JPH10270967A - 水晶振動子の製造方法 - Google Patents
水晶振動子の製造方法Info
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- JPH10270967A JPH10270967A JP7422797A JP7422797A JPH10270967A JP H10270967 A JPH10270967 A JP H10270967A JP 7422797 A JP7422797 A JP 7422797A JP 7422797 A JP7422797 A JP 7422797A JP H10270967 A JPH10270967 A JP H10270967A
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Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水晶振動子の製造歩留まりや品質を向上さ
せ、さらに作業者のフォトマスクの合わせ調整の負荷が
なく、フォトマスクの製造費を削減できる水晶振動子の
製造方法。 【解決手段】 水晶ウェハ１００の表裏にスパッタで透
明耐食膜２０１を成膜する。次に、透明耐食膜２０１
上、かつ水晶ウェハ１００の表裏に感光性レジスト１０
２を塗布する。次に、片面にフォトマスク１０３を設置
し感光性レジスト１０２を露光１０６する。続いて燐酸
水溶液中に浸漬しエッチングして所定のパターンとす
る。そして、ＨＦ水溶液に浸漬し、水晶ウェハ１００を
エッチング、所定のパターンとする。最後に、アセトン
中に浸漬し感光性レジスト１０２を除去、続いて上記燐
酸水溶液中に浸漬し透明耐食膜２０１を剥離除去する。
せ、さらに作業者のフォトマスクの合わせ調整の負荷が
なく、フォトマスクの製造費を削減できる水晶振動子の
製造方法。 【解決手段】 水晶ウェハ１００の表裏にスパッタで透
明耐食膜２０１を成膜する。次に、透明耐食膜２０１
上、かつ水晶ウェハ１００の表裏に感光性レジスト１０
２を塗布する。次に、片面にフォトマスク１０３を設置
し感光性レジスト１０２を露光１０６する。続いて燐酸
水溶液中に浸漬しエッチングして所定のパターンとす
る。そして、ＨＦ水溶液に浸漬し、水晶ウェハ１００を
エッチング、所定のパターンとする。最後に、アセトン
中に浸漬し感光性レジスト１０２を除去、続いて上記燐
酸水溶液中に浸漬し透明耐食膜２０１を剥離除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、信号発振器やコン
ピュータクロックなどに利用される、水晶ウェハをエッ
チングして、水晶振動子形状を形成する水晶振動子の製
造方法に関する。
ピュータクロックなどに利用される、水晶ウェハをエッ
チングして、水晶振動子形状を形成する水晶振動子の製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、水晶ウェハをエッチングして形成
する水晶振動子の製造工程は、特開昭５２−７６８９４
号公報に開示されるように、図３の断面図のごとく、以
下の（ａ）〜（ｅ）の工程から構成される水晶片製造工
程、及び水晶片を発振させるための電極形成工程、それ
らを実装する実装工程からなる。ここではその水晶片の
製造工程についてのみ説明する。一般に図２に示すよう
に１枚の水晶ウェハ１００に多数の水晶片３０７を形成
する。図２（１）のＢ部を拡大したのが図２（２）であ
る。その水晶片の断面Ａ−Ａ’で図３の製造工程を説明
する。図２（２）に記した水晶片３０７の振動する部分
の幅（振動体幅）Ｗが周波数特性上、重要なファクター
となる。
する水晶振動子の製造工程は、特開昭５２−７６８９４
号公報に開示されるように、図３の断面図のごとく、以
下の（ａ）〜（ｅ）の工程から構成される水晶片製造工
程、及び水晶片を発振させるための電極形成工程、それ
らを実装する実装工程からなる。ここではその水晶片の
製造工程についてのみ説明する。一般に図２に示すよう
に１枚の水晶ウェハ１００に多数の水晶片３０７を形成
する。図２（１）のＢ部を拡大したのが図２（２）であ
る。その水晶片の断面Ａ−Ａ’で図３の製造工程を説明
する。図２（２）に記した水晶片３０７の振動する部分
の幅（振動体幅）Ｗが周波数特性上、重要なファクター
