JPH10254375A - 画像形成装置とその製造方法 - Google Patents

画像形成装置とその製造方法

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JPH10254375A
JPH10254375A JP6135597A JP6135597A JPH10254375A JP H10254375 A JPH10254375 A JP H10254375A JP 6135597 A JP6135597 A JP 6135597A JP 6135597 A JP6135597 A JP 6135597A JP H10254375 A JPH10254375 A JP H10254375A
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image forming
forming apparatus
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JP6135597A
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Masato Yamanobe
正人 山野辺
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Canon Inc
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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置の破損や蛍光体面の損傷の起こりにくい
高精度な組み立ての可能な、生産性の高い平板型画像形
成装置およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 第1の基体1と該第2の基体2との間に
スペーサ7、支持枠3とともに位置合わせ部材4、5、
6を設ける。前記スペーサの長さは、前記支持枠または
位置合わせ部材の長さより短くする。位置合わせ部材
4、5、6は、例えば、凹部の設けられた一対の部材
と、これら一対の部材がはり合わされて形成される空間
内に配置された球状または丸棒状の部材とを有してなる
構造とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平板型画像形成装
置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】平板型画像形成装置として、近年、アク
ティブマトリクス型液晶が、CRTに代わって用いられ
るようになってきた。アクティブマトリクス型液晶は、
自発光型ではなく、バックライトを用いて表示を行うも
のであるが、光の利用効率が低いため、さらに明るい画
像形成装置が望まれていた。このため、プラズマディス
プレーや電界電子放出素子や表面伝導型電子放出素子
(例えば、特開平7−235255号公報に開示されて
いる。)等の冷陰極電子放出素子から放出した電子を加
速し衝突させ、蛍光体を発光させ表示を行う自発光型画
像形成装置の開発が実用化されつつある。これら平板型
画像形成装置は、数十インチの大面積化も行われつつあ
り、高精度で容易な組み立て方法が望まれている。
【0003】また、平板型画像形成装置においては、第
1の基体上の素子と第2の基体上の画像形成部材を1:
1に対応させて数十μ〜数百μの画素を形成するが、こ
の際、素子と画像形成部材の位置合わせが不十分である
と画素の輝度ばらつきが発生したり、カラーの場合には
RGBの各色が混色する等、画像品位の劣化が起こる。
このため、第1の基体上の素子と第2の基体上の画像形
成部材の位置合わせは、高い精度が要求される。
【0004】特開平5−232451号公報には平面画
像形成装置の製造方法の例として、液晶表示装置の組み
立て方法が開示されている。その内容について以下、図
15を参照して説明する。まず第1の基板、第2の基板
の位置合わせを行う。これらの基板には、電極パター
ン、位置合わせパターン、シール材が施されている。こ
れら第1、第2の基板は、位置合わせ装置に設置され、
加熱、保温される。次に、第1の基板と第2の基板と
を、位置合わせパターンを介して位置合わせする。次い
で、第1の基板、第2の基板を加圧し、同時に位置合わ
せする。最後に、加圧した状態で、所定時間保持された
後、加圧を解除し、組み立てれた液晶セルを位置合わせ
装置からとりはずす。このようにすることにより、高温
状態で位置ずれが発生しても高精度に位置合わせを行う
ことができるとされている。また、上記公報には、室温
で位置合わせした後、光硬化性接着材を用いて仮止めを
行い、さらに、シール材を加熱、硬化させる方法も記載
されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが上記方法は、
次のような問題を有していた。すなわち、上記方法で
は、第1の基板と第2の基板を高温で加熱し、第1の基
板と第2の基板間に配された接着材を軟化しながら、加
圧し、さらに、高温加熱状態で第1の基板と第2の基板
の位置合わせを行った後、接着材の固化を行うことで、
第1の基板と第2の基板の位置合わせを行う。ここで、
アライメントは高温槽内で行うか、あるいは加圧治具に
ヒーターを設置する等して行う。このため、アライメン
ト装置は高温仕様の精度が要求され、また工程も複雑に
なり、生産性の低下が問題となる。一方、上記公報でも
指摘されているように、室温位置合わせ、仮止めによる
製造方法では、接着材の軟化により位置ずれが発生する
等の問題も生じる。
【0006】一方、前記電子放出素子から発生した電子
線を蛍光体に衝突発光させる画像形成装置においては、
さらに、真空容器を構成する必要があるため、前記第1
の基板と第2の基板間に配された接着材にあたる接合材
は、ガラス材料を用いて、真空を維持するように接合さ
れる。ところが、有機系接着材の軟化温度が150℃前
後であるのに対し、組み立て時の温度は400℃以上の
高温であるため、高精度の位置合わせおよび組み立て
