JPH10263762A - 鋼の連続鋳造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 鋼の連続鋳造において、鋳型内溶鋼の表面流
速を適正化し、非金属介在物の少ない鋳片を得る。 【解決手段】 浸漬ノズル７を中心として鋳型１の幅方
向左右で少なくとも２つに分割された移動磁場発生装置
１０を、移動磁場発生装置の鋳造方向の中心位置が浸漬
ノズルの吐出孔８下端位置と鋳型下端位置との範囲とな
るように鋳型長辺２の背面に配置し、この移動磁場発生
装置にて移動磁場を溶鋼４に印加して、鋳型中央から鋳
型幅の１／４隔てた位置における鋳型内溶鋼の平均表面
流速を０．１ｍ／ｓｅｃ以下に制御すると共に、鋳型長
辺を挟み対向する磁極１１を、メニスカス５を含む位置
の鋳型全幅に渡って鋳型長辺の背面に配置し、この磁極
によりメニスカスに静磁場を印加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電磁気力にて鋳型
内溶鋼の表面流速を適正化し、非金属介在物の少ない鋳
片を得ることができる鋼の連続鋳造方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】鋼の連続鋳造では浸漬ノズルを介して溶
鋼を鋳型内に高速度で吐出させるため、この吐出流に起
因して鋳型内で溶鋼流動が発生し、そして、この溶鋼流
動は鋳片の表面及び内部性状に大きな影響を及ぼしてい
る。特に、鋳型内湯面（以下、「メニスカス」と記す）
の表面流速が速すぎる場合や、メニスカスに縦渦が発生
する場合には、モールドパウダーが溶鋼中に巻き込ま
れ、製品における主要な欠陥となるので、メニスカスに
おける溶鋼流動が重要視されている。そのため、鋳片品
質向上の重要な課題として、従来から電磁気力の利用に
よるメニスカスの流動制御方法が数多く提案されてい
る。

【０００３】例えば、特開平２−２８４７５０号公報
（以下、「先行技術１」と記す）には、鋳型の全幅に渡
り１段もしくは２段の直流電源による静磁場を印加し、
浸漬ノズルからの吐出流に制動を加える方法が開示され
ている。先行技術１によれば、操業条件の変動があって
も吐出流には常に均一な磁場が作用し、且つ磁場が吐出
流に対する反射板としての役目を有するので、安定して
溶鋼流動を制御できるとしている。

【０００４】特開昭６４−２７７１号公報（以下、「先
行技術２」と記す）には、複数対の交流電源による移動
磁場発生装置を鋳型長辺背面に対向配置して、移動磁場
による溶鋼流を発生させ、この溶鋼流で吐出流を減速又
は加速して目的の溶鋼流動を得る方法が開示されてい
る。先行技術２によれば、複数対の移動磁場発生装置で
個別に磁場の移動方向及び磁場強度を制御できるので、
非金属介在物の少ない鋳片を得ることができるとしてい
る。

【０００５】又、特開平５−１７７３１７号公報（以
下、「先行技術３」と記す）には、鋳型の下部もしくは
鋳型直下に静磁場を印加すると共に、メニスカス部に移
動磁場を印加する方法が開示されている。先行技術３に
よれば、静磁場にて吐出流の下降流を減速して非金属介
在物の浮上を促進すると共に、移動磁場にてメニスカス
に一方向の回転流を与えて凝固シェルの洗浄効果を高め
ることができるので、表層も内部も清浄な鋳片を得るこ
とができるとしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、先行技術１で
は、鋳型内溶鋼全体に制動力が働くため、溶鋼の流れの
方向や流動パターンを制御することは困難であり、鋳造
条件によっては十分な効果を発揮することができない。
又、静磁場の場合には、磁場が印加された領域を通過す
る溶鋼の流速に比例した電磁気力が作用する。従って、
静磁場の印加では溶鋼の流速の何割かが減速することに
なる。通常、磁場強度は０．３テスラ程度のものが使用
されるが、この程度の磁場強度では、高々２割程度の減
速効果しかないことが報告されている（例えば、M.Wash
io et al.:La Revue de Metallurgie -CIT,(1993),50
8)。そのため、最近の効率化を目的とした鋳片引抜き速
度の高速となった鋳造形態においては、鋳型内溶鋼の表
面流速が元々速いため、この程度の減速効果では非金属
介在物の低減に十分な効果を発揮しない。

