JPH10273312A - 金属シリコンの溶解方法 - Google Patents
金属シリコンの溶解方法Info
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- JPH10273312A JPH10273312A JP9077972A JP7797297A JPH10273312A JP H10273312 A JPH10273312 A JP H10273312A JP 9077972 A JP9077972 A JP 9077972A JP 7797297 A JP7797297 A JP 7797297A JP H10273312 A JPH10273312 A JP H10273312A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、金属シリコンの溶解を迅速、且つ効
率良く行い、その後のボロン除去を従来より一層安価に
行なえる金属シリコンの溶解方法を提供することを目的
としている。 【解決手段】固体の金属シリコンを保持容器内で溶解
し、その溶湯に酸化性ガスを吹き付け及び/又は吹込
み、溶湯が含有するボロン及び炭素を酸化除去するにあ
たり、前記固体の金属シリコンを、2種類の異なった手
段で同時に加熱して溶解する。
率良く行い、その後のボロン除去を従来より一層安価に
行なえる金属シリコンの溶解方法を提供することを目的
としている。 【解決手段】固体の金属シリコンを保持容器内で溶解
し、その溶湯に酸化性ガスを吹き付け及び/又は吹込
み、溶湯が含有するボロン及び炭素を酸化除去するにあ
たり、前記固体の金属シリコンを、2種類の異なった手
段で同時に加熱して溶解する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属シリコンの溶
解方法に関し、詳しくは、太陽電池用シリコンを製造す
るに際し、出発原料となる固体金属シリコンを迅速に、
かつ効率よく溶解し、脱ボロン及び脱炭を安価に行う技
術である。
解方法に関し、詳しくは、太陽電池用シリコンを製造す
るに際し、出発原料となる固体金属シリコンを迅速に、
かつ効率よく溶解し、脱ボロン及び脱炭を安価に行う技
術である。
【0002】
【従来の技術】太陽電池に使用するシリコン中のP、
B、C、Fe、Al、Ti、Oなどの不純物元素は、所
要の光電交換効率を確保するには、C、O以外は1pp
m以下、C、Oに関しては各々5〜10ppm以下にす
る必要がある。また、太陽電池が広く利用されるために
は、このシリコンを安価に量産する必要がある。
B、C、Fe、Al、Ti、Oなどの不純物元素は、所
要の光電交換効率を確保するには、C、O以外は1pp
m以下、C、Oに関しては各々5〜10ppm以下にす
る必要がある。また、太陽電池が広く利用されるために
は、このシリコンを安価に量産する必要がある。
【0003】従来、太陽電池用のシリコンは、図5に示
すように、半導体用シリコンと同様、気相法を主体にし
て製造されている。つまり、高純度の酸化珪素SiO2
を高純度Cで還元して、純度の低い所謂金属シリコンを
溶製する。その後、上記金属シリコンをシラン化してか
ら、蒸留法によって高純度化し、さらに、析出法で精製
してから凝固し、基板とする方法である。この気相法
は、量産に適さず製造コストが高くなると共に、歩留も
低い。また、半導体用なので純度が高すぎ、Bなどは逆
に添加して調整する必要があり、太陽電池用のシリコン
の製造方法としては好ましくない。
すように、半導体用シリコンと同様、気相法を主体にし
て製造されている。つまり、高純度の酸化珪素SiO2
を高純度Cで還元して、純度の低い所謂金属シリコンを
溶製する。その後、上記金属シリコンをシラン化してか
ら、蒸留法によって高純度化し、さらに、析出法で精製
してから凝固し、基板とする方法である。この気相法
は、量産に適さず製造コストが高くなると共に、歩留も
低い。また、半導体用なので純度が高すぎ、Bなどは逆
に添加して調整する必要があり、太陽電池用のシリコン
の製造方法としては好ましくない。
【0004】このような要請の下で、本出願人は、前記
粗製した固体の金属シリコンを出発原料として、冶金プ
ロセスだけで一気に太陽電池用シリコンに精製する方法
を提案している。その方法は、図6に示すように、前記
金属シリコンを真空精練で脱Pした後、一方向凝固(凝