は、非常に困難となる。また、第1の基板と第2の基板
は熱膨張率が異なるため、基板内の温度分布が位置合わ
せの精度の低下や応力の発生をもたらし、真空容器が破
壊する場合もあった。
【0007】更に、真空容器の軽量化のためには、耐大
気圧スペーサと呼ばれる支持体を第1の基体と第2の基
体との間に配置することで、真空容器の材料の厚みの減
少が図られるが、このスペーサは、画素を阻害しないよ
うにするため、後述する基体2に設けられた蛍光体間の
黒色導電体の幅以内の幅に納める必要がある。スペーサ
の形状は円柱状、平板状等とすることができるが、円柱
状の場合にはその直径が、平板状の場合にはその板厚
が、それぞれ前記黒色導電体の幅以下とする必要があ
り、数十〜数100μmとする必要がある。このため、
組み立て中に上記第1の基体と第2の基体の熱膨張差に
より、装置が破壊することがあった。また、蛍光体面が
損傷を受けるという問題もあった。
【0008】本発明は、これら平板型画像形成装置の組
み立てを高精度に行い、さらに、生産性の高い平板型画
像形成装置とその製造方法を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の画像形成装置は、第1の基体および第2の基体とを
有し、該第1の基体と該第2の基体との間にスペーサ、
支持枠、および位置合わせ部材を有し、前記スペーサの
長さが、前記支持枠または位置合わせ部材の長さより短
いことを特徴とする。したがって、第1の基体と第2の
基体との間に配設された位置合わせ部材によって、室温
あるいはその近傍で、位置決めと固定が容易に行われる
ため、複雑なアライメント装置を用いる必要もなく、高
精度に第1の基体と第2の基体の位置合わせを行うこと
ができる。また、スペーサの長さが、前記支持枠または
位置合わせ部材の高さより短いため、スペーサと第2の
基体と接触することなく画像形成装置が組み立てられ
る。このため、第1の基体と第2の基体の熱膨張差によ
り装置が破壊されることもなく、蛍光体面を損傷するこ
ともない。なお、位置合わせ部材の数は通常2以上とす
る。
【0010】ここで、本発明における位置合わせ部材
は、凹部の設けられた一対の部材を有し、該一対の部材
の凹部の設けられた面がはり合わされ、該一対の部材の
凹部により形成された空間内に球状または丸棒状の部材
を有してなる構造とすることができる。
【0011】また、本発明における位置合わせ部材は、
所定の間隔を置いて前記第1の基体上に配置された2本
の丸棒状の部材(a)と、所定の間隔を置いて前記第2
の基体上に配置された2本の丸棒状の部材(b)と、前
記2本の丸棒状の部材(a)および前記2本の丸棒状の
部材(b)との間に配置された球状または丸棒状の部材
とを有してなる構造とすることもできる。
【0012】さらに、本発明における位置合わせ部材
は、凹部の設けられた部材と凸部の設けられた部材とが
嵌合されてなる構造とすることもできる。
【0013】また、本発明における位置合わせ部材は、
前記第1の基体と前記第2の基体と前記スペーサと前記
支持枠とにより囲まれた領域の内部に配置されていても
外部に配置されていてもよい。この位置合わせ部材と該
支持枠は、位置的に分離されたものであるため、位置合
わせ部材の形状の自由度が増加し、第1の基体と第2の
位置決めおよび間隔の規定を高精度に行うことができ
る。
【0014】また、前記第1の基体と前記第2の基体と
前記スペーサと前記支持枠とが真空容器を構成してもよ
い。
【0015】本発明における位置合わせ部材は、実質的
に正多角形の各頂点の位置に配置されることが好まし
く、例えば正三角形の各頂点の位置に3個配置する構造
とすることができる。このようにすることにより、荷重
が平均的に分散された配置となるため、第1の基体と第
2の基体間の熱膨張の差による応力も分散され、高精度
な位置合わせを行うことができるからである。
【0016】本発明の画像形成装置は、液晶のみなら
ず、第1の基体に冷陰極電子放出素子等の電子放出素子
が配設され、第2の基体に蛍光体等の画像形成部材が配
設された画像形成装置の真空容器やプラズマディスプレ
ーの容器にも適用できる。
【0017】本発明の画像形成装置の製造方法は、以下
の工程を有する。 (A)前記第1の基体および/または前記第2の基体に
前記位置合わせ部材の構成部材を配設する第一工程 (B)前記第1の基体または前記第2の基体に前記スペ
ーサおよび前記支持枠を配設する第二工程 (C)前記第1の基体と前記第2の基体とを、前記位置
合わせ部材を介して接合する第三工程 (D)前記第1の基体および前記第2の基体を加圧する
第四工程 (E)前記第1の基体、前記第2の基体、前記支持枠に
配設された接合部材を軟化する第五工程 (F)前記接合部材を固化する第六工程 本発明においては、少なくとも前記第四工程の後の工程
において、前記第1の基体と前記第2の基体と前記スペ
ーサと前記支持枠とにより構成される容器の圧力を該容
器の外の圧力以上とすることが好ましく、前記容器の内
部および外部を略等しい真空度とすることがさらに好ま
しい。
【0018】また、前記第四工程において、第1の基体
または/および第2の基体を加圧する箇所を、前記支持
枠が設けられた箇所の裏面とすることが好ましく、支持
枠が設けられた箇所の裏面および位置合わせ部材が設け
られた箇所の裏面とすることがさらに好ましい。
【0019】本発明は、これら平板型画像形成装置の組
み立て精度を高精度になし、さらに、特に、スペーサの
破壊や蛍光体の損傷を生じにくく、画像品位の高い生産
性の高い平板型画像形成装置とその製造方法を提供する
ものである。
【0020】本発明の画像形成装置の製造方法によれ
ば、室温にて第1の基体または第2の基体の位置合わ
せ、固定を行い、接合材の軟化、固化のための高温加
熱、冷却工程では位置合わせを行わないため、高精度か
つ容易な位置合わせを行うことができる。さらには、高
温に対応したアライメント装置も必要なく、装置を簡略
化することができる。
【0021】以上のように、本発明の画像形成装置およ
びその製造方法によれば、複雑なアライメント装置を用
いることなく、高精度な組み立てを実現できるため、安
