JPH10272627A - ワニス含浸方法及びワニス含浸装置 - Google Patents
ワニス含浸方法及びワニス含浸装置Info
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- JPH10272627A JPH10272627A JP8161897A JP8161897A JPH10272627A JP H10272627 A JPH10272627 A JP H10272627A JP 8161897 A JP8161897 A JP 8161897A JP 8161897 A JP8161897 A JP 8161897A JP H10272627 A JPH10272627 A JP H10272627A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/022—Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 繊維基材にワニスを含浸するときに残留する
気泡を少なくする。 【解決手段】 連続して繊維基材２を供給する基材供給
装置１、供給される繊維基材２の片面にワニスを塗布す
るワニス塗布装置３及びワニス塗布後に繊維基材２の他
の面を負圧にする負圧発生装置６を備えるワニス含浸装
置により、繊維基材２の片面からワニス４を塗布し、ワ
ニス塗布後の繊維基材２の他の面側を負圧にして供給さ
れたワニス４を繊維基材に浸透させる。
気泡を少なくする。 【解決手段】 連続して繊維基材２を供給する基材供給
装置１、供給される繊維基材２の片面にワニスを塗布す
るワニス塗布装置３及びワニス塗布後に繊維基材２の他
の面を負圧にする負圧発生装置６を備えるワニス含浸装
置により、繊維基材２の片面からワニス４を塗布し、ワ
ニス塗布後の繊維基材２の他の面側を負圧にして供給さ
れたワニス４を繊維基材に浸透させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、繊維基材へのワニ
ス含浸方法及びワニス含浸装置に関するものである。
ス含浸方法及びワニス含浸装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線板の絶縁基板である積層板
は、熱硬化性樹脂のワニスを繊維基材に含浸、乾燥して
プリプレグとし、このプリプレグを所定枚数重ね、その
両面又は片面に金属はくを重ね、加熱加圧して製造され
ている。
は、熱硬化性樹脂のワニスを繊維基材に含浸、乾燥して
プリプレグとし、このプリプレグを所定枚数重ね、その
両面又は片面に金属はくを重ね、加熱加圧して製造され
ている。
【０００３】プリプレグの製造において、ワニスの含浸
工程は最も重要な工程である。従来は、ワニスに繊維基
材を直接浸漬して含浸させる浸漬方法、ワニスを付着さ
せたロールに繊維基材を接触させて含浸させるキス法な
どが一般に採用されていた。
工程は最も重要な工程である。従来は、ワニスに繊維基
材を直接浸漬して含浸させる浸漬方法、ワニスを付着さ
せたロールに繊維基材を接触させて含浸させるキス法な
どが一般に採用されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ワニスの含浸工程にお
いて肝要なことは、内部に気泡が残らないようにするこ
とである。ワニスの含浸工程において内部に気泡が残る
と、プリプレグ中にそのまま気泡が残り、プリプレグの
表面が平滑にならないほか、積層板としたときに耐熱性
が悪くなり、性能的に安定した積層板が得られないこと
が知られている。そこで、ワニスの粘度を低くしたり、
ワニスに浸漬する時間や距離を長く設定したり、塗工速
度を遅く設定したりする必要があった。
いて肝要なことは、内部に気泡が残らないようにするこ
とである。ワニスの含浸工程において内部に気泡が残る
と、プリプレグ中にそのまま気泡が残り、プリプレグの
表面が平滑にならないほか、積層板としたときに耐熱性
が悪くなり、性能的に安定した積層板が得られないこと
が知られている。そこで、ワニスの粘度を低くしたり、
ワニスに浸漬する時間や距離を長く設定したり、塗工速
度を遅く設定したりする必要があった。
【０００５】したがって生産性が低く、さらに、ワニス
の粘度を低くするには溶剤量を多くしなければならずコ
スト高となるばかりか作業環境にも悪影響をもたらし、
また、ワニスに浸漬する時間や距離を長く設定したり、
塗工速度を遅く設定したりしても残留する気泡を充分に
少なくできなかった。
の粘度を低くするには溶剤量を多くしなければならずコ
