JPH10268517A - Negative image recording material - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
Description
【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版用の平版印刷版に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material which can be used as an offset printing master, and more particularly to a lithographic printing plate for so-called direct plate making which can make a plate directly from a digital signal from a computer or the like.
【従来の技術】従来、コンピュータのディジタルデータ
から直接製版するシステムとしては、 電子写真法によるもの、Arレーザによる露光と後
加熱の組み合わせによる光重合系、感光性樹脂上に銀
塩感材を積層したもの、シルバーマスタータイプのも
の、放電やレーザ光によりシリコーンゴム層を破壊す
ることによるもの等が提案されている。の電子写真法
を用いるものは、帯電、露光、現像等の処理が煩雑であ
り、装置が複雑で大がかりなものになる。の方法では
後加熱工程を要するほか、高感度な版材を要し、明室で
の取扱いが難しくなる。、の方法では銀塩を使用す
るため処理が煩雑になり、コストが高くなる欠点があ
る。また、の方法は比較的完成度の高い方法である
が、版面に残るシリコーン層の除去に問題点を残してい
る。一方、近年におけるレーザの発展は目ざましく、特
に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導体
レーザでは高出力かつ小型のものが容易に入手できるよ
うになっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。しかし、実用上有用な多くの感光性
画像記録材料は、感光波長が450nm以下であるた
め、これらのレーザでは画像記録ができない。このた
め、露光光源の波長に依存せず画像記録が可能な画像記
録材料が望まれている。露光光源の波長に依存せず画像
記録可能な技術として、特開昭52−113219号公
報には、光及び熱で分解する化合物(例えば、ジアゾニ
ウム化合物)と、光を吸収し熱に変えることのできる物
質粒子と、結着剤とから成るポジ型画像記録材料が開示
されている。これは熱によってジアゾニウム化合物を分
解し画像を記録するものである。また、特開昭58−1
48792号公報には、熱可塑性樹脂粒子と、光−熱変
換物質と、光架橋性物質(例えば、ジアゾニウム化合
物)を主成分とするポジ型感光感熱記録材料が開示され
ている。この場合、熱により熱可塑性樹脂粒子が画像を
形成し、更に光架橋性物質が光により直接分解すること
を利用し画像の耐久性を向上させるものである。直接製
版は、レーザ光源のビームをスキャンさせて書き込む
が、ネガ型の材料の方が書き込み時間が短縮できるので
好ましい。しかし、コンピュータ等のディジタルデータ
から直接製版する際の露光光源として近赤外から赤外に
発光領域を持つ固体レーザ、半導体レーザ(熱モード)
を用いて熱で記録することのできるネガ型画像記録材料
で良好な記録性を持つものはこれまでに知られていな
い。2. Description of the Related Art Conventionally, as a system for directly making a plate from digital data of a computer, an electrophotographic method, a photopolymerization system using a combination of exposure by an Ar laser and post-heating, and a silver salt photosensitive material laminated on a photosensitive resin are used. And a silver master type, and a method in which the silicone rubber layer is destroyed by electric discharge or laser light. In the method using the electrophotographic method, the processes such as charging, exposure, and development are complicated, and the apparatus is complicated and large. In the above method, a post-heating step is required, and a high-sensitivity plate material is required, which makes it difficult to handle in a bright room. In the methods (1) and (2), the use of a silver salt complicates the processing and has the disadvantage of increasing the cost. Although the method described above is a method having a relatively high degree of completion, there is a problem in removing the silicone layer remaining on the plate surface. On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light-emitting region from the near infrared to the infrared have become easily available with high output and small size. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. However, many photosensitive image recording materials that are practically useful have a photosensitive wavelength of 450 nm or less, and therefore cannot record images with these lasers. For this reason, an image recording material capable of recording an image irrespective of the wavelength of an exposure light source is desired. As a technique capable of recording an image without depending on the wavelength of an exposure light source, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-113219 discloses a technique of decomposing by light and heat (for example, a diazonium compound) and a technique of absorbing light and converting it to heat. A positive-working image-recording material comprising a material particle and a binder is disclosed. In this method, a diazonium compound is decomposed by heat to record an image. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-1
Japanese Patent No. 48792 discloses a positive-type light- and heat-sensitive recording material containing thermoplastic resin particles, a light-to-heat conversion material, and a photocrosslinkable material (for example, a diazonium compound) as main components. In this case, the durability of the image is improved by utilizing the fact that the thermoplastic resin particles form an image by heat and the photocrosslinkable substance is directly decomposed by light. In direct plate making, writing is performed by scanning the beam of a laser light source, but a negative material is preferable because the writing time can be shortened. However, solid-state lasers and semiconductor lasers (heat mode) that emit light in the near-infrared to infrared region are used as exposure light sources for plate making directly from digital data from computers and the like.
A negative-type image-recording material which can be recorded with heat by using a material having good recording properties has not been known so far.
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、露光光源の発光波長に依存せずに画像記録可能なネ
ガ型画像記録材料を提供することであり、特に近赤外か
ら赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導体レーザ(熱
モード)を用いて画像を記録することにより、コンピュ
ータ等のディジタルデータから直接製版可能であり、ま
た従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用できるヒー
トモード書き込み型ダイレクト製版用ネガ型平版印刷版
を提供することである。更に本発明の目的は、現像時間
を短縮できるネガ型画像記録材料を提供することであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a negative-type image recording material capable of recording an image without depending on the emission wavelength of an exposure light source. By recording an image using a solid-state laser or semiconductor laser (thermal mode) with a light-emitting area, plate making can be performed directly from digital data from a computer or the like, and a heat mode that can use conventional processing equipment and printing equipment without change An object of the present invention is to provide a negative type lithographic printing plate for writable direct plate making. It is a further object of the present invention to provide a negative type image recording material capable of shortening the development time.
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
進めた結果、スルホンアミド基を有する特定の低分子化
合物を特定のポリマーと併用することにより、膜強度を
損なうことなく,現像時間を短縮できるネガ型記録材料
が得られることを見い出し、本発明に到達した。即ち、
上記目的は下記(1)に示す本発明の構成により達成で
きる。 (1)(A)下記一般式(I)で表される構成単位を有
するポリマーと、(B)酸により架橋する化合物と、
(C)光又は熱により酸を発生させる化合物と、(D)
赤外線吸収剤、(E)下記一般式(II)で表されるスル
ホンアミド基を有する低分子化合物とを含むことを特徴
とするネガ型画像記録材料。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that by using a specific low molecular compound having a sulfonamide group in combination with a specific polymer, the development time can be reduced without impairing the film strength. It has been found that a negative-type recording material capable of shortening the recording time can be obtained, and the present invention has been achieved. That is,
The above object can be achieved by the following configuration (1) of the present invention. (1) (A) a polymer having a structural unit represented by the following general formula (I), and (B) a compound cross-linked by an acid,
(C) a compound that generates an acid by light or heat, and (D)
A negative-type image recording material comprising: an infrared absorber; and (E) a low-molecular compound having a sulfonamide group represented by the following general formula (II).
【化3】 式中、X1 は、それ自体アルカリ可溶性を示すか、又
は、アルカリ可溶性基を有する連結基を示す。Ar
1 は、置換基を有していてもよい炭素数20個以下の芳
香族炭化水素基を示す。Y1 は、N−R3 、酸素原子又
は硫黄原子を示す。nは1〜4の整数を示す。L1 は、
単結合、エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホ
ン酸アミド結合、エーテル結合、チオエーテル結合又は
これらの結合を含有していてもよい炭素数20以下の炭
化水素基を示す。L2 は、単結合又は炭素数20以下の
炭化水素基を示す。R1 は、水素原子又はメチル基を示
す。R2は、置換基を有していてもよい炭素数20個以
下の炭化水素基を示す。R3 は、水素原子又は置換基を
有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示
す。Embedded image In the formula, X 1 itself shows alkali solubility or a linking group having an alkali-soluble group. Ar
1 represents an aromatic hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Y 1 represents NR 3 , an oxygen atom or a sulfur atom. n shows the integer of 1-4. L 1 is,
It represents a single bond, an ester bond, a carboxylic acid amide bond, a sulfonic acid amide bond, an ether bond, a thioether bond or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may contain these bonds. L 2 represents a single bond or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. R 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent.
【化4】 式中、R24は置換基を有していてもよい炭素数20以下
の炭化水素基を示し、R25は水素原子、置換基を有して
いてもよい炭素数20以下の炭化水素基又は−COR26
を示し、R26は置換基を有していてもよい炭素数20以
下の炭化水素基を示す。Embedded image In the formula, R 24 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, and R 25 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent or −COR 26
And R 26 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent.
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 [(A)一般式(I)で表される構成単位を有するポリ
マー]本発明では、前記一般式(I)で表される構成単
位を有するポリマーを使用する。一般式(I)中、R1
は、水素原子又はメチル基を示す。X1 は、それ自体ア
ルカリ可溶性を示すか、又は、アルカリ可溶性基を有す
る連結基を示す。ここで、アルカリ可溶性基とは、スル
ホン酸アミド、スルホン酸イミド又はカルボン酸イミド
のような部分を含む基を指し、具体的には、−SO 2 N
H−、−NHSO2 −、−SO2 NHCO−、−CON
HSO2 −、−CONHCO−等が挙げることができ
る。Ar1 は、置換基を有していてもよい炭素数20個
以下の芳香族炭化水素基を示す。具体的には、ベンゼン
環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環
等を挙げることができる。これらの芳香族炭化水素基の
うち、入手性・経済性の観点から、ベンゼン環又はナフ
タレン環であることが好ましい。また、これらの芳香族
炭化水素基が有することができる好ましい置換基として
は、炭素数20以下の炭化水素基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基等を
挙げることができる。Y1 は、N−R3 、酸素原子又は
硫黄原子を示し、R2 は、置換基を有していてもよい炭
素数20個以下の炭化水素基を示す。ここで、R3 は、
水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数20個以
下の炭化水素基を示す。R2 及びR3において用いるこ
とのできる好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、
炭素数20以下のアルコキシル基、炭素数20以下のペ
ルフルオロアルキル基及び炭素数20以下のヒドロキシ
アルキル基等を挙げることができる。また、nは1〜4
の整数を示す。L1 は、単結合、エステル結合、カルボ
ン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、エーテル結
合、チオエーテル結合又はこれらの結合を含有していて
もよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。L2 は、単
結合又は炭素数20以下の炭化水素基を示すが、入手性
・経済性の観点から、単結合であることが好ましい。な
お、R2 とAr1 及びR3 とAr1 、さらにR2 と
R3 、それぞれシクロヘキサン環等の環構造を形成して
いてもよい。本発明において好適に用いられる、一般式
(I)で表される構成単位を有するポリマーは、下記一
般式(III )で表される構成単位を有するポリマーであ
る。なお、一般式(III )中、一般式(I)の符号と同
じものについては同じ符号を付して説明を省略する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. [(A) Poly (A) having structural unit represented by general formula (I)
In the present invention, the structural unit represented by the general formula (I)
A polymer having a position is used. In the general formula (I), R1
Represents a hydrogen atom or a methyl group. X1Is itself a
Shows lucali solubility or has alkali-soluble group
Represents a linking group. Here, the alkali-soluble group is
Phonamide, Sulfonimide or Carboximide
Refers to a group containing a moiety such as —SO Two N
H-, -NHSOTwo -, -SOTwo NHCO-, -CON
HSOTwo -, -CONHCO- and the like.