価で、高品位な画像形成装置を実現できる。
【0022】
【発明の実施の形態】本発明は、液晶やプラズマ、特
に、電界電子放出素子、表面伝導型電子放出素子等の電
子放出素子を複数配置し、蛍光体等の画像形成部材を発
光し表示する平板型画像形成装置の新規な構成および製
造方法を提供するものである。
【0023】まず、本発明の画像形成装置の主要な構成
の一例を図面を参照して説明する。図1(a)は本発明
の画像形成装置の平面図(図1(b))のA−A断面図
である。また、図2(a)は位置合わせ部材4の部分拡
大図である。位置合わせ部材4は構成部材4−1、4−
2、4−3からなっている。構成部材4−3としては球
状、棒状等のガラス、セラミック材等を用いる。一方、
図2(b)では、構成部材4−3がなく、構成部材4−
1、構成部材4−2が、直接嵌合した例である。また、
図3は発明の別な構成例を示すものである。図3(a)
は、本発明の画像形成装置の平面図の図3(b)のA−
A断面図である。図4は、図3の位置合わせ部材4の部
分拡大図である。
【0024】基体1はガラス等で構成されたリアプレー
トであり、電極、配線等のパターンが形成されている。
更に、電子放出素子を用いた画像形成装置では、電子放
出素子が配置される。また、プラズマディスプレーで
は、プラズマ領域を限定するための隔壁、さらに、反射
型では、蛍光体等が設置される。
【0025】基体2はガラス等で構成されたフェイスプ
レートであり、電極、配線等のパターンが形成されてい
る。更に、電子放出素子を用いた画像形成装置では、電
子と衝突し発光する蛍光体が配置される。また、プラズ
マディスプレーでは、配線等が設置される。
【0026】支持枠3は、基体1、2と同様の材料で構
成され、基体1、2および支持枠3によって、容器が構
成される。電子放出素子を用いた画像形成装置では、内
部は真空とされる。また、プラズマを用いた画像形成装
置では、ガスが封入される。尚、支持枠3は、印刷隔壁
を用いてもよく、あるいは、フェイスプレートあるい
は、リアプレートと一体化されていてもよく、必ずし
も、第1の基体、第2の基体と別部材である必要はな
い。
【0027】支持枠3と基体1、基体2は、接着材やフ
リットガラスによって、接着される。
【0028】位置合わせ部材4、5、6は、予め、基体
1および/または2に形成されており、基体1と基体2
の位置合わせを簡易に行え、同時に、接着材等がなくて
も、仮固定がなされるように、図2(a)に示すように
位置合わせ部材に、円錐状の凹部を設け、2つの部材間
に球状または丸棒状のガラス、セラミック等の構成部材
4−3によって嵌合する。また、図4に示されるよう
に、基体1および2に位置合わせ部材として、基体上に
設けられた2本の棒状部材の間隙によって、凹部を形成
し、図2(a)の場合と同様に、球状、棒状でガラス、
セラミック等部材によって、嵌合する。この場合は、球
状、棒状でガラス、セラミック等部材で基体間の間隔が
設定されるので、高精度な高さ規定ができる。
【0029】位置合わせ部材は、図1のように支持枠内
の容器に配置されていてもよいし、図3に示すように容
器外に配置されていてもよい。容器内の場合は、同時に
基体1と基体2間の距離を規定することにも効果があ
る。また、位置合わせ部材は、図3のように3個でもよ
いが、3個に限られるものではない。なお、3個の場合
は、加熱工程で発生する熱応力に耐えられるように、図
1(b)に示されるように、正三角形の頂点に配置され
て熱応力を平均的に分散する構造とすることが好まし
い。支持枠外の配置した場合は、このほか、大面積の基
体から複数個のセルを切り出す場合や、各画像形成装置
の外部ひきだし配線の外に設置でき、配置上有利であ
る。また、熱応力に十分耐えられるように、大きさが大
きい部材が設定でき有利でありさらに、画像形成装置段
階で組み立て完了後、位置合わせ部材4、5、6を切り
落として画像形成装置を構成しても良い。
【0030】スペーサ7は、画像形成装置の容器内を真
空とする場合や、プラズマディスプレーの様に低圧のガ
スを封入した場合に大気圧に耐える構造とするための支
持体である。スペーサは、円柱状、平板状、いげた状等
の形態とすることができる。また、スペーサを構成する
材料は、ガラス、有機ポリマー、セラミクスやその表面
に2次電子放出係数が1に小さく、1に近く導電性材料
であるSi、CrO2、CuO等の半導体、金属酸化物
等が積層される。
【0031】尚、真空容器として使用する場合は、不図
示の排気管より、容器内が排気され、真空が形成された
後、排気管が封止される。また、ガスを導入する場合
は、真空排気後、ガスを導入封止される。
【0032】次に、本発明の画像形成装置の容器を構成
する第1の基体と第2の基体と支持枠、位置合わせ部
材、スペーサの構造的関係について説明する。本発明に
おいては、スペーサの長さが、前記支持枠または位置合
わせ部材の少なくとも一方の長さよりも短くなるように
する。画像形成装置容器は大気圧により加圧され、図1
に示される様に、第1の基体と第2の基体は、スペー
サ、位置合わせ部材、支持枠に当接し、湾曲したものと
なる。図のように、画像表示領域ではスペーサの長さに
よって高さ規定されることが好ましい。
【0033】次に本発明の画像形成装置の製造方法の一
例を、図5を用いて説明する。 (1)基体1、基体2に予め、電極、配線、素子および
位置合わせ部材4、5、6等を形成する。同時に支持枠
の接着材を基体1に配設する。 (2)基体2に予め、電極、配線、蛍光体および位置合
わせ部材4、5、6等を形成する。同時に接着材を基体
2に配設する。 (3)基体1、2を加圧装置に設置する。 (4)基体1に支持枠、スペーサを配設する。尚、スペ
ーサを基体2に配設する場合は、ガラスフリット等で予
め接着される。 (5)位置合わせ部材4、5、6をそれぞれ嵌合する。 (6)組み立て装置により、第1の基体、第2の基体を
加圧する。 (7)基体1、2等を組み立て装置より加熱し、接着材
を流動させ、所望の時間加熱、加圧保持する。 (8)冷却する。 (9)加圧を解除する。
【0034】こうして画像形成装置の容器部分が製造さ
