JPH10273384A - 単結晶引上装置 - Google Patents
単結晶引上装置Info
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- JPH10273384A JPH10273384A JP9139197A JP9139197A JPH10273384A JP H10273384 A JPH10273384 A JP H10273384A JP 9139197 A JP9139197 A JP 9139197A JP 9139197 A JP9139197 A JP 9139197A JP H10273384 A JPH10273384 A JP H10273384A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 無転位結晶の目的とする把持位置の断面形状
がどのような形状であっても常に安定な把持状態が得ら
れるような単結晶引上装置を提供する。 【解決手段】 ダッシュネック法により無転位化を達成
した後の無転位結晶部分を把持手段で把持し、駆動手段
で引上げながら単結晶を成長させるためのチョクラルス
キー法による単結晶引上装置において、前記把持手段
の、前記結晶を把持する際に該結晶の表面と当接する領
域を占める先端部材は、前記結晶を把持する時の周辺温
度付近より低い融点を持つ金属と、該金属を被覆する前
記温度において可撓性を示す金属層とを備えたものであ
る。
がどのような形状であっても常に安定な把持状態が得ら
れるような単結晶引上装置を提供する。 【解決手段】 ダッシュネック法により無転位化を達成
した後の無転位結晶部分を把持手段で把持し、駆動手段
で引上げながら単結晶を成長させるためのチョクラルス
キー法による単結晶引上装置において、前記把持手段
の、前記結晶を把持する際に該結晶の表面と当接する領
域を占める先端部材は、前記結晶を把持する時の周辺温
度付近より低い融点を持つ金属と、該金属を被覆する前
記温度において可撓性を示す金属層とを備えたものであ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はシリコン等の単結晶
成長時の引上げに用いるものであり、特に、大口径半導
体単結晶引上炉用の引上装置に関するものである。
成長時の引上げに用いるものであり、特に、大口径半導
体単結晶引上炉用の引上装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体結晶として用いられる例えばシリ
コン結晶の製造方法一つとして、単結晶を引上げること
によって製造する、所謂CZ(Czochralski:チョクラル
スキー) 法がある。これは、不活性ガスチャンバー炉内
のるつぼ中で塊粒状多結晶シリコンを加熱溶融し、この
溶融シリコンに種単結晶を接触させた後、冷却しつつ、
回転させながらゆっくり種結晶を上昇させ、種結晶下で
いったん結晶を細く絞って(種しぼり)成長させること
により転位を結晶側面に交わらせて無転位領域を形成し
(ダッシュネック法)、さらに無転位単結晶を引き上げ
て成長せしめる方法である。
コン結晶の製造方法一つとして、単結晶を引上げること
によって製造する、所謂CZ(Czochralski:チョクラル
スキー) 法がある。これは、不活性ガスチャンバー炉内
のるつぼ中で塊粒状多結晶シリコンを加熱溶融し、この
溶融シリコンに種単結晶を接触させた後、冷却しつつ、
回転させながらゆっくり種結晶を上昇させ、種結晶下で
いったん結晶を細く絞って(種しぼり)成長させること
により転位を結晶側面に交わらせて無転位領域を形成し
(ダッシュネック法)、さらに無転位単結晶を引き上げ
て成長せしめる方法である。
【0003】単結晶引上げのためには、従来から単結晶
引上げ装置が用いられている。この装置は、主に、種結
