン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、パーフルオロセバシン酸、ブラシル酸、ド
デシルジカルボン酸、トリデシルジカルボン酸、テトラ
デシルジカルボン酸などの脂肪族カルボン酸；
【００２６】シクロアルキルジカルボン酸、アジピン
酸、ヘキサヒドロフタル酸、１，４−（ノルボルネン）
ジカルボン酸、ビシクロアルキルジカルボン酸、アダマ
ンタンジカルボン酸、スピロヘプタンジカルボン酸など
の脂環式カルボン酸；
酸、ヘキサヒドロフタル酸、１，４−（ノルボルネン）
ジカルボン酸、ビシクロアルキルジカルボン酸、アダマ
ンタンジカルボン酸、スピロヘプタンジカルボン酸など
の脂環式カルボン酸；
【００２７】フタル酸、イソフタル酸、ジチオイソフタ
ル酸、メチルイソフタル酸、ジメチルイソフタル酸、ク
ロロイソフタル酸、ジクロロイソフタル酸、テレフタル
酸、メチルテレフタル酸、ジメチルテレフタル酸、クロ
ロテレフタル酸、ブロモテレフタル酸、ナフタレンジカ
ルボン酸、オキソフルオレンジカルボン酸、アントラセ
ンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニレ
ンジカルボン酸、ジメチルビフェニレンジカルボン酸、
４，４’’−ｐ−テレフェニレンジカルボン酸、４、
４’’’ーｐ−クワレルフェニルジカルボン酸、ビベン
ジルジカルボン酸、アゾベンゼンジカルボン酸、ホモフ
タル酸、フェニレン二酢酸、フェニレンジプロピオン
酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレンジプロピオン
酸、ビフェニル二酢酸、ビフェニルジプロピオン酸、
３，３’−［４，４’−（メチレンジ−ｐ−ビフェニレ
ン）ジプロピオン酸、４，４’−ビベンジル二酢酸、
３，３’−（４，４’−ビベンジル）ジプロピオン酸、
オキシジ−ｐ−フェニレン二酢酸などの芳香族ジカルボ
ン酸およびそれぞれのアルキルエステルなどのエステル
化合物、カルボン酸クロリドなどのカルボン酸ハロゲン
化物が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を組
み合わせて使用できる。
ル酸、メチルイソフタル酸、ジメチルイソフタル酸、ク
ロロイソフタル酸、ジクロロイソフタル酸、テレフタル
酸、メチルテレフタル酸、ジメチルテレフタル酸、クロ
ロテレフタル酸、ブロモテレフタル酸、ナフタレンジカ
ルボン酸、オキソフルオレンジカルボン酸、アントラセ
ンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニレ
ンジカルボン酸、ジメチルビフェニレンジカルボン酸、
４，４’’−ｐ−テレフェニレンジカルボン酸、４、
４’’’ーｐ−クワレルフェニルジカルボン酸、ビベン
ジルジカルボン酸、アゾベンゼンジカルボン酸、ホモフ
タル酸、フェニレン二酢酸、フェニレンジプロピオン
酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレンジプロピオン
酸、ビフェニル二酢酸、ビフェニルジプロピオン酸、
３，３’−［４，４’−（メチレンジ−ｐ−ビフェニレ
ン）ジプロピオン酸、４，４’−ビベンジル二酢酸、
３，３’−（４，４’−ビベンジル）ジプロピオン酸、
オキシジ−ｐ−フェニレン二酢酸などの芳香族ジカルボ
ン酸およびそれぞれのアルキルエステルなどのエステル
化合物、カルボン酸クロリドなどのカルボン酸ハロゲン
化物が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を組
み合わせて使用できる。
【００２８】他のジオール化合物としては、例えばカテ
コール、アルキルカテコール、ヒドロキノンなどの多価
フェノ−ル類；メチレンビスフェノール、イソプロピリ
デンビスフェノール、ブチリデンビスフェノール、チオ
ビスフェノール、スルフィニルビスフェノール、スルフ
ォニルンビスフェノール、オキシビスフェノールなどの
ビスフェノール類が挙げられる。これらは単独でまたは
２種以上を組み合わせて使用できる。
コール、アルキルカテコール、ヒドロキノンなどの多価
フェノ−ル類；メチレンビスフェノール、イソプロピリ
デンビスフェノール、ブチリデンビスフェノール、チオ
ビスフェノール、スルフィニルビスフェノール、スルフ
ォニルンビスフェノール、オキシビスフェノールなどの
ビスフェノール類が挙げられる。これらは単独でまたは
２種以上を組み合わせて使用できる。
【００２９】本発明において用いられるポリエステル
は、前記（ハ）ジカルボン酸類成分と（ニ）ジオール化
合物成分とを、必要に応じて触媒存在下で加熱し重縮合
させて得られる。ジカルボン酸とジオール化合物との重
縮合の場合は、触媒として、硫酸、ｐ−トルエンスルフ
ォン酸等のプロトン酸、重金属の酸化物または塩、チタ
ン、スズ、鉛などの有機金属化合物等が用いられる。ジ
カルボン酸エステルとジオール化合物との反応の場合
は、触媒として、鉛、亜鉛、マンガン、カルシウム、コ
バルト、カドミウムなどの酢酸塩や炭酸塩化合物、金属
マグネシウム、亜鉛、鉛、アンチモン、ゲルマニウムな
どの酸化物が用いられる。ジカルボン酸ハロゲン化物と
ジオール化合物との反応の場合は、触媒として、ピリジ
ン、トリエリルアミンなどの塩基性触媒が用いられる。
は、前記（ハ）ジカルボン酸類成分と（ニ）ジオール化
合物成分とを、必要に応じて触媒存在下で加熱し重縮合
させて得られる。ジカルボン酸とジオール化合物との重
縮合の場合は、触媒として、硫酸、ｐ−トルエンスルフ
ォン酸等のプロトン酸、重金属の酸化物または塩、チタ
ン、スズ、鉛などの有機金属化合物等が用いられる。ジ
カルボン酸エステルとジオール化合物との反応の場合
は、触媒として、鉛、亜鉛、マンガン、カルシウム、コ
バルト、カドミウムなどの酢酸塩や炭酸塩化合物、金属
マグネシウム、亜鉛、鉛、アンチモン、ゲルマニウムな
どの酸化物が用いられる。ジカルボン酸ハロゲン化物と
ジオール化合物との反応の場合は、触媒として、ピリジ
ン、トリエリルアミンなどの塩基性触媒が用いられる。
【００３０】前記ポリアミドは、（ホ）ジカルボン酸類
（ジカルボン酸、ジカルボン酸エステル、ジカルボン酸
ハロゲン化物）と、（ヘ）ジアミン化合物とを反応させ
て得られる。本発明において用いられるポリアミドは、
（ホ）ジカルボン酸類成分と（ヘ）ジアミン化合物成分
の少なくともひとつの成分に、特定構造を有する化合物
が用いられる。
（ジカルボン酸、ジカルボン酸エステル、ジカルボン酸
ハロゲン化物）と、（ヘ）ジアミン化合物とを反応させ
て得られる。本発明において用いられるポリアミドは、
（ホ）ジカルボン酸類成分と（ヘ）ジアミン化合物成分
の少なくともひとつの成分に、特定構造を有する化合物
が用いられる。
【００３１】特定構造を有するジカルボン酸類として
は、先に挙げたジカルボン酸類（ハ）が用いられる。ま
た、特定構造を有するジアミン化合物としては、先に挙