れる。尚、上記製造工程には、適宜、電子放出素子を形
成するための工程が挿入される。図6を用いて、本発明
に用いられる加圧装置を説明する。図6(a)は、本発
明に用いられる加圧装置の一例、図6(b)は、本発明
に用いられる加圧装置の上ホルダーの平面図である。本
発明に用いられる加圧装置は、上ホルダー61、下ホル
ダー62、加圧手段63、ホルダースライドガイド64
等から構成される。尚、図1〜4と同一の符号は、同一
のものを示す。上、下ホルダ61、62の少なくとも一
方は、支持枠、位置合わせ部材の少なくと一方を加圧
し、スペーサを加圧しない様に、スペーサの配置される
領域8がくりぬかれている。したがって、上ホルダーを
ホルダースライドガイドを通じて、基体2の上に設置し
た加圧手段により、基体2を部分的に加圧する。尚、加
圧方式は、部分的加圧を均等に行えれば、上記加圧装置
に限られるわけでない。
【0035】上記画像形成装置の製造方法の工程のう
ち、少なくとも、工程(4)以降の工程では、容器内の
圧力が、容器外の圧力以上とすることが好ましい。ま
た、支持枠、位置合わせ部材のうち少なくとも一方を加
圧箇所とすることにより、上記工程中において基体1と
スペーサが接触することを避け、基体2に設けられた蛍
光体が損傷したり、スペーサが応力を受けて破壊するこ
とを防止することができる。
【0036】以上説明したように、本発明によれば、基
体1、2の位置合わせのために特別な操作を必要とせ
ず、しかも、室温で、位置合わせ部材を嵌合するだけ
で、基体1、2間の位置合わせ、仮固定を行うことがで
きる。
【0037】
【実施例】
[実施例1]本発明の第1の実施例に係る画像形成装置
は、図1に示される構成を含むものである。本実施例で
は、冷陰極電子放出素子である表面伝導型電子放出素子
を電子放出素子として、複数個第1の基体に形成し、第
2の基体には、蛍光体を設置し、有効表示エリアを対角
15インチとする縦、横比3:4のカラー画像形成装置
を作成した。まず、本発明の画像形成装置を図7を用い
て説明し、次にその製造方法を説明する。
【0038】図7は、実施例に用いた画像形成装置の斜
視図であり、内部構造を示すためにパネルの1部を切り
欠いて示している。
【0039】図中、75はリアプレート、76は支持
枠、77はフェースプレート、75〜77により表示パ
ネルの内部を真空に維持するための気密容器を形成して
いる。気密容器を組み立てるにあたっては、各部材の接
合部に十分な強度と気密性を保持させるため封着する必
要がある。70は、平板状のスペーサであり、導電性
が、付与されたスペーサである。
【0040】リアプレート75上には、表面伝導型電子
放出素子72がN×M個形成されている。(N、Mは2
以上の正の整数であり、目的とする表示画素数に応じて
適宜設定される。たとえば、高品位テレビジョンの表示
を目的とした表示装置においては、N=3000、M=
1000以上の数を設定することが望ましい。本実施例
においては、N=333、M=250とした。)前記N
×M個の表面伝導型電子放出素子は、M本の行方向配線
63(上配線と述べる場合もある)とN本の列方向配線
74(下配線と述べる場合もある)により単純マトリク
ス配線されている。
【0041】図8は、本発明を適用可能な表面伝導型電
子放出素子の構成を示す模式図であり、図8aは平面
図、図8bは断面図である。図8において81は基板、
82、と83は素子電極、84は導電性薄膜、85は電
子放出部である。
【0042】素子電極82、83を通じて、導電性薄膜
84にフォーミング処理を施すことで、導電性薄膜を局
所的に破壊、変形もしくは変質せしめ、電気的に高抵抗
な状態にした電子放出部85を形成し、さらに、放出電
流を著しく改善する活性化工程を該表面伝導型電子放出
素子の上述導電性薄膜4に電圧を印加し、素子に電流を
流すことにより、上述の電子放出部85より電子を放出
せしめるものである。
【0043】また、フェースプレート77の下面には、
蛍光膜78が形成されている。本実施例はカラー表示装
置であるため、蛍光膜78の部分にはCRTの分野で用
いられる赤、緑、青、の3原色の蛍光体が塗り分けられ
ている。各色の蛍光体は、たとえば図9の(A)に示す
ようにストライプ状に塗り分けられ、蛍光体のストライ
プの間には黒色の導電体91が設けてある。黒色の導電
体91を設ける目的は、電子ビームの照射位置に多少の
ずれがあっても表示色にずれが生じないようにする事
や、外光の反射を防止して表示コントラストの低下を防
ぐ事、電子ビームによる蛍光膜のチャージアップを防止
する事などである。黒色の導電体91には、黒鉛を主成
分として用いたが、上記の目的に達するものであればこ
れ以外の材料を用いても良い。
【0044】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は前記
図9(a)に示したストライプ状の配列に限られるもの
ではなく、たとえば図9(b)に示すようなデルタ状配
列や、それ以外の配列であってもよい。
【0045】なお、モノクロームの表示パネルを作成す
る場合には、単色の蛍光体材料を蛍光膜78に用いれば
よく、また黒色導電材料は必ずしも用いなくともよい。
【0046】また、蛍光膜78のリアプレート側の面に
は、CRTの分野では公知のメタルバック79を設けて
ある。メタルバック79を設けた目的は、蛍光膜78が
発する光の一部を鏡面反射して光利用率を向上させる事
や、負イオンの衝突から蛍光膜68を保護する事や、電
子ビーム加速電圧を印加するための電極として作用させ
る事や、蛍光膜78を励起した電子の導電路として作用
させる事などである。メタルバック79は、蛍光膜78
をフェースプレート基板77上に形成した後、蛍光膜表
面を平滑化処理し、その上にAlを真空蒸着する方法に
より形成した。なお、蛍光膜78に低電圧用の蛍光体材
料を用いた場合には、メタルバック79は用いない。
【0047】また、本実施例では用いなかったが、加速
電圧の印加用や蛍光膜の導電性向上を目的として、フェ
ースプレート基板77と蛍光膜78との間に、たとえば
ITOを材料とする透明電極を設けてもよい。
