JPH10269613A

JPH10269613A - 光ヘッド装置

Info

Publication number: JPH10269613A
Application number: JP9067718A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Takeda; 正武田
Original assignee: Sankyo Seiki Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Nidec Instruments Corp
Priority date: 1997-03-21
Filing date: 1997-03-21
Publication date: 1998-10-09

Abstract

(57)【要約】【課題】レーザ光源の発光光量制御のためにレーザ光
の一部を反射回折するための回折領域の格子ピッチを狭
くする必要のない光ヘッド装置を提案すること。【解決手段】光ヘッド装置１のホログラムレンズ３
は、光記録媒体５からの戻り光Ｌｒを回折して信号用受
光素子７に導く第１の回折領域３２と、半導体モジュー
ル２からのレーザ光Ｌ１の一部を反射回折してモニター
用受光素子８に集束する第２の回折領域３３を備えてい
る。モニター用受光素子８は、その受光面８１の中心Ｉ
が対称線分Ｎよりも半導体レーザモジュール２の発光点
Ｊから離れた位置となるように半導体基板６に形成され
ている。このため、第２の回折領域３３ではレーザ光Ｌ
１の一部をその入射角よりも大きな角度で外側に反射回
折すれば、その反射回折光をモニター用受光素子８に導
くことができる。このため、第２の回折領域３３の格子
のピッチを狭くする必要がないので、第２の回折領域３
３を容易に、しかも精度良く形成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の記録
再生を行う光ヘッド装置に関し、特に、レーザ光源から
光記録媒体に向けて出射されたレーザ光を直接検出する
ことにより、レーザ光源の発光光量をフィードバック制
御する光ヘッド装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＣＤやＤＶＤ等の光記録媒体の記録再生
を行うための光ヘッド装置では、レーザ光源から出射さ
れるレーザ光の光量が温度や経時変化によって大きく変
動するので、レーザ光源から常に一定の発光出力が得ら
れるようにレーザ光源の発光光量をフィードバック制御
する必要がある。

【０００３】レーザ光源の発光光量の制御方法として
は、レーザ光源から光記録媒体に向けて出射される前方
光を直接に検出する方法が知られている。この方法を採
用した光ヘッド装置は、特許第２５４３２２７号、特開
平２−２６５０３６号、特公平８−７８７２号、および
特開平３−２６９８３５号公報等に開示されている。

【０００４】特許第２５４３２２７号公報に記載の光ヘ
ッド装置では、光記録媒体からの戻り光を回折して信号
用受光素子に導く第１の回折領域と、レーザ光源から光
記録媒体に向けて出射された前方光の一部を反射回折し
てモニター用受光素子に導く第２の回折領域とが形成さ
れたホログラムレンズを使用している。第１および第２
の回折領域のうち、第２の回折領域は、透明基板の表面
に形成した回折格子に金属反射膜をコーティングした構
成となっている。

【０００５】また、特開平２−２６５０３６号公報に記
載の光ヘッド装置では、上記のホログラムレンズとほぼ
同一の構成のホログラムレンズを使用すると共に、同一
基板上に形成された第１およびモニター用受光素子を使
用している。

【０００６】さらに、特公平８−７８７２号公報に記載
の光ヘッド装置では、第１の回折領域のみが形成された
ホログラムレンズを使用すると共に、前方光の一部をモ
ニター用受光素子に向けて反射させる所定の反射率を有
する光学素子を使用している。また、この光ヘッド装置
でも、同一基板上に形成された信号用およびモニター用
受光素子を使用している。

【０００７】さらにまた、特開平３−２６９８３５号公
報に記載の光ヘッド装置では、レーザ光源から対物レン
ズに到る光路の途中位置に配置されている反射ミラーの
表面に対して第１および第２の回折領域を形成してい
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】これらの光ヘッド装置
においては、第２の回折領域が第１の回折領域の外周に
位置しているので、第２の回折領域に入射するレーザ光
源からの前方光の入射角度が大きい。また、前方光の外
寄りの部分を第２の回折領域によって内側に向かって反
射回折して、モニター用受光素子に前方光の一部を導く
ようにしている。このような回折特性を第２の回折領域
に対して付与する場合には、非常に狭いピッチの回折格
子を形成する必要がある。しかし、微細な回折格子を精
度良く製造することは困難であり、その精度が悪いと所
望の回折特性が得られないという弊害が発生する。