げたジアミン化合物（ロ）が用いられる。これらは単独
でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
は、先に挙げたジカルボン酸類（ハ）が用いられる。ま
た、特定構造を有するジアミン化合物としては、先に挙
げたジアミン化合物（ロ）が用いられる。これらは単独
でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【００３２】本発明において用いられるポリアミドに
は、本発明の効果を損なわない程度に他のジカルボン酸
類化合物、ジアミン化合物を併用することができる。他
のジカルボン酸類化合物、ジアミン化合物としては、先
に挙げた他のジカルボン酸類化合物及びジアミン化合物
が用いられる。これらは単独でまたは２種以上を組み合
わせて使用できる。
は、本発明の効果を損なわない程度に他のジカルボン酸
類化合物、ジアミン化合物を併用することができる。他
のジカルボン酸類化合物、ジアミン化合物としては、先
に挙げた他のジカルボン酸類化合物及びジアミン化合物
が用いられる。これらは単独でまたは２種以上を組み合
わせて使用できる。
【００３３】本発明において用いられるポリアミドは、
前記（ホ）ジカルボン酸類成分と（ヘ）ジアミン成分と
を、必要に応じて、パラトルエンスルホン酸、硫酸、塩
酸、などの酸性触媒存在下で重縮合させて得られる。
前記（ホ）ジカルボン酸類成分と（ヘ）ジアミン成分と
を、必要に応じて、パラトルエンスルホン酸、硫酸、塩
酸、などの酸性触媒存在下で重縮合させて得られる。
【００３４】前記ポリ（メタ）アクリレートは、（ト）
（メタ）アクリレート化合物を重合させて得られる。本
発明において用いられるポリ（メタ）アクリレートは、
（ト）（メタ）アクリレート化合物に、特定構造を有す
る化合物が用いられる。
（メタ）アクリレート化合物を重合させて得られる。本
発明において用いられるポリ（メタ）アクリレートは、
（ト）（メタ）アクリレート化合物に、特定構造を有す
る化合物が用いられる。
【００３５】特定構造を有する（メタ）アクリレート化
合物としては、４’−（メタ）アクリロイロキシカルコ
ン、４−フェニル−４’−（メタ）アクリロイロキシカ
ルコン、４−ペンチル−４’−（メタ）アクリロイロキ
シカルコン、４−（４−ペンチルフェニル）−４’−
（メタ）アクリロイロキシカルコンなどが挙げられる。
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用でき
る。
合物としては、４’−（メタ）アクリロイロキシカルコ
ン、４−フェニル−４’−（メタ）アクリロイロキシカ
ルコン、４−ペンチル−４’−（メタ）アクリロイロキ
シカルコン、４−（４−ペンチルフェニル）−４’−
（メタ）アクリロイロキシカルコンなどが挙げられる。
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用でき
る。
【００３６】本発明において用いられるポリ（メタ）ア
クリレートには、本発明の効果を損なわない程度に他の
（メタ）アクリレート化合物を併用することができる。
他の（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−
ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ポリエチレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メ
タ）アクリレート化合物；テトラヒドロフルフリル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレー
ト、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタ
ジエン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メ
タ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリ
レート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環
式（メタ）アクリレート化合物；ベンジル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレートなどの
芳香族（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用でき
る。
クリレートには、本発明の効果を損なわない程度に他の
（メタ）アクリレート化合物を併用することができる。
他の（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−
ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ポリエチレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メ
タ）アクリレート化合物；テトラヒドロフルフリル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレー
ト、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタ
ジエン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メ
タ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリ
レート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環
式（メタ）アクリレート化合物；ベンジル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレートなどの
芳香族（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用でき
る。
【００３７】本発明において用いられるポリ（メタ）ア
クリレートは、前記（ト）（メタ）アクリレート化合物
を、必要に応じて、アゾビスイソブチロニトリルなどの
アゾ化合物、過酸化ベンゾイルなどの過酸化物などの触
媒存在下で重合して得られる。
クリレートは、前記（ト）（メタ）アクリレート化合物
を、必要に応じて、アゾビスイソブチロニトリルなどの
アゾ化合物、過酸化ベンゾイルなどの過酸化物などの触
媒存在下で重合して得られる。
【００３８】溶剤 本発明の液晶配向剤は、前記の放射線に官能する有機化
合物を含有する重合体の溶液から成る。この際用いられ
る溶剤としては、該重合体を溶解し得る有機溶剤であれ
ば特に制限はなく、単独または２種以上の溶剤を組み合
わせて使用できる。
合物を含有する重合体の溶液から成る。この際用いられ
