JPH10256123A - 球状デバイス露光装置及び製造方法 - Google Patents

球状デバイス露光装置及び製造方法

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Publication number
JPH10256123A
JPH10256123A JP9057609A JP5760997A JPH10256123A JP H10256123 A JPH10256123 A JP H10256123A JP 9057609 A JP9057609 A JP 9057609A JP 5760997 A JP5760997 A JP 5760997A JP H10256123 A JPH10256123 A JP H10256123A
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JP
Japan
Prior art keywords
exposure apparatus
central axis
spherical device
spherical
sphere
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9057609A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuichi Yabu
修一 薮
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JPH10256123A publication Critical patent/JPH10256123A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 球状デバイス露光に好適な露光装置及び製造
方法を提供すること。 【解決手段】 球状デバイス材料をスピンドルでクラン
プし、スピンドル軸回りに回転させながら、ビーム(例
えば電子ビーム)をフォーカスさせながらスキャン露光
させること。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は球状デバイス露光装
置及び製造方法に関し、特に球状半導体等のデバイスに
好適な露光装置及び製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、シリコンウェハとして平板状のも
のが知られるが、最近直径1mm程度のボール(球)状
シリコンを用いた球状半導体が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、球状
デバイス露光に好適な露光装置及び製造方法を提供する
ことにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の球状デバイス露
光装置は、球状デバイス材料を球の中心軸の周りに回転
させ、球面にビームをフォーカスさせて露光することを
特徴とする。
【0005】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施例を示
す。シリコンから成り、露光される面にレジスト膜が塗
布された球状デバイス材料1(直径がmmオーダーで、
例えば1mm)には予め球の中心軸上にノッチ(窪み)
2a,2bが両極に設けられ、該ノッチをスピンドル3
a,3bでクランプする。スピンドル3a,3bは軸受
4a,4bを介して、エンコーダモータ5a,5bに連
結され、スピンドル3a,3bでクランプされた球状デ
バイス材料1は中心軸と一致するスピンドル軸の回りに
回転される。このとき1本の電子ビームが11a,11
b,11cのように一次元方向(中心軸方向)にビーム
スキャンされるが、電子ビームは各位置で球状デバイス
材料の球表面上にフォーカスしながらスキャンされる。
フォーカス位置は球状デバイス材料の球面設計値又は、
事前計測により記憶されたテーブル値を用いる。電子ビ
ーム11a,11b,11cは図1で平行になっている
が、各電子ビームが常に球状デバイス材料1の球の中心
に向かうようにスキャンさせても良い。図1で10は電
子ビーム光学系、12はコントローラ、21は電子ビー
ム位置制御信号、22は電子ビームフォーカス制御信
号、23はエンコーダモータ制御信号である。これによ
り、スピンドル3a,3bを連続回転させながら、球の
中心を含む各平面と球表面との各交線即ち各経線におい
て、所望の位置にビームをフォーカスさせながら、球表
面上に回路パターンを露光できる。
【0006】なお、ビームの一次元スキャンとスピンド
ルの連続回転の組合せの替わりに、ビームの2次元スキ
ャンとスピンドルのステップ回転の組合せを用いること
ができる。即ち球を立体的に眺めた図2に示すように第
1の経線S1と第2の経線S2とで範囲指定された斜線
領域をスピンドルの回転を停止させた状態でビームを領
域内の各位置で球表面にフォーカスさせながら2次元ス
キャンさせることができる。第2の経線S2から第3の
経線S3に移る際は、スピンドルをステップ回転させ
る。
【0007】図3はスピンドルでクランプされるノッチ
近傍をビーム露光できる実施例を示す。スピンドル3
a,3bを結ぶ方向をビーム走査方向に対し直角から、
直角以外の角度に設定することにより、1次元に1本ビ
ームスキャンされるところの電子ビーム11a,11
b,11c及び球の中心を含む平面と球表面との交線で
ある経線において、ノッチ2b近傍まで露光可能とな
る。ノッチ2a近傍を露光する場合は、スピンドル3
a,3bを結ぶ方向を左上がりから右上がりに変えれば
良い。また図1の実施例と図3の実施例を併用する第3
の実施例として、ビームのスキャン幅を広げずに、球に
対しノッチ部が存在する両極を除く殆ど全ての球表面に
回路パターンが形成可能となるものを以下に示す。なお
図3で、電子ビーム11a,11b,11cは平行にな
っているが、各電子ビームが常に球状デバイス材料1の
球の中心に向かうようにスキャンされると好ましい。上
述した第3の実施例について図4に具体的構成を示す。
図1のスピンドル3a,3bとモータエンコーダ5a,
5bの間に図1の紙面垂直方向にアーム30を左右対称
に設け、その中心に第3のモータエンコーダ31を設
け、図1及び図3に示す配置を共に可能にしたものであ
る。
【0008】(変形例)スピンドル3a,3bで球状デ
バイス材料1をクランプするのに、ノッチ(窪み)の替
わりにバンプ(突起)を用い、これを球の中心軸上に両
極に設けても良い。又、電子ビームを上述した一次元ス
キャン方向に複数個設け、スキャン範囲を小さくする、
更にはスキャンさせないように複数個固定するように構
成してもよい。なお、電子ビームで説明したが、光ビー
ムでも良く、例えばビームをスキャンすると共にフォー
カス位置を変えるように制御された光ビームを用いても
良い。又、半導体の他、液晶等のデバイス露光装置とし
て用いることもできる。
【0009】
【発明の効果】以上、本発明によれば、球状デバイス露
光に好適な露光装置及び製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示す図。
【図2】第1の経線と第2の経線で囲まれる領域を示す
図。
【図3】本発明の第2実施例を示す図。
【図4】本発明の第3実施例を示し図。
【符号の説明】
1 球状デバイス材料 2a,2b ノッチ(又はバンプ) 3a,3b スピンドル 4a,4b 軸受 5a,5b エンコーダモータ 10 電子ビーム光学系 11a,11b,11c 電子ビームのスキャン位置 12 コントローラ 21 電子ビーム位置制御信号 22 電子ビームフォーカス制御信号 23 エンコーダモータ制御信号 30 アーム 31 エンコーダモータ