となる。
【０００３】まず、図３（ａ）「不透明耐食膜成膜」工
程において、あらかじめ４０〜１２０μｍ厚程度にカッ
トされた水晶ウェハ１００の表裏に不透明耐食膜１０１
を成膜する。一般にＡｕ／Ｃｒ膜を８００〜１０００オ
ングストロームずつ積層する。成膜方法はスパッタ、も
しくは蒸着で行う。ここでＡｕ／Ｃｒ膜を使用するのは
後記する図３（ｄ）において使用するＨＦの耐食膜とす
るためである。
程において、あらかじめ４０〜１２０μｍ厚程度にカッ
トされた水晶ウェハ１００の表裏に不透明耐食膜１０１
を成膜する。一般にＡｕ／Ｃｒ膜を８００〜１０００オ
ングストロームずつ積層する。成膜方法はスパッタ、も
しくは蒸着で行う。ここでＡｕ／Ｃｒ膜を使用するのは
後記する図３（ｄ）において使用するＨＦの耐食膜とす
るためである。
【０００４】次に、図３（ｂ）「感光性レジストパター
ン形成」工程において、不透明耐食膜（Ａｕ／Ｃｒ膜）
１０１上、かつ水晶ウェハ１００の表裏に感光性レジス
ト１０２を塗布する。一般的にはポジ型レジスト、東京
応化（株）製ＯＦＰＲ８００が使用され、片側をスピン
コートで成膜しプレベークした後、残る面を同じように
成膜する。膜厚は表裏とも１μｍ程度である。次に、感
光性レジスト１０２を露光するのであるが、耐食膜が不
透明膜であるため両面にフォトマスク１０３を設置し両
側から露光１０６する。続いて東京応化（株）製の現像
液ＮＭＤ−３で現像、所定のパターンを得る。
ン形成」工程において、不透明耐食膜（Ａｕ／Ｃｒ膜）
１０１上、かつ水晶ウェハ１００の表裏に感光性レジス
ト１０２を塗布する。一般的にはポジ型レジスト、東京
応化（株）製ＯＦＰＲ８００が使用され、片側をスピン
コートで成膜しプレベークした後、残る面を同じように
成膜する。膜厚は表裏とも１μｍ程度である。次に、感
光性レジスト１０２を露光するのであるが、耐食膜が不
透明膜であるため両面にフォトマスク１０３を設置し両
側から露光１０６する。続いて東京応化（株）製の現像
液ＮＭＤ−３で現像、所定のパターンを得る。
【０００５】この後、図３（ｃ）「不透明耐食膜パター
ン形成」工程において、ヨウ化カリ／ヨウ素混合水溶液
中に浸漬しＡｕ膜をエッチング、よく水洗した後、続い
て硝酸第２セリウムアンモン水溶液中に浸漬し、Ｃｒ膜
をエッチング、Ａｕ／Ｃｒ膜を所定のパターンとする。
ン形成」工程において、ヨウ化カリ／ヨウ素混合水溶液
中に浸漬しＡｕ膜をエッチング、よく水洗した後、続い
て硝酸第２セリウムアンモン水溶液中に浸漬し、Ｃｒ膜
をエッチング、Ａｕ／Ｃｒ膜を所定のパターンとする。
【０００６】続いて、図３（ｄ）「水晶エッチング」工
程において、４０℃の４０％ＨＦ水溶液に浸漬し、水晶
ウェハ１００をエッチング、所定のパターンとする。エ
ッチング時間はＺ方向に切り出した音叉水晶ウェハ１０
０μｍ厚で約３時間である。
程において、４０℃の４０％ＨＦ水溶液に浸漬し、水晶
ウェハ１００をエッチング、所定のパターンとする。エ
ッチング時間はＺ方向に切り出した音叉水晶ウェハ１０
０μｍ厚で約３時間である。
【０００７】最後に、図３（ｅ）「不透明耐食膜除去」
工程において、アセトン中に浸漬し感光性レジストを除
去、続いてＡｕ／Ｃｒ膜のエッチング液にそれぞれ浸漬
し、不透明耐食膜を剥離除去する。剥離後はよく水洗す
る。
工程において、アセトン中に浸漬し感光性レジストを除
去、続いてＡｕ／Ｃｒ膜のエッチング液にそれぞれ浸漬
し、不透明耐食膜を剥離除去する。剥離後はよく水洗す
る。
【０００８】また、特開昭５２−３５５９２号公報に開
示されるように水晶振動子の形状に相当するマスクを水
晶ウェハの片面のみに設けて、他方の面は全面金属膜の
で覆い、マスク側からエッチングすることで水晶ウェハ
を水晶振動子に加工する方法がある。
示されるように水晶振動子の形状に相当するマスクを水
晶ウェハの片面のみに設けて、他方の面は全面金属膜の
で覆い、マスク側からエッチングすることで水晶ウェハ
を水晶振動子に加工する方法がある。
【０００９】さらに、特開昭６２−７１３１３号公報に
開示されるように水晶ウェハの表裏面にＣｒ、Ａｕ等の
金属膜を設けずにフォトレジストを塗布し、表裏いずれ
か片側から水晶振動子の形状のフォトマスクを用い、表
裏面のフォトレジストを同時に露光する。そして水晶ウ
ェハをエッチングして水晶振動子形状を得る方法があ
る。