る溶剤としては、該重合体を溶解し得る有機溶剤であれ
ば特に制限はなく、単独または２種以上の溶剤を組み合
わせて使用できる。
【００３９】その他の添加剤 本発明において用いられる液晶配向剤は、プレチルト角
の安定化及び塗膜強度アップのために、種々の熱硬化性
の架橋剤を含有することもできる。熱硬化架橋剤として
は、多官能エポキシ含有化合物が有効であり、ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポ
キシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状
脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹
脂、グリシジルジアミン系エポキシ樹脂、複素環式エポ
キシ樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂などが使用でき
る。市販品では、例えばエポライト４００Ｅ、同３００
２（共栄社油脂化学工業（株）製）、エピコート８２
８、同１５２、エポキシノボラック１８０Ｓ（油化シェ
ルエポキシ（株）製）などを挙げることができる。さら
に、前述の多官能エポキシ含有化合物を使用する際、架
橋反応を効率良く起こす目的で、１−ベンジル−２−メ
チルイミダゾールなどの塩基触媒を添加することができ
る。
の安定化及び塗膜強度アップのために、種々の熱硬化性
の架橋剤を含有することもできる。熱硬化架橋剤として
は、多官能エポキシ含有化合物が有効であり、ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポ
キシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状
脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹
脂、グリシジルジアミン系エポキシ樹脂、複素環式エポ
キシ樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂などが使用でき
る。市販品では、例えばエポライト４００Ｅ、同３００
２（共栄社油脂化学工業（株）製）、エピコート８２
８、同１５２、エポキシノボラック１８０Ｓ（油化シェ
ルエポキシ（株）製）などを挙げることができる。さら
に、前述の多官能エポキシ含有化合物を使用する際、架
橋反応を効率良く起こす目的で、１−ベンジル−２−メ
チルイミダゾールなどの塩基触媒を添加することができ
る。
【００４０】また、本発明の液晶配向剤は、基板との接
着性を改善する目的で、官能性シラン含有化合物を含有
することができる。官能性シラン含有化合物としては、
例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレ
イドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピ
ルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカル
ボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、
Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミ
ン、１０−トリメトキシイシリル−１，４，７−トリア
ザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−ト
リアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジア
ザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６
−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−
アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシ
エチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリ
エトキシシランなどを挙げることができ、さらに特開昭
６３ー２９１９２２号公報記載のテトラカルボン酸二無
水物とアミノ基含有シラン化合物との反応物などを挙げ
ることができる。
着性を改善する目的で、官能性シラン含有化合物を含有
することができる。官能性シラン含有化合物としては、
例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレ
イドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピ
ルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカル
ボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、
Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミ
ン、１０−トリメトキシイシリル−１，４，７−トリア
ザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−ト
リアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジア
ザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６
−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−
アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシ
エチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリ
エトキシシランなどを挙げることができ、さらに特開昭
６３ー２９１９２２号公報記載のテトラカルボン酸二無
水物とアミノ基含有シラン化合物との反応物などを挙げ
ることができる。
【００４１】液晶配向膜 本発明の液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成する方法
としては、例えば次の方法が挙げられる。まず、透明導
電膜が設けられた基板の透明導電膜側に、本発明の液晶
配向剤をロールコーター法、スピンナー法、印刷法等に
より塗布し、４０〜２００℃の温度で加熱して塗膜を形
成させる。塗膜の膜厚は、通常０．００１〜１μｍ、好
ましくは０．００５〜０．５μｍである。前記基板とし
ては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラ
ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート等