【０００９】これに加えて、特許第２５４３２２７号、
および特開平２−２６５０３６号公報に記載の光ヘッド
装置では、回折格子上に金属反射膜をコーティングして
あるので、金属反射膜によって格子の凹凸やピッチが不
正確になりやすく、ゴーストが発生しやすい。

【００１０】また、特公平８−７８７２号公報に記載の
光ヘッド装置では、所定の反射率を有する光学素子で前
方光の一部を反射させているので、反射光は発散光とな
る。従って、光検出器に導かれた光のビーム径は非常に
大きくなり、モニター用受光素子が小さい場合には、レ
ーザ光源の発光光量の制御に必要な光電流が得られな
い。

【００１１】さらに、特開平３−２６９８３５号公報に
記載の光ヘッド装置では、反射ミラーの表面においては
前方光のビーム径は非常に大きくなるので、前方光を反
射回折するためには大面積の回折格子が必要となり、反
射ミラーのコストが上昇してしまう。

【００１２】本発明の課題は、上記の各問題を伴うこと
なく、レーザ光源からの前方光の一部を回折反射してレ
ーザ光源の発光光量制御を行うことの可能な装置を提案
することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、レーザ光源と、このレーザ光源から出
射されたレーザ光を光記録媒体上に集光する対物レンズ
と、前記レーザ光源から前記対物レンズに到る光路の途
中位置に配置されたホログラムレンズと、前記光記録媒
体からの戻り光の一部を検出する信号用受光素子と、前
記レーザ光源の発光光量をフィードバック制御するため
に、前記レーザ光源から前記光記録媒体に向けて出射さ
れたレーザ光の一部を検出するモニター用受光素子とを
有し、前記ホログラムレンズが、前記戻り光を回折して
前記信号用受光素子に導く第１の回折領域と、前記レー
ザ光源から出射されたレーザ光の一部を反射回折して前
記モニター用受光素子に導く第２の回折領域とを備えた
光ヘッド装置において、前記レーザ光源の発光点に最も
近い前記第２の回折領域の境界点を起点として描いた当
該第２の回折領域に垂直な垂線に対して、当該境界点を
起点として前記発光点を通って延びる線分と線対称な対
称線分を、前記境界点を起点として描いた場合に、前記
第２の検出器の受光面の中心が、当該対称線分よりも前
記発光点から離れた位置にあることを特徴としている。

【００１４】このように構成した本発明の光ヘッド装置
では、第２の回折領域に入射したレーザ光を、入射角よ
り大きな反射角で外側に回折反射させれば、反射光をモ
ニター用受光素子に導くことができる。従って、回折ピ
ッチを狭くしなくても、このような方向にレーザ光を反
射回折させることができる。このため、回折格子の製造
が容易になり、第２の回折領域に対して所望の回折特性
を確実に付与することができる。

【００１５】ここで、レーザ光源およびモニター用受光
素子の配置としては、システム光軸に垂直な同一平面上
に、レーザ光源の発光点およびモニター用受光素子の受
光面が位置する配置関係を採用できる。

【００１６】また、第２の回折領域としては、透明基板
の光入射側の表面に反射膜を形成し、この反射膜の表面
に回折格子を形成した構成を採用できる。このように反
射膜の表面に回折格子を形成すれば、反射膜によって回
折格子が覆われた従来構成の場合のような反射膜による
格子のピッチや凹凸のズレを防止できる。また、第２の
回折領域で反射回折した光がモニター用受光素子に集束
するので、モニター用受光素子の受光面を大きくする必
要もなく、さらに、レーザ光源の発光光量の制御に必要
な光電流を確実に得ることができる。

【００１７】さらに、第１およびモニター用受光素子を
同一基板上に形成すれば、光学系をより簡易に構成でき
る。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明を適
用した光ヘッド装置の一例を説明する。図１（Ａ）に
は、光ヘッド装置をＹ方向から見たときの概略構成を示
し、図１（Ｂ）には、Ｘ方向から見たとき概略構成を示
してある。なお、Ｘ方向は、光記録媒体に形成されてい
るトラックの形成方向であり、Ｙ方向は対物レンズのト
ラッキング移動方向、Ｚ方向は対物レンズのフォーカシ
ング移動方向である。