開示されるように水晶ウェハの表裏面にＣｒ、Ａｕ等の
金属膜を設けずにフォトレジストを塗布し、表裏いずれ
か片側から水晶振動子の形状のフォトマスクを用い、表
裏面のフォトレジストを同時に露光する。そして水晶ウ
ェハをエッチングして水晶振動子形状を得る方法があ
る。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな従来技術製造方法によれば、上記図３（ｂ）工程に
おいて、上下フォトマスクを別々に露光機にセットし、
１００倍程度のスコープを用いて上下マスクにピントを
それぞれ合わせながら位置合わせをするため、必ず位置
ずれＧが少なくとも数ミクロン程度生じ、水晶エッチン
グ時の寸法幅が安定しないという課題があった。図４に
おいて説明すると、（ア）のように上下フォトマスクの
位置ずれがない場合は図２で説明した水晶片の振動体幅
が図４のＷ１のように感光性レジスト１０２幅とほぼ同
じになるが、（イ）のようにずれＧがある場合は水晶片
の振動体幅Ｗ２は感光性レジスト１０２幅よりかなり小
さくなってしまう。水晶振動子の発振する周波数は音叉
型、ＡＴ型を問わず外形形状に大きく依存するため、周
波数ばらつきが大きくなり製造歩留まり、品質を落とす
大きな原因となっていた。
うな従来技術製造方法によれば、上記図３（ｂ）工程に
おいて、上下フォトマスクを別々に露光機にセットし、
１００倍程度のスコープを用いて上下マスクにピントを
それぞれ合わせながら位置合わせをするため、必ず位置
ずれＧが少なくとも数ミクロン程度生じ、水晶エッチン
グ時の寸法幅が安定しないという課題があった。図４に
おいて説明すると、（ア）のように上下フォトマスクの
位置ずれがない場合は図２で説明した水晶片の振動体幅
が図４のＷ１のように感光性レジスト１０２幅とほぼ同
じになるが、（イ）のようにずれＧがある場合は水晶片
の振動体幅Ｗ２は感光性レジスト１０２幅よりかなり小
さくなってしまう。水晶振動子の発振する周波数は音叉
型、ＡＴ型を問わず外形形状に大きく依存するため、周
波数ばらつきが大きくなり製造歩留まり、品質を落とす
大きな原因となっていた。
【００１１】さらにこれらを防ぐため上下フォトマスク
を熟練した作業者が時間をかけ、合わせ調整しており、
作業者の大きな負担となっていた。また２枚のフォトマ
スクの合わせ精度を上げなくてはならず、フォトマスク
製造費も増加していた。
を熟練した作業者が時間をかけ、合わせ調整しており、
作業者の大きな負担となっていた。また２枚のフォトマ
スクの合わせ精度を上げなくてはならず、フォトマスク
製造費も増加していた。
【００１２】また、特開昭５２−３５５９２号公報で
は、片面からのエッチングとなるためエッチング時間が
両面からのエッチングに比較して２倍になるという課題
が生じる。そのためエッチングの耐食膜が耐えられず
に、得られる水晶振動子に孔が多数発生してしまうとい
う課題も併せ持つ。
は、片面からのエッチングとなるためエッチング時間が
両面からのエッチングに比較して２倍になるという課題
が生じる。そのためエッチングの耐食膜が耐えられず
に、得られる水晶振動子に孔が多数発生してしまうとい
う課題も併せ持つ。
【００１３】また、特開昭６２−７１３１３号公報で
は、ネガ型フォトレジストを用いても水晶エッチングで
は容易に剥離してしまい、水晶振動子にまで形成できな
いという課題がある。
は、ネガ型フォトレジストを用いても水晶エッチングで
は容易に剥離してしまい、水晶振動子にまで形成できな
いという課題がある。
【００１４】本発明は上記課題を解決するためになされ
たもので、水晶振動子の製造歩留まりや品質を向上さ
せ、さらに作業者のフォトマスクの合わせ調整の負荷が
なく、フォトマスクの製造費を削減できる水晶振動子の
製造方法を提供することを目的とする。
たもので、水晶振動子の製造歩留まりや品質を向上さ
せ、さらに作業者のフォトマスクの合わせ調整の負荷が
なく、フォトマスクの製造費を削減できる水晶振動子の
製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の請求項１記載の水晶振動子の製造方法によ
れば、水晶ウェハの表裏に露光の波長を透過するエッチ
ング耐食材を成膜する工程と、前記ウェハの表裏に感光
性レジストを全面形成し、片面からパターンマスクを通
して一括露光、現像し所定のレジストパターンを水晶ウ