You. Ar1Has 20 carbon atoms which may have a substituent
The following aromatic hydrocarbon groups are shown. Specifically, benzene
Ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring
And the like. These aromatic hydrocarbon groups
Of which, from the viewpoints of availability and economy,
It is preferably a taren ring. Also, these aromatics
As a preferred substituent that the hydrocarbon group can have
Is a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, a halogen atom,
Groups, nitro groups, carboxyl groups, carbamoyl groups, etc.
Can be mentioned. Y1Is NRThree, Oxygen atom or
Represents a sulfur atom;TwoIs a carbon which may have a substituent
It represents a hydrocarbon group having a prime number of 20 or less. Where RThreeIs
A hydrogen atom or an optionally substituted carbon number of 20 or more
Shows the lower hydrocarbon group. RTwoAnd RThreeUsed in
Preferred substituents that can be represented by a halogen atom,
Ano group, nitro group, carboxyl group, carbamoyl group,
An alkoxyl group having 20 or less carbon atoms,
Fluoroalkyl group and hydroxy having 20 or less carbon atoms
Examples include an alkyl group. N is 1 to 4
Indicates an integer. L1Is a single bond, ester bond, carbo
Acid amide bond, sulfonic acid amide bond, ether bond
If they contain thioether bonds or these bonds
A hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. LTwoIs simply
Shows a bond or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms.
-From the viewpoint of economy, a single bond is preferable. What
Contact, RTwoAnd Ar1And RThreeAnd Ar1, And RTwoWhen
RThree, Each forming a ring structure such as a cyclohexane ring
May be. General formula preferably used in the present invention
The polymer having the structural unit represented by (I) is as follows.
A polymer having a structural unit represented by the general formula (III)
You. In the general formula (III), the same sign as the general formula (I) is used.
The same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
【化5】 式中、R4 及びR5 は、同じでも異なっていてもよく、
水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数20個以
下の炭化水素基を示す。R4 及びR5 において用いるこ
とのできる好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、
炭素数20以下のアルコキシル基、炭素数20以下のペ
ルフルオロアルキル基及び炭素数20以下のヒドロキシ
アルキル基等を挙げることができる。なお、R4 とR5
は、縮環したベンゼン環やシクロヘキサン環等の環構造
を形成していてもよい。一般式(III )で表される構成
単位を有するポリマーは、対応する一般式(IV)で表さ
れるモノマーを用い、従来公知の方法によりラジカル重
合することにより得られる。なお、一般式(IV)中、一
般式(III )の符号と同じものについては同じ符号を付
して説明を省略する。Embedded image Wherein R 4 and R 5 may be the same or different;
It represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent and has 20 or less carbon atoms. Preferred substituents that can be used for R 4 and R 5 include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a carbamoyl group,
Examples thereof include an alkoxyl group having 20 or less carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 20 or less carbon atoms, and a hydroxyalkyl group having 20 or less carbon atoms. Note that R 4 and R 5
May form a ring structure such as a condensed benzene ring or cyclohexane ring. The polymer having the structural unit represented by the general formula (III) can be obtained by radical polymerization using a corresponding monomer represented by the general formula (IV) by a conventionally known method. In the general formula (IV), the same reference numerals as those in the general formula (III) denote the same parts, and a description thereof will be omitted.
【化6】 本発明において、好適に用いられる一般式(IV)で表さ
れるモノマーの例を式(IV−1)〜(IV−13)として
以下に挙げる。なお、下記式中、R1 は水素原子又はメ
チル基を示し、Z1 は酸素原子又はNHを示す。Embedded image In the present invention, examples of the monomer represented by the general formula (IV) that is preferably used are shown below as formulas (IV-1) to (IV-13). In the following formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 1 represents an oxygen atom or NH.
【化7】 Embedded image
【化8】 Embedded image
【化9】 本発明において一般式(I)で表される構成単位を有す
る好適なポリマーとしては、前記一般式(IV)で表され
るモノマーの一種のみを用いた単独重合体や2種以上を
用いた共重合体の双方を使用することができる。本発明
で用いうる前記ポリマーは、一般式(IV)で表されるモ
ノマーと、一般式(IV)で表されるモノマー以外の他の
従来公知の重合性モノマーとの共重合体を使用すること
が塗布溶液に対する溶解性や塗膜の柔軟性の観点から、
好ましい。このような一般式(IV)で表されるモノマー
と組み合わせて用いられる公知のモノマーとしては、例
えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロ
ピルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト等のアクリル酸エステル類、メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチ
ルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等のメタ
クリル酸エステル類、アクリロニトリル等が挙げられ
る。本発明の一般式(I)で表される構成単位を有する
ポリマーは、その部分構造としてアルカリ可溶性を有す
る連結基(例えば、酸性基等)であるX1 を有している
ため、アルカリ水に対する溶解性に優れているが、さら
に補助的に他の酸性基を有するモノマーを用いた共重合
体としても良い。用いられるモノマーとしては例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、
N−(2−カルボキシエチル)アクリルアミド、N−
(2−カルボキシエチル)メタクリルアミド、N−(カ
ルボキシフェニル)アクリルアミド、N−(カルボキシ
フェニル)メタクリルアミド、カルボキシスチレン、マ
レイミド、N−(フェニルスルホニル)アクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N−(トリル
スルホニル)メタクリルアミド、N−(クロロフェニル
スルホニル)アクリルアミド、N−(クロロフェニルス
ルホニル)メタクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(メチルスルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(メチルスルファモイル
フェニル)メタクリルアミド、N−(フェニルスルファ
モイルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスル
ファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(トリル
スルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(トリ
ルスルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−
[(クロロフェニルスルファモイル)フェニル]アクリ
ルアミド、N−[(クロロフェニルスルファモイル)フ
ェニル]メタクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタ
クリルアミド、N−(ヒドロキシナフチル)アクリルア
ミド、N−(ヒドロキシナフチル)メタクリルアミド等
が挙げられる。また、酸性基ではないが、p−スチレン
スルホン酸のナトリウム塩、2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸のアルカリ金属塩、テトラア
ルキルアンモニウム塩、3−スルホプロピルアクリレー
トのカリウム塩等の強酸の塩を含有するモノマーは、水
に対する溶解性を向上でき、結果として画像記録材料の
水性現像液に対する現像性を向上できるので、共重合体
の構成成分として好ましい。これらを用いた共重合体中
に含まれる一般式(I)で表される構成単位の割合は、
20〜95重量%であることが好ましく、さらに好まし
くは30〜90重量%である。また、本発明で使用され
るポリマーの重量平均分子量は好ましくは5000以上
であり、さらに好ましくは1万〜30万の範囲であり、
数平均分子量は好ましくは1000以上であり、さらに
好ましくは2000〜25万の範囲である。多分散度
(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、さらに好ましくは1.1〜10の範囲である。これ
らのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマ
ー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポ
リマーであることが好ましい。本発明で使用されるポリ
マーを合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、
テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、
エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシ
エチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ
−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種
以上混合して用いられる。本発明で使用されるポリマー
を合成する際に用いられるラジカル重合開始剤として
は、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使
用できる。本発明で使用されるポリマーは単独で用いて
も混合して用いてもよい。これらポリマーは、画像記録
材料全固形分に対し20〜95重量%、好ましくは40
〜90重量%の割合で画像記録材料中に添加される。添
加量が20重量%未満の場合は、画像形成した際、画像
部の強度が不足する。また添加量が95重量%を越える
場合は、画像形成されない。 [(B)熱架橋剤]本発明において好適に用いられる熱
架橋剤は、分子内に2個以上のヒドロキシメチル基、ア
ルコキシメチル基、エポキシ基又はビニルエーテル基を
有する化合物である。好ましくはこれらの架橋性官能基
が芳香環に直接結合した化合物である。具体的には、メ
チロールメラミン、レゾール樹脂、エポキシ化されたノ
ボラック樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。さらに、「架
橋剤ハンドブック」(山下晋三、金子東助著、大成社
(株))に記載されている化合物も好ましい。特に、分
子内に2個以上のヒドロキシメチル基又はアルコキシメ
チル基を有するフェノール誘導体は画像形成した際の画
像部の強度が良好であり好ましい。このようなフェノー
ル誘導体として、具体的には、レゾール樹脂を挙げるこ
とができる。しかしながら、これらの熱架橋剤は当然な
がら熱に対して不安定であり、画像記録材料を作成した
後の保存時の安定性があまりよくない。これに対し、分
子内に4〜8個のベンゼン核、少なくとも1個のフェノ
ール性水酸基及び少なくとも2個の式(V)で表される
基を有するフェノール誘導体は保存時の安定性も良好で
あり、本発明において最も好適に用いられる。Embedded image In the present invention, preferred examples of the polymer having the structural unit represented by the general formula (I) include a homopolymer using only one kind of the monomer represented by the general formula (IV) and a copolymer using two or more kinds of the monomers represented by the general formula (IV). Both polymers can be used. As the polymer that can be used in the present invention, a copolymer of a monomer represented by the general formula (IV) and a conventionally known polymerizable monomer other than the monomer represented by the general formula (IV) is used. From the viewpoint of solubility in the coating solution and flexibility of the coating film,
preferable. Known monomers used in combination with such a monomer represented by the general formula (IV) include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate,
-Hydroxyethyl acrylate, acrylates such as benzyl acrylate, methyl methacrylate,
Examples include methacrylates such as ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, and benzyl methacrylate, and acrylonitrile. The polymer having a structural unit represented by the general formula (I) of the present invention has, as a partial structure thereof, X 1 which is a linking group having alkali solubility (for example, an acidic group or the like). The copolymer is excellent in solubility, but may be a copolymer using a monomer having another acidic group as a supplement. Examples of the monomer used include, for example,
Acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid,
N- (2-carboxyethyl) acrylamide, N-