スト高となるばかりか作業環境にも悪影響をもたらし、
また、ワニスに浸漬する時間や距離を長く設定したり、
塗工速度を遅く設定したりしても残留する気泡を充分に
少なくできなかった。
【０００６】本発明は、繊維基材にワニスを含浸すると
きに残留する気泡を少なくできる含浸方法及びそのため
の装置を提供するものである。
きに残留する気泡を少なくできる含浸方法及びそのため
の装置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、繊維基材２の
片面からワニス４を塗布し、ワニス塗布後の繊維基材２
の他の面側を負圧にして供給されたワニス４を繊維基材
に浸透させることを特徴とするワニス含浸方法である。
ここで、繊維基材２の他の面側を負圧にするとは、繊維
基材２の他の面側の気圧を、ワニス４を塗布された片面
側より低くすることとを意味する。
片面からワニス４を塗布し、ワニス塗布後の繊維基材２
の他の面側を負圧にして供給されたワニス４を繊維基材
に浸透させることを特徴とするワニス含浸方法である。
ここで、繊維基材２の他の面側を負圧にするとは、繊維
基材２の他の面側の気圧を、ワニス４を塗布された片面
側より低くすることとを意味する。
【０００８】また、本発明は、連続して繊維基材２を供
給する基材供給装置１、供給される繊維基材２の片面に
ワニスを塗布するワニス塗布装置３及びワニス塗布後に
繊維基材２の他の面を負圧にする負圧発生装置６を備え
てなるワニス含浸装置である。
給する基材供給装置１、供給される繊維基材２の片面に
ワニスを塗布するワニス塗布装置３及びワニス塗布後に
繊維基材２の他の面を負圧にする負圧発生装置６を備え
てなるワニス含浸装置である。
【０００９】繊維基材２の他の面を負圧にすることによ
り片面と他の面間に圧力差を生じさせ、この圧力差によ
り繊維基材２の内部にワニス４が浸透する。同時にワニ
ス４が繊維基材２を通過しようとする作用により、空気
を押出すので気泡を残さずかつ効率よくワニスの含浸を
図ることができる。
り片面と他の面間に圧力差を生じさせ、この圧力差によ
り繊維基材２の内部にワニス４が浸透する。同時にワニ
ス４が繊維基材２を通過しようとする作用により、空気
を押出すので気泡を残さずかつ効率よくワニスの含浸を
図ることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら説明す
る。基材供給装置１から送り出された繊維基材２の上面
に、ワニス塗布装置３によりワニス４が繊維基材２の片
面（上面）に塗布される。ワニス塗布後の繊維基材２
は、ロール５を介して負圧発生装置６に移送され、繊維
基材２の他の面（下面）側を負圧にされる。ここで、繊
維基材２としては、紙、ガラス布、ガラス不織布、合成
繊維又は天然繊維の織布、合成繊維又は天然繊維の不織
布などであって、連続帯状のものが使用される。また、
ワニスとしては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂など従来
から積層板用として用いられている熱硬化性樹脂を溶
剤、例えば、アセトン、メタノール、メチルエチルケト
ン、トルエンなどに溶解したものが使用される。
る。基材供給装置１から送り出された繊維基材２の上面
に、ワニス塗布装置３によりワニス４が繊維基材２の片
面（上面）に塗布される。ワニス塗布後の繊維基材２
は、ロール５を介して負圧発生装置６に移送され、繊維
基材２の他の面（下面）側を負圧にされる。ここで、繊
維基材２としては、紙、ガラス布、ガラス不織布、合成
繊維又は天然繊維の織布、合成繊維又は天然繊維の不織
布などであって、連続帯状のものが使用される。また、
ワニスとしては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂など従来
から積層板用として用いられている熱硬化性樹脂を溶
剤、例えば、アセトン、メタノール、メチルエチルケト
ン、トルエンなどに溶解したものが使用される。
【００１１】負圧発生装置６としては、図２に要部の斜
視図を示すような吸引装置を用いるのが好ましい。繊維
基材２の下面側において空気を吸引することにより繊維
基材２の上面と下面との間に圧力差を発生させ、下面側
を負圧にすると同時に押し出された空気も吸引除去され
るからである。負圧発生装置６には、図２に示されるよ
うに、繊維基材２が吸い込まれるのを防止するため、格
子状の枠７を設けるのが好ましい。さらに、負圧を発生
する領域が大きくなるようにするとより効果的である。