晶の固定取り付け部を下端に備えたワイヤーを、その軸
心方向に自転させながら巻き取る構成を持つものであ
る。
引上げ装置が用いられている。この装置は、主に、種結
晶の固定取り付け部を下端に備えたワイヤーを、その軸
心方向に自転させながら巻き取る構成を持つものであ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体装置の回
路集積量の増大に伴う大型化に応じて、半導体装置製造
の高効率化を図るために、単結晶は大径化の傾向にあ
る。従って、引上げ単結晶も大重量化することになる。
しかし、上記の如き引上げ装置のワイヤによる種結晶部
での引上げでは、耐荷重に限界があり、大重量単結晶を
引き上げることはできない。
路集積量の増大に伴う大型化に応じて、半導体装置製造
の高効率化を図るために、単結晶は大径化の傾向にあ
る。従って、引上げ単結晶も大重量化することになる。
しかし、上記の如き引上げ装置のワイヤによる種結晶部
での引上げでは、耐荷重に限界があり、大重量単結晶を
引き上げることはできない。
【0005】そこで、種結晶下の単結晶上部に拡径した
後に縮径することによって頭部を形成し、この頭部下の
くびれ部分を係合挟持する複数のキャッチャーアームを
等角度間隔で周状に持つ昇降軸を備えた装置が考えられ
ている。これは、複数のキャッチャーアームが互いに閉
じて挟持することによって単結晶上部のくびれ部が把持
されるものである。
後に縮径することによって頭部を形成し、この頭部下の
くびれ部分を係合挟持する複数のキャッチャーアームを
等角度間隔で周状に持つ昇降軸を備えた装置が考えられ
ている。これは、複数のキャッチャーアームが互いに閉
じて挟持することによって単結晶上部のくびれ部が把持
されるものである。
【0006】このようなキャッチャーアームによるくび
れ部の把持は、通常、以下のような操作で行なわれる。
即ち、キャチャーアームの単結晶頭部に対する相対位置
関係を一定に保ちながら、所定の上昇速度による単結晶
のワイヤ引上げを維持しつつ、キャッチャーアームを、
その先端が予め挟持すべく定められたくびれ部上の接触
位置より下方位置に対向するような相対位置関係におい
て閉じ、閉状態となった後にキャッチャーアームの上昇
速度を単結晶の上昇速度より早めることによってキャッ
チャーアーム先端でくびれ部を前記所定の接触位置でキ
ャッチさせ、係合・挟持状態を得る。
れ部の把持は、通常、以下のような操作で行なわれる。
即ち、キャチャーアームの単結晶頭部に対する相対位置
関係を一定に保ちながら、所定の上昇速度による単結晶
のワイヤ引上げを維持しつつ、キャッチャーアームを、
その先端が予め挟持すべく定められたくびれ部上の接触
位置より下方位置に対向するような相対位置関係におい
て閉じ、閉状態となった後にキャッチャーアームの上昇
速度を単結晶の上昇速度より早めることによってキャッ
チャーアーム先端でくびれ部を前記所定の接触位置でキ
ャッチさせ、係合・挟持状態を得る。
【0007】しかしながら、このようなキャッチャーア
ームによる単結晶くびれ部の把持においては、ほぼ等間
隔で隆起した晶癖線が現出するなどくびれ部の断面形状
が単結晶毎に千差万別であって、各アーム先端の点接触
によるものとなってしまうため、各キャッチャーアーム
先端のくびれ部分に対する当初の当接状態が不均一であ
る場合が多い。
ームによる単結晶くびれ部の把持においては、ほぼ等間
隔で隆起した晶癖線が現出するなどくびれ部の断面形状
が単結晶毎に千差万別であって、各アーム先端の点接触
によるものとなってしまうため、各キャッチャーアーム
先端のくびれ部分に対する当初の当接状態が不均一であ
る場合が多い。
【0008】例えば、くびれ部のキャッチの際、複数の
キャッチャーアームのうちのいくつかが晶癖線の隆起部