(2-carboxyethyl) methacrylamide, N- (carboxyphenyl) acrylamide, N- (carboxyphenyl) methacrylamide, carboxystyrene, maleimide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide, N- (chlorophenylsulfonyl) acrylamide, N- (chlorophenylsulfonyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) ) Methacrylamide, N- (methylsulfamoylphenyl) acrylamide, N- (methylsulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (tolylsulfamoylphenyl) acrylamide, N- (tolylsulfamoylphenyl) methacrylamide, N-
[(Chlorophenylsulfamoyl) phenyl] acrylamide, N-[(chlorophenylsulfamoyl) phenyl] methacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (hydroxynaphthyl) acrylamide, N- (hydroxynaphthyl) methacrylamide and the like. Further, although not an acidic group, sodium salt of p-styrenesulfonic acid, 2-acrylamide-2-
A monomer containing a salt of a strong acid such as an alkali metal salt of methylpropanesulfonic acid, a tetraalkylammonium salt, and a potassium salt of 3-sulfopropylacrylate can improve the solubility in water, and as a result, an aqueous developer of an image recording material can be obtained. It is preferable as a component of the copolymer because it can improve the developability of the copolymer. The proportion of the structural unit represented by the general formula (I) contained in the copolymer using these is as follows:
It is preferably 20 to 95% by weight, more preferably 30 to 90% by weight. Further, the weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably in the range of 10,000 to 300,000,
The number average molecular weight is preferably at least 1,000, more preferably in the range of 2,000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably in the range of 1.1 to 10. These polymers may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer and the like, but are preferably a random polymer. As the solvent used when synthesizing the polymer used in the present invention, for example,
Tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol,
Ethanol, ethylene glycol monomethyl ether,
Ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate , Methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more. As the radical polymerization initiator used for synthesizing the polymer used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used. The polymers used in the present invention may be used alone or as a mixture. These polymers are used in an amount of 20 to 95% by weight, preferably 40% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
It is added to the image recording material at a ratio of about 90% by weight. When the addition amount is less than 20% by weight, the strength of the image portion is insufficient when an image is formed. When the amount exceeds 95% by weight, no image is formed. [(B) Thermal crosslinking agent] The thermal crosslinking agent suitably used in the present invention is a compound having two or more hydroxymethyl groups, alkoxymethyl groups, epoxy groups or vinyl ether groups in the molecule. Preferably, these crosslinkable functional groups are compounds directly bonded to an aromatic ring. Specific examples include methylol melamine, resole resin, epoxidized novolak resin, and urea resin. Further, compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" (written by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, Taiseisha Co., Ltd.) are also preferable. In particular, a phenol derivative having two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups in the molecule is preferable because the strength of the image area when an image is formed is good. A specific example of such a phenol derivative is a resole resin. However, these thermal crosslinking agents are, of course, unstable to heat, and the storage stability after the preparation of the image recording material is not so good. On the other hand, a phenol derivative having 4 to 8 benzene nuclei, at least one phenolic hydroxyl group and at least two groups represented by the formula (V) in a molecule has good stability during storage. Is most preferably used in the present invention.
【化10】 前記(V)のR6 は水素原子、アルキル基又はアシル基
を示し、アルキル基としては、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブ
チル基、sec−ブチル基又はt−ブチル基のような炭
素数1〜4のアルキル基が、アシル基としては、ホルミ
ル基、アセチル基、ブチリル基、ベンゾイル基、シンナ
モイル基、バレリル基が好ましい。また、メトキシエチ
ル基、メトキシプロピル基、ヒドロキシエチル基、ヒド
ロキシプロピル基等の炭素数1〜4の置換アルキル基を
用いることができる。本発明に使用可能なフェノール誘
導体は、公知のフェノール化合物、例えば、特開平1−
289946号公報、同3−179353号公報、同3
−200252号公報、同3−128959号公報、同
3−200254号公報、同5−158233号公報、
同5−224409号公報に記載されているフェノール
化合物と、ホルムアルデヒドとを強アルカリ性媒体中で
約0〜80℃、好ましくは10〜60℃の温度で1〜3
0時間反応させることによりR6 =Hのものが得られ
る。その後、さらに酸性条件下、炭素数1〜4のアルコ
ール、置換アルコール、酸ハライド、又は酸無水物と、
0〜80℃で、1〜30時間反応させることにより、R
6 =アルキル、アシルのものが得られる。アルコール、
置換アルコールと反応させる際の温度は、20〜80℃
が好ましく、酸ハライド又は酸無水物と反応させる際の
温度は、0〜30℃が好ましい。本発明に使用可能なフ
ェノール誘導体の具体例としては、下記一般式(VI)〜
(XIII)で表わされる化合物が挙げられるがこれらに限
定されるわけではない。これらのフェノール誘導体は、
単独で用いてもよく、二種以上混合して用いてもよい
が、その際の使用量は、ネガ型画像記録材料中、0.2
〜60重量%、好ましくは0.5〜20重量%である。
また、ベンゼン核が1〜3個で、フェノール性ヒドロキ
シル基と式(V)で表わされる基を有する化合物は、着
肉性、現像許容性の低下を招くため、本発明のネガ型画
像記録材料はこれらの化合物を実質的に含まないことが
望ましい。より具体的には、ネガ型画像記録材料中5重
量%以下であることが望ましく、更に好ましくは3重量
%以下であり、最も好ましくは0重量%である。Embedded image R 6 in the above (V) represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group,
An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as -propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group or t-butyl group, and acyl groups such as formyl group, acetyl group, and butyryl group , A benzoyl group, a cinnamoyl group and a valeryl group are preferred. Further, a substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methoxyethyl group, a methoxypropyl group, a hydroxyethyl group, and a hydroxypropyl group can be used. Phenol derivatives usable in the present invention include known phenol compounds, for example,
Nos. 289946, 3-179353, 3
JP-200252, JP-A-3-128959, JP-A-3-200254, JP-A-5-158233,
The phenol compound described in JP-A-5-224409 and formaldehyde are mixed at a temperature of about 0 to 80 ° C, preferably 10 to 60 ° C in a strong alkaline medium with a temperature of 1 to 3 ° C.
By reacting for 0 hour, one having R 6 HH can be obtained. Thereafter, under further acidic conditions, an alcohol having 1 to 4 carbon atoms, a substituted alcohol, an acid halide, or an acid anhydride,
By reacting at 0 to 80 ° C for 1 to 30 hours, R
6 = Alkyl and acyl are obtained. alcohol,
The temperature when reacting with the substituted alcohol is 20 to 80 ° C.
The temperature at the time of reacting with an acid halide or an acid anhydride is preferably from 0 to 30 ° C. Specific examples of the phenol derivative that can be used in the present invention include the following general formulas (VI) to (VI).
Examples include, but are not limited to, compounds represented by (XIII). These phenol derivatives are
They may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
-60% by weight, preferably 0.5-20% by weight.
Further, a compound having from 1 to 3 benzene nuclei and having a phenolic hydroxyl group and a group represented by the formula (V) causes a decrease in the inking property and development acceptability. Desirably does not substantially contain these compounds. More specifically, the content is preferably 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, and most preferably 0% by weight in the negative type image recording material.
【化11】 Embedded image
【化12】 Embedded image
【化13】 Embedded image
【化14】 式中、R7 〜R9 、R14、R22、R23は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を示し、R10、
R18〜R21は水素原子又はアルキル基を示し、R11〜R
13は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、R
15〜R17は、単結合、置換基を有してもよいアルキレン
基、アルケニレン基、フェニレン基、ナフチレン基、カ
ルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、アミド結
合、又はそれら二種以上の組み合わせを示し、Yは一般
式(V)で表わされる基を示し、a、b、c、d、x、
yは、0〜3の整数を示すが、a+b+c+d+x+y
は2〜16の整数であり、k、l、m、nは0〜3の整
数を示すが、すべてが0になることはなく、e、f、
g、h、p、q、r、s、t、uは0〜3の整数を示
し、zは0又は1を示す。前記一般式(VI)〜(XIII)
で表わされる化合物のより具体的な例としては、例えば
下記構造のものが挙げられる。Embedded image Wherein, R 7 ~R 9, R 14 , R 22, R 23 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, R 10,
R 18 to R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group, R 11 to R
13 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group;
15 to R 17 represent a single bond, an alkylene group which may have a substituent, an alkenylene group, a phenylene group, a naphthylene group, a carbonyl group, an ether group, a thioether group, an amide bond, or a combination of two or more thereof. , Y represents a group represented by the general formula (V), and a, b, c, d, x,
y represents an integer of 0 to 3, but a + b + c + d + x + y
Is an integer of 2 to 16, and k, l, m, and n each represent an integer of 0 to 3, but not all 0, and e, f,
g, h, p, q, r, s, t, and u each represent an integer of 0 to 3, and z represents 0 or 1. The general formulas (VI) to (XIII)
As a more specific example of the compound represented by the following, for example, those having the following structures may be mentioned.