【０００７】先行技術２では、周期的な磁場の移動によ
り誘起される溶鋼流によって吐出流速を制御しているの
で、平均流速を制御することは容易にできるが、溶鋼流
速の変動値の低減効果については不十分で、条件によっ
てはモールドパウダーの巻き込みが発生することがあ
り、流動制御の安定性に欠ける点がある。

【０００８】又、先行技術３では、メニスカスの溶鋼流
速は必ずしも最適には制御されず、逆に、回転流により
メニスカスの溶鋼流速が加速され、モールドパウダーの
巻き込みを助長することもあり、品質の安定性に欠け
る。

【０００９】このように、従来の磁場を利用した鋳型内
溶鋼の流動制御の方法は、非金属介在物の低減にその効
果を十分に発揮しているとは言いがたい。

【００１０】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、その目的とするところは、移動磁場と静磁場とを併
用し、両者の優れた特徴を利用して鋳型内溶鋼の表面流
速を適正化し、非金属介在物の少ない鋳片を得ることが
できる鋼の連続鋳造方法を提供するものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明による鋼の連続鋳
造方法は、浸漬ノズルを中心として鋳型幅方向左右で少
なくとも２つに分割された移動磁場発生装置を、移動磁
場発生装置の鋳造方向の中心位置が浸漬ノズルの吐出孔
下端位置と鋳型下端位置との範囲となるように鋳型長辺
の背面に配置し、この移動磁場発生装置にて移動磁場を
溶鋼に印加して、鋳型中央から鋳型幅の１／４隔てた位
置における鋳型内溶鋼の平均表面流速を０．１ｍ／ｓｅ
ｃ以下に制御すると共に、鋳型長辺を挟み対向する磁極
を、メニスカスを含む位置の鋳型全幅に渡って鋳型長辺
の背面に配置し、この磁極によりメニスカスに静磁場を
印加することを特徴とするものである。

【００１２】発明者等は、連続鋳造機における諸測定値
やモデル実験により、鋳型内溶鋼の流動と鋳片品質との
関係について検討し、鋳片の品質は鋳型内溶鋼の表面流
速と表面流速の変動幅との関連が大きいことが判明し
た。以下に詳述する。

【００１３】先ず、鋳型内溶鋼の表面流速と薄鋼板製品
でのモールドパウダー性欠陥の発生率との関係を調査し
た。鋳型中央から鋳型幅の１／４隔てた位置（以下、
「１／４鋳型幅位置」と記す）において、鋳型内溶鋼の
表面流速を鋳片単位で測定し、鋳片単位で測定した表面
流速の最大流速をその鋳片を代表する表面流速とする。
そして、その鋳片を薄鋼板製品に圧延して製品における
モールドパウダー性欠陥の発生率を測定し、この欠陥発
生率と前記の表面流速との関係を調査した。図４にその
結果を示す。尚、図４の横軸は、鋳型短辺側から鋳型中
央側へ向かう表面流と、鋳型中央側から鋳型短辺側へ向
かう表面流とを分離して示しているが、図４に示すよう
に、１／４鋳型幅位置における表面流速の最大流速が略
０の場合にモールドパウダー性欠陥の発生率が最も少な
くなり、そして、１／４鋳型幅位置における最大流速
が、その流れの向きには左右されずに、０．１ｍ／ｓｅ
ｃ以下の場合に、欠陥発生指数は０．１以下となり、安
定して欠陥発生率が低いことが分かった。

【００１４】この理由を低融点合金を用いたモデル実験
にて確認したところ、１／４鋳型幅位置における表面流
速の最大流速が０．１ｍ／ｓｅｃ以下の場合には、メニ
スカスにおいて渦の発生や、強い表面流の出現がなく、
モールドパウダーの巻き込みが発生しにくい流動状況に
なっていることが分かった。

