JPH10253531A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 光伝送路（１）に在るエバネッセント波を生じさせることのできる光導波表面部分（２）を界面活性剤等溶液（３）に浸し、該光導波表面部分（２）を経由した光伝送路（１）を通して該光導波表面部分（２）への吸着に基づいた出力光の強度変化量を検出することを特徴とする臨界ミセル濃度の測定方法。
2. 光伝送路（１）として光ファイバ（２１）を用い、該光ファイバ（２１）の途中に光導波表面部分（２）として光ファイバ（２１）のコア（２２）の表面を露出させ、該光導波表面部分（２）に界面活性剤等の溶液を接触させた状態で、該光伝送路の光情報変化量を測定することを特徴とする臨界ミセル濃度の測定装置。
3. 光源（４）として凸レンズ（９）を有する半導体レーザダイオードまたは発光ダイオード等の該光源（４）を用い、該光源（４）と先端に凸レンズ（１０）を備えた光伝送路（１）とを組み合わせて光入射結合手段としたことを特徴とする請求項２記載の臨界ミセル濃度の測定装置。
4. 界面活性剤等溶液の化学的諸性質が臨界ミセル濃度を境に急激に変化する点に着目し、光伝送路（１）に在るエバネッセント波を生じさせることのできる光導波表面部分（２）を界面活性剤等溶液（３）に浸し、該光導波表面部分（２）を経由した光伝送路（１）を通して該光導波表面部分（２）への吸着に基づいた出力光の強度変化量を検出することで、該界面活性剤等溶液（３）の化学的諸性質を選択して利用できるように、該界面活性剤等の使用条件設定したことを特徴とする界面活性剤等の使用方法。
5. 界面活性剤等の溶液の化学的諸性質が臨界ミセル濃度を境に急激に変化する点に着目し、光源（４）、エバネッセント波を生じさせることのできる光導波表面部分（２）を有する光伝送路（１）手段を有し、界面活性剤等溶液（３）と該光導波表面部分（２）との接触手段と、該光導波表面部分（２）を経由する光伝送路（１）からの出力光の強度の測定手段（５１）を具備したことを特徴とする界面活性剤等の使用装置。
6. 請求項５記載の光伝送路（１）として光ファイバ（２１）を用い、該光ファイバ（２１）の途中に光導波表面部分（２）として光ファイバ（２１）のコア（２２）の表面を露出させ、該光導波表面部分（２）に界面活性剤等の溶液を接触させ、該光伝送路の光情報変化量の測定手段（５１）を具備したことを特徴とする界面活性剤等の使用装置。
7. 光伝送路の光導波表面部分に、界面活性剤等が含まれる溶液を接触させ、該光伝送路の光情報変化量を検出しながら、該界面活性剤等溶液の濃度を一次関数的に変え、該光伝送路の光情報の非線形変化量を計測して、該界面活性剤等の溶液の化学的諸性質を選択的に選定し、該界面活性剤等の使用条件設定したことを特徴とする界面活性剤等の使用方法。