【化15】 Embedded image
【化16】 Embedded image
【化17】 Embedded image
【化18】 式中、Y2 〜Y13は、水素原子又は式(V)で表わされ
る基を示すが、各化合物中、少なくとも2個は式(V)
で表わされる基を有しており、好ましくは、すべてが式
(V)で表わされる基である。本発明において好適に用
いられる他の熱架橋剤としては、アルデヒドやケトン化
合物を挙げることができる。好ましくは、分子内に2個
以上のアルデヒド又はケトンを有する化合物である。こ
れらの熱架橋剤は単独で使用してもよく、また2種類以
上を組み合わせて使用してもよい。本発明において、熱
架橋剤は全画像記録材料固形分中、5〜70重量%、好
ましくは10〜65重量%の添加量で用いられる。熱架
橋剤の添加量が5重量%未満であると画像記録した際の
画像部の膜強度が悪化し、また、70重量%を越えると
保存時の安定性の点で好ましくない。 [(C)酸発生剤]本発明において酸発生剤とは、光又
は100℃以上の加熱により分解し酸を発生する化合物
である。発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のp
Kaが2以下の強酸であることが好ましい。本発明にお
いて好適に用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩
等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、US4、7
08、925や特開平7−20629号に記載されてい
る化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオ
ンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、
ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、
米国特許第3867147号記載のジアゾニウム化合
物、米国特許第2632703号明細書記載のジアゾニ
ウム化合物や特開平1−102456号及び特開平1−
102457号の各公報に記載されているジアゾ樹脂も
好ましい。また、US5、135、838やUS5、2
00、544に記載されているベンジルスルホナート類
も好ましい。さらに、特開平2−100054号、特開
平2−100055号及び特願平8−9444号に記載
されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合
物類も好ましい。他にも、特開平7−271029号に
記載されている、ハロアルキル置換されたS−トリアジ
ン類も好ましい。これらの化合物は単独で使用してもよ
く、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。これ
らの化合物は、画像記録材料全固形分に対し0.01〜
50重量%、好ましくは0.1〜25重量%、より好ま
しくは0.5〜15重量%の割合で画像記録材料中に添
加される。添加量が0.01重量%未満の場合は、画像
が得られない。また添加量が50重量%を越える場合
は、印刷時非画像部に汚れを発生する。 [(D)赤外線吸収剤]本発明では、赤外レーザーによ
る記録を効率よく行うために、赤外線吸収剤を併用する
ことが必要である。本発明において使用される赤外線吸
収剤は、波長760nmから1200nmの赤外線を有
効に吸収する染料又は顔料であり、好ましくは、波長7
60nmから1200nmに吸収極大を有する染料又は
顔料である。染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。好
ましい染料としては、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭59−202
829号、特開昭60−78787号等に記載されてい
るシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭
58−181690号、特開昭58−194595号等
に記載されているメチン染料、特開昭58−11279
3号、特開昭58−224793号、特開昭59−48
187号、特開昭59−73996号、特開昭60−5
2940号、特開昭60−63744号等に記載されて
いるナフトキノン染料、特開昭58−112792号等
に記載されているスクワリリウム色素、英国特許43
4,875号記載のシアニン染料等を挙げることができ
る。また、米国特許第5,156,938号記載の近赤
外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,
881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チ
オ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国
特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピ
リリウム塩、特開昭58−181051号、同58−2
20143号、同59−41363号、同59−842
48号、同59−84249号、同59−146063
号、同59−146061号に記載されているピリリウ
ム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニ
ン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペン
タメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514
号、同5−19702号に開示されているピリリウム化
合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい
別の例として米国特許第4,756,993号明細書中
に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染
料を挙げることができる。これらの染料のうち特に好ま
しいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色
素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられ
る。本発明において使用される顔料としては、市販の顔
料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔
料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最
新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印
刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載され
ている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔
料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、
紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔
料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的に
は、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、
キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキ
ノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジ
ゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、
イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付け
レーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、
天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が
使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボ
ンブラックである。これら顔料は表面処理をせずに用い
てもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の
方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面
活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シラン
カップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート
等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記
の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書
房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986
年刊)に記載されている。顔料の粒径は0.01μm〜
10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜
1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1
μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径
が0.01μm未満のときは分散物の画像記録層塗布液
中での安定性の点で好ましくなく、また、10μmを越
えると画像記録層の均一性の点で好ましくない。顔料を
分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用
いられる公知の分散技術が使用できる。分散機として
は、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パール
ミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパ
ーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本
ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。これらの染料又は顔料は、画像記録材
料全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは
0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5
〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは1.0〜10
重量%の割合で画像記録材料中に添加することができ
る。顔料又は染料の添加量が0.01重量%未満である
と感度が低くなり、また50重量%を越えると印刷時非
画像部に汚れが発生する。これらの染料又は顔料は他の
成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこ
へ添加してもよい。なお、一般に可視光増感剤の場合、
その作用機構は、「増感剤」(徳丸克己・大河原信編、
講談社(株))等に記載されている通り、エネルギー移
動や電子移動等によるものであるとされている。しかし
ながら、赤外線増感剤の場合は、その作用機構について
十分明確となっているわけではない。例えば、赤外線吸
収剤が赤外線を吸収した後、熱を発し酸発生剤を熱的に
分解しているとも言われている。 [(E)スルホンアミド基を有する低分子化合物]本発
明では、一般式(II)で表されるスルホンアミド基を有
する低分子化合物を使用する。式中、R24は置換基を有
していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示し、R
25は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数20以
下の炭化水素基又は−COR26を示し、R26は置換基を
有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。
R24〜R26において用いることのできる好ましい置換基
としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシル基、カルバモイル基、炭素数20以下のアルコキ
シル基、炭素数20以下のペルフルオロアルキル基及び
炭素数20以下のヒドロキシアルキル基等を挙げること
ができる。本発明において、好適に用いられるスルホン
アミド基を有する低分子化合物の例を式(II−1)〜
(II−8)として以下に挙げる。なお、下記式中、R27
は水素原子又はメチル基を示し、Z2 は酸素原子又はN
Hを示す。Embedded image In the formula, Y 2 to Y 13 each represent a hydrogen atom or a group represented by the formula (V).
And preferably all are groups represented by the formula (V). Other thermal crosslinking agents suitably used in the present invention include aldehyde and ketone compounds. Preferably, it is a compound having two or more aldehydes or ketones in the molecule. These thermal crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the thermal crosslinking agent is used in an amount of 5 to 70% by weight, preferably 10 to 65% by weight, based on the total solid content of the image recording material. If the added amount of the thermal crosslinking agent is less than 5% by weight, the film strength of the image area at the time of image recording deteriorates, and if it exceeds 70% by weight, it is not preferable from the viewpoint of storage stability. [(C) Acid Generator] In the present invention, the acid generator is a compound which is decomposed by light or heating at 100 ° C. or more to generate an acid. Examples of the generated acid include p-acids such as sulfonic acid and hydrochloric acid.
It is preferable that Ka is a strong acid of 2 or less. Examples of the acid generator suitably used in the present invention include onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts and diazonium salts. Specifically, US4,7
08, 925 and the compounds described in JP-A-7-20629. In particular, iodonium salts having sulfonate ions as counter ions, sulfonium salts,
Diazonium salts are preferred. As the diazonium salt,
The diazonium compound described in U.S. Pat. No. 3,867,147, the diazonium compound described in U.S. Pat.
The diazo resin described in each publication of 102457 is also preferable. US5, 135, 838 and US5, 2
Benzyl sulfonates described in US Pat. Further, active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in JP-A Nos. 2-100054, 2-100055 and 8-9444 are also preferable. Besides, haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferable. These compounds may be used alone or in combination of two or more. These compounds are used in an amount of 0.01 to 0.01% based on the total solid content of the image recording material.
It is added to the image recording material in a proportion of 50% by weight, preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 0.5 to 15% by weight. If the amount is less than 0.01% by weight, no image can be obtained. On the other hand, if the amount exceeds 50% by weight, non-image areas are stained during printing. [(D) Infrared absorber] In the present invention, it is necessary to use an infrared absorber in combination in order to efficiently perform recording with an infrared laser. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm, and preferably has a wavelength of 760 nm to 1200 nm.
It is a dye or pigment having an absorption maximum at 60 nm to 1200 nm. As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures such as "Dye Handbook" (edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes Is mentioned. Preferred dyes include, for example, JP-A-58-12524.
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-59-202
No. 829, JP-A-60-78787 and the like, and methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690 and JP-A-58-194595. JP-A-58-11279
No. 3, JP-A-58-224793, JP-A-59-48
187, JP-A-59-73996, JP-A-60-5
2940, JP-A-60-63744 and the like, naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792 and the like, British Patent 43
And the cyanine dyes described in U.S. Pat. Further, a near infrared absorption sensitizer described in U.S. Pat. No. 5,156,938 is also suitably used.
No. 881,924, substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts, JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), trimethinethiapyrylium salts, JP-A-58-181051. 58-2
No. 20143, No. 59-41363, No. 59-842
No. 48, No. 59-84249, No. 59-146063
And the cyanine dyes described in JP-A-59-216146, the pentamethine thiopyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. 5-13514
And the pyrylium compounds disclosed in JP-A-5-19702 are also preferably used. Another preferred example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986) and "Printing Ink Technology" published by CMC, 1984). As the type of pigment, black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment,
Examples include purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments,
Chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments,
Isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments,
Natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used. Preferred among these pigments is carbon black. These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986).
Annual). Pigment particle size is 0.01μm ~
It is preferably in the range of 10 μm,
More preferably, it is in the range of 1 μm, especially 0.1 μm.
It is preferably in the range of μm to 1 μm. If the particle size of the pigment is less than 0.01 μm, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the image recording layer, and if it exceeds 10 μm, the uniformity of the image recording layer is not preferred. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Detail is,
It is described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986). These dyes or pigments are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
10 to 10% by weight, particularly preferably 1.0 to 10
It can be added to the image recording material in a proportion of% by weight. If the amount of the pigment or the dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered, and if it exceeds 50% by weight, the non-image area is stained during printing. These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or a separate layer may be provided and added thereto. In general, in the case of a visible light sensitizer,
Its mechanism of action is "sensitizer" (edited by Katsumi Tokumaru and Shin Okawara,
As described in Kodansha Co., Ltd., etc., it is said to be due to energy transfer or electron transfer. However, the mechanism of action of infrared sensitizers is not sufficiently clear. For example, it is said that the infrared absorber absorbs infrared rays and then generates heat to thermally decompose the acid generator. [(E) Low molecular weight compound having sulfonamide group] In the present invention, a low molecular weight compound having a sulfonamide group represented by the general formula (II) is used. In the formula, R 24 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms;
25 is a hydrogen atom, substituted showed the following hydrocarbon group or -COR 26 which may 20 carbon atoms, R 26 is a hydrocarbon group having not more than carbon atoms 20 which may have a substituent Show.
Preferred substituents which may be used in R 24 to R 26, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a carbamoyl group, of 20 or less alkoxyl group, a perfluoroalkyl group and a carbon number of 20 or less carbon atoms carbon atoms And 20 or less hydroxyalkyl groups. In the present invention, examples of the low molecular weight compound having a sulfonamide group suitably used are represented by formulas (II-1) to
The compound (II-8) is described below. In the following formula, R 27
Represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 2 represents an oxygen atom or N
H is shown.