固粗精製工程)によって金属不純物元素(Al、Ti、
Fe等)をある程度除去し、再び溶解して酸化精練で脱
B、脱Cを行い、次いで、脱O後に前記金属不純物の最
終的な除去と、インゴットの製造を兼ねた仕上の凝固精
製を行うものである。つまり、金属シリコンのAl、F
e、Ti等金属不純物元素については、固液分配係数の
小さいことを利用した2度の一方向凝固精製により除去
し、Cについては、SiCは凝固の際に表面に析出さ
せ、また固溶しているCはCOとして除去し、Pについ
ては、その蒸気圧の高いことを利用して真空除去し、B
については、H2 O、CO2 あるいはO2 などの酸化性
物質を添加した酸化精製により除去する。この方法によ
れば、冶金プロセスなので、設備を大型にして量産が可
能となり、製造コストがかなり安価になることが期待で
きる。なお、上記製造方法では、真空精練と酸化精練の
順序を入れ換えてもよい。
粗製した固体の金属シリコンを出発原料として、冶金プ
ロセスだけで一気に太陽電池用シリコンに精製する方法
を提案している。その方法は、図6に示すように、前記
金属シリコンを真空精練で脱Pした後、一方向凝固(凝
固粗精製工程)によって金属不純物元素(Al、Ti、
Fe等)をある程度除去し、再び溶解して酸化精練で脱
B、脱Cを行い、次いで、脱O後に前記金属不純物の最
終的な除去と、インゴットの製造を兼ねた仕上の凝固精
製を行うものである。つまり、金属シリコンのAl、F
e、Ti等金属不純物元素については、固液分配係数の
小さいことを利用した2度の一方向凝固精製により除去
し、Cについては、SiCは凝固の際に表面に析出さ
せ、また固溶しているCはCOとして除去し、Pについ
ては、その蒸気圧の高いことを利用して真空除去し、B
については、H2 O、CO2 あるいはO2 などの酸化性
物質を添加した酸化精製により除去する。この方法によ
れば、冶金プロセスなので、設備を大型にして量産が可
能となり、製造コストがかなり安価になることが期待で
きる。なお、上記製造方法では、真空精練と酸化精練の
順序を入れ換えてもよい。
【0005】ところで、前記図6に示した工程のうち、
脱ボロン及び脱炭を行う工程は、固体の金属シリコンを
出発原料としてプラズマで溶解し、溶融した金属シリコ
ン中のボロンを酸化除去する期間も、同一のプラズマで
該溶融金属を加熱している。通常、このプラズマ溶解に
は、図3に示す移行型あるいは図4に示す非移行型プラ
ズマのいずれか一方が使用されている。このうち、移行
型とは、被加熱物1(この場合、固体の金属シリコン
1)を保持した容器2の底に、底部陽極11を配置し、
上方に設けたプラズマ・トーチ3との間に電圧を印加し
て、プラズマアーク10を発生させるものである(図3
参照)。この溶解方法は、アーク10を加熱に利用でき
るので、熱効率は比較的良好である。しかし、固体の金
属シリコン1の溶解に用いると、シリコンと直接接触し
ている容器2の底部陽極11から不純物が混入し、それ
らを別途精製する必要があるため、溶解後の精製工程と
の連続性を考慮すると、加熱方式を移送型プラズマのみ
とすることはできない。
脱ボロン及び脱炭を行う工程は、固体の金属シリコンを
出発原料としてプラズマで溶解し、溶融した金属シリコ
ン中のボロンを酸化除去する期間も、同一のプラズマで
該溶融金属を加熱している。通常、このプラズマ溶解に
は、図3に示す移行型あるいは図4に示す非移行型プラ
ズマのいずれか一方が使用されている。このうち、移行
型とは、被加熱物1(この場合、固体の金属シリコン
1)を保持した容器2の底に、底部陽極11を配置し、
上方に設けたプラズマ・トーチ3との間に電圧を印加し
て、プラズマアーク10を発生させるものである(図3
参照)。この溶解方法は、アーク10を加熱に利用でき
るので、熱効率は比較的良好である。しかし、固体の金
属シリコン1の溶解に用いると、シリコンと直接接触し
ている容器2の底部陽極11から不純物が混入し、それ
らを別途精製する必要があるため、溶解後の精製工程と
の連続性を考慮すると、加熱方式を移送型プラズマのみ
とすることはできない。
【0006】一方、非移行型は、プラズマ・トーチ3内
に設けた陽極と陰極との間に電圧を印加して、プラズマ
・トーチ3内だけでアークを発生し、プラズマ・ジェッ
ト4を発生させる。そして、この高温のプラズマ・ジェ
ット4を高速で該プラズマ・トーチ3より噴射し、被加
熱物1を溶解・加熱する。この溶解方法(図4参照)