にあたった状態で挟持され、他のキャッチャーアームの
先端がくびれ部から浮いた状態になるなど、不安定な挟
持状態ため、くびれ部のキャッチの際やその後の引上げ
操作が進行するなかで、各キャッチャーアームの間でく
びれ部がガタついたり、晶癖線の隆起部上にあったキャ
ッチャーアームの先端位置がこの隆起部から低い平坦部
へずれ落ちることもある。
キャッチャーアームのうちのいくつかが晶癖線の隆起部
にあたった状態で挟持され、他のキャッチャーアームの
先端がくびれ部から浮いた状態になるなど、不安定な挟
持状態ため、くびれ部のキャッチの際やその後の引上げ
操作が進行するなかで、各キャッチャーアームの間でく
びれ部がガタついたり、晶癖線の隆起部上にあったキャ
ッチャーアームの先端位置がこの隆起部から低い平坦部
へずれ落ちることもある。
【0009】このようなキャッチ時や、引上げ作業中に
生じる晶癖線の隆起等、くびれ部の断面形状が軸対象で
ないことに起因するガタツキおよびずり落ちによる単結
晶全体へのショックは、単結晶の成長に悪影響を及ぼ
し、良好な大口径単結晶製造が妨げられてしまう。
生じる晶癖線の隆起等、くびれ部の断面形状が軸対象で
ないことに起因するガタツキおよびずり落ちによる単結
晶全体へのショックは、単結晶の成長に悪影響を及ぼ
し、良好な大口径単結晶製造が妨げられてしまう。
【0010】本発明は、上記問題点に鑑み、無転位結晶
の目的とする把持位置の断面形状がどのような形状であ
っても常に安定な把持状態が得られるような単結晶引上
装置の提供を目的とする。
の目的とする把持位置の断面形状がどのような形状であ
っても常に安定な把持状態が得られるような単結晶引上
装置の提供を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明に係る単結晶引上装置では、
ダッシュネック法により無転位化を達成した後の無転位
結晶部分を把持して結晶成長を続けるチョクラルスキー
法による単結晶引上装置であって、無転位結晶を把持す
る把持手段と、前記結晶を把持した状態の把持手段を引
上げ方向へ移動させる駆動手段と、を備え、前記把持手
段は、前記結晶を把持する際に該結晶の表面と当接する
領域を占める先端部材を有し、この先端部材は、前記結
晶を把持する時の周辺温度付近より低い融点を持つ金属
と、該金属を被覆する前記温度において可撓性を示す金
属層とを備えたものである。
め、請求項1に記載の発明に係る単結晶引上装置では、
ダッシュネック法により無転位化を達成した後の無転位
結晶部分を把持して結晶成長を続けるチョクラルスキー
法による単結晶引上装置であって、無転位結晶を把持す
る把持手段と、前記結晶を把持した状態の把持手段を引
上げ方向へ移動させる駆動手段と、を備え、前記把持手
段は、前記結晶を把持する際に該結晶の表面と当接する
領域を占める先端部材を有し、この先端部材は、前記結
晶を把持する時の周辺温度付近より低い融点を持つ金属
と、該金属を被覆する前記温度において可撓性を示す金
属層とを備えたものである。
【0012】また、請求項2に記載の発明に係る単結晶
引上装置では、請求項1に記載の単結晶引上装置におい
て、前記先端部材は、アルミニウムと、これを覆うステ
ンレス層とからなるものである。
引上装置では、請求項1に記載の単結晶引上装置におい
て、前記先端部材は、アルミニウムと、これを覆うステ
ンレス層とからなるものである。
【0013】本発明は、ダッシュネック法により無転位
化を達成した後の無転位結晶を把持手段で把持し、この
結晶把持状態の把持手段を駆動手段で引上げながら単結
晶をを成長させる単結晶引上装置である。なお、ここで
いうダッシュネック法による無転位化とは、ダッシュ(D
ash)による無転位成長法に基づくものであり、種単結晶
を溶融シリコンに接触させた後、種結晶から結晶をいっ