のプラスチックフィルム等からなる透明基板を用いるこ
とができる。前記透明導電膜としては、ＳｎＯ2 からな
るＮＥＳＡ膜、Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 からなるＩＴＯ膜
等を用いることができ、これらの透明導電膜のパターニ
ングには、フォト・エッチング法、予めマスクを用いる
方法等が用いられる。液晶配向剤の塗布に際しては、基
板及び透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にする
ために、基板及び透明導電膜上に、予め官能性シラン含
有化合物、チタネート等を塗布することもできる。
としては、例えば次の方法が挙げられる。まず、透明導
電膜が設けられた基板の透明導電膜側に、本発明の液晶
配向剤をロールコーター法、スピンナー法、印刷法等に
より塗布し、４０〜２００℃の温度で加熱して塗膜を形
成させる。塗膜の膜厚は、通常０．００１〜１μｍ、好
ましくは０．００５〜０．５μｍである。前記基板とし
ては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラ
ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート等
のプラスチックフィルム等からなる透明基板を用いるこ
とができる。前記透明導電膜としては、ＳｎＯ2 からな
るＮＥＳＡ膜、Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 からなるＩＴＯ膜
等を用いることができ、これらの透明導電膜のパターニ
ングには、フォト・エッチング法、予めマスクを用いる
方法等が用いられる。液晶配向剤の塗布に際しては、基
板及び透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にする
ために、基板及び透明導電膜上に、予め官能性シラン含
有化合物、チタネート等を塗布することもできる。
【００４２】次いで、前記塗膜に直線偏光した放射線を
照射し、場合によってはさらに１５０〜２５０℃の温度
で加熱処理を行い、液晶配向能を付与する。使用される
放射線は、好ましくは１５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長を
有する紫外線および可視光線であり、中でも２４０ｎｍ
〜４５０ｎｍの波長を有する紫外線が特に好ましい。前
記光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ラン
プ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共
鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等が使
用できる。
照射し、場合によってはさらに１５０〜２５０℃の温度
で加熱処理を行い、液晶配向能を付与する。使用される
放射線は、好ましくは１５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長を
有する紫外線および可視光線であり、中でも２４０ｎｍ
〜４５０ｎｍの波長を有する紫外線が特に好ましい。前
記光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ラン
プ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共
鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等が使
用できる。
【００４３】液晶表示素子 本発明の液晶配向剤を用いて形成される液晶表示素子
は、前記液晶配向膜が形成された基板を、その２枚を液
晶配向膜を照射した直線偏光放射線の偏光方向が所定の
角度となるよう対向させ、基板の間の周辺部をシール剤
でシールし、液晶を充填し、充填孔を封止して液晶セル
を構成する。そして、その両面に偏光板の偏光方向がそ
れぞれ基板の液晶配向膜を照射した直線偏光放射線の偏
光方向と所定の角度を成すように偏光板を張り合わせる
ことにより、液晶表示素子とする。液晶配向膜が形成さ
れた２枚の基板における、照射した直線偏光放射線の偏
光方向の成す角度および、それぞれの基板と偏光板との
角度を調整することにより、ＴＮ型またはＳＴＮ型液晶
セルを有する液晶表示素子を任意に得ることができる。
前記シール剤としては、例えば硬化剤およびスペーサー
としての酸化アルミニウム球を含有したエポキシ樹脂等
を用いることができる。前記液晶としては、ネマティッ
ク型液晶、スメクティック型液晶などを用いることがで
きる。ＴＮ型液晶セルの場合、ネマティック型液晶を形
成させるものが好ましく、例えばシッフベース系液晶、
アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘ
キサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、
ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、
ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン
系液晶等が用いられる。またＳＴＮ型液晶セルの場合、
前記液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリ
ルノナエート、コレステリルカーボネート等のコレステ
リック液晶や商品名Ｃ−１５，ＣＢ−１５（メルク社
製）として販売されているようなカイラル剤等をさらに
添加して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロキ
シベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナ
メート等の強誘電性液晶も使用することができる。液晶
セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルア
ルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ
膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏
光板、又はＨ膜そのものからなる偏光板等を挙げること
ができる。
は、前記液晶配向膜が形成された基板を、その２枚を液
晶配向膜を照射した直線偏光放射線の偏光方向が所定の
角度となるよう対向させ、基板の間の周辺部をシール剤
でシールし、液晶を充填し、充填孔を封止して液晶セル
を構成する。そして、その両面に偏光板の偏光方向がそ
れぞれ基板の液晶配向膜を照射した直線偏光放射線の偏
光方向と所定の角度を成すように偏光板を張り合わせる