【００１９】図１（Ａ）および（Ｂ）に示すように、光
ヘッド装置１は、レーザ光源として半導体レーザモジュ
ール２を有し、この半導体レーザモジュール２から光記
録媒体５に向かって（Ｚ方向に向かって）ホログラムレ
ンズ３および対物レンズ４がこの順序で配置されてい
る。また、光ヘッド装置１は、光記録媒体５からの戻り
光Ｌｒを受光する信号用受光素子７と、ホログラムレン
ズ３で反射回折した半導体レーザモジュール２からのレ
ーザ光（前方光）Ｌ１の一部を受光するモニター用受光
素子８を有している。

【００２０】図２に示すように、半導体レーザモジュー
ル２は、Ｘ方向に向かってレーザ光Ｌ１を出射可能に配
置されたレーザダイオード２１と、レーザダイオード２
１からのレーザ光Ｌ１を反射して、レーザ光Ｌ１をＺ方
向に向かって出射するミラー２２を備えている。レーザ
ダイオード２１は、直接的あるいはサブマウントを介し
て半導体基板６に設置されている。レーザダイオード２
１の活性層は半導体基板６の表面（ＸＹ平面）と平行に
なっており、レーザダイオード２１からＺ方向に長い楕
円形状の波面を備えたレーザ光Ｌ１が出射されるように
なっている。ミラー２２は、レーザダイオード２１から
出射されたレーザ光Ｌ１の出射方向に対して４５度傾斜
した反射面２２１を備えている。ミラー２２としては、
例えば、半導体基板６の一部をエッチングすることによ
って形成できる。この代わりに、半導体基板６に対して
独立した光学素子を取り付けても勿論良い。

【００２１】レーザダイオード２１から出射されたレー
ザ光Ｌ１は、Ｘ方向に進行して、ミラー２２の反射面２
２１に入射する。レーザ光Ｌ１は、反射面２２１で直角
に折り曲げられてＺ方向に向かって出射される。レーザ
ダイオード２１から出射されたレーザ光Ｌ１は、Ｚ方向
に長い楕円形状の波面となっているので、反射面２２１
からＸ方向に長い楕円形状の波面、すなわち、Ｘ方向へ
の広がりが大きいレーザ光Ｌ１が光記録媒体５に向けて
出射されることになる。この出射されたレーザ光Ｌ１
は、ホログラムレンズ３に入射する。

【００２２】図３（Ａ）および（Ｂ）には、それぞれホ
ログラムレンズ３の平面図および断面図を示してある。
図３（Ａ）において、破線で示す楕円形の領域Ｒはレー
ザ光Ｌ１が照射される領域である。ホログラムレンズ３
は、光記録媒体５からの戻り光Ｌｒを回折して信号用受
光素子７に導く第１の回折領域３２と、半導体レーザモ
ジュール２から光記録媒体５に向けて出射されたレーザ
光Ｌ１の一部を反射回折してモニター用受光素子７に導
く第２の回折領域３３を備えている。第１の回折領域３
２は、照射領域Ｒの中心とほぼ同一の中心を持ち、照射
領域Ｒの短軸方向（Ｙ方向）の径とほぼ等しい半径ａを
持った円形領域である。この第１の回折領域３２は、ベ
ース基板としての透明基板３１と、この透明基板３１の
光入射側の表面３１１に形成された第１の回折格子３４
から形成されている。第１の回折格子３４は、半導体レ
ーザモジュール２からのレーザ光Ｌ１を透過し、光記録
媒体５からの戻り光Ｌｒを回折して信号用受光素子７に
集束するようなパターンの格子になっている。また、こ
の第１の回折格子３４が形成されている第１の回折領域
３２は、半導体レーザモジュール２、ホログラムレンズ
３、対物レンズ４等の取付け誤差や半導体レーザモジュ
ール２からのレーザ光の出射角度誤差、さらには、トラ
ッキング動作による対物レンズ４の移動等を考慮して一
回り大きな寸法に形成することが望ましい。