たん細く絞って(種しぼり)成長させることにより転位
を結晶側面に交わらせて無転位領域を形成するものであ
る。
化を達成した後の無転位結晶を把持手段で把持し、この
結晶把持状態の把持手段を駆動手段で引上げながら単結
晶をを成長させる単結晶引上装置である。なお、ここで
いうダッシュネック法による無転位化とは、ダッシュ(D
ash)による無転位成長法に基づくものであり、種単結晶
を溶融シリコンに接触させた後、種結晶から結晶をいっ
たん細く絞って(種しぼり)成長させることにより転位
を結晶側面に交わらせて無転位領域を形成するものであ
る。
【0014】さらに、本発明の把持手段は、結晶を把持
する際に結晶表面と当接する領域に、結晶を把持する時
の周辺温度付近より低い融点を持つ金属とこの金属を被
覆する前記周辺温度において可撓性を示す金属層とを備
えた先端部材を有するものである。
する際に結晶表面と当接する領域に、結晶を把持する時
の周辺温度付近より低い融点を持つ金属とこの金属を被
覆する前記周辺温度において可撓性を示す金属層とを備
えた先端部材を有するものである。
【0015】このような本発明の構成においては、把持
手段によって結晶を把持しようとする時点では、先端部
材の被覆金属層は可撓性を持つと同時に被覆金属層内の
金属は半融の無定形状態にある。従って、把持手段の先
端部材が単結晶をキャッチし把持した際には、この先端
部材が結晶に当接してクッションのようにショックを吸
収すると共に、把持手段の把持圧によって結晶との接触
部はその表面の形状に応じた形状に変形して当接面を形
成する。
手段によって結晶を把持しようとする時点では、先端部
材の被覆金属層は可撓性を持つと同時に被覆金属層内の
金属は半融の無定形状態にある。従って、把持手段の先
端部材が単結晶をキャッチし把持した際には、この先端
部材が結晶に当接してクッションのようにショックを吸
収すると共に、把持手段の把持圧によって結晶との接触
部はその表面の形状に応じた形状に変形して当接面を形
成する。
【0016】従って、先端部材による接触は、対向する
結晶表面がどのような形状をしていてもそれに応じた形
状に変化した当接面による面接触となるため、従来のよ
うなキャッチャーアーム先端による点接触の場合に比べ
て格段に安定した挟持状態となる。
結晶表面がどのような形状をしていてもそれに応じた形
状に変化した当接面による面接触となるため、従来のよ
うなキャッチャーアーム先端による点接触の場合に比べ
て格段に安定した挟持状態となる。
【0017】さらに、この面接触による把持状態での単
結晶の引上げが進行すると、先端部材の結晶当接部にお
ける周辺温度は、引上げ上昇と共に徐々に低下し、それ
に伴って被覆金属は不撓化し、その中の金属も凝固化し
て先端部材の当接面形状が固定化していくため、引上げ
重量が増大していっても把持強度も増大していくので、
安定した把持状態のままで単結晶引上げが良好に遂行さ
れる。
結晶の引上げが進行すると、先端部材の結晶当接部にお
ける周辺温度は、引上げ上昇と共に徐々に低下し、それ
に伴って被覆金属は不撓化し、その中の金属も凝固化し
て先端部材の当接面形状が固定化していくため、引上げ
重量が増大していっても把持強度も増大していくので、
安定した把持状態のままで単結晶引上げが良好に遂行さ
れる。
【0018】被覆金属としては、結晶を把持する時の周
辺温度において可撓性を示すものであれば良く、一方、
被覆される方の金属は、結晶を把持する時の周辺温度付
近より低い融点をもつもの、即ち、被覆金属内では融点
が近いがそれより若干低い温度となるものであれば良
い。
辺温度において可撓性を示すものであれば良く、一方、
被覆される方の金属は、結晶を把持する時の周辺温度付
近より低い融点をもつもの、即ち、被覆金属内では融点
が近いがそれより若干低い温度となるものであれば良
い。