【0048】また、Dx1〜DxmおよびDy1〜Dy
nおよびHvは、当該表示パネルと不図示の電気回路と
を電気的に接続するために設けた気密構造の電気接続用
端子である。Dx1〜Dxmはマルチ電子ビーム源の行
方向配線73と、Dy1〜Dynはマルチ電子ビーム源
の列方向配線74と、Hvはフェースプレートのメタル
バック79と電気的に接続している。
【0049】以上、本発明を適用した画像形成装置の基
本構成を説明した。次に、本発明の画像形成装置の製造
方法について説明する。
【0050】(基体1の作成) 工程−1 青板ガラス上にシリコン酸化膜をスパッタ法で形成した
基板1上に下配線をスクリーン印刷で形成した。次に、
下配線と、上配線間に層間絶縁層を形成した。さらに、
上配線を形成した。次に、下配線と上配線とに接続され
た素子電極を形成した。次に、導電性薄膜をスパッタ法
で形成した後、パターニングし、所望の形態とした。
【0051】工程−2 支持枠を固定するためのフリットガラスを印刷によっ
て、所望の位置に形成した。
【0052】更に、位置合わせ部材を図1の位置に形成
した。位置合わせ部材は図2(a)の形状に予め加工さ
れたものをフリットガラスで固定した。尚、支持枠は、
高さ3.8mmとした。位置合わせ部材は、H=3.8
mm、h1=h2=1.9mm、R=3.5mmの円錐
状の形態の凹部である。一方、球状の部材は、r=3m
mとした。
【0053】以上の工程により、基体1に単純マトリク
ス配線した表面伝導型電子放出素子、支持枠用の接着
材、位置合わせ部材等を形成した。
【0054】(基体2の作成) 工程−3 青板ガラス基板に蛍光体、黒色導電体を印刷法により形
成した。蛍光膜の内面側表面の平滑化処理を行い、その
後Alを真空蒸着等を用いて堆積させメタルバック形成
した。
【0055】更に、厚み100μm、高さ3.6mmの
平板状スペーサをガラスフリットで接着した。尚、スペ
ーサは、ガラス製であり、その表面に、CrO2を積層
して導電性を付与した。
【0056】工程−4 支持枠を固定するためのフリットガラスを印刷によっ
て、所望の位置に形成した。更に、位置合わせ部材を図
1の位置に形成した。支持枠、位置合わせ部材とも、高
さ3.8mmとした。位置合わせ部材は図2(a)の形
状で、工程2で用いたものと同一の大きさに予め加工さ
れたものをフリットで固定した。
【0057】以上の工程により、基体2に3原色の蛍光
体をストライプ状の配列蛍光体、および支持枠用の接着
材、位置合わせ部材等を形成した。
【0058】工程−5 次に、上記基体1、2を図6に示す加圧装置に配設し
た。(尚、図1と同符号のものは、図1と同一のもので
ある。)下ホルダ62上に、基体1を設置し、支持枠、
直径3mmのガラスビーズを位置合わせ部材の凹部に配
置する。次に、基体2の位置合わせ部材を基体1の位置
合わせ部材と嵌合するように設置する。その後、上ホル
ダーをホルダースライドガイドを通じて、基体2の上に
設置し、加圧手段により加圧する。この際、加圧部分
は、上ホルダー61は、図6(b)に示されるものを用
いているので、支持枠、位置合わせ部材およびその近傍
のみが加圧され、画像表示部は、加圧されない。
【0059】工程−6 上記加圧装置および画像形成装置の容器を、加熱炉に導
入し、フリットを軟化させるために加熱する。
【0060】工程−7 所望の時間後、加熱炉を徐冷し、フリットを硬化させ
る。最後に加圧装置より、基体1、2、支持枠が接着し
た画像形成装置用の容器を取り出した。
【0061】工程−8 以上のようにして完成した容器内の雰囲気を排気管(図
示せず)を通じ真空ポンプにて排気し、十分な真空度に
達した後、容器外端子Dxo1ないしDoxmとDoy
1ないしDoynを通じ電子放出素子に電圧を印加し、
電子放出部3を、導電性薄膜4をフォーミング工程、活
性化工程することにより作成した。さらに、一連の工程
終了後、250度で、10時間ベーキングを行った。
【0062】工程−9 次に、室温で、10-8torr程度の真空度まで排気
し、不図示の排気管をガスバーナーで熱することで溶着
し外囲器の封止を行った。
【0063】最後に封止後の真空度を維持するために、
高周波加熱法でゲッター処理を行った。
【0064】また、比較例として以下の点以外は実施例
1と同様にして画像形成装置を作成した。 (1)スペーサ、支持枠、位置合わせ部材の高さを、そ
れぞれ3.6mmとした点。 (2)工程−5で用いる上ホルダーとして、画像表示部
に相当する部分がくりぬかれていないものを用いた点
(実施例1では図6(b)のようにくりぬき部を有する
ものを用いた。)。
【0065】以上のように完成した本発明の画像形成装
置において、各電子放出素子には、容器外端子Dx1な
いしDxm、Dy1ないしDynを通じ、走査信号及び
変調信号を不図示の信号発生手段よりそれぞれ、印加す
ることにより、電子放出させ、高圧端子Hvを通じ、メ
タルバック79、あるいは透明電極(不図示)に数kV
以上の高圧を印加し、電子ビームを加速し、蛍光膜78
に衝突させ、励起・発光させることで画像を表示した。
【0066】その結果、電子放出素子、蛍光体の位置ず
れがなく、位置ずれに起因した輝度ばらつきや、混色も
なく、また、蛍光体の損傷、スペーサの損傷も観察され
なかった。一方、比較例の画像形成装置においては、電
子放出素子、蛍光体の位置ずれがなく、位置ずれに起因
した輝度ばらつきや、混色もなかったが、スペーサの一
部が破壊された。
【0067】[実施例2]本発明の第2の実施例は、位
置合わせ部材と支持枠との相対位置が実施例1と異な
り、位置合わせ部材を画像形成装置の支持枠外側に設置
し、大型の基板に小型の画像形成装置を複数個同時に製
造する例である。図10(a)、(b)を用いて説明す
る。101はリアプレート、102はフェースプレー
ト、103は支持枠、104は位置合わせ部材、105
はスペーサである。図10は小型画像形成装置分離前の
状態を示す図である。
【0068】小型の画像形成装置の有効表示エリアの大
きさは、縦、横比3:4で、対角10インチである。位
置決め部材は、支持枠の外側で、小型画像形成装置の容