ことにより、液晶表示素子とする。液晶配向膜が形成さ
れた２枚の基板における、照射した直線偏光放射線の偏
光方向の成す角度および、それぞれの基板と偏光板との
角度を調整することにより、ＴＮ型またはＳＴＮ型液晶
セルを有する液晶表示素子を任意に得ることができる。
前記シール剤としては、例えば硬化剤およびスペーサー
としての酸化アルミニウム球を含有したエポキシ樹脂等
を用いることができる。前記液晶としては、ネマティッ
ク型液晶、スメクティック型液晶などを用いることがで
きる。ＴＮ型液晶セルの場合、ネマティック型液晶を形
成させるものが好ましく、例えばシッフベース系液晶、
アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘ
キサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、
ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、
ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン
系液晶等が用いられる。またＳＴＮ型液晶セルの場合、
前記液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリ
ルノナエート、コレステリルカーボネート等のコレステ
リック液晶や商品名Ｃ−１５，ＣＢ−１５（メルク社
製）として販売されているようなカイラル剤等をさらに
添加して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロキ
シベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナ
メート等の強誘電性液晶も使用することができる。液晶
セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルア
ルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ
膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏
光板、又はＨ膜そのものからなる偏光板等を挙げること
ができる。
【００４４】
【作用】本発明の液晶配向剤を用い、前記方法により液
晶配向膜を形成すれば、従来のラビング処理の際に発生
する静電気によるほこりの付着、ＴＦＴ素子の回路破壊
が発生しないため、高い歩留まりで液晶配向膜が形成で
きる。
晶配向膜を形成すれば、従来のラビング処理の際に発生
する静電気によるほこりの付着、ＴＦＴ素子の回路破壊
が発生しないため、高い歩留まりで液晶配向膜が形成で
きる。
【００４５】
【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。
【００４６】合成例１ポリアミック酸の重合 ２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物０．１モル（２２．４ｇ）と４（４ーペンチルフェニ
ル）−４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコン
０．１モル（４７．６ｇ）をＮ−メチル−２−ピロリド
ン４００ｇに溶解させ、６０℃で６時間反応させた。次
いで、反応混合物を大過剰のメタノールに注ぎ、反応生
成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧
下４０℃で１５時間乾燥させて、重合体１ａ（６５ｇ）
を得た。イミド化反応 得られた重合体１ａ１５．０ｇにＮ−メチル−２−ピロ
リドン３００ｇ、ピリジン８．２ｇ及び無水酢酸９．６
ｇを添加し、１２０℃で４時間イミド化反応をさせた。
次いで、反応混合液を大過剰のメタノールに注ぎ、反応
生成物を沈澱させた。その後メタノールで洗浄し減圧下
で１５時間乾燥させて、重合体１ｂ（１１．５ｇ）を得
た。
物０．１モル（２２．４ｇ）と４（４ーペンチルフェニ
ル）−４’（３，５−ジアミノフェノキシ）カルコン
０．１モル（４７．６ｇ）をＮ−メチル−２−ピロリド
ン４００ｇに溶解させ、６０℃で６時間反応させた。次
いで、反応混合物を大過剰のメタノールに注ぎ、反応生
成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧
下４０℃で１５時間乾燥させて、重合体１ａ（６５ｇ）
を得た。イミド化反応 得られた重合体１ａ１５．０ｇにＮ−メチル−２−ピロ
リドン３００ｇ、ピリジン８．２ｇ及び無水酢酸９．６
ｇを添加し、１２０℃で４時間イミド化反応をさせた。
次いで、反応混合液を大過剰のメタノールに注ぎ、反応
生成物を沈澱させた。その後メタノールで洗浄し減圧下
で１５時間乾燥させて、重合体１ｂ（１１．５ｇ）を得
た。
【００４７】合成例２ポリアミック酸の重合 ２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物０．１モル（２２．４ｇ）とｐ−フェニレンジアミン
０．０５モル（５．４ｇ）および４’（３，５−ジアミ
ノフェノキシ）カルコン０．０５モル（１６．５ｇ）を
Ｎ−メチル−２−ピロリドン３５０ｇに溶解させ、６０
℃で６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰の
メタノールに注ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後、
メタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させ
て、重合体２ａ（４３ｇ）を得た。イミド化反応 得られた重合体２ａ２０．０ｇにＮ−メチル−２−ピロ
リドン３２０ｇ、ピリジン（８ｇ）及び無水酢酸（１０
ｇ）を添加し、１２０℃で４時間イミド化反応をさせ
た。次いで、反応混合液を大過剰のメタノールに注ぎ、
反応生成物を沈澱させた。その後メタノールで洗浄し減
圧下で１５時間乾燥させて、重合体２ｂ（１５ｇ）を得
た。
物０．１モル（２２．４ｇ）とｐ−フェニレンジアミン
０．０５モル（５．４ｇ）および４’（３，５−ジアミ
ノフェノキシ）カルコン０．０５モル（１６．５ｇ）を
Ｎ−メチル−２−ピロリドン３５０ｇに溶解させ、６０
℃で６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰の
メタノールに注ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後、
メタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させ
て、重合体２ａ（４３ｇ）を得た。イミド化反応 得られた重合体２ａ２０．０ｇにＮ−メチル−２−ピロ
リドン３２０ｇ、ピリジン（８ｇ）及び無水酢酸（１０
ｇ）を添加し、１２０℃で４時間イミド化反応をさせ