【化19】 Embedded image
【化20】 上記スルホンアミド基を有する低分子化合物の重量平均
分子量は、好ましくは2000以下である。 [その他]本発明の画像記録材料には更に必要に応じ
て、種々の添加剤を添加することができる。例えば、ラ
ジカル重合可能なエチレン性二重結合を分子内に2個以
上有する多官能モノマーを添加することができる。この
ような化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトール及びジペンタエリスリトールのトリ−、テトラ
−若しくはヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられ
る。これらの多官能モノマーの添加量は、画像記録材料
中30重量%以下である。また、塗布性を改良するため
のアルキルエーテル類(例えば、エチルセルロース、メ
チルセルロース)、界面活性剤類(例えば、フッ素系界
面活牲剤)、膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可
塑剤(例えば、トリクレジルホスフェート、ジメチルフ
タレート、ジブチルフタレート、リン酸トリオクチル、
リン酸トリブチル、クエン酸トリブチル、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコール等)を添加する
ことができる。これらの添加剤の添加量はその使用目的
によって異なるが、一般には画像記録材料の全固形分に
対して0.5〜30重量%である。また、露光による発
熱後直ちに可視像を得るために、露光による発熱によっ
て酸を放出する化合物との間で塩を形成し得る有機染料
を使用することができる。具体的には特開昭50−36
209号公報、同53−8128号公報に記載されてい
るo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニ
ドとの間で塩を形成し得る塩形成性有機染料、特開昭5
3−36223号公報、同54−74728号公報に記
載されているトリハロメチル化合物との間で塩を形成し
得る塩形成性有機染料を挙げることができる。画像の着
色剤として前記の塩形成性有機染料以外の他の染料も用
いることができる。好適な染料として油溶性染料及び塩
基染料を挙げることができる。具体的には、オイルイエ
ロー#101、オイルイエロー#130、オイルピンク
#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、
オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブ
ラックBS、オイルブラックT−505(以上、オリエ
ント化学工業株式会社製)、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバ
イオレット(CI42535)、ローダミンB(CI4
5170B)、マラカイトグリーン(CI4200
0)、メチレンブルー(CI52015)等を挙げるこ
とができる。これらの染料は塩形成性有機染料としても
使用できる。上記染料は、画像記録材料中0〜 重量
%の添加量で使用される。本発明の画像記録材料は、上
記各成分をこれらの成分を溶解又は分散する溶媒を用い
て支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n
−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエ
チルケトン、エチレングリコール、エチレングリコール
モノメチルエーチル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ
−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセ
テート、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチ
ル、乳酸メチル、乳酸エチル等があり、これらの溶媒を
単独で又は混合して使用する。また、これらの溶媒や混
合溶媒に少量の水やトルエン等のフェノール誘導体や高
分子化合物を溶解させない溶媒を添加した混合溶媒も適
当である。尚、上記成分の溶媒中の濃度(固形分)は、
1〜50重量%である。これらの溶媒に上記の各成分を
溶解又は分散させた液を支持体に塗布し、塗布層を乾燥
させるときの温度は50℃〜120℃が好ましい。乾燥
方法は低温で予備乾燥した後、高温で乾燥させたり、適
当な溶媒と濃度を選ぶことによって直接高温で乾燥させ
てもよいが、感熱記録材料であるため150℃以上の高
温で乾燥させることは好ましくない。また、塗布量は用
途により異なるが、例えば、感光性平版印刷版(感熱性
平版印刷版)についていえば一般的に固形分として0.
5〜3.0g/m2 が好ましい。塗布量が少くなるにつ
れ感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。更に
必要に応じて、感光膜の上にマット又はマット層を設け
てもよく、また、下塗り層を設けてもよい。また、本発
明の画像記録材料が塗布される支持体としては、例え
ば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、例
えば、アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜
鉛、銅等のような金属の板、例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸
セルロース、酢酸酪酸セルロース、酪酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール等のようなプラスチックのフィルム、上記の如
き全属がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラ
スチックフィルム等が含まれる。これらの支持体のう
ち、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板を用いる
ことが好ましく、特にアルミニウム板は寸法的に著しく
安定であり好ましい。更に、特公昭48−18327号
公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体
シートも好ましい。また、金属、特に表面にアルミニウ
ムを有する支持体の場合には、適当な親水化処理をする
ことが望ましい。このような親水化処理としては、例え
ば、アルミニウム表面を、ワイヤブラシグレイニング、
研磨粒子のスラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面
化するブラシグレイニング、ボールグレイニング等の機
械的方法、HFやAlCl3 、HClをエッチャントと
するケミカルグレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とす
る電解グレイニングやこれらの粗面化法を複合して行う
複合グレイニングによって表面を砂目立てした後、必要
に応じて酸又はアルカリによりエッチング処理し、引き
続き硫酸、リン酸、シュウ酸、ホウ酸、クロム酸、スル
ファミン酸又はこれらの混酸中で直流又は交流電源にて
陽極酸化を行いアルミニウム表面に強固な不動態皮膜を
設けることが好ましい。このような不動態皮膜によりア
ルミニウム表面は親水化されるが、更に必要に応じて米
国特許第2,714,066号明細書や米国特許第3,
181,461号明細書に記載されている珪酸塩処理
(珪酸ナトリウム、珪酸カリウム)、米国特許第2,9
46,638号明細書に記載されている弗化ジルコニウ
ム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号明
細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特
許第1,108,559号に記載されているアルキルチ
タネート処理、独国特許第1,091,433号明細書
に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1,
134,093号明細書や英国特許第1,230,44
7号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処
理、特公昭44−6409号公報に記載されているホス
ホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に
記載されているフィチン酸処理、特開昭58−1689
3号、同58−18291号の各公報に記載されている
親水性有機高分子化合物と2価の金属よりなる複合処
理、特開昭59−101651号公報に記載されている
スルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗によって親水
化処埋を行ったものは特に好ましい。その他の親水化処
理方法としては米国特許第3,658,662号明細書
に記載されているシリケート電着を挙げることができ
る。像露光に用いられる活性光線の光源としては、例え
ば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線と
しては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線等があ
る。またg線、i線、Deep−UV光、高密度エネル
ギービーム(レーザービーム)も使用できる。レーザー
ビームとしては、へリウム・ネオンレーザー、アルゴン
レーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウム
レーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられる。本
発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ
光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ま
しい。本発明のネガ型画像記録材料の現像液及び補充液
としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用で
きる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウム及び同リチウ等の無機アル
カリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、
n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノー
ルアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も
用いられる。これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を
組み合わせて用いられる。現像液及び補充液には現像性
の促進や抑制、現像ガスの分散及び印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や
有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、
アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性
剤が挙げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素
酸等の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、
更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えること
もできる。これらの現像液の中で特に好ましいものとし
て、例えば、特開昭54−62004号公報、特公昭5
7−7427号公報に記載されているもの、及び特開昭
51−77401号公報に記載されている、ベンジルア
ルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水か
らなる現像液組成物、特開昭53−44202号公報に
記載されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面
活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液
組成物、特開昭55−155355号公報に記載されて
いる、水に対する溶解度が常温において10重量%以下
である有機溶剤とアルカリ剤と水とを含有する現像液組
成物等が挙げられる。本発明の画像記録材料を印刷版と
して用いる場合、上記現像液及び補充液を用いて現像処
理した後、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、
アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理さ
れることが好ましい。後処理にはこれらの処理を種々組
み合わせて用いることができる。近年、製版・印刷業界
では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自
動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一
般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置
と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印
刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理
液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理する。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法
も知られている。このような自動処理においては、各処
理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しなが
ら処理することができる。また、実質的に未使用の処理
液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。Embedded image The weight average molecular weight of the low molecular weight compound having a sulfonamide group is preferably 2000 or less. [Others] Various additives may be further added to the image recording material of the present invention, if necessary. For example, a polyfunctional monomer having two or more radically polymerizable ethylenic double bonds in the molecule can be added. Such compounds include ethylene glycol di (meth)
Of acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol and dipentaerythritol Tri-, tetra- or hexa (meth) acrylate and the like can be mentioned. The addition amount of these polyfunctional monomers is 30% by weight or less in the image recording material. Alkyl ethers (eg, ethyl cellulose, methyl cellulose) for improving coatability, surfactants (eg, fluorine-based surfactants), plasticizers for imparting film flexibility and abrasion resistance (For example, tricresyl phosphate, dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, trioctyl phosphate,
Tributyl phosphate, tributyl citrate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc.) can be added. The amount of these additives varies depending on the purpose of use, but is generally 0.5 to 30% by weight based on the total solids of the image recording material. In order to obtain a visible image immediately after the heat generated by the exposure, an organic dye capable of forming a salt with a compound which releases an acid by the heat generated by the exposure can be used. Specifically, JP-A-50-36
No. 209 and No. 53-8128, salt-forming organic dyes capable of forming a salt with o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide.
Examples thereof include salt-forming organic dyes capable of forming a salt with the trihalomethyl compound described in JP-A-3-36223 and JP-A-54-74728. Dyes other than the salt-forming organic dyes described above can also be used as colorants for images. Suitable dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 130, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS,
Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue,
Crystal violet (CI42555), methyl violet (CI42535), rhodamine B (CI4
5170B), malachite green (CI4200)
0), methylene blue (CI52015) and the like. These dyes can also be used as salt-forming organic dyes. The dye is used in an amount of 0 to Used in weight percent additions. In the image recording material of the present invention, each of the above components is coated on a support using a solvent that dissolves or disperses these components. As the solvent used here,
Methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n
-Butyl alcohol, t-butyl alcohol, ethylene dichloride, cyclohexanone, acetone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ethyl, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy There are -2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, dioxane, dimethylsulfoxide, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate and the like, and these solvents are used alone or in combination. Further, a mixed solvent obtained by adding a small amount of water or a solvent that does not dissolve a phenol derivative such as toluene or a high molecular compound to these solvents or a mixed solvent is also suitable. The concentration (solid content) of the above components in the solvent is as follows:
1 to 50% by weight. The temperature at which the liquid obtained by dissolving or dispersing each of the above components in these solvents is applied to a support and the applied layer is dried is preferably from 50C to 120C. The drying method may be pre-drying at a low temperature, followed by drying at a high temperature, or directly at a high temperature by selecting an appropriate solvent and concentration, but since it is a heat-sensitive recording material, it should be dried at a high temperature of 150 ° C or higher. Is not preferred. Although the amount of application varies depending on the application, for example, a photosensitive lithographic printing plate (thermosensitive lithographic printing plate) generally has a solid content of 0.1%.