【００２３】一方、第２の回折領域３３は、レーザ光Ｌ
１の照射領域Ｒから第１の回折領域３２を除いた領域の
うち、一方の領域（図３（Ａ）において斜線で表す領
域）に形成されている。この第２の回折領域３３は、ベ
ースとしての透明基板３１と、この透明基板３１の光入
射側の表面３１１にコーティングされた金属反射膜３６
と、この金属反射膜３６の表面に形成された第２の回折
格子３５から形成されている。金属反射膜３６は、例え
ば、Ａｌ、Ｆ、Ｎｅ−Ｆｅ、Ａｕ、Ｃｒ等から形成する
ことができる。第２の回折格子３５は、入射したレーザ
光Ｌ１の一部が反射回折してモニター用受光素子８に集
束するようなパターンの格子になっている。すなわち、
第２の回折領域３３で反射回折した光がモニター用受光
素子８の受光面８１に集束するように、第２の回折格子
３５の回折特性が設定されている。例えば、モニター用
受光素子８を源とする球面波と、半導体レーザモジュー
ル２を源とする球面波の干渉によってできる干渉縞から
第２の回折格子３５を形成することができる。その製造
は、上記のパターンを備えたフォトマスクを作製し、こ
のフォトマスクを用いて透明基板３１の表面にパターン
を転写して、その後、エッチング等を行うようにすれば
良い。なお、回折格子３４、３５の材料としてポリジア
セチレンを用いる場合には、表面エッチングを行うこと
なく、ＵＶ照射のみで微細な格子を形成することができ
るというメリットがある。

【００２４】ホログラムレンズ３において、照射領域Ｒ
のうち、第１および第２の回折領域３２、３３が形成さ
れていない領域は、透明基板３１の表面３１１がそのま
ま露出した状態になっている。

【００２５】再び図１に戻って説明すると、ホログラム
レンズ３に入射した半導体レーザモジュール２からのレ
ーザ光Ｌ１うち、第１の回折領域３２に入射したレーザ
光は、第１の回折領域３２を透過して対物レンズ４に導
かれる。対物レンズ４に導かれたレーザ光は、この対物
レンズ４を介して光記録媒体５の記録面に光スポットし
て集光する。また、ホログラムレンズ３に入射したレー
ザ光Ｌ１のうち、第２の回折領域３３に入射したレーザ
光は、第２の回折領域３３で反射回折され、モニター用
受光素子８の受光面８１に集束する。モニター用受光素
子８の光電流から半導体レーザモジュール２の発光光量
のフィードバック制御が行われる。

【００２６】これに対して、ホログラムレンズ３に入射
したレーザ光Ｌ１のうち、透明基板３１の表面３１１が
露出している部分に入射したレーザ光は、そのまま透明
基板３１を透過する。このため、本例では、第１および
第２の回折領域３２、３３が形成されていない領域に入
射した光が透明基板３１の表面３１１で反射して信号用
受光素子７およびモニター用受光素子８に入射するのを
防止できる。なお、第１および第２の回折領域３２、３
３が形成されていない透明基板３１の表面３１１に光吸
収膜を形成しておくことによっても上記の事態を回避で
きる。

【００２７】光記録媒体５の記録面で変調を受けて反射
した戻り光Ｌｒは、対物レンズ４を透過して再びホログ
ラムレンズ３の第１の回折領域３２に入射する。第１の
回折領域３２に入射した戻り光Ｌｒは、回折されて信号
用受光素子７の受光面７１に集束する。本例では、信号
用受光素子７からの光電流からピット信号、トラッキン
グ誤差信号、およびフォーカス誤差信号を得て、情報の
読み取り、対物レンズ４のトラッキング制御、および対
物レンズ４のフォーカシング制御が行われる。

【００２８】次に、図１および図４を基づき、各受光素
子７、８について説明する。図１（Ａ）において、二点
鎖線Ｍは、半導体レーザモジュール２の発光点Ｊに最も
近いホログラムレンズ３の第２の回折領域３３の境界点
Ｈを起点として描いた当該第２の回折領域３３に対して
垂直な垂線である。また、破線Ｎは、当該垂線Ｍに対し
て、第２の回折領域３３の境界点Ｈを起点として描いた
半導体レーザモジュール２の発光点Ｊを通って延びる線
分と線対称な関係にある対称線分である。