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 球状デバイス材料を球の中心軸の回りに
    回転させる回転手段と、ビームを球面位置にフォーカス
    させる手段を有することを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 前記ビームが電子ビームである請求項1
    記載の露光装置。
  3. 【請求項3】 前記ビームが光ビームである請求項1記
    載の露光装置。
  4. 【請求項4】 前記ビームを前記中心軸方向にスキャン
    させる請求項1記載の露光装置。
  5. 【請求項5】 前記ビームを前記中心軸方向に複数個設
    けた請求項1記載の露光装置。
  6. 【請求項6】 前記ビームを前記球状デバイス材料の球
    の中心に向かうようにスキャンさせる請求項4記載の露
    光装置。
  7. 【請求項7】 前記回転手段を連続回転させると共に、
    前記ビームを前記中心軸方向に一次元スキャンさせる請
    求項1記載の露光装置。
  8. 【請求項8】 前記回転手段をステップ回転させると共
    に、前記ビームを第一の経線と第二の経線の間の領域内
    で二次元スキャンさせる請求項1記載の露光装置。
  9. 【請求項9】 前記ビームの照射方向と前記中心軸方向
    が直角に設定される請求項1記載の露光装置。
  10. 【請求項10】 前記ビームの照射方向と前記中心軸方
    向が直角以外の角度に設定される請求項1記載の露光装
    置。
  11. 【請求項11】 前記中心軸方向を球の中心の周りに回
    転させる手段を備える請求項1記載の露光装置。
  12. 【請求項12】 前記回転手段は球状デバイス材料を球
    の中心軸方向にクランプするスピンドル手段を備え、該
    スピンドル手段は前記球状デバイス材料のノッチ位置を
    クランプする請求項1記載の露光装置。
  13. 【請求項13】 前記回転手段は球状デバイス材料を中
    心軸方向にクランプするスピンドル手段を備え、該スピ
    ンドル手段は前記球状デバイス材料のバンプ位置をクラ
    ンプする請求項1記載の露光装置。
  14. 【請求項14】 球状デバイス材料を球の中心軸の周り
    に回転させる段階と、ビームを球面位置にフォーカスさ
    せる段階を有することを特徴とする球状デバイス製造方
    法。
JP9057609A 1997-03-12 1997-03-12 球状デバイス露光装置及び製造方法 Withdrawn JPH10256123A (ja)

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JP9057609A JPH10256123A (ja) 1997-03-12 1997-03-12 球状デバイス露光装置及び製造方法

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Publications (1)

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JPH10256123A true JPH10256123A (ja) 1998-09-25

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JP9057609A Withdrawn JPH10256123A (ja) 1997-03-12 1997-03-12 球状デバイス露光装置及び製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006513569A (ja) * 2003-01-09 2006-04-20 株式会社山武 曲面を有する半導体デバイスに露光する装置および方法

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Effective date: 20040601