【0019】たとえば、結晶を把持する時の把持部周辺
温度が800℃付近であれば、請求項2に記載したよう
に、先端部材は700℃前後に融点を持つアルミニウム
をステンレスで被覆する構成のものが挙げられる。
温度が800℃付近であれば、請求項2に記載したよう
に、先端部材は700℃前後に融点を持つアルミニウム
をステンレスで被覆する構成のものが挙げられる。
【0020】なお、本発明における先端部材の被覆金属
の厚みは、結晶把持の際には可撓性を示すことが必要で
あると共に、その際の荷重作用で破れて中の金属が露出
することがないように充分な厚みに設定する必要があ
る。
の厚みは、結晶把持の際には可撓性を示すことが必要で
あると共に、その際の荷重作用で破れて中の金属が露出
することがないように充分な厚みに設定する必要があ
る。
【0021】また、本発明の把持手段としては、例え
ば、基本的に従来のような複数のキャッチャーアームか
らなる構成が利用できる。各キャッチャーアームの下端
に本発明の先端部材を備えれば良い。この場合、既存の
キャチャーアームの下端部に適当な取付け手段を講じて
先端部材を取り付けることによっても構成することがで
きるので、装置設計は簡便である。もちろん、本発明の
先端部材は着脱可能で交換できる構成としても良い。
ば、基本的に従来のような複数のキャッチャーアームか
らなる構成が利用できる。各キャッチャーアームの下端
に本発明の先端部材を備えれば良い。この場合、既存の
キャチャーアームの下端部に適当な取付け手段を講じて
先端部材を取り付けることによっても構成することがで
きるので、装置設計は簡便である。もちろん、本発明の
先端部材は着脱可能で交換できる構成としても良い。
【0022】また、本発明の把持手段による把持位置
は、無転位化達成後に成長する単結晶のいずれの位置で
あったも良いが、例えばキャッチャーアームの配列な
ど、把持手段の設計は把持する単結晶の径に対応して決
定されるため、予め所望の単結晶把持位置とその径を設
定する。もちろん、従来と同様に、無転位化達成後に単
結晶の拡径と縮径によって頭部を形成し、頭部下のくび
れ部を挟持する設計としてもよい。
は、無転位化達成後に成長する単結晶のいずれの位置で
あったも良いが、例えばキャッチャーアームの配列な
ど、把持手段の設計は把持する単結晶の径に対応して決
定されるため、予め所望の単結晶把持位置とその径を設
定する。もちろん、従来と同様に、無転位化達成後に単
結晶の拡径と縮径によって頭部を形成し、頭部下のくび
れ部を挟持する設計としてもよい。
【0023】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態の一
例として、先端部材にアルミニウムをステンレスで被覆
したものを用い、且つ把持手段として複数のキャッチャ
ーアームを持つ構成の単結晶引上装置を図1示す。本実
施形態においては、種結晶下の無転位達成後に単結晶頭
部を形成し、頭部下のくびれ部を把持する場合を例とし
て示す。
例として、先端部材にアルミニウムをステンレスで被覆
したものを用い、且つ把持手段として複数のキャッチャ
ーアームを持つ構成の単結晶引上装置を図1示す。本実
施形態においては、種結晶下の無転位達成後に単結晶頭
部を形成し、頭部下のくびれ部を把持する場合を例とし
て示す。
【0024】まず、本実施形態に用いる先端部材の一製
造工程を以下に説明する。図2に示すように、厚さ0.
5〜5mm,内径10mm,長さ50mm〜100mm
程度の片封じステンレスパイプ5内を用意する(a)。
このステンレスパイプ5の厚みは、丁度、後述のくびれ
部キャッチ時の結晶重量の1〜2倍相当の重圧がパイプ
5側面に係った際に、その側面の撓みが対向する側面に
達する程度のパイプ強度となるような厚みに設定する。
造工程を以下に説明する。図2に示すように、厚さ0.