た。次いで、反応混合液を大過剰のメタノールに注ぎ、
反応生成物を沈澱させた。その後メタノールで洗浄し減
圧下で１５時間乾燥させて、重合体２ｂ（１５ｇ）を得
た。
【００４８】合成例３ポリアミック酸の重合 ２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物０．１モル（２２．４ｇ）と４，４’−ジアミノカル
コン０．１モル（２３．８ｇ）をＮ−メチル−２−ピロ
リドン４００ｇに溶解させ、６０℃で６時間反応させ
た。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールに注ぎ、
反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄
し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させて、重合体３ａ
（３８ｇ）を得た。イミド化反応 得られた重合体３ａ（２０ｇ）にＮ−メチル−２−ピロ
リドン３８０ｇ、ピリジン（８ｇ）及び無水酢酸（１０
ｇ）を添加し、１２０℃で４時間イミド化反応をさせ
た。次いで、反応混合液を大過剰のメタノールに注ぎ、
反応生成物を沈澱させた。その後メタノールで洗浄し減
圧下で１５時間乾燥させて、重合体３ｂ（１６ｇ）を得
た。
物０．１モル（２２．４ｇ）と４，４’−ジアミノカル
コン０．１モル（２３．８ｇ）をＮ−メチル−２−ピロ
リドン４００ｇに溶解させ、６０℃で６時間反応させ
た。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールに注ぎ、
反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄
し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させて、重合体３ａ
（３８ｇ）を得た。イミド化反応 得られた重合体３ａ（２０ｇ）にＮ−メチル−２−ピロ
リドン３８０ｇ、ピリジン（８ｇ）及び無水酢酸（１０
ｇ）を添加し、１２０℃で４時間イミド化反応をさせ
た。次いで、反応混合液を大過剰のメタノールに注ぎ、
反応生成物を沈澱させた。その後メタノールで洗浄し減
圧下で１５時間乾燥させて、重合体３ｂ（１６ｇ）を得
た。
【００４９】合成例４ポリメタクリレートの合成 ４’−メタクリロイロキシカルコン（２ｇ）およびアゾ
ビスイソブチロニトリル（５０ｍｇ）をテトラヒドロフ
ラン（１０ｍｌ）に溶解し、窒素雰囲気下で１０時間加
熱還流した。粘凋な反応混合物をメタノールに投入しポ
リマーを沈殿させ、乾燥後２．２ｇのポリマー４ｂを得
た。
ビスイソブチロニトリル（５０ｍｇ）をテトラヒドロフ
ラン（１０ｍｌ）に溶解し、窒素雰囲気下で１０時間加
熱還流した。粘凋な反応混合物をメタノールに投入しポ
リマーを沈殿させ、乾燥後２．２ｇのポリマー４ｂを得
た。
【００５０】合成例５ポリメタクリレートの合成 ４（４−ペンチルフェニル）−４’−メタクリロイロキ
シカルコン（２．５ｇ）およびアゾビスイソブチロニト
リル（５０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に
溶解し、窒素雰囲気下で１０時間加熱還流した。粘凋な
反応混合物をメタノールに投入しポリマーを沈殿させ、
乾燥後２．０ｇのポリマー５ｂを得た。
シカルコン（２．５ｇ）およびアゾビスイソブチロニト
リル（５０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に
溶解し、窒素雰囲気下で１０時間加熱還流した。粘凋な
反応混合物をメタノールに投入しポリマーを沈殿させ、
乾燥後２．０ｇのポリマー５ｂを得た。
【００５１】比較合成例１ポリアミック酸の重合 ２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物２２．４２ｇとｐ−フェニレンジアミン１０．８１ｇ
をＮ−メチル−２−ピロリドン３００ｇに溶解させ、６
０℃で６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰
のメタノールに注ぎ、反応生成物を沈澱させた。その
後、メタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥
させて、重合体Ａａ（２７．４４ｇ）を得た。イミド化反応 得られた重合体Ａａ２０．００ｇにＮ−メチル−２−ピ
ロリドン３８０ｇ、ピリジン９．５２ｇ及び無水酢酸１
２．２９ｇを添加し、１２０℃で４時間イミド化反応を
させた。次いで、反応混合液を大過剰のメタノールに注
ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後メタノールで洗浄
し減圧下で１５時間乾燥させて、重合体Ａｂ（１５．２
７ｇ）を得た。
物２２．４２ｇとｐ−フェニレンジアミン１０．８１ｇ
をＮ−メチル−２−ピロリドン３００ｇに溶解させ、６
０℃で６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰
のメタノールに注ぎ、反応生成物を沈澱させた。その
後、メタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥
させて、重合体Ａａ（２７．４４ｇ）を得た。イミド化反応 得られた重合体Ａａ２０．００ｇにＮ−メチル−２−ピ
ロリドン３８０ｇ、ピリジン９．５２ｇ及び無水酢酸１
２．２９ｇを添加し、１２０℃で４時間イミド化反応を
させた。次いで、反応混合液を大過剰のメタノールに注
ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後メタノールで洗浄
し減圧下で１５時間乾燥させて、重合体Ａｂ（１５．２
７ｇ）を得た。
【００５２】比較例１ 合成例１で得られた重合体（１ｂ）をγ−ブチロラクト
ンに溶解させて、固形分濃度４重量％の溶液とし、この
溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過し、液晶配向剤溶
液を調製した。この溶液を、ＩＴＯ膜からなる透明電極
付きガラス基板の上に透明電極面に、膜厚が０．１μｍ
になるようにスピンナーを用いて塗布し、１８０℃で１
時間乾燥し薄膜を形成した。この薄膜に、ナイロン製の
布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンによ
り、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの移動速度
１ｃｍ／秒でラビング処理を行った。次に、一対のラビ
ング処理された基板の液晶配向膜を有するそれぞれの外
縁に、直径１７μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ
樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した後、一対の基板を
液晶配向膜面が相対するように、しかもラビング方向が
直交するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させ
た。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマティ
ック型液晶（メルク社製、ＺＬＩ−１５６５）を充填し
た後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止し、基板の
外側の両面に偏光板を、偏光板の偏光方向がそれぞれの
基板の液晶配向膜のラビング方向と一致するように張り
合わせ、液晶表示素子を作製したところ、液晶の配向性
は良好であった。電圧５Ｖを印加したところ、印加した
電圧のＯＮ−ＯＦＦに応答して、液晶表示素子の明暗の
変化が観察された。
ンに溶解させて、固形分濃度４重量％の溶液とし、この
溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過し、液晶配向剤溶
液を調製した。この溶液を、ＩＴＯ膜からなる透明電極
付きガラス基板の上に透明電極面に、膜厚が０．１μｍ
になるようにスピンナーを用いて塗布し、１８０℃で１
時間乾燥し薄膜を形成した。この薄膜に、ナイロン製の
布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンによ
り、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの移動速度
１ｃｍ／秒でラビング処理を行った。次に、一対のラビ
ング処理された基板の液晶配向膜を有するそれぞれの外
縁に、直径１７μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ
樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した後、一対の基板を
液晶配向膜面が相対するように、しかもラビング方向が
直交するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させ
た。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマティ
ック型液晶（メルク社製、ＺＬＩ−１５６５）を充填し
た後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止し、基板の
外側の両面に偏光板を、偏光板の偏光方向がそれぞれの
基板の液晶配向膜のラビング方向と一致するように張り
合わせ、液晶表示素子を作製したところ、液晶の配向性
は良好であった。電圧５Ｖを印加したところ、印加した
電圧のＯＮ−ＯＦＦに応答して、液晶表示素子の明暗の
変化が観察された。
【００５３】実施例１ 合成例１で得られた重合体１ｂを用いて、比較例１と同
様に基板上に薄膜を形成した。薄膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅ
ランプより、グランレーザープリズムＧＬＰ−０−１０
−１５−ＡＮ（シグマ光機製）により、３６５ｎｍの波
長を主とする、直線偏光した紫外線０．５Ｊ／ｃｍ2を
照射した。次に、液晶配向膜を重ね合わせる向きをラビ
ング方向の代わりに紫外線の偏光方向に従った以外は、
比較例１と同様の方法で液晶表示素子を作製したとこ
ろ、液晶の配向性は良好であった。比較例１と同様の条
件で電圧を印加したところ、印加した電圧のＯＮ−ＯＦ
Ｆに応答して、液晶表示素子の明暗の変化が観察され
た。
様に基板上に薄膜を形成した。薄膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅ
ランプより、グランレーザープリズムＧＬＰ−０−１０
−１５−ＡＮ（シグマ光機製）により、３６５ｎｍの波
長を主とする、直線偏光した紫外線０．５Ｊ／ｃｍ2を
照射した。次に、液晶配向膜を重ね合わせる向きをラビ
ング方向の代わりに紫外線の偏光方向に従った以外は、
比較例１と同様の方法で液晶表示素子を作製したとこ
ろ、液晶の配向性は良好であった。比較例１と同様の条
件で電圧を印加したところ、印加した電圧のＯＮ−ＯＦ
Ｆに応答して、液晶表示素子の明暗の変化が観察され
た。
【００５４】実施例２〜５ 合成例２〜５で得られた重合体２ｂ〜５ｂを用いた以外
は、実施例１と同様に液晶表示素子を作製したところ、
いずれも液晶の配向性は良好であった。実施例１と同様
の条件で電圧を印加したところ、印加した電圧のＯＮ−
ＯＦＦに応答して、液晶表示素子の明暗の変化が観察さ
れた。
は、実施例１と同様に液晶表示素子を作製したところ、
いずれも液晶の配向性は良好であった。実施例１と同様
の条件で電圧を印加したところ、印加した電圧のＯＮ−
ＯＦＦに応答して、液晶表示素子の明暗の変化が観察さ
れた。
【００５５】比較例２ 比較合成例１で得られた重合体Ａｂを用いて、実施例１
と同様に基板上に薄膜を形成し、直線偏光紫外線を照射
して液晶配向膜を作成し、それを用いて液晶表示素子を
作製したところ、液晶の配向は観察されなかった。
と同様に基板上に薄膜を形成し、直線偏光紫外線を照射
して液晶配向膜を作成し、それを用いて液晶表示素子を
作製したところ、液晶の配向は観察されなかった。
【００５６】
【発明の効果】本発明の液晶配向剤を用いた液晶配向膜
の形成方法によれば、従来のラビング処理の際に発生す
る静電気によるほこりの付着、ＴＦＴ素子の回路破壊が
発生しないため、高い歩留まりで液晶配向膜が形成でき
る。また、本発明の液晶配向剤を用いて形成された液晶
配向膜は面内均一性に優れているため、ＴＮ型、ＳＴＮ
型等の表示用として用いた場合に高い表示品位を持つ液
晶表示素子が得られ、種々の装置に有効に使用でき、例
えば卓上計算機、腕時計、置時計、係数表示板、ワード
プロセッサ、パーソナルコンピューター、液晶テレビ等
の表示装置に好適に用いられる。
の形成方法によれば、従来のラビング処理の際に発生す
る静電気によるほこりの付着、ＴＦＴ素子の回路破壊が
発生しないため、高い歩留まりで液晶配向膜が形成でき
る。また、本発明の液晶配向剤を用いて形成された液晶
配向膜は面内均一性に優れているため、ＴＮ型、ＳＴＮ
型等の表示用として用いた場合に高い表示品位を持つ液
晶表示素子が得られ、種々の装置に有効に使用でき、例
えば卓上計算機、腕時計、置時計、係数表示板、ワード
プロセッサ、パーソナルコンピューター、液晶テレビ等
の表示装置に好適に用いられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 雅之 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ）、（II）、（III） および
（IV）から選ばれる少なくとも１つの構造を有する重合