は、プラズマ・ジェット4の流速が高速なので、溶湯を
撹拌する力は強いが、プラズマ・トーチ3内だけでアー
クを発生させるので、投入電力の50%以上がプラズマ
・トーチ3の冷却水で持ち去られ、さらに、被加熱物1
とアークとの接触が少ないので、固体物質の溶解方法と
しては、熱効率が著しく劣る。ちなみに、移行型と比べ
て電力消費量が4倍にもなる。
に設けた陽極と陰極との間に電圧を印加して、プラズマ
・トーチ3内だけでアークを発生し、プラズマ・ジェッ
ト4を発生させる。そして、この高温のプラズマ・ジェ
ット4を高速で該プラズマ・トーチ3より噴射し、被加
熱物1を溶解・加熱する。この溶解方法(図4参照)
は、プラズマ・ジェット4の流速が高速なので、溶湯を
撹拌する力は強いが、プラズマ・トーチ3内だけでアー
クを発生させるので、投入電力の50%以上がプラズマ
・トーチ3の冷却水で持ち去られ、さらに、被加熱物1
とアークとの接触が少ないので、固体物質の溶解方法と
しては、熱効率が著しく劣る。ちなみに、移行型と比べ
て電力消費量が4倍にもなる。
【0007】このように従来の単一種類の熱源を用いる
方法は、移行型プラズマではシリコンの汚染・非移行型
プラズマでは高電力原単位という問題点があり、これら
の問題点を解消して太陽電池用シリコンをより安価に製
造できる技術の出現が熱望されていた。
方法は、移行型プラズマではシリコンの汚染・非移行型
プラズマでは高電力原単位という問題点があり、これら
の問題点を解消して太陽電池用シリコンをより安価に製
造できる技術の出現が熱望されていた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる事情
を鑑み、金属シリコンの溶解を迅速、且つ効率よく行
い、その後のボロン除去を従来より一層安価に行なえる
金属シリコンの溶解方法を提供することを目的としてい
る。
を鑑み、金属シリコンの溶解を迅速、且つ効率よく行
い、その後のボロン除去を従来より一層安価に行なえる
金属シリコンの溶解方法を提供することを目的としてい
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】発明者は、上記目的を達
成するため研究を重ね、電力原単位を低減するには、特
に、固体状の金属シリコンを最初に溶解する段階で、電
量消費量を減らして迅速溶解をする必要性を痛感した。
固体を液体にする時期に最もエネルギーが必要だからで
ある。そして、その問題を解決する対策を鋭意検討し、
金属シリコンの熱伝導性が常温から高温になるにつれて
急激に変化する温度の存在に着眼した。つまり、この現
象を利用すれば、1種類の加熱源だけを使用せず、電量
消費量の少ない他の加熱源との併用で、電力原単位を減
少できると考えた。本発明は、この考えを具現化したも
のである。
成するため研究を重ね、電力原単位を低減するには、特
に、固体状の金属シリコンを最初に溶解する段階で、電
量消費量を減らして迅速溶解をする必要性を痛感した。
固体を液体にする時期に最もエネルギーが必要だからで
ある。そして、その問題を解決する対策を鋭意検討し、
金属シリコンの熱伝導性が常温から高温になるにつれて
急激に変化する温度の存在に着眼した。つまり、この現
象を利用すれば、1種類の加熱源だけを使用せず、電量
消費量の少ない他の加熱源との併用で、電力原単位を減
少できると考えた。本発明は、この考えを具現化したも
のである。
【0010】すなわち、本発明は、固体の金属シリコン
を保持容器内で溶解し、その溶湯に酸化性ガスを吹き付
け及び/又は吹込み、溶湯が含有するボロン及び炭素を
酸化除去するにあたり、前記固体の金属シリコンを、2
種類の異なった手段で同時に加熱して溶解することを特
徴とする金属シリコンの溶解方法である。また、本発明
は、前記2種類の異なった手段を、非移行型プラズマ加
熱及び高周波誘導加熱とすることを特徴とする金属シリ
コンの溶解方法である。
を保持容器内で溶解し、その溶湯に酸化性ガスを吹き付
け及び/又は吹込み、溶湯が含有するボロン及び炭素を
酸化除去するにあたり、前記固体の金属シリコンを、2
種類の異なった手段で同時に加熱して溶解することを特
徴とする金属シリコンの溶解方法である。また、本発明
は、前記2種類の異なった手段を、非移行型プラズマ加
熱及び高周波誘導加熱とすることを特徴とする金属シリ
コンの溶解方法である。
【0011】さらに、本発明は、電気抵抗加熱及び非移