器外に配置され、さらに配線引き出し部と重ならない位
置に設置されている。尚、位置合わせ部材は、H=4m
m、h=h1=h2=2.0mm、幅10mm、長さ3
0mmとした。凹部は、V字型の形態である。一方、凹
部により形成される空間内に配置される部材は、直径
3.5mmで長さ25mmの丸棒状の部材とした。これ
らは、基体1、2と同一の材料であるガラス棒で、形成
した。支持枠高さは、3.9mm、スペーサ高さは、
3.7mmとした。
【0069】次に、本発明の画像形成装置の製造方法に
ついて説明する。
【0070】(基体1の作成) 工程−1 図10の30インチサイズの基板に実施例1の工程1と
同様にして、素子電極、下配線、層間絶縁層、上配線の
順に印刷法で作成した。導電性薄膜は、有機金属化合物
の水溶液の液的をインクジェット法で付与した後、基板
を350℃で焼成し、有機金属化合物を熱分解し金属酸
化物の導電成膜を作成した。実施例1との相違点は、同
一の形態の配線等が、4組作成されていることである。
尚、この場合は、インクジェット法で付与したの導電性
薄膜のパターニング工程は必要ない。
【0071】工程−2 支持枠を固定するためのフリットガラスを印刷によっ
て、所望の位置に4組形成した。
【0072】更に、位置合わせ部材を図10の位置に4
組形成した。位置決め部材は図11の形状に予め加工さ
れたものを基体1にフリットガラスで固定した。図11
において、図11(a)は、図10のX断面図であり、
図11(b)は、図10のY断面図である。
【0073】以上の工程により、基体1に単純マトリク
ス配線した表面伝導型電子放出素子、支持枠用の接着
材、位置合わせ部材等を4組形成した。
【0074】(基体2の作成) 工程−3 基体1と同様にインチ青板ガラス基板に透明導電体、蛍
光体、黒色導電体を印刷法により形成した。蛍光膜の内
面側表面の平滑化処理を行い、その後Alを真空蒸着等
を用いて堆積させメタルバック形成した。
【0075】工程−4 支持枠を固定するためのフリットガラスを印刷によっ
て、所望の位置に4組形成した。
【0076】更に、位置合わせ部材を図10の位置に形
成した。位置決め部材は図11の形状で、工程2で用い
たものと同一の大きさに予め加工されたものをフリット
で固定した。さらに、スペーサを黒色導電体に、フリッ
トで接着した。
【0077】以上の工程により、基体2に3原色の蛍光
体をストライプ状の配列蛍光体、および支持枠用の接着
材、位置決め部材、スペーサ等を4組形成した。
【0078】(電子源の作成および容器の組み立て)次
に、図12の電子源作成、組み立て装置に基体1および
基体2を投入する。図12の電子源作成、組み立て装置
は、基体1ロード室、ベーキング室、フォーミング室、
活性化室、安定化室、組み立て室、基体2ロード室、ベ
ーキング室、徐冷室からなる。各室は、独立した真空チ
ャンバーで、真空に必要な排気ポンプ、真空計等が配置
され、フォーミング室、活性化室には、各配線に同時
に、電圧を印加してフォーミング工程、活性化工程を実
施できるようにプローブ針、電源等が配置されている。
また、活性化室には、活性化工程用のガスが導入できる
ように、ガス源が接続されている。ベーキング室、安定
化には、さらに、加熱ができるように、ヒーターが設置
されている。組み立て室には、実施例と概念的には同様
の加圧装置が設置されている。加圧装置の上ホルダー
は、各、小型画像形成装置の支持枠、位置合わせ部材の
みを加圧できるように、各スペーサ領域がくりぬかれて
いる。各室において、各工程を終えた基体、容器は、次
の工程室に搬送される。
【0079】工程−5 基体2のロード室に、基体2を導入し排気する。
【0080】工程−6 基体2のベーキング室に基体2を搬送し、400℃で1
時間ベーキングした。
【0081】工程−7 基体1のロード室に、基体1を導入し、排気する。
【0082】工程−8 基体1のベーキング室に基体1を搬送し、250℃で1
時間ベーキングした。
【0083】工程−9 基体1を、基体1のフォーミング室に搬送し、ライン毎
にフォーミング工程を行い、全ラインフォーミングを行
った。
【0084】工程−10基体1を、基体1の活性化室に
搬送し、ライン毎に活性化工程をおこない、全ラインの
活性化工程をおこなった。活性化ガスとして、アセトン
を10-5Pa導入し、30分通電し活性化工程をおこな
った。活性化終了後、排気した。
【0085】工程−11 基体1を、基体1の安定化室に搬送し、10の−9Pa
に排気後、230℃で10時間加熱し脱ガスをおこなっ
た。基体1に吸着しているアセトン、水、酸素等の脱ガ
スをおこなった。
【0086】工程−12 基体1、基体2を組み立て室に搬送し、410℃で加熱
脱ガスを10分間おこなった。このとき、基体1に設置
したフリットガラスは、軟化した。また、このとき、真
空度は、10の-9Paに到達していた。次いで、位置合
わせ部材を目標に位置合わせ加圧した。以上のようにし
て表示パネルを組み立てた。
【0087】工程−13 表示パネルを徐冷室に搬送したのち、室温まで徐冷し
た。
【0088】工程−14 表示パネルをアンロード室に搬送した後、表示パネルを
取り出した。
【0089】工程−15 切断ダイシングソーで、4個の小型表示パネルに分割し
た。こうして製造された小型表示パネルに実施例1と同
様に駆動回路を設置し、表示を行ったところ、混色等位
置ずれの問題やスペーサの損傷の問題は発生しなかっ
た。
【0090】[実施例3]本発明の第3の実施例は、実
施例1、2と以下の点が異なる。すなわち、電子放出素
子として冷陰極電子放出素子の一種である電界放出素子
を用いた点、位置合わせ部材を画像形成装置の支持枠外
側に設置した点が異なり、また、スペーサの設置方法が
異なる。
【0091】まず、電界放出素子について図13を用い
て説明する。図13において、131はリアプレート、
132はフェイスプレート、133は陰極、134はゲ
ート電極、135はゲート/陰極間の絶縁層、136は
収束電極、137は、蛍光体/メタルバック、138
は、収束電極/ゲート電極間の絶縁層、139は、陰極
配線である。
【0092】図13(b)は、図13(a)のリアプレ