【００１５】鋳片引抜き速度が高速の場合においても、
このような遅い鋳型内溶鋼の表面流速を磁場により実現
するためには、すでに述べたように静磁場を吐出流や表
面流に印加する方法では、現在工業的に適用されている
０．３テスラ程度の磁場強度では不足で、これを大幅に
上回る、例えば１テスラ以上の静磁場を印加する必要が
ある。しかし、これは設備的に難しく、又、可能であっ
ても設備投資金額が高くなる。本発明では、移動磁場
を、移動磁場発生装置の鋳造方向の中心位置が浸漬ノズ
ルの吐出孔下端位置と鋳型下端位置との範囲となるよう
に、鋳型長辺の背面に配置することによってこれを可能
にした。即ち、移動磁場を、溶鋼が浸漬ノズルから鋳型
内へ吐出される範囲の溶鋼に印加することにより、磁場
が原理的に有する吐出流の制動作用の他に、移動磁場で
誘起された溶鋼流を浸漬ノズルからの吐出流に対向させ
て吐出流を減速させることで、例えば最大磁場強度が
０．３テスラ以下の工業的に適用可能な移動磁場発生装
置で、鋳型内溶鋼の表面流速を任意の速度、例えば０．
１ｍ／ｍｉｎ以下に低減することができるためである。
尚、移動磁場発生装置を浸漬ノズルを中心として鋳型幅
方向左右で少なくとも２つに分割する理由は、移動磁場
の移動方向を鋳型幅左右で逆方向にするためである。

【００１６】しかし、実機において移動磁場により表面
流速を制御する場合には、１／４鋳型幅位置における表
面流速を０．１ｍ／ｓｅｃ以下に制御していても、後述
するように表面流速の変動により瞬間的には０．１ｍ／
ｓｅｃを超える表面流が発生しうるため、鋳造条件によ
っては数時間に渡る連続鋳造工程の全範囲を０．１ｍ／
ｓｅｃ以下に制御することは困難である。従って本願で
は、移動磁場により１／４鋳型幅位置における鋳型内溶
鋼の平均表面流速を０．１ｍ／ｓｅｃ以下に制御するこ
ととした。尚、平均表面流速とは、３分間以上測定した
鋳型内溶鋼の表面流速の平均値である。

【００１７】ところで、１／４鋳型幅位置における平均
表面流速が０．１ｍ／ｓｅｃ以下となる場合でも、鋳型
内溶鋼の流動パターンは、図５に示すように幾つかのケ
ースが考えられる。尚、図５は、発明者等の検討結果に
より鋳型内溶鋼の流動パターンをＡ〜Ｃの３つのパター
ンに大別して模式的に示したものである。

【００１８】例えば、パターンＡの場合には、浸漬ノズ
ルからの吐出流が、鋳型短辺側の凝固シェルに到達・衝
突した後、鋳型短辺側の凝固シェルに沿ってメニスカス
まで上昇して、更にメニスカスを鋳型短辺側から鋳型中
央側に向かって流れる流れと、鋳型短辺側の凝固シェル
への衝突点から鋳型下方に下降する流れとに分離する流
動パターンで、表面流は鋳型短辺側から鋳型中央側への
１方向の流れとなるが、吐出流自体の速度が遅い時には
表面流速も遅くなり、１／４鋳型幅位置における平均表
面流速が０．１ｍ／ｓｅｃ以下となる。

【００１９】パターンＢの場合には、Ａｒガス気泡の浮
上、あるいは吐出流への磁場印加の影響により、浸漬ノ
ズルからの吐出流が鋳型短辺側の凝固シェルに到達せ
ず、吐出孔から鋳型短辺側の凝固シェルまでの間で分散
して、上昇流と下降流とを形成する流動パターンで、メ
ニスカスは、図５に示すように、鋳型中央側では鋳型短
辺側から鋳型中央側への流れ、鋳型短辺側では鋳型中央
側から鋳型短辺側への流れとなるなど、一部に鋳型中央
側から鋳型短辺側への流れが形成されるため、１／４鋳
型幅位置における平均表面流速は０．１ｍ／ｓｅｃ以下
となりやすい。

【００２０】又、パターンＣの場合には、主に粗大なＡ
ｒガス気泡の浮上の影響で浸漬ノズル近傍に上昇流が出
現し、メニスカスでは鋳型中央側から鋳型短辺側に向か
う流れが主流になる。この流れが弱い場合には、鋳型短
辺側から鋳型中央側に向かう流れが共存し、両者が浸漬
ノズルと鋳型短辺との間で衝突する。この場合も、これ
ら流れの衝突により、１／４鋳型幅位置における平均表
面流速は０．１ｍ／ｓｅｃ以下となることがある。