行型プラズマ加熱とすることを特徴とする金属シリコン
の溶解方法である。加えて、本発明は、加熱時期に応じ
て前記2種類の異なった手段のいずれか一方の加熱を停
止することを特徴とする金属シリコンの溶解方法でもあ
る。本発明では、金属シリコンの溶解を、上記のよう
に、異なった2種類の加熱手段を、適切な時期に使用し
たので、固体状の金属シリコンの溶解が迅速になると共
に、消費される電力が大幅に低減する。その結果、ボロ
ン及び炭素の除去が従来より一層安価に、且つ効率良く
行えるようになった。
行型プラズマ加熱とすることを特徴とする金属シリコン
の溶解方法である。加えて、本発明は、加熱時期に応じ
て前記2種類の異なった手段のいずれか一方の加熱を停
止することを特徴とする金属シリコンの溶解方法でもあ
る。本発明では、金属シリコンの溶解を、上記のよう
に、異なった2種類の加熱手段を、適切な時期に使用し
たので、固体状の金属シリコンの溶解が迅速になると共
に、消費される電力が大幅に低減する。その結果、ボロ
ン及び炭素の除去が従来より一層安価に、且つ効率良く
行えるようになった。
【0012】
【発明の実施の形態】図1に、本発明に係る「金属シリ
コンの溶解方法」を実施した装置例を示す。それは、被
加熱物1の金属シリコンを保持する、例えばシリカ質の
容器2と、その上方に配置した非移行型のプラズマ・ト
ーチ3と、容器2周囲に配置した高周波誘導コイル5
と、容器2の底部に配置したガス吹込み羽口6(例え
ば、ポーラス・プラグ)からなっている。従って、固体
状の金属シリコン1の溶解開始当初は、非移行型プラズ
マと高周波誘導とで加熱すれば、両者の加熱能力が組み
合わさって該金属シリコン1を迅速に溶解し、高温に維
持できることになる。そのため、単独使用では電力消費
量の多い非以降型プラズマ溶解も少ない電力で済む。そ
して、ほぼ溶解が終了し、一定温度に維持する時期に入
ったら、プラズマ加熱を止め、高周波誘導加熱のみに切
り換えればよい。
コンの溶解方法」を実施した装置例を示す。それは、被
加熱物1の金属シリコンを保持する、例えばシリカ質の
容器2と、その上方に配置した非移行型のプラズマ・ト
ーチ3と、容器2周囲に配置した高周波誘導コイル5
と、容器2の底部に配置したガス吹込み羽口6(例え
ば、ポーラス・プラグ)からなっている。従って、固体
状の金属シリコン1の溶解開始当初は、非移行型プラズ
マと高周波誘導とで加熱すれば、両者の加熱能力が組み
合わさって該金属シリコン1を迅速に溶解し、高温に維
持できることになる。そのため、単独使用では電力消費
量の多い非以降型プラズマ溶解も少ない電力で済む。そ
して、ほぼ溶解が終了し、一定温度に維持する時期に入
ったら、プラズマ加熱を止め、高周波誘導加熱のみに切
り換えればよい。
【0013】次に、この高周波誘導加熱に切り換わった
後、シリコンが容器内で完全に溶解したことが確認され
たら、炉底に設けた羽口11を介して不活性ガスと酸化
性ガス(水蒸気、CO2 、O2 等)との混合ガス7を吹
込み、溶融状態となった金属シリコンのボロンを酸化除
去することになる。なお、該混合ガス7は、プラズマ・
トーチ3を介して高温のプラズマ・ジェット4に添加し
て溶湯7に吹き付けてもよい。また、酸化性ガスに加え
て、H2 やCOといった還元ガスを添加することもでき
る。その際、該プラズマ・ジェット4からも熱が供給さ
れるため高周波誘導加熱源の印加電力を低減、あるいは
切断してもよい。一旦溶解したシリコンを溶融状態に維
持するだけであれば、熱源として非移行型プラズマを用
いてもそれほど電力原単位は悪くなく、高い撹拌力によ
り溶解時間が短縮されることを考慮すると、他の加熱方
法よりもむしろ有利である。
後、シリコンが容器内で完全に溶解したことが確認され
たら、炉底に設けた羽口11を介して不活性ガスと酸化
性ガス(水蒸気、CO2 、O2 等)との混合ガス7を吹
込み、溶融状態となった金属シリコンのボロンを酸化除
去することになる。なお、該混合ガス7は、プラズマ・
トーチ3を介して高温のプラズマ・ジェット4に添加し
て溶湯7に吹き付けてもよい。また、酸化性ガスに加え
て、H2 やCOといった還元ガスを添加することもでき
る。その際、該プラズマ・ジェット4からも熱が供給さ
れるため高周波誘導加熱源の印加電力を低減、あるいは
切断してもよい。一旦溶解したシリコンを溶融状態に維
持するだけであれば、熱源として非移行型プラズマを用