視図を示すような吸引装置を用いるのが好ましい。繊維
基材２の下面側において空気を吸引することにより繊維
基材２の上面と下面との間に圧力差を発生させ、下面側
を負圧にすると同時に押し出された空気も吸引除去され
るからである。負圧発生装置６には、図２に示されるよ
うに、繊維基材２が吸い込まれるのを防止するため、格
子状の枠７を設けるのが好ましい。さらに、負圧を発生
する領域が大きくなるようにするとより効果的である。
【００１２】負圧発生装置６の次に、繊維基材２は、再
びロール８，９を介してワニス４の入った含浸槽１０に
移送され、含浸槽１０内をロール１１を介して通過さ
せ、さらにロール１２，１３により移送方向を転換しつ
つ乾燥機１５を通過させ、加熱乾燥され、ロール１４を
経て切断装置（図示しない）にて所定の寸法に切断され
る。
びロール８，９を介してワニス４の入った含浸槽１０に
移送され、含浸槽１０内をロール１１を介して通過さ
せ、さらにロール１２，１３により移送方向を転換しつ
つ乾燥機１５を通過させ、加熱乾燥され、ロール１４を
経て切断装置（図示しない）にて所定の寸法に切断され
る。
【００１３】
実施例１ ブロム化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂１００部（重
量部、以下同じ）、ジシアンジアミド３部及び２−エチ
ル−４−メチルイミダゾール０．１７部を、エチレング
リコールモノメチルエーテル２５部及びＮ，Ｎジメチル
ホルムアミド２５部からなる混合溶剤に溶解してワニス
を調製した。なお、ブロムビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂は、大日本インキ化学工業株式会社製のＤＥＲ−５
１８（商品名）を使用した。繊維基材として、厚さ２０
０μｍ、幅１０１０ｍｍのガラス織布（ＮＥＭＡ７６２
８タイプ）を用い、１０ｍ／分の速度で移動するガラス
織布の上面に上記のワニスを塗布し、ワニス塗布後に長
さ２ｍ、幅１ｍの開口部を有する吸引装置の開口部上を
基材が移動するようにし、吸引装置により風量６０ｍ3/
分で空気を吸引してガラス織布の下面を負圧にした。そ
の後、ワニス含浸槽を通し、乾燥機中に導き乾燥してプ
リプレグを作製した。作製したプリプレグの気泡面積率
を調べたところ、２８％であった。また、プリプレグの
表面には、気泡に起因する凹凸がなく平滑であった。こ
こで気泡面積率とは、表面から観察される気泡が単位面
積当たりに占める面積の割合であり、プリプレグを画像
処理装置を用いて計測処理することにより求められる数
値である。
量部、以下同じ）、ジシアンジアミド３部及び２−エチ
ル−４−メチルイミダゾール０．１７部を、エチレング
リコールモノメチルエーテル２５部及びＮ，Ｎジメチル
ホルムアミド２５部からなる混合溶剤に溶解してワニス
を調製した。なお、ブロムビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂は、大日本インキ化学工業株式会社製のＤＥＲ−５
１８（商品名）を使用した。繊維基材として、厚さ２０
０μｍ、幅１０１０ｍｍのガラス織布（ＮＥＭＡ７６２
８タイプ）を用い、１０ｍ／分の速度で移動するガラス
織布の上面に上記のワニスを塗布し、ワニス塗布後に長
さ２ｍ、幅１ｍの開口部を有する吸引装置の開口部上を
基材が移動するようにし、吸引装置により風量６０ｍ3/
分で空気を吸引してガラス織布の下面を負圧にした。そ
の後、ワニス含浸槽を通し、乾燥機中に導き乾燥してプ
リプレグを作製した。作製したプリプレグの気泡面積率
を調べたところ、２８％であった。また、プリプレグの
表面には、気泡に起因する凹凸がなく平滑であった。こ
こで気泡面積率とは、表面から観察される気泡が単位面
積当たりに占める面積の割合であり、プリプレグを画像
処理装置を用いて計測処理することにより求められる数
値である。
【００１４】比較例 吸引装置を作動させなかったほか実施例１と同様にして
プリプレグを作製した。作製したプリプレグの気泡面積
率は４８％であった。また、プリプレグの表面には、気
泡に起因する凹凸が認められた。
プリプレグを作製した。作製したプリプレグの気泡面積
率は４８％であった。また、プリプレグの表面には、気
泡に起因する凹凸が認められた。
【００１５】実施例及び比較例から、吸引装置を作動さ
せてワニスを含浸した実施例１のプリプレグの気泡面積
率は、吸引装置を作動させないでワニスを含浸した比較
例のプリプレグの気泡面積率よりはるかに小さくなって
おり、このことから、実施例１のプリプレグは、残存す
る気泡が少なくなっていることがわかる。