【００２１】このように、１／４鋳型幅位置における平
均表面流速が０．１ｍ／ｓｅｃ以下であったとしても、
表面流速の変動幅は、鋳型内溶鋼の流動パターンにより
異なった様相を呈する。即ち、パターンＣの場合を例に
すれば、鋳型中央側から鋳型短辺側に向かう流れと、鋳
型短辺側から鋳型中央側に向かう流れとの衝突位置が、
両方の流れの強さのバランスにより変化すると、１／４
鋳型幅位置における表面流は、鋳型短辺に向かう流れと
鋳型中央に向かう流れとが交互に出現し、表面流速の変
動幅は大きくなる。尚、本願で示す表面流速の変動幅と
は、表面流速の微分値、又は単位時間内の表面流速の最
大流速と最小流速との差である。

【００２２】図６は、１／４鋳型幅位置における平均表
面流速を０．１ｍ／ｓｅｃ以下に制御した時の、表面流
速の変動幅と薄鋼板製品でのモールドパウダー性欠陥の
発生率との関係を調査した結果を示したものである。図
より表面流速の変動幅を小さくして、０．１５ｍ／ｓｅ
ｃ以下とすると、欠陥発生率が低いことが分かる。尚、
図６は、表面流速の変動幅を、１分を単位時間として、
単位時間内の最大流速と最小流速の差で示したもので、
計算では鋳型短辺側から鋳型中央側に向かう流れに
「正」の符号、その逆方向の流れに「負」の符号をつけ
て求めた。

【００２３】これは、１／４鋳型幅位置における平均表
面流速が０．１ｍ／ｓｅｃ以下であっても、表面流速の
変動幅が大きいときには、メニスカスが鎮静化してはお
らず、左右からの強い流れが混在しているために、メニ
スカスに渦が発生したり、流速が０．１ｍ／ｓｅｃを超
える瞬間的な流れが発生して、モールドパウダーの巻き
込みが起こるためである。

【００２４】本発明では、移動磁場にて吐出流速を制御
して、１／４鋳型幅位置におけるメニスカスの平均表面
流速を０．１ｍ／ｓｅｃ以下とした上で、更にメニスカ
ス全域に静磁場を印加するので、表面流速に応じて静磁
場による磁気制動力が表面流に作用して、表面流速の変
動幅が小さく抑えられ、メニスカスに渦や瞬間的な流速
の速い表面流の発生を防止することができる。

【００２５】

【発明の実施の形態】本発明を図面に基づき説明する。
図１は本発明を適用した鋳片断面が矩形型の連続鋳造機
の鋳型部の正面断面の概要図で、図２は図１のＸ−Ｘ断
面、又、図３は図１のＹ−Ｙ断面の概要図を示す。

【００２６】図において、相対する鋳型長辺２と、鋳型
長辺２内に内装された相対する鋳型短辺３とから構成さ
れた鋳型１の上方に、タンディッシュ１６が配置されて
いる。タンディッシュ１６の底部には固定盤１７と摺動
盤１８とから成るスライディングノズルが配置され、更
に摺動盤１８の下面側には整流ノズル１９と浸漬ノズル
７とが順に配置されて、タンディッシュ１６から鋳型１
への流出孔２１が形成される。図示せぬ取鍋からタンデ
ィッシュ１６内に注入された溶鋼４は、流出孔２１を経
由して、浸漬ノズル７の下部に設けられ、且つ鋳型１内
の溶鋼４に浸漬された吐出孔８より、吐出流９を鋳型短
辺３に向けて鋳型１内に注入される。そして、溶鋼４は
鋳型１内で冷却されて凝固シェル６を形成し、鋳型１の
下方に引き抜かれ鋳片となる。

【００２７】固定盤１７にはＡｒガス導入管２２が接続
され、Ａｒガス導入管２２から導入されたＡｒガスは、
固定盤１７に設けたポーラス煉瓦２０から流出孔２１内
に吹き込まれる。吹き込まれたＡｒガスは、溶鋼４と共
に浸漬ノズル７を通り吐出孔８を介して鋳型１内に流入
し、鋳型１内の溶鋼４を通ってメニスカス５に浮上し、
メニスカス５上に添加したモールドパウダー１５を貫通
して大気に至る。