ェハの表裏に形成する工程と、前記水晶ウェハのエッチ
ング耐食膜をエッチングし所定のエッチング耐食膜パタ
ーンを形成する工程と、前記水晶ウェハをエッチング
し、所定の水晶パターンを形成する工程とを備えてい
る。
め、本発明の請求項１記載の水晶振動子の製造方法によ
れば、水晶ウェハの表裏に露光の波長を透過するエッチ
ング耐食材を成膜する工程と、前記ウェハの表裏に感光
性レジストを全面形成し、片面からパターンマスクを通
して一括露光、現像し所定のレジストパターンを水晶ウ
ェハの表裏に形成する工程と、前記水晶ウェハのエッチ
ング耐食膜をエッチングし所定のエッチング耐食膜パタ
ーンを形成する工程と、前記水晶ウェハをエッチング
し、所定の水晶パターンを形成する工程とを備えてい
る。
【００１６】このように、水晶ウェハの表裏に形成する
エッチング耐食材を、露光の波長を透過する膜とするこ
とで、前記ウェハの表裏に感光性レジストを全面形成し
片面からパターンマスクを通して一括露光、現像する
と、表裏のレジストパターンを位置ずれや寸法の差をほ
とんどなくすことができる。これはそのまま水晶振動子
形状の安定化を意味し、水晶振動子の製造歩留まりや品
質を向上させ、さらに作業者のフォトマスクの合わせ調
整の負荷がなく、フォトマスクの製造費を削減できる。
エッチング耐食材を、露光の波長を透過する膜とするこ
とで、前記ウェハの表裏に感光性レジストを全面形成し
片面からパターンマスクを通して一括露光、現像する
と、表裏のレジストパターンを位置ずれや寸法の差をほ
とんどなくすことができる。これはそのまま水晶振動子
形状の安定化を意味し、水晶振動子の製造歩留まりや品
質を向上させ、さらに作業者のフォトマスクの合わせ調
整の負荷がなく、フォトマスクの製造費を削減できる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図１を参照しながら、本発
明の一実施形態に係わる水晶振動子の製造方法について
説明する。
明の一実施形態に係わる水晶振動子の製造方法について
説明する。
【００１８】まず、図１（ａ）「透明耐食膜成膜」工程
において、あらかじめ４０〜１２０μｍ厚程度にカット
された水晶ウェハ１００の表裏に透明耐食膜２０１を成
膜する。ここでは酸化アルミナ膜を８００〜１０００オ
ングストローム成膜する。成膜方法はスパッタで行う。
ここで酸化アルミナ膜を使用するのは後記する図１
（ｂ）において感光性レジストを露光する際に片側から
露光できるように露光波長を透過すること、かつ図１
（ｄ）において使用するＨＦの耐食膜とできること、の
特徴を有しているためである。すなわち、この２つの特
徴を有していれば酸化アルミナでなくてもよい。たとえ
ば酸化クロム・酸化タンタル等でも良い。しかしそれら
の透明耐食膜を後記する図１（ｃ）でパターン形成する
際に用いるエッチング液、エッチングガスに水晶ウェハ
が腐食されないことが望ましい。また、ここで用いる耐
食膜は膜質が重要である。いかにＨＦに対して耐食性が
あっても膜質が悪いとピンホールが発生、ＨＦエッチン
グ時に水晶が穴だらけになってしまう。耐食膜の膜質を
向上させるためにスパッタはＤＣスパッタより酸化アル
ミナターゲットを用いＡｒに酸素を添加したスパッタガ
ス中で行うＲＦスパッタが用いられる。さらにスパッタ
温度が高いほど膜質が良くなる。スパッタ温度があまり
上げられない場合はスパッタ後にアニール処理をする
か、膜厚を増やすことでも対応できる。
において、あらかじめ４０〜１２０μｍ厚程度にカット
された水晶ウェハ１００の表裏に透明耐食膜２０１を成
膜する。ここでは酸化アルミナ膜を８００〜１０００オ
ングストローム成膜する。成膜方法はスパッタで行う。
ここで酸化アルミナ膜を使用するのは後記する図１
（ｂ）において感光性レジストを露光する際に片側から
露光できるように露光波長を透過すること、かつ図１
（ｄ）において使用するＨＦの耐食膜とできること、の
特徴を有しているためである。すなわち、この２つの特
徴を有していれば酸化アルミナでなくてもよい。たとえ
ば酸化クロム・酸化タンタル等でも良い。しかしそれら
の透明耐食膜を後記する図１（ｃ）でパターン形成する
際に用いるエッチング液、エッチングガスに水晶ウェハ
が腐食されないことが望ましい。また、ここで用いる耐
食膜は膜質が重要である。いかにＨＦに対して耐食性が