いてもそれほど電力原単位は悪くなく、高い撹拌力によ
り溶解時間が短縮されることを考慮すると、他の加熱方
法よりもむしろ有利である。
【0014】図2は、本発明の別な実施形態を例示す
る。図1の高周波加熱装置に代えて、電熱ヒータ9を溶
解容器2の周囲に配し、非移送型プラズマ・トーチ3と
同時に動作させて固体状の金属シリコン1を溶解する。
なお、電熱ヒータ9は被溶解物の電気伝導度に関係なく
加熱することが可能なため、非移送プラズマを同時に動
作させることは必ずしも必要ではないように考えられな
くもないが、電熱ヒータ9のるつぼ周縁部からの加熱に
加えて、非移送型プラズマでるつぼ中央部からの加熱を
加えることにより溶解効率は各段に向上する。
る。図1の高周波加熱装置に代えて、電熱ヒータ9を溶
解容器2の周囲に配し、非移送型プラズマ・トーチ3と
同時に動作させて固体状の金属シリコン1を溶解する。
なお、電熱ヒータ9は被溶解物の電気伝導度に関係なく
加熱することが可能なため、非移送プラズマを同時に動
作させることは必ずしも必要ではないように考えられな
くもないが、電熱ヒータ9のるつぼ周縁部からの加熱に
加えて、非移送型プラズマでるつぼ中央部からの加熱を
加えることにより溶解効率は各段に向上する。
【0015】
(実施例1)粉状の金属シリコン1を、前記した図1お
よび図2の装置を用いてそれぞれ30kg溶解した。そ
して、引き続き、溶解後の溶湯から酸化性ガスの吹込み
でボロン及び炭素の除去を行った。その時の各加熱源の
電力消費量、及び溶解時間を表1に一括して示す。ま
た、表1には、図4に示す装置を用いた従来通りの方法
による溶解で消費した電力量も示してある。
よび図2の装置を用いてそれぞれ30kg溶解した。そ
して、引き続き、溶解後の溶湯から酸化性ガスの吹込み
でボロン及び炭素の除去を行った。その時の各加熱源の
電力消費量、及び溶解時間を表1に一括して示す。ま
た、表1には、図4に示す装置を用いた従来通りの方法
による溶解で消費した電力量も示してある。
【0016】表1より、本発明に関わる3通りの方法す
べてが、溶解に要する時間が従来法の単独加熱による場
合より短く、しかも消費電力が少ないことが明らかであ
る。
べてが、溶解に要する時間が従来法の単独加熱による場
合より短く、しかも消費電力が少ないことが明らかであ
る。
【0017】
【表1】
【0018】
【発明の効果】以上述べたように、本発明により、固体
状の金属シリコンの溶解が、従来より低い電力原単位で
しかも短時間に行えるようになった。従って、太陽電池
用シリコンの製造コストを、従来より減少させることが
できた。
状の金属シリコンの溶解が、従来より低い電力原単位で
しかも短時間に行えるようになった。従って、太陽電池
用シリコンの製造コストを、従来より減少させることが
できた。
【図1】本発明に係る金属シリコンの溶解方法を実施す
る装置例を示す縦断面図である。
る装置例を示す縦断面図である。
【図2】本発明に係る金属シリコンの溶解方法を実施す
る別の装置例を示す縦断面図である。
る別の装置例を示す縦断面図である。
【図3】従来の金属シリコンの溶解方法を実施する移行
型プラズマ電源を用いた装置を示す図である。
型プラズマ電源を用いた装置を示す図である。
【図4】従来の金属シリコンの溶解方法を実施する非移
行型電源を用いた装置を示す図である。
行型電源を用いた装置を示す図である。
【図5】従来の太陽電池用シリコンの製造方法を示す工
程流れ図である。
程流れ図である。
【図6】本出願人が別途提案中の太陽電池シリコンの製
造方法を示す工程流れ図である。
造方法を示す工程流れ図である。
1 固体状の金属シリコン(被加熱物) 2 容器 3 プラズマ・トーチ 4 プラズマ・ジェット 5 高周波誘導コイル 6 羽口(底部羽口) 7 混合ガス 8 プラズマ用直流電源 9 電気抵抗加熱用ヒータ 10 プラズマアーク 11 底部電極(黒鉛)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 花澤 和浩 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 馬場 裕幸 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 湯下 憲吉 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 阪口 泰彦 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 加藤 嘉英 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内