【００２８】鋳型１の厚みの中心で、且つ鋳型１の幅方
向左右の１／４鋳型幅位置には、他端をロードセル１４
に接続された耐火物製棒１３がメニスカス５に浸漬され
て配置され、溶鋼４の表面流により耐火物製棒１３に作
用する力をロードセル１４で測定して、メニスカス５の
表面流の速度と方向とを測定している。

【００２９】鋳型長辺２の背面には、磁場の移動方向が
鋳型１の幅方向である移動磁場発生装置１０が、移動磁
場発生装置１０の鋳造方向の中心位置を吐出孔８の下端
位置と鋳型１の下端位置との範囲として、鋳型長辺２を
挟んで対向して配置されている。そして、移動磁場発生
装置１０は、浸漬ノズル７を中心として鋳型１の幅方向
で左右に分割されており、磁場の移動方向が鋳型１の幅
方向左右で逆向きとなるように、図示せぬ交流電源装置
に結線されている。左右の移動磁場発生装置１０から発
生する磁場の移動方向を、鋳型短辺３側から鋳型長辺２
の中央側とすることで、吐出流９が減速され、逆に、左
右の磁場移動方向を鋳型長辺２の中央側から鋳型短辺３
側とすることで、吐出流９が加速される。移動磁場発生
装置１０の磁場強度は、最大磁場強度が０．２テスラ〜
０．３テスラ程度の工業的に通常使用されているもので
よい。

【００３０】メニスカス５の表面流速を耐火物製棒１３
にて測定しながら、平均表面流速が０．１ｍ／ｓｅｃ以
下になるように、移動磁場の強度と磁場の移動方向とを
調整した後、その調整値に固定する。移動磁場の強度は
移動磁場発生装置１０に印加する電流又は電圧を変更す
ることで調整し、移動磁場の移動方向は移動磁場発生装
置１０に印加する交流電源の結線を変更して行なう。

【００３１】尚、移動磁場発生装置１０に印加する交流
電源装置を左右の磁場発生装置１０で個別に配置すれ
ば、左右独自に移動磁場の強度及び移動方向を制御で
き、鋳型内溶鋼の流動制御がより一層容易となるので好
ましい。又、移動磁場発生装置１０は鋳型長辺２を挟ん
で対向する必要はなく、片側の鋳型長辺２の背面に配置
するだけでも、吐出流９の制御はできる。但し、片側の
背面にのみ配置する場合には、溶鋼に作用する電磁気力
を確保するために、両側に配置した時に比べ磁場強度の
高い移動磁場発生装置１０を配置する必要がある。

【００３２】更に、メニスカス５を含む位置の鋳型１の
全幅に渡る鋳型長辺２の背面に、鋳型長辺２を挟み対向
する磁極１１を配置する。磁極１１にはコイル１２が巻
かれており、コイル１２に図示せぬ直流電源を印加し
て、磁極１１にてメニスカス５付近の溶鋼４に鋳型長辺
２を貫く静磁場を印加する。静磁場の印加は、移動磁場
によりメニスカス５の平均表面流速を０．１ｍ／ｓｅｃ
以下に制御した後とする。そして、静磁場の磁場強度は
０．２テスラ〜０．３テスラ程度の工業的に通常使用さ
れているものでよい。０．２テスラ以上の磁場強度であ
れば、表面流速の変動幅を０．１５ｍ／ｓｅｃ以下とす
ることができるからである。

【００３３】尚、浸漬ノズル７内へのＡｒガス吹き込み
位置は上記に限るものではなく、浸漬ノズル７の本体や
上ノズル、又、ストッパー方式の開閉装置の場合には、
ストッパー先端であっても、本発明の実施に全く支障と
ならない。又、メニスカス５の表面流速を測定する手段
は上記に限るものでなく、電磁気力を利用した測定装置
であっても、本発明の実施に全く支障とならない。

【００３４】

【実施例】図１に示す構成の連続鋳造機を用いた本発明
の実施例を以下に説明する。

【００３５】鋳片断面寸法が厚み２５０ｍｍ、幅１６０
０ｍｍであるスラブ連続鋳造機にて、極低炭素Ａｌキル
ド鋼を鋳片引抜き速度２．２ｍ／ｍｉｎで鋳造した。鋳
型長辺の背面には、鋳型幅方向で浸漬ノズルを挟んで左
右に２分割された移動磁場発生装置を、移動磁場発生装
置の鋳造方向の中心位置を浸漬ノズル吐出孔の下端から
１５０ｍｍ下方の位置として配置した。この移動磁場発
生装置により吐出流に対して最大０．２テスラの移動磁
場を印加することができる。