あっても膜質が悪いとピンホールが発生、ＨＦエッチン
グ時に水晶が穴だらけになってしまう。耐食膜の膜質を
向上させるためにスパッタはＤＣスパッタより酸化アル
ミナターゲットを用いＡｒに酸素を添加したスパッタガ
ス中で行うＲＦスパッタが用いられる。さらにスパッタ
温度が高いほど膜質が良くなる。スパッタ温度があまり
上げられない場合はスパッタ後にアニール処理をする
か、膜厚を増やすことでも対応できる。
【００１９】次に、図１（ｂ）「感光性レジストパター
ン形成」工程において、透明耐食膜（酸化アルミナ膜）
２０１上、かつ水晶ウェハ１００の表裏に感光性レジス
ト１０２を塗布する。ここでも東京応化（株）製ＯＦＰ
Ｒ８００を使用した。片側をスピンコートで成膜しプレ
ベーク（９０℃＊１０分）した後、残る面を同じように
成膜する。膜厚は表裏とも１μｍ程度である。次に、感
光性レジスト１０２を露光するのであるが耐食膜が透明
膜であるため図１（ｂ）に示すように片面にフォトマス
ク１０３を設置し露光１０６する。続いて東京応化
（株）製の現像液ＮＭＤ−３で現像、所定のパターンを
得る。
ン形成」工程において、透明耐食膜（酸化アルミナ膜）
２０１上、かつ水晶ウェハ１００の表裏に感光性レジス
ト１０２を塗布する。ここでも東京応化（株）製ＯＦＰ
Ｒ８００を使用した。片側をスピンコートで成膜しプレ
ベーク（９０℃＊１０分）した後、残る面を同じように
成膜する。膜厚は表裏とも１μｍ程度である。次に、感
光性レジスト１０２を露光するのであるが耐食膜が透明
膜であるため図１（ｂ）に示すように片面にフォトマス
ク１０３を設置し露光１０６する。続いて東京応化
（株）製の現像液ＮＭＤ−３で現像、所定のパターンを
得る。
【００２０】この後、図１（ｃ）「透明耐食膜パターン
形成」工程において、燐酸水溶液中に浸漬し酸化アルミ
ナ膜をエッチング、よく水洗し所定のパターンとする。
形成」工程において、燐酸水溶液中に浸漬し酸化アルミ
ナ膜をエッチング、よく水洗し所定のパターンとする。
【００２１】続いて、図１（ｄ）「水晶エッチング」工
程において、４０℃の４０％ＨＦ水溶液に浸漬し、水晶
ウェハ１００をエッチング、所定のパターンとする。エ
ッチング時間はＺ方向に切り出した音叉水晶ウェハ１０
０μｍ厚で約３時間である。
程において、４０℃の４０％ＨＦ水溶液に浸漬し、水晶
ウェハ１００をエッチング、所定のパターンとする。エ
ッチング時間はＺ方向に切り出した音叉水晶ウェハ１０
０μｍ厚で約３時間である。
【００２２】最後に、図１（ｅ）「透明耐食膜除去」工
程において、アセトン中に浸漬し感光性レジストを除
去、続いて上記燐酸水溶液中に浸漬し酸化アルミナ膜を
剥離除去する。剥離後はよく水洗する。
程において、アセトン中に浸漬し感光性レジストを除
去、続いて上記燐酸水溶液中に浸漬し酸化アルミナ膜を
剥離除去する。剥離後はよく水洗する。
【００２３】
【発明の効果】以上のように本発明の水晶振動子の製造
方法によれば、水晶の表裏に形成されたＨＦ耐食膜をパ
ターニングする感光性レジストを単一のフォトマスクで
一括して露光感光でき、すなわち形成される表裏のＨＦ
耐食膜パターンの位置ずれ、寸法の違いがないため、寸
法精度の高い、特性ばらつきの少ない水晶片を製造でき
る。また、これまでの表裏のフォトマスクを合わせると
いう作業者の負荷がなくなり、かつＴＡＴも大幅に削減
できる。
方法によれば、水晶の表裏に形成されたＨＦ耐食膜をパ
ターニングする感光性レジストを単一のフォトマスクで
一括して露光感光でき、すなわち形成される表裏のＨＦ
耐食膜パターンの位置ずれ、寸法の違いがないため、寸
法精度の高い、特性ばらつきの少ない水晶片を製造でき
る。また、これまでの表裏のフォトマスクを合わせると
いう作業者の負荷がなくなり、かつＴＡＴも大幅に削減
できる。
【図１】本発明の実施形態に係る水晶振動子の製造工程
の水晶振動片の製造工程断面図。
の水晶振動片の製造工程断面図。
【図２】水晶振動子製造工程の途中の水晶振動片の製造
ウェハ上面図。
ウェハ上面図。
【図３】従来技術による水晶振動子の製造工程の水晶振
動片の製造工程断面図。
動片の製造工程断面図。
【図４】従来技術による水晶振動片の寸法誤差を示す断
面図。
面図。
１００ 水晶ウェハ １０２ 感光性レジスト １０３ フォトマスク １０６ 露光 ２０１ 透明耐食膜
Claims (2)