せてワニスを含浸した実施例１のプリプレグの気泡面積
率は、吸引装置を作動させないでワニスを含浸した比較
例のプリプレグの気泡面積率よりはるかに小さくなって
おり、このことから、実施例１のプリプレグは、残存す
る気泡が少なくなっていることがわかる。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、残存する気泡が少なく
表面の平滑なプリプレグを効率よく製造できる。
表面の平滑なプリプレグを効率よく製造できる。
【図１】本発明に係る樹脂含浸装置の概略説明図であ
る。
る。
【図２】負圧発生装置の一例の要部を示す斜視図であ
る。
る。
１：基材供給装置 ２：繊維基材 ３：ワニス供給装置 ４：ワニス ５，８，９，１１，１２，１３，１４：ロール ６：負圧発生装置 ７：格子状枠 １０：含浸槽 １５：乾燥機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０５Ｄ 7/26 Ｂ０５Ｄ 7/26
Claims (2)
- 【請求項１】 繊維基材の片面からワニスを塗布し、ワ
ニス塗布後の繊維基材の他の面側を負圧にして塗布され
たワニスを繊維基材に浸透させることを特徴とするワニ
ス含浸方法。 - 【請求項２】 連続して繊維基材を供給する基材供給装
置、供給される繊維基材の片面にワニスを塗布するワニ
ス塗布装置及びワニス塗布後に繊維基材の他の面を負圧
にする負圧発生装置を備えてなるワニス含浸装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8161897A JPH10272627A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | ワニス含浸方法及びワニス含浸装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8161897A JPH10272627A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | ワニス含浸方法及びワニス含浸装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10272627A true JPH10272627A (ja) | 1998-10-13 |
Family
ID=13751324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8161897A Pending JPH10272627A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | ワニス含浸方法及びワニス含浸装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10272627A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101856645A (zh) * | 2010-05-20 | 2010-10-13 | 江门盈骅光电科技有限公司 | 一种将增强材料与树脂胶水连续浸润的方法及装置 |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP8161897A patent/JPH10272627A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101856645A (zh) * | 2010-05-20 | 2010-10-13 | 江门盈骅光电科技有限公司 | 一种将增强材料与树脂胶水连续浸润的方法及装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040301 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20051117 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20051129 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
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| A02 | Decision of refusal |
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