【００２９】モニター用受光素子８は、半導体基板６に
直接形成されており、その受光面８１の中心Ｉが対称線
分Ｎよりも半導体レーザモジュール２の発光点Ｊから離
れた場所に位置している。すなわち、垂線Ｍと半導体基
板６との交点をＰ、その受光面８１の中心Ｉから交点Ｐ
までの距離をｂ、交点Ｐから半導体レーザモジュール２
の発光点Ｊまでの距離をａとした場合に、モニター用受
光素子８はａ＜ｂを満たすような位置に形成されてい
る。本例では、モニター用受光素子８を上記の条件を満
たすように配置してあるので、半導体レーザモジュール
２から出射されたレーザ光Ｌ１の一部をモニター用受光
素子８に導く際には、第２の回折領域３３でレーザ光Ｌ
１の一部が、その入射角よりも大きな反射角で当該レー
ザ光Ｌ１の光軸から離れる方向に反射回折される。

【００３０】また、モニター用受光素子８は、その受光
面８１と半導体レーザモジュール２の発光点Ｊがシステ
ム光軸（本例では、レーザ光Ｌ１の光軸と一致してい
る。）に対して垂直なほぼ同一の平面上に位置してい
る。信号用受光素子７は、モニター用受光素子８と同一
の半導体基板６に形成され、半導体レーザモジュール２
に対してＹ方向に所定の距離だけずれた位置に形成され
ている。

【００３１】このような本例の光ヘッド装置１において
は、第２の回折領域３３で外側、すなわち、半導体レー
ザモジュール２から出射されたレーザ光Ｌ１の一部を当
該レーザ光Ｌ１の光軸に対して遠ざかる方向に反射回折
することにより、その反射回折光をモニター用受光素子
８に導いている。このため、レーザ光の一部を内側に向
かって反射する場合に比べて、第２の回折領域３３の第
２の回折格子３５のピッチを広げることができる。従っ
て、第２の回折格子３５を高精度に形成することができ
る。換言すれば、第２の回折領域３３に対して所望の回
折特性を確実に付与することができる。

【００３２】また、本例の光ヘッド装置１においては、
モニター用受光素子８の受光面８１と半導体レーザモジ
ュール２の発光点Ｊがシステム光軸Ｌ（本例では、レー
ザ光Ｌ１の光軸と一致している。）に対して垂直なほぼ
同一の平面上に位置している。従って、半導体レーザモ
ジュール２とモニター用受光素子８を立体的に配列させ
る場合に比べて、それらを配列し易い構成となってい
る。また、本例においては、モニター用受光素子８と信
号用受光素子７を同一の半導体基板６に形成してあるの
で、光学系をコンパクトに構成できる。

【００３３】さらに、本例の光ヘッド装置１において
は、透明基板３１の表面３１１にコーティングした金属
反射膜３６の表面に第２の回折格子３５を形成すること
によって第２の回折領域３３を構成している。また、第
２の回折格子３５に対して、第２の回折領域３３で反射
回折した光がモニター用受光素子８に集束するような回
折特性を付与してある。このため、金属反射膜３６をコ
ーティングすることによる格子のピッチや凹凸のずれが
ない。従って、ピッチや凹凸のずれに伴うゴーストの発
生を防止できる。また、第２の回折領域３３で反射回折
した光が第２の回折格子３５に集束するので、モニター
用受光素子８の受光面８１を大面積しなくても、半導体
レーザモジュール２の発光光量のフィードバック制御に
必要な光電流を確実に得ることができる。

【００３４】さらにまた、本例の光ヘッド装置１におい
ては、ホログラムレンズ３の各回折格子３４、３５が構
成されている表面３１１が半導体レーザモジュール２の
側に向くように、当該ホログラムレンズ３を配置してあ
る。ここで、各回折格子３４、３５が形成された透明基
板３１の表面３１１が光記録媒体５の側に向くようにホ
ログラムレンズ３を配置すると、第２の回折格子３５に
レーザ光Ｌ１の一部が入射するまでには少なからず光量
損失が発生する。本例では、このような光量損失を回避
できるという利点がある。