5-3.0 g / m < 2 > is preferable. The photosensitivity increases as the coating amount decreases, but the physical properties of the photosensitive film deteriorate. If necessary, a mat or a mat layer may be provided on the photosensitive film, or an undercoat layer may be provided. Examples of the support on which the image recording material of the present invention is applied include paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), for example, aluminum (including aluminum alloy), zinc, Plates of metal such as copper, such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose butyrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. It includes a plastic film, a paper or plastic film on which all the genus are laminated or vapor-deposited, and the like. Among these supports, it is preferable to use a polyester film or an aluminum plate. Particularly, an aluminum plate is preferable because it is extremely stable in dimension. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 is also preferable. Further, in the case of a support having a metal, particularly aluminum having a surface, it is desirable to perform an appropriate hydrophilic treatment. As such a hydrophilization treatment, for example, an aluminum surface is subjected to wire brush graining,
Mechanical methods such as brush graining, ball graining, etc., which roughen with a nylon brush while pouring a slurry of abrasive particles, chemical graining using HF, AlCl 3 , or HCl as an etchant, electrolysis using nitric acid or hydrochloric acid as an electrolytic solution After graining the surface by graining or complex graining that combines these surface roughening methods, etching is performed with an acid or alkali as necessary, and then sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, boric acid, chromium It is preferable to provide a strong passivation film on the aluminum surface by performing anodic oxidation with a DC or AC power supply in an acid, sulfamic acid or a mixed acid thereof. Although the aluminum surface is hydrophilized by such a passivation film, if necessary, U.S. Pat. No. 2,714,066 and U.S. Pat.
No. 181 461, silicate treatment (sodium silicate, potassium silicate), U.S. Pat.
No. 46,638, potassium fluoride zirconate treatment; U.S. Pat. No. 3,201,247, phosphomolybdate treatment; British Patent 1,108,559. Alkyl titanate treatment, the polyacrylic acid treatment described in DE 1,091,433,
No. 134,093 and British Patent 1,230,44
7, a polyvinylphosphonic acid treatment described in JP-B-44-6409, a phytic acid treatment described in U.S. Pat. No. 3,307,951, JP-A-58-1689
No. 3, 58-18291, a composite treatment comprising a hydrophilic organic polymer compound and a divalent metal, having a sulfonic acid group described in JP-A-59-101651. Those subjected to hydrophilization treatment by undercoating of a water-soluble polymer are particularly preferred. Other hydrophilic treatment methods include silicate electrodeposition described in U.S. Pat. No. 3,658,662. As a light source of the active light beam used for image exposure, for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp,
There are chemical lamps, carbon arc lamps and the like. The radiation includes an electron beam, an X-ray, an ion beam, a far infrared ray, and the like. Also, g-line, i-line, Deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) can be used. Examples of the laser beam include a helium / neon laser, an argon laser, a krypton laser, a helium / cadmium laser, and a KrF excimer laser. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable. As the developer and replenisher for the negative-working image recording material of the present invention, conventionally known aqueous alkaline solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, potassium Ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide,
And inorganic alkali salts such as ammonium, potassium and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine,
Organic alkali agents such as n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as required for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the developing gas and increasing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include
Examples include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher, if necessary, hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, reducing agents such as sodium salts and potassium salts of inorganic acids such as bisulfite,
Further, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener can be added. Among these developing solutions, particularly preferred are, for example, JP-A-54-62004 and JP-B-Sho 5-62004.
JP-A-7-7427, and a developer composition comprising benzyl alcohol, an anionic surfactant, an alkali agent and water described in JP-A-51-77401. 53-44202, a developer composition comprising an aqueous solution containing benzyl alcohol, an anionic surfactant, and a water-soluble sulfite; water described in JP-A-55-155355; And a developer composition containing an organic solvent having an solubility of 10% by weight or less at room temperature, an alkali agent and water. When using the image recording material of the present invention as a printing plate, after developing using the developer and the replenisher, washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like,
It is preferable to carry out post-treatment with a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. These processes can be used in various combinations for post-processing. In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and transports the exposed printing plate horizontally while pumping each plate. The processing liquid is sprayed from a spray nozzle to perform development processing. Recently, a method is also known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。スルホンアミド基を有する低分子化合物[SA−1]の
合成 撹拌装置及び冷却管を装着した500ml容量のフラス
コに、4−アセトアミドベンゼンスルホニルクロリド3
7.39g(0.16モル)とアセトニトリル100m
lを入れ、氷水浴下で攪拌した。この混合物に、2、5
−ジメトキシアニリン24.51g(0.16モル)と
トリエチルアミン17.81g(0.176モル)をア
セトニトリル100mlに溶解した溶液を少しずつ滴下
した。滴下終了後、氷水浴を取り外し室温下で1時間攪
拌した。攪拌終了後、反応液を水1.1リットルに投入
し、硫酸にて酸性とした。析出物を濾過により集め、水
洗いした。得られた固形物を減圧下乾燥することより、
4−アセトアミドベンゼンスルホニルアミノ−2,5−
ジメトキシベンゼン52.3gを得た。次に、撹拌装置
及び冷却管を装着した200ml容量のフラスコに、4
−アセトアミドベンゼンスルホニルアミノ−2,5−ジ
メトキシベンゼン24.53g、濃硫酸7.08g、エ
タノール100ml及び水10mlを入れ、1.5時間
加熱還流した。加熱終了後反応液を、水酸化ナトリウム
2.8gを水500mlに溶解した水溶液に投入した。
析出物を濾過により集め、水洗いした。得られた固形物
を減圧下乾燥することより、4−アミノベンゼンスルホ
ニルアミノ−2,5−ジメトキシベンゼン20.93g
を得た。次に、撹拌装置及び冷却管を装着した300m
l容量のフラスコに、4−アミノベンゼンスルホニルア
ミノ−2,5−ジメトキシベンゼン20.93g、酢酸
ナトリウム6.68g及びアセトン100mlを入れ、
氷水浴下で攪拌した。この混合物に、メタクリル酸クロ
リド7.1gを少しずつ滴下した。滴下終了後、氷水浴
を取り外し室温下で1時間攪拌した。攪拌終了後、反応
液を水500mlに投入した。析出物を濾過により集
め、水洗いした。得られた固形物を減圧下乾燥すること
より、4−メタクリロイルアミノベンゼンスルホニルア
ミノ−2、5−ジメトキシベンゼン22.40gを得
た。この化合物を[SA−1]とした。 スルホンアミド基を有する低分子化合物[SA−2]の
合成 p−トルエンスルホン酸クロリドとアニリンを反応さ
せ、N−フェニル−p−トルエンスルホンアミドを合成
し、[SA−2]とした。スルホンアミド基を含有する低分子化合物[SA−3]
の合成 ベンゼンスルホンアミドとベンゾイルクロリドをトリエ
チルアミン存在下反応させ、N−ベンゾイルベンゼンス
ルホンアミドを合成し、[SA−3]とした。 バインダー[BP−1]の合 成 前述の[SA−1]を従来公知の方法にてラジカル重合
し、[SA−1]のホモポリマーを合成し、[BP−
1]とした。重量平均分子量を測定したところ、54,
000であった(ポリスチレン標準)。バインダー[BP−2]の合成 m−クレゾールとホルムアルデヒドを、酸性条件下縮合
反応させ、重量平均分子量4000のノボラック樹脂を
合成し、[BP−2]とした。架橋剤[KZ−1]の合成 1−[α−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エ
チル]−4−[α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エチル]ベンゼン20gを水酸化カリウム水溶液
(10%)100mlに溶解させた。この反応液にホル
マリン(37%)60mlを室温で攪拌しながら1時間
かけて滴下した。反応液を室温にてさらに6時間攪拌し
た後、硫酸水溶液中に投入し、晶析させた。得られたペ
ースト状沈殿物をよく水洗した後、メタノール30ml
を用いて再結晶することにより、白色粉末状の架橋剤
[KZ−1]を得た。収量は20gであった。得られた
化合物は、NMRより1−[α−メチル−α−(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル]−4−[α,α−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼンのヘキサメチ
ロール化合物であることがわかった。逆相HPLC(カ
ラム:Shimpac CLC−ODS(島津製作所
製)、溶媒:メタノール/水=60/40→90/10
によるヘキサメチロール化物の純度は92%であった。The present invention will be described below in detail with reference to examples.
However, the present invention is not limited to these.Of low molecular weight compound [SA-1] having a sulfonamide group
Synthesis 500 ml volume of a flask equipped with a stirrer and cooling tube
To 4-acetamidobenzenesulfonyl chloride 3
7.39 g (0.16 mol) and acetonitrile 100 m
and stirred under an ice-water bath. 2, 5
24.51 g (0.16 mol) of dimethoxyaniline and
17.81 g (0.176 mol) of triethylamine was added to
A solution dissolved in 100 ml of setonitrile is dripped little by little
did. After dropping, remove the ice water bath and stir at room temperature for 1 hour.
Stirred. After completion of the stirring, the reaction solution is poured into 1.1 liter of water.
And acidified with sulfuric acid. The precipitate is collected by filtration and
Washed. By drying the obtained solid under reduced pressure,
4-acetamidobenzenesulfonylamino-2,5-
52.3 g of dimethoxybenzene were obtained. Next, the stirrer
And a 200 ml flask equipped with a condenser
-Acetamidobenzenesulfonylamino-2,5-di
Methoxybenzene 24.53 g, concentrated sulfuric acid 7.08 g,
Add ethanol 100ml and water 10ml, 1.5 hours
Heated to reflux. After heating is completed, the reaction solution is
2.8 g was added to an aqueous solution in which 500 ml of water was dissolved.
The precipitate was collected by filtration and washed with water. The solid obtained
Is dried under reduced pressure to give 4-aminobenzenesulfo.
Nilamino-2,5-dimethoxybenzene 20.93 g
I got Next, 300 m equipped with a stirrer and a cooling pipe
In a 1-liter flask, add 4-aminobenzenesulfonylua
20.93 g of mino-2,5-dimethoxybenzene, acetic acid
Add 6.68 g of sodium and 100 ml of acetone,
The mixture was stirred in an ice water bath. Add this mixture to methacrylic acid
7.1 g of lid was added dropwise little by little. After dripping, ice water bath
Was removed and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After stirring, react
The liquid was poured into 500 ml of water. Collect the precipitate by filtration
And washed with water. Drying the obtained solid under reduced pressure
From 4-methacryloylaminobenzenesulfonylua
22.40 g of mino-2,5-dimethoxybenzene were obtained.