- 【請求項１】 水晶ウェハの表裏に露光の波長を透過す
るエッチング耐食材を成膜する工程と、 前記水晶ウェハの表裏に感光性レジストを全面形成し、
片面からパターンマスクを通して一括露光、現像し所定
のレジストパターンを水晶ウェハの表裏に形成する工程
と、 前記水晶ウェハのエッチング耐食膜をエッチングし所定
のエッチング耐食膜パターンを形成する工程と、 前記水晶ウェハをエッチングし、所定の水晶パターンを
形成する工程とを備えることを特徴とする水晶振動子の
製造方法。 - 【請求項２】 前記エッチング耐食膜が酸化アルミであ
ることを特徴とする請求項１記載の水晶振動子の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7422797A JPH10270967A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | 水晶振動子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7422797A JPH10270967A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | 水晶振動子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10270967A true JPH10270967A (ja) | 1998-10-09 |
Family
ID=13541092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7422797A Withdrawn JPH10270967A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | 水晶振動子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10270967A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005012767A (ja) * | 2003-05-27 | 2005-01-13 | Citizen Watch Co Ltd | 水晶振動子の製造方法 |
| JP2005277483A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Citizen Watch Co Ltd | 水晶振動子の製造方法 |
| JP2006074297A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Kinseki Corp | 水晶振動子の露光用マスク |
| US7195715B2 (en) * | 2003-05-27 | 2007-03-27 | Citizen Watch Co., Ltd. | Method for manufacturing quartz oscillator |
-
1997
- 1997-03-26 JP JP7422797A patent/JPH10270967A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005012767A (ja) * | 2003-05-27 | 2005-01-13 | Citizen Watch Co Ltd | 水晶振動子の製造方法 |
| US7195715B2 (en) * | 2003-05-27 | 2007-03-27 | Citizen Watch Co., Ltd. | Method for manufacturing quartz oscillator |
| JP2005277483A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Citizen Watch Co Ltd | 水晶振動子の製造方法 |
| JP2006074297A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Kinseki Corp | 水晶振動子の露光用マスク |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040601 |