体からなることを特徴とする、液晶配向剤。 −Ｐ1 −ＣＲ1 ＝ＣＲ2 −ＣＯ−Ｑ1 − ・・・・・（Ｉ） Ｐ3 −ＣＲ5 ＝ＣＲ6 −ＣＯ−Ｑ3 − ・・・・・（III） −Ｐ4 −ＣＲ7 ＝ＣＲ8 −ＣＯ−Ｑ4 ・・・・・（IV） （式中、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 、Ｐ4 、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3 お
よびＱ4 は芳香環を含有する有機基を表し、Ｐ1 、
Ｐ4 、Ｑ1 およびＱ3 は２価の有機基、Ｐ2 、Ｐ3 およ
びＱ4 は１価の有機基、Ｑ2 は３価の有機基を表す。Ｒ
1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は
水素原子またはアルキル基を表す。）
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07898597A JP4126731B2 (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | 液晶配向剤 |
| US09/041,312 US6224788B1 (en) | 1997-03-13 | 1998-03-12 | Liquid crystal aligning agent and process for producing liquid crystal alignment film using the same |
| KR10-1998-0008255A KR100447917B1 (ko) | 1997-03-13 | 1998-03-12 | 액정배향제및액정표시소자의제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07898597A JP4126731B2 (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | 液晶配向剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10251646A true JPH10251646A (ja) | 1998-09-22 |
| JP4126731B2 JP4126731B2 (ja) | 2008-07-30 |
Family
ID=13677198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07898597A Expired - Lifetime JP4126731B2 (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | 液晶配向剤 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6224788B1 (ja) |
| JP (1) | JP4126731B2 (ja) |
| KR (1) | KR100447917B1 (ja) |
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| KR20110123207A (ko) | 2010-05-06 | 2011-11-14 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 액정 배향제, 액정 배향막, 액정 표시 소자 및 폴리오르가노실록산 화합물 |
| KR20120002431A (ko) | 2010-06-30 | 2012-01-05 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 액정 배향제, 액정 배향막의 형성 방법, 액정 표시 소자 및, 관련 화합물 |
| KR20120002432A (ko) | 2010-06-30 | 2012-01-05 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 액정 배향제, 액정 배향막의 형성 방법, 액정 표시 소자 및, 관련 화합물 |
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| US8565058B2 (en) | 2011-12-26 | 2013-10-22 | Asahi Glass Company, Limited | Liquid crystal alignment film, process for its production, optical element using the liquid crystal alignment film, and optical information writing/reading device |
| KR20140114798A (ko) | 2013-03-19 | 2014-09-29 | 제이엔씨 주식회사 | 감광성 디아민, 액정 배향제 및 액정 표시 소자 |
| KR20150003759A (ko) | 2012-04-24 | 2015-01-09 | 제이엔씨 주식회사 | 광 배향용 액정 배향막을 형성하기 위한 액정 배향제, 액정 배향막 및 이것을 사용한 액정 표시 소자 |
| KR20160021021A (ko) | 2014-08-14 | 2016-02-24 | 제이엔씨 주식회사 | 트리아졸 함유 테트라카르본산 이무수물, 액정 배향제, 액정 배향막, 및 액정 표시 소자 |
| KR20160046704A (ko) | 2014-10-21 | 2016-04-29 | 제이엔씨 주식회사 | 폴리아믹산 또는 그의 유도체를 포함하는 액정 배향제, 액정 배향막 및 액정 표시 소자 |
| KR20160110166A (ko) | 2015-03-11 | 2016-09-21 | 제이엔씨 주식회사 | 액정 배향막을 형성하기 위한 액정 배향제, 액정 배향막 및 이것을 사용한 액정 표시 소자 |
| KR20160146520A (ko) | 2015-06-11 | 2016-12-21 | 제이엔씨 주식회사 | 광 배향용 액정 배향막을 형성하기 위한 액정 배향제, 액정 배향막 및 이것을 사용한 액정 표시 소자 |
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| KR20190049583A (ko) | 2017-10-30 | 2019-05-09 | 제이엔씨 주식회사 | 액정 배향막을 형성하기 위한 액정 배향제, 액정 배향막 및 이것을 사용한 액정 표시 소자 |
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