Was. This compound was designated as [SA-1]. Of low molecular weight compound [SA-2] having a sulfonamide group
Synthesis Reaction of p-toluenesulfonic acid chloride with aniline
To synthesize N-phenyl-p-toluenesulfonamide
And [SA-2].Low molecular weight compound containing a sulfonamide group [SA-3]
Synthesis of Triene benzenesulfonamide and benzoyl chloride
The reaction is carried out in the presence of tylamine to give N-benzoylbenzenes.
Rufonamide was synthesized and designated as [SA-3]. Of binder [BP-1] Radical polymerization of the aforementioned [SA-1] by a conventionally known method
Then, a homopolymer of [SA-1] was synthesized, and [BP-
1]. When the weight average molecular weight was measured, 54,
000 (polystyrene standard).Synthesis of binder [BP-2] Condensation of m-cresol and formaldehyde under acidic conditions
Reaction, and a novolak resin having a weight average molecular weight of 4000
It was synthesized and was referred to as [BP-2].Synthesis of Crosslinking Agent [KZ-1] 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) d
Tyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl
20 g of potassium hydroxide solution
(10%) dissolved in 100 ml. The reaction solution is
1 hour while stirring 60 ml of marine (37%) at room temperature
It dripped over. The reaction was stirred at room temperature for a further 6 hours.
After that, the solution was poured into an aqueous sulfuric acid solution to cause crystallization. The obtained pe
After thoroughly washing the paste-like precipitate with water, 30 ml of methanol
Cross-linking agent in the form of white powder by recrystallization using
[KZ-1] was obtained. The yield was 20 g. Got
The compound was analyzed by NMR for 1- [α-methyl-α- (4-H
Droxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4
-Hydroxyphenyl) ethyl] benzene
It was found to be a roll compound. Reversed phase HPLC
Ram: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corporation)
Manufactured), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10
The purity of the hexamethylol compound was 92%.
【化21】 架橋剤[KZ−2]の合成 ビスフェノールAとホルマリンを塩基性条件下で縮合反
応し、重量平均分子量2000のレゾール樹脂を合成
し、架橋剤[KZ−2]とした。 (実施例1)厚さ0.30mmのアルミニウム板(材質
1050)をトリクロロエチレン洗浄して脱脂した後、
ナイロンブラシと400メッシュのパミストン−水懸濁
液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い水洗後、さらに2%HNO 3
に20秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m2 であった。次にこの板を7
%H2 SO4 を電解液として電流密度15A/dm2 で
3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥し
た。次にこのアルミニウム板に下記下塗り液を塗布し、
80℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は10mg
/m2 であった。 下塗り液 β−アラニン 0.1g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40g 純水 60g 次に、下記溶液[P−1]を調整し、この溶液を、上記
の下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1
分間乾燥してネガ型平版印刷用版材[P−1]を得た。
乾燥後の重量は1.5g/m2 であった。 溶液[P−1] スルホンアミド基を有する低分子化合物[SA−1] 0.25g バインダー[BP−1] 1.6g 架橋剤[KZ−1] 0.4g 2−メトキシ−4−フェニルアミノベンゼンジアゾニウムの 0.10g ヘキサフルオロリン酸塩 赤外線吸収剤[SK−1](下記構造式) 0.10g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 5g メチルアルコール 7gEmbedded image Synthesis of Crosslinking Agent [KZ-2] Condensation reaction between bisphenol A and formalin under basic conditions
In response, a resole resin with a weight average molecular weight of 2,000 was synthesized.
Thus, a crosslinking agent [KZ-2] was obtained. Example 1 0.30 mm thick aluminum plate (material
1050) after trichlorethylene washing and degreasing,
Nylon brush and 400 mesh pamistone-water suspension
The surface was grained using the solution, and washed well with water. This
Plate for 9 seconds in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C
After immersion, etching and washing with water, 2% HNO Three
For 20 seconds and washed with water. At this time,
Etching amount is about 3g / mTwoMet. Next, this plate
% HTwoSOFourCurrent density 15A / dmTwoso
3g / mTwoAfter the DC anodic oxide film of
Was. Next, apply the following undercoat liquid to this aluminum plate,
Dried at 80 ° C. for 30 seconds. The amount of coating after drying is 10mg
/ MTwoMet. Undercoat solution β-alanine 0.1 g Phenylphosphonic acid 0.05 g Methanol 40 g Pure water 60 g Next, the following solution [P-1] was prepared, and this solution was
And applied at 100 ° C
After drying for minutes, a negative type lithographic printing plate material [P-1] was obtained.
Weight after drying is 1.5 g / mTwoMet. Solution [P-1] Low molecular weight compound having a sulfonamide group [SA-1] 0.25 g Binder [BP-1] 1.6 g Crosslinking agent [KZ-1] 0.4 g 2-methoxy-4-phenylaminobenzene 0.10 g of diazonium Hexafluorophosphate Infrared absorber [SK-1] (Structural formula shown below) 0.10 g Megafac F-177 0.06 g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ) Methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 5 g Methyl alcohol 7 g
【化22】 得られたネガ型平版印刷用版材[P−1]を、波長83
0〜850nm程度の赤外線を発する半導体レーザで露
光した。露光後、パネルヒーターにて、110℃で15
秒間加熱処理した。次いで、富士写真フイルム(株)製
現像液DP−4(1:8)で現像した。この際、未露光
部が完全に除去されるまでの時間を測定したところ、1
0秒であった。さらに、この印刷版を用い、ハイデルK
OR−D機で印刷したところ、5万枚の印刷物が得られ
た。 (比較例1)実施例1で用いた溶液[P−1]におい
て、[SA−1]を用いなかった以外はまったく同様に
してネガ型平版印刷用版材[Q−1]を作成した。得ら
れた平版印刷用版材[Q−1]を、実施例1と同様にレ
ーザ露光し、加熱し、現像した。現像した際、未露光部
が完全に除去されるまでの時間を測定したところ、20
秒であった。さらに、この印刷版を用い、ハイデルKO
R−D機で印刷したところ、5万枚の印刷物が得られ
た。 (比較例2)実施例1で用いた溶液[P−1]におい
て、[SA−1]の代わりに安息香酸を用いた以外はま
ったく同様にしてネガ型平版印刷用版材[Q−2]を作
成した。得られた平版印刷用版材[Q−2]を、実施例
1と同様にレーザ露光し、加熱し、現像した。現像した
際、未露光部が完全に除去されるまでの時間を測定した
ところ、10秒であった。さらに、この印刷版を用い、
ハイデルKOR−D機で印刷したところ、3.5万枚の
印刷物しか得られた。実施例1及び比較例1、2より、
本発明の記録材料を用いた場合には、印刷時の耐刷性を
劣化させることなく、現像速度を向上させることができ
ることがわかる。 (実施例2)下記溶液[P−2]を調整し、この溶液
を、(実施例1)で作成した下塗り済みのアルミニウム
板に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷
用版材[P−2]を得た。乾燥後の重量は1.5g/m
2 であった。 溶液[P−2] スルホンアミド基を有する低分子化合物[SA−2] 0.25g バインダー[BP−2] 1.6g 架橋剤[KZ−1] 0.4g 2−メトキシ−4−フェニルアミノベンゼンジアゾニウムの 0.10g ヘキサフルオロリン酸塩 赤外線吸収剤[SK−1] 0.10g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 5g メチルアルコール 7g 得られた平版印刷用版材[P−2]を、実施例1と同様
にレーザ露光し、加熱し、現像した。現像した際、未露
光部が完全に除去されるまでの時間を測定したところ、
6秒であった。さらに、この印刷版を用い、ハイデルK
OR−D機で印刷したところ、2.5万枚の印刷物が得
られた。 (比較例3)実施例2で用いた溶液[P−2]におい
て、[SA−2]を用いなかった以外はまったく同様に
してネガ型平版印刷用版材[Q−3]を作成した。得ら
れた平版印刷用版材[Q−3]を、実施例2と同様にレ
ーザ露光し、加熱し、現像した。現像した際、未露光部
が完全に除去されるまでの時間を測定したところ、10
秒であった。さらに、この印刷版を用い、ハイデルKO
R−D機で印刷したところ、2.5万枚の印刷物が得ら
れた。 (比較例4)実施例2で用いた溶液[P−2]におい
て、[SA−2]の代わりにビスフェノールAを用いた
以外はまったく同様にしてネガ型平版印刷用版材[Q−
4]を作成した。得られた平版印刷用版材[Q−4]
を、実施例2と同様にレーザ露光し、加熱し、現像し
た。現像した際、未露光部が完全に除去されるまでの時
間を測定したところ、6秒であった。さらに、この印刷
版を用い、ハイデルKOR−D機で印刷したところ、
1.5万枚の印刷物しか得られた。実施例2及び比較例
3、4より、本発明の記録材料を用いた場合には、印刷
時の耐刷性を劣化させることなく、現像速度を向上させ
ることができることがわかる。 (実施例3)下記溶液[P−3]を調整し、この溶液
を、(実施例1)で作成した下塗り済みのアルミニウム
板に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷
用版材[P−3]を得た。乾燥後の重量は1.5g/m
2 であった。 溶液[P−3] スルホンアミド基を有する低分子化合物[SA−3] 0.25g バインダー[BP−1] 1.0g バインダー[BP−2] 0.6g 架橋剤[KZ−2] 0.4g 2−メトキシ−4−フェニルアミノベンゼンジアゾニウムの 0.10g ヘキサフルオロリン酸塩 赤外線吸収剤[SK−1] 0.10g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 5g メチルアルコール 7g 得られた平版印刷用版材[P−3]を、実施例1と同様
にレーザ露光し、加熱し、現像した。現像した際、未露
光部が完全に除去されるまでの時間を測定したところ、
8秒であった。さらに、この印刷版を用い、ハイデルK
OR−D機で印刷したところ、4.0万枚の印刷物が得
られた。 (比較例5)実施例3で用いた溶液[P−3]におい
て、[SA−3]を用いなかった以外はまったく同様に
してネガ型平版印刷用版材[Q−5]を作成した。得ら
れた平版印刷用版材[Q−5]を、実施例3と同様にレ
ーザ露光し、加熱し、現像した。現像した際、未露光部
が完全に除去されるまでの時間を測定したところ、15
秒であった。さらに、この印刷版を用い、ハイデルKO
R−D機で印刷したところ、4.0万枚の印刷物が得ら
れた。 (比較例6)実施例3で用いた溶液[P−3]におい
て、[SA−3]の代わりにトルエンスルホン酸を用い
た以外はまったく同様にしてネガ型平版印刷用版材[Q
−6]を作成した。得られた平版印刷用版材[Q−6]
を、実施例3と同様にレーザ露光し、加熱し、現像し
た。現像した際、未露光部が完全に除去されるまでの時
間を測定したところ、8秒であった。さらに、この印刷
版を用い、ハイデルKOR−D機で印刷したところ、
2.7万枚の印刷物しか得られた。実施例3及び比較例
5、6より、本発明の記録材料を用いた場合には、印刷
時の耐刷性を劣化させることなく、現像速度を向上させ
ることができることがわかる。Embedded image The obtained negative type lithographic printing plate material [P-1] was treated with a wavelength of 83
Exposure was performed with a semiconductor laser emitting infrared light of about 0 to 850 nm. After the exposure, the panel heater was used at 110 ° C for 15 minutes.