Claims (4)
- 【請求項1】 固体の金属シリコンを保持容器内で溶解
し、その溶湯に酸化性ガスを吹き付け及び/又は吹込
み、溶湯が含有するボロン及び炭素を酸化除去するにあ
たり、 前記固体の金属シリコンを、2種類の異なった手段で同
時に加熱して溶解することを特徴とする金属シリコンの
溶解方法。 - 【請求項2】 前記2種類の異なった手段を、非移行型
プラズマ加熱及び高周波誘導加熱とすることを特徴とす
る請求項1記載の金属シリコンの溶解方法。 - 【請求項3】 前記2種類の異なった手段を、電気抵抗
加熱及び非移行型プラズマ加熱とすることを特徴とする
請求項1記載の金属シリコンの溶解方法。 - 【請求項4】 加熱時期に応じて前記2種類の異なった
手段のいずれか一方の加熱を停止することを特徴とする
請求項1〜4いずれか記載の金属シリコンの溶解方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9077972A JPH10273312A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 金属シリコンの溶解方法 |
| NO980278A NO980278L (no) | 1997-01-22 | 1998-01-21 | FremgangsmÕte og apparatur for fjerning av bor fra silisium av metallurgisk kvalitet |
| EP98101009A EP0855367A1 (en) | 1997-01-22 | 1998-01-21 | Method for removing boron from metallurgical grade silicon and apparatus |
| CN98105942A CN1105081C (zh) | 1997-01-22 | 1998-01-22 | 从金属硅中除去硼的方法和装置 |
| CA002227693A CA2227693C (en) | 1997-01-22 | 1998-01-22 | Method for removing boron from metallurgical grade silicon and apparatus |
| KR1019980001879A KR100275973B1 (ko) | 1997-01-22 | 1998-01-22 | 금속 실리콘으로부터의 붕소제거 방법 및 장치 |
| BR9800434A BR9800434A (pt) | 1997-01-22 | 1998-01-22 | Processo para remoção de boro a partir de silício de grau metalúrgico e aparelho |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9077972A JPH10273312A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 金属シリコンの溶解方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10273312A true JPH10273312A (ja) | 1998-10-13 |
Family
ID=13648829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9077972A Withdrawn JPH10273312A (ja) | 1997-01-22 | 1997-03-28 | 金属シリコンの溶解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10273312A (ja) |
-
1997
- 1997-03-28 JP JP9077972A patent/JPH10273312A/ja not_active Withdrawn
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