ートの平面図である。尚、平面図では簡略化のためにゲ
ート/陰極間の絶縁層、収束電極を省略した。
【0093】電子放出素子は、陰極133の先端とゲー
ト電極134間に大きな電界を印加し、陰極133の先
端より電子を放出するものである。ゲート電極134
は、複数の陰極からの放出電子が通過できるように、電
子通過口が設けられている。更に、ゲート電極口を通過
した電子は、収束電極136によって収束され、フェイ
スプレート132に設けられた陽極の電界で加速され、
陰極に対応する蛍光体の絵素に衝突し、発光表示するも
のである。尚、複数のゲート電極134と複数の陰極配
線139は、単純マトリクス状に配置され、入力された
入力信号によって、該当する陰極が選択され、選択され
た陰極より電子が放出される。
【0094】図14は画像形成装置を示す。図中、14
1はリアプレート、142はフェイスプレート、143
は支持枠、144、145、146は位置合わせ部材、
147はスペーサである。図14に示す画像形成装置の
有効表示エリアの大きさは、縦、横比3:4で、対角1
0インチである。位置合わせ部材144、145、14
6は、支持枠の外側に、実質的に正三角形の頂点に位置
するように配置するようにする。尚、位置合わせ部材
は、直径0.5mm、長さ30mmのガラス棒を所定の
間隔をおいて基体1上および基体2上に接着し、これら
の間に丸棒状の部材を配置した構造とした(図14
(a))。丸棒状の部材は、直径上5mmで長さ25m
mとした。これらは、基体1、2と熱膨張係数が概略同
一の材料であるセラミクスにより形成した。尚、基体1
と基体2間の間隙は1.5mmである。スペーサ147
は、図14に示されるようにポリイミド製のいげた状の
ものを用い、高さ1、40mmとした。次に本発明の画
像形成装置の製造方法について説明する。
【0095】次に、本発明の画像形成装置の製造方法に
ついて説明する。
【0096】(基体1の作成) 工程−1 青板ガラスを基板として、基板の周辺の所望の位置に位
置決め、固定用の凹部を形成した。次に、公知の方法に
よって、図13の陰極、ゲート電極、配線等を作成し
た。尚、陰極材料はMOとした。
【0097】工程−2 支持枠を固定するためのフリットガラスを印刷によっ
て、所望の位置に形成した。
【0098】以上の工程により、基体1に単純マトリク
ス配線した電界放出型電子放出素子、支持枠用の接着
材、位置合わせ部材等を形成した。
【0099】基体2の作成 工程−3 青板ガラス基板に透明導電体、蛍光体、黒色導電体を印
刷法により形成した。蛍光膜の内面側表面の平滑化処理
を行い、その後Alを真空蒸着等を用いて堆積させメタ
ルバック形成した。
【0100】工程−4 青板ガラスを基板として、基板の周辺の所望の位置に位
置決め、固定用の凹部を形成した。支持枠を固定するた
めのフリットガラスを印刷によって所望の位置に形成し
た。
【0101】以上の工程により、基体2に3原色の蛍光
体をストライプ状の配列蛍光体、および支持枠用の接着
材、位置決め部材、スペーサ等を形成した。
【0102】工程−5 次に、実施例1と同様に、上記基体1、2を図6に示す
加圧装置に設置した。上ホルダー、下ホルダー、加圧手
段、ホルダースライドガイドから構成される。
【0103】下ホルダー上に、基体1を設置し、支持
枠、直径1.5mm長さ25mmのセラミクス棒を基板
に加工された位置決め、固定用の凹部に配置する。更
に、スペーサを所望の位置に設置する。次に、基体2の
位置決め固定用の凹部を基体1の位置決め固定用の凹部
と嵌合するように設置する。その後、上ホルダーをホル
ダースライドガイドを通じて、基体2の上に設置し、加
圧手段により加圧する。
【0104】工程−6 上記加圧装置および画像形成装置の容器を加熱炉に導入
し、加熱する。
【0105】工程−7 所望の時間後、加熱炉を徐冷し、フリットを硬化させ
る。最後に加圧装置より、基体1、2、支持枠が接着し
た画像形成装置の容器を取り出した。
【0106】工程−8 以上のようにして完成した容器内の雰囲気を排気管(図
示せず)を通じ真空ポンプにて排気し、十分な真空度に
達した後、容器外端子を通じ電子放出素子に電圧を印加
し、エージングすることにより作成した。さらに、エー
ジング終了後、250度で、10時間ベーキングを行っ
た。
【0107】工程−9 次に、室温で、10-8torr程度の真空度まで、排気
し、不図示の排気管をガスバーナーで熱することで溶着
し外囲器の封止を行った。
【0108】最後に封止後の真空度を維持するために、
高周波加熱法でゲッター処理を行った。
【0109】以上のように完成した本発明の画像形成装
置において、各電子放出素子には、容器外端子を通じ、
信号を不図示の信号発生手段よりそれぞれ印加すること
により電子放出させ、高圧端子Hvを通じ、メタルバッ
ク、あるいは透明電極(不図示)に数kV以上の高圧を
印加し、電子ビームを加速し、蛍光膜に衝突させ、励起
・発光させることで画像を表示した。また、このとき、
混色や、スペーサによる蛍光体損傷、スペーサの破壊が
起こらず、かつ、容易に位置合わせを行うことができ
た。
【0110】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の画像形成
装置およびその製造方法によれば、複雑なアライメント
装置を必要とせず、装置の破損や蛍光体面の損傷を防止
しつつ高精度な組み立てを行うことができる。このた
め、安価で高品位な画像形成装置を実現することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の画像形成装置の主要な構成の平面図、
断面図である。
【図2】本発明の位置合わせ部材の一例を示す図であ
る。
【図3】本発明の画像形成装置の主要な構成の平面図、
断面図である。
【図4】本発明の位置合わせ部材の一例を示す図であ
る。
【図5】本発明の画像形成装置の組み立て方法の一例を
示す図である。
【図6】実施例1の画像形成装置の組み立て用装置(加
圧装置)を示す図である。
【図7】実施例1の画像形成装置の斜視図である。
【図8】実施例1で用いた冷陰極の表面伝導型電子放出