Heat treatment was performed for seconds. Subsequently, development was performed with a developer DP-4 (1: 8) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. At this time, the time until the unexposed portion was completely removed was measured.
It was 0 seconds. Furthermore, using this printing plate, Heidel K
When printing was performed by an OR-D machine, 50,000 printed matters were obtained. Comparative Example 1 A negative type lithographic printing plate [Q-1] was prepared in exactly the same manner as in the solution [P-1] used in Example 1, except that [SA-1] was not used. The obtained planographic printing plate material [Q-1] was exposed to laser light, heated and developed in the same manner as in Example 1. When developing, the time until the unexposed portion was completely removed was measured.
Seconds. Furthermore, using this printing plate, Heidel KO
As a result of printing with an RD machine, 50,000 printed matters were obtained. (Comparative Example 2) In the solution [P-1] used in Example 1, except that benzoic acid was used instead of [SA-1], a negative type planographic printing plate [Q-2] was used. It was created. The obtained lithographic printing plate material [Q-2] was exposed to laser light, heated and developed in the same manner as in Example 1. Upon development, the time required to completely remove the unexposed portions was 10 seconds. Furthermore, using this printing plate,
Printing on a Heidel KOR-D machine yielded only 35,000 copies. From Example 1 and Comparative Examples 1 and 2,
It can be seen that when the recording material of the present invention is used, the developing speed can be improved without deteriorating the printing durability during printing. (Example 2) The following solution [P-2] was prepared, and this solution was applied to an undercoated aluminum plate prepared in (Example 1), and dried at 100 ° C for 1 minute for negative type lithographic printing. Plate material [P-2] was obtained. Weight after drying is 1.5 g / m
Was 2 . Solution [P-2] Low-molecular compound [SA-2] having a sulfonamide group 0.25 g Binder [BP-2] 1.6 g Crosslinking agent [KZ-1] 0.4 g 2-methoxy-4-phenylaminobenzene 0.10 g of diazonium Hexafluorophosphate Infrared absorbent [SK-1] 0.10 g Megafac F-177 0.06 g (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) methyl ethyl ketone 15 g 1- Methoxy-2-propanol 5 g Methyl alcohol 7 g The obtained lithographic printing plate material [P-2] was exposed to laser light, heated and developed in the same manner as in Example 1. When developed, when the time until the unexposed part was completely removed was measured,
6 seconds. Furthermore, using this printing plate, Heidel K
As a result of printing with an OR-D machine, 25,000 sheets of printed matter were obtained. Comparative Example 3 A negative type lithographic printing plate [Q-3] was prepared in exactly the same manner as in the solution [P-2] used in Example 2, except that [SA-2] was not used. The obtained planographic printing plate material [Q-3] was exposed to laser, heated and developed in the same manner as in Example 2. When developing, the time until the unexposed portion was completely removed was measured.
Seconds. Furthermore, using this printing plate, Heidel KO
As a result of printing with an RD machine, 25,000 printed matters were obtained. (Comparative Example 4) In the solution [P-2] used in Example 2, except that bisphenol A was used instead of [SA-2], a negative type lithographic printing plate [Q-
4]. Obtained planographic printing plate [Q-4]
Was exposed to laser, heated and developed in the same manner as in Example 2. Upon development, the time required for the unexposed portions to be completely removed was 6 seconds. Furthermore, when this printing plate was used for printing on a Heidel KOR-D machine,
Only 15,000 prints were obtained. From Example 2 and Comparative Examples 3 and 4, it can be seen that when the recording material of the present invention was used, the developing speed could be improved without deteriorating the printing durability during printing. (Example 3) The following solution [P-3] was prepared, and this solution was applied to an undercoated aluminum plate prepared in (Example 1), and dried at 100 ° C for 1 minute for negative type lithographic printing. Plate material [P-3] was obtained. Weight after drying is 1.5 g / m
Was 2 . Solution [P-3] Low-molecular compound [SA-3] having a sulfonamide group 0.25 g Binder [BP-1] 1.0 g Binder [BP-2] 0.6 g Crosslinking agent [KZ-2] 0.4 g 0.10 g of 2-methoxy-4-phenylaminobenzenediazonium Hexafluorophosphate Infrared absorbent [SK-1] 0.10 g Megafac F-177 0.06 g (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Surfactant) Methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 5 g Methyl alcohol 7 g The obtained lithographic printing plate material [P-3] was exposed to laser light, heated, and developed in the same manner as in Example 1. When developed, when the time until the unexposed part was completely removed was measured,
8 seconds. Furthermore, using this printing plate, Heidel K
When printing was performed by an OR-D machine, 40,000 sheets of printed matter were obtained. (Comparative Example 5) A negative planographic printing plate [Q-5] was prepared in exactly the same manner as in the solution [P-3] used in Example 3, except that [SA-3] was not used. The obtained lithographic printing plate material [Q-5] was exposed to laser, heated and developed in the same manner as in Example 3. When developing, the time until the unexposed portion was completely removed was measured.
Seconds. Furthermore, using this printing plate, Heidel KO
As a result of printing with an RD machine, 40,000 sheets of printed matter were obtained. (Comparative Example 6) In the solution [P-3] used in Example 3, except that toluene sulfonic acid was used instead of [SA-3], the negative type lithographic printing plate [Q
-6]. The obtained planographic printing plate material [Q-6]
Was exposed to laser, heated and developed in the same manner as in Example 3. Upon development, the time required for the unexposed portions to be completely removed was measured, and was 8 seconds. Furthermore, when this printing plate was used for printing on a Heidel KOR-D machine,
Only 27,000 prints were obtained. From Example 3 and Comparative Examples 5 and 6, it can be seen that when the recording material of the present invention was used, the developing speed could be improved without deteriorating the printing durability during printing.
【発明の効果】本発明は、赤外線を放射する固体レーザ
及び半導体レーザを用いて記録することにより、コンピ
ューター等のデジタルデータから直接製版可能であり、
さらに膜強度を損なうことなく現像時間を短縮できるネ
ガ型画像記録材料を提供できる。According to the present invention, a plate can be directly made from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light.
Further, it is possible to provide a negative image recording material capable of shortening the development time without impairing the film strength.
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/033 G03F 7/033 Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/033 G03F 7/033
Claims (1)
単位を有するポリマーと、(B)酸により架橋する化合
物と、(C)光又は熱により酸を発生させる化合物と、
(D)赤外線吸収剤、(E)下記一般式(II)で表され
るスルホンアミド基を有する低分子化合物とを含むこと
を特徴とするネガ型画像記録材料。 【化1】 式中、X1 は、それ自体アルカリ可溶性を示すか、又
は、アルカリ可溶性基を有する連結基を示す。Ar
1 は、置換基を有していてもよい炭素数20個以下の芳
香族炭化水素基を示す。Y1 は、N−R3 、酸素原子又
は硫黄原子を示す。nは1〜4の整数を示す。L1 は、
単結合、エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホ
ン酸アミド結合、エーテル結合、チオエーテル結合又は
これらの結合を含有していてもよい炭素数20以下の炭
化水素基を示す。L2 は、単結合又は炭素数20以下の
炭化水素基を示す。R1 は、水素原子又はメチル基を示
す。R2は、置換基を有していてもよい炭素数20個以
下の炭化水素基を示す。R3 は、水素原子又は置換基を
有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示
す。 【化2】 式中、R24は置換基を有していてもよい炭素数20以下
の炭化水素基を示し、R25は水素原子、置換基を有して
いてもよい炭素数20以下の炭化水素基又は−COR26
を示し、R26は置換基を有していてもよい炭素数20以
下の炭化水素基を示す。(A) a polymer having a structural unit represented by the following general formula (I), (B) a compound capable of crosslinking by an acid, (C) a compound capable of generating an acid by light or heat,
A negative-type image recording material comprising: (D) an infrared absorber; and (E) a low-molecular compound having a sulfonamide group represented by the following general formula (II). Embedded image In the formula, X 1 itself shows alkali solubility or a linking group having an alkali-soluble group. Ar
1 represents an aromatic hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Y 1 represents NR 3 , an oxygen atom or a sulfur atom. n shows the integer of 1-4. L 1 is,
It represents a single bond, an ester bond, a carboxylic acid amide bond, a sulfonic acid amide bond, an ether bond, a thioether bond or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may contain these bonds. L 2 represents a single bond or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. R 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Embedded image In the formula, R 24 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, and R 25 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent or −COR 26
And R 26 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9073553A JPH10268517A (en) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Negative image recording material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9073553A JPH10268517A (en) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Negative image recording material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10268517A true JPH10268517A (en) | 1998-10-09 |
Family
ID=13521559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9073553A Pending JPH10268517A (en) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Negative image recording material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10268517A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100895767B1 (en) | 2003-06-12 | 2009-04-30 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | Polymerizable Ester Having Sulfonamide Structure, Polymer, Resist Composition and Patterning Process |
| JP2009237170A (en) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | Negative resist composition and method for forming resist pattern using the same |
| JP2010234649A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method |
-
1997
- 1997-03-26 JP JP9073553A patent/JPH10268517A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100895767B1 (en) | 2003-06-12 | 2009-04-30 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | Polymerizable Ester Having Sulfonamide Structure, Polymer, Resist Composition and Patterning Process |
| JP2009237170A (en) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | Negative resist composition and method for forming resist pattern using the same |
| JP2010234649A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method |
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