【００３６】更に、鋳型長辺の背面には、磁極の鋳造方
向の中心がメニスカス位置となるように磁極を配置し、
この磁極から常時０．２テスラの静磁場を印加した。そ
して、浸漬ノズル内にＡｒガスを９Ｎｌ／ｍｉｎ吹き込
んだ。

【００３７】この鋳造条件では、移動磁場の移動方向を
鋳型短辺側から鋳型中央側とし、その移動磁場の強度が
０．１テスラ（磁場強度５０％）で、鋳型幅左右の１／
４鋳型幅位置における平均表面流速が０．１ｍ／ｓｅｃ
以下となったので、移動磁場の移動方向を鋳型短辺側か
ら鋳型中央側とし、移動磁場の強度を０．１テスラの一
定値で鋳造した。

【００３８】鋳造中、メニスカスの平均表面流速は０．
１ｍ／ｓｅｃ以下に制御され、更に表面流速の変動幅も
殆ど発生しなかった。

【００３９】これに対し比較例として、同一の鋳造条件
でメニスカスに静磁場を印加せず、移動磁場の制御のみ
実施して鋳造した。この場合、平均表面流速は０．１ｍ
／ｓｅｃ以下であったが、瞬間的には０．３ｍ／ｓｅｃ
程度の表面流が観察され、又、逆流が時々発生して、表
面流速の時間変化は激しかった。

【００４０】得られた鋳片の断面を検査して、介在物の
個数と大きさ分布とを指数関数近似で統計的に処理して
求めた鋳片介在物指数において、本発明の実施例は比較
例のおよそ１／３となった。又、これら鋳片を薄板製品
に圧延して、薄板製品を超音波探傷試験して介在物に起
因する欠陥を調査したところ、比較例での欠陥発生率が
１．３％であるのに対し、本発明の実施例では０．５％
であり、極めて良好であった。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、移動磁場と静磁場とを
併用し、両者の優れた特徴を利用して鋳型内溶鋼の表面
流速を常に適正化できるので、品質の優れた連続鋳造鋳
片を安定して製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した鋳片断面が矩形型の連続鋳造
機の鋳型部の正面断面の概要図である。

【図２】図１のＸ−Ｘ断面の概要図である。

【図３】図１のＹ−Ｙ断面の概要図である。

【図４】鋳型内溶鋼の表面流速と薄鋼板製品におけるモ
ールドパウダー性欠陥の発生率との関係を示した図であ
る。

【図５】鋳型内溶鋼の流動パターンをＡ〜Ｃの３つのパ
ターンに大別して模式的に示した図である。

【図６】表面流速の変動幅と薄鋼板製品でのモールドパ
ウダー性欠陥の発生率との関係を示した図である。

【符号の説明】

１ 鋳型 ２ 鋳型長辺 ３ 鋳型短辺 ４ 溶鋼 ５ メニスカス ６ 凝固シェル ７ 浸漬ノズル ８ 吐出孔 ９ 吐出流 １０ 移動磁場発生装置 １１ 磁極 １２ コイル １３ 耐火物製棒 １４ ロードセル １５ モールドパウダー １６ タンディッシュ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 浸漬ノズルを中心として鋳型幅方向左右
   で少なくとも２つに分割された移動磁場発生装置を、移
   動磁場発生装置の鋳造方向の中心位置が浸漬ノズルの吐
   出孔下端位置と鋳型下端位置との範囲となるように鋳型
   長辺の背面に配置し、この移動磁場発生装置にて移動磁
   場を溶鋼に印加して、鋳型中央から鋳型幅の１／４隔て
   た位置における鋳型内溶鋼の平均表面流速を０．１ｍ／
   ｓｅｃ以下に制御すると共に、鋳型長辺を挟み対向する
   磁極を、メニスカスを含む位置の鋳型全幅に渡って鋳型
   長辺の背面に配置し、この磁極によりメニスカスに静磁
   場を印加することを特徴とする鋼の連続鋳造方法。