素子である。
【図9】実施例1で用いた蛍光膜の一例である。
【図10】実施例2の画像形成装置の小型画像形成装置
分離前の状態を示す図である。
【図11】本発明の位置合わせ部材の一例を示す図であ
る。
【図12】本発明の画像形成装置の組み立て装置を示す
図である。
【図13】本発明の位置合わせ部材の一例を示す図であ
る。
【図14】実施例3での画像形成装置の平面図、断面図
である。
【図15】従来の画像形成装置の組み立て方法を示す図
である。
【符号の説明】
1 第1の基体 2 第2の基体 3 支持枠 4、5、6 位置合わせ部材 62 下ホルダー 63 加圧手段 64 ホルダースライドガイド 7 スペーサ72 表面伝導型電子放出素子 75 リアプレート 76 支持枠 77 フェイスプレート 79 メタルバック 8 画像表示領域 81 基板 82、83 素子電極 84 導電性薄膜 85 電子放出部 9 スペーサ配置領域 91 黒色の導電体 61 上ホルダー 101 リアプレート 102 フェイスプレート 133 陰極 134 ゲート電極 135 ゲート/陰極間の絶縁層 136 収束電極 137 蛍光体/メタルバック 138 収束電極/ゲート電極間の絶縁層 139 陰極配線 141 リアプレート 142 フェイスプレート 143 支持枠 144、145、14 位置合わせ部材 147 スペーサ 148 断面

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の基体および第2の基体を有し、該
    第1の基体と該第2の基体との間にスペーサ、支持枠、
    および位置合わせ部材を有し、前記スペーサの長さが、
    前記支持枠または位置合わせ部材の長さより短いことを
    特徴とする画像形成装置。
  2. 【請求項2】 前記位置合わせ部材が、凹部の設けられ
    た一対の部材を有し、該一対の部材の凹部の設けられた
    面がはり合わされ、該一対の部材の凹部により形成され
    る空間内に球状または丸棒状の部材を有してなる請求項
    1に記載の画像形成装置。
  3. 【請求項3】 前記位置合わせ部材が、所定の間隔を置
    いて前記第1の基体上に配置された2本の丸棒状の部材
    (a)と、所定の間隔を置いて前記第2の基体上に配置
    された2本の丸棒状の部材(b)と、前記2本の丸棒状
    の部材(a)および前記2本の丸棒状の部材(b)との
    間に配置された球状または丸棒状の部材とを有してなる
    請求項1に記載の画像形成装置。
  4. 【請求項4】 前記位置合わせ部材が、凹部の設けられ
    た部材と凸部の設けられた部材とが嵌合されてなる請求
    項1に記載の画像形成装置。
  5. 【請求項5】 前記位置合わせ部材が、前記第1の基体
    と前記第2の基体と前記スペーサと前記支持枠とにより
    囲まれた領域の内部に配置された請求項1乃至4のいず
    れかに記載の画像形成装置。
  6. 【請求項6】 前記位置合わせ部材が、前記第1の基体
    と前記第2の基体と前記スペーサと前記支持枠とにより
    囲まれた領域の外部に配置された請求項1乃至4のいず
    れかに記載の画像形成装置。
  7. 【請求項7】 前記第1の基体と前記第2の基体と前記
    スペーサと前記支持枠とが真空容器を構成する請求項1
    乃至6のいずれかに記載の画像形成装置。
  8. 【請求項8】 前記位置合わせ部材が、実質的に正多角
    形の各頂点の位置に配置された請求項1乃至7のいずれ
    かに記載の画像形成装置。
  9. 【請求項9】 前記正多角形が、正三角形である請求項
    8に記載の画像形成装置。
  10. 【請求項10】 前記第1の基体上に電子放出素子を備
    え、前記第2の基体上に画像形成部材を備えた請求項1
    乃至9のいずれかに記載の画像形成装置。
  11. 【請求項11】 前記画像形成部材が蛍光体である請求
    項10に記載の画像形成装置。
  12. 【請求項12】 前記電子放出素子が冷陰極電子放出素
    子である請求項10または11に記載の画像形成装置。
  13. 【請求項13】 次の各工程を有する請求項1乃至12
    のいずれかに記載の画像形成装置の製造方法。 (A)前記第1の基体および/または前記第2の基体に
    前記位置合わせ部材の構成部材を配設する第一工程 (B)前記第1の基体または前記第2の基体に前記スペ
    ーサおよび前記支持枠を配設する第二工程 (C)前記第1の基体と前記第2の基体とを、前記位置
    合わせ部材を介して接合する第三工程 (D)前記第1の基体および/または前記第2の基体を
    加圧する第四工程 (E)前記第1の基体、前記第2の基体、前記支持枠に
    配設された接合部材を軟化する第五工程 (F)前記接合部材を固化する第六工程
  14. 【請求項14】 前記第二工程および前記第三工程を室
    温で行う請求項13に記載の画像形成装置の製造方法。
  15. 【請求項15】 前記第四工程の後の工程で、前記第1
    の基体と前記第2の基体と前記スペーサと前記支持枠と
    により構成される容器の圧力を、該容器外の圧力以上と
    する請求項13または14記載の画像形成装置の製造方
    法。
  16. 【請求項16】 前記容器の内部および外部が略等しい
    真空度である請求項15記載の画像形成装置の製造方
    法。
  17. 【請求項17】 前記第四工程における加圧箇所が、第
    1の基体または/および第2の基体の前記支持枠が設け
    られた箇所の裏面である請求項13乃至16いずれかに
    記載の画像形成装置の製造方法。
  18. 【請求項18】 前記加圧箇所が、第1の基体または/
    および第2の基体の前記支持枠が設けられた箇所の裏面
    および位置合わせ部材が設けられた箇所の裏面である請
    求項17に記載の画像形成装置の製造方法。
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