【００３５】なお、光ヘッド装置１では、第１の回折領
域３２の片側のみに第２の回折領域３３を形成してある
が、第１の回折領域３２の両側に第２の回折領域を形成
しても良い。すなわち、図３（Ａ）に示すレーザ光Ｌ１
の照射領域Ｒのうち、透明基板３１の表面３１１が露出
している領域に対しても第２の回折領域を形成しても良
い。この場合には、半導体レーザモジュール２から出射
されたレーザ光Ｌ１の光軸に対してモニター用受光素子
８と対称となる位置にもう１つのモニター用受光素子を
設ければ良い。

【００３６】また、半導体レーザモジュール２、信号用
受光素子７、モニター用受光素子８は半導体基板６に直
接形成したものに限らず、それぞれ個別の部品であって
も勿論良い。さらに、レーザダイオード２１の光出射方
向をホログラムレンズ３の側に向ければ、ミラーを省略
することができる。さらに、信号用受光素子７は、必ず
しも１つである必要はなく、２つ以上であっても良い。

【００３７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、モニ
ター用受光素子を設ける位置を規定することにより、レ
ーザ光源からのレーザ光の一部を第２の回折領域で、入
射角よりも大きな角度で外側に反射回折してモニター用
受光素子に導くようにしている。従って、第２の回折領
域の格子のピッチを広げることができ、第２の回折領域
に対して所望の回折特性を確実に、しかも、容易に付与
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）は、光ヘッド装置をＹ方向から見たとき
の概略構成図、（Ｂ）は、光ヘッド装置をＸ方向から見
たときの概略構成図である。

【図２】レーザダイオードから出射されたレーザ光がホ
ログラムレンズに導かれる過程を示す説明図である。

【図３】（Ａ）は、ホログラムレンズの平面図、（Ｂ）
は、ホログラムレンズの断面図である。

【図４】半導体基板上に構成されている半導体レーザモ
ジュール、信号用受光素子、およびモニター用受光素子
の配置関係を示す説明図である。

【符号の説明】

１光ヘッド装置２半導体レーザモジュール２１レーザダイオード２２ミラー３ホログラムレンズ３１透明基板３２第１の回折領域３３第２の回折領域３４第１の回折格子３５第２の回折格子３６金属反射膜４対物レンズ５光記録媒体６半導体基板７信号用受光素子７１受光面８モニター用受光素子８１受光面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザ光源と、このレーザ光源から出射
されたレーザ光を光記録媒体上に集光する対物レンズ
と、前記レーザ光源から前記対物レンズに到る光路の途
中位置に配置されたホログラムレンズと、前記光記録媒
体からの戻り光の一部を検出する信号用受光素子と、前
記レーザ光源の発光光量をフィードバック制御するため
に、前記レーザ光源から前記光記録媒体に向けて出射さ
れたレーザ光の一部を検出するモニター用受光素子とを
有し、前記ホログラムレンズは、前記戻り光を回折して
前記信号用受光素子に導く第１の回折領域と、前記レー
ザ光源から出射されたレーザ光の一部を反射回折して前
記モニター用受光素子に導く第２の回折領域とを備えた
光ヘッド装置において、前記レーザ光源の発光点に最も近い前記第２の回折領域
の境界点を起点として描いた当該第２の回折領域に垂直
な線分に対して、当該境界点を起点として前記発光点を
通って延びる線分に線対称な関係にある対称線分を、前
記境界点を起点として描いた場合に、前記モニター用受
光素子の受光面の中心は、当該対称線分よりも前記発光
点から離れた位置にあることを特徴とする光ヘッド装
置。
【請求項２】請求項１において、前記レーザ光源の発
光点、および前記モニター用受光素子の前記受光面は、
システム光軸に垂直な同一平面上に位置していることを
特徴とする光ヘッド装置。
【請求項３】請求項１または２において、前記第２の
回折領域は、透明基板と、この透明基板の光入射側の表
面に形成された反射膜と、この反射膜の表面に形成され
た回折格子とを有し、当該第２の回折領域で反射された
レーザ光が前記モニター用受光素子の受光面に集束する
ように、当該回折格子の回折特性が設定されていること
を特徴とする光ヘッド装置。
【請求項４】請求項１ないし３のうちの何れかの項に
おいて、前記第１およびモニター用受光素子は、同一基
板上に形成されていることを特徴とする光ヘッド装置。