5〜5mm,内径10mm,長さ50mm〜100mm
程度の片封じステンレスパイプ5内を用意する(a)。
このステンレスパイプ5の厚みは、丁度、後述のくびれ
部キャッチ時の結晶重量の1〜2倍相当の重圧がパイプ
5側面に係った際に、その側面の撓みが対向する側面に
達する程度のパイプ強度となるような厚みに設定する。
【0025】このステンレスパイプ5の内径とほぼ同じ
直径を持つ長さ30mm〜50mmの棒状のアルミニウ
ム4をステンレスパイプ5内の片封じ側に挿入する
(b)。さらに、ステンレスパイプ5内のアルミニウム
4の後方空間に、この空間を埋めるステンレス棒6を挿
入した後、ステンレスパイプ内の開口端を溶接(溶接部
7)する(c)ことによって先端部材3とする。このよ
うに、アルミニウム4後方にステンレス棒6を挿入した
のは、開口端を溶接する際の加熱の影響をアルミニウム
4に及ぼさないためである。
直径を持つ長さ30mm〜50mmの棒状のアルミニウ
ム4をステンレスパイプ5内の片封じ側に挿入する
(b)。さらに、ステンレスパイプ5内のアルミニウム
4の後方空間に、この空間を埋めるステンレス棒6を挿
入した後、ステンレスパイプ内の開口端を溶接(溶接部
7)する(c)ことによって先端部材3とする。このよ
うに、アルミニウム4後方にステンレス棒6を挿入した
のは、開口端を溶接する際の加熱の影響をアルミニウム
4に及ぼさないためである。
【0026】また、この先端部材3は、取り付けられる
べきキャッチャーアーム下端部との係合方法に応じた形
に成形されるものであるが、このステンレス棒6の部分
を特に係合部分として利用できるので、単にステンレス
パイプ5内にアルミニウム4を封入する場合よりも取扱
いが簡便となる。
べきキャッチャーアーム下端部との係合方法に応じた形
に成形されるものであるが、このステンレス棒6の部分
を特に係合部分として利用できるので、単にステンレス
パイプ5内にアルミニウム4を封入する場合よりも取扱
いが簡便となる。
【0027】本実施形態では、図1(a)および(b)
に示すように、先端部材3を略U字型に成形し、後述す
るキャッチャーアーム1のアーム下方の側面に取付け穴
10を設け、キャッチャーアーム1下端部2の挟持状態
におけるくびれ部との接触部側にアルミニウム4挿入領
域を当接させ、溶接部7側(ステンレス棒6領域)を取
付け穴10に貫通させることによって先端部材3をキャ
ッチャーアーム1に取り付けた。
に示すように、先端部材3を略U字型に成形し、後述す
るキャッチャーアーム1のアーム下方の側面に取付け穴
10を設け、キャッチャーアーム1下端部2の挟持状態
におけるくびれ部との接触部側にアルミニウム4挿入領
域を当接させ、溶接部7側(ステンレス棒6領域)を取
付け穴10に貫通させることによって先端部材3をキャ
ッチャーアーム1に取り付けた。
【0028】本引上装置は、図1に示すように、るつぼ
20中溶融シリコンに、種結晶14を接触させた後、ワ
イヤ11を不図示の巻上装置で引上げながら予め定めら
れた回転速度でワイヤ11を軸心回りに自転させながら
ゆっくり種結晶14を上昇させることによって、種結晶
14下に単結晶を成長せしめるチョクラルスキー法によ
る半導体単結晶引上炉用のものである。本装置は、種結
晶14の下部に成長する単結晶に拡径部と縮径部とから
なる頭部15のくびれ部16を形成させた後、このくび
れ部16を3つ以上のキャッチャーアーム下端部でラジ
アル方向から挟持して、結晶引上げを進める構成となっ
ている。
20中溶融シリコンに、種結晶14を接触させた後、ワ
イヤ11を不図示の巻上装置で引上げながら予め定めら
れた回転速度でワイヤ11を軸心回りに自転させながら
ゆっくり種結晶14を上昇させることによって、種結晶
14下に単結晶を成長せしめるチョクラルスキー法によ
る半導体単結晶引上炉用のものである。本装置は、種結
晶14の下部に成長する単結晶に拡径部と縮径部とから
なる頭部15のくびれ部16を形成させた後、このくび
れ部16を3つ以上のキャッチャーアーム下端部でラジ
アル方向から挟持して、結晶引上げを進める構成となっ
ている。
【0029】本引上装置では、上記のごとくそれぞれ下
端部2に先端部材3が取り付けられた3つ以上のキャッ
チャーアーム1がその上端部で、互いに等角度間隔で配
置されるように吊持部(把持手段)13に開閉可能に枢
支されている。この吊持部13における各上端部の枢支
部を中心とした回動制御によって、各キャッチャーアー
ム1の開閉が行なわれる。
端部2に先端部材3が取り付けられた3つ以上のキャッ
チャーアーム1がその上端部で、互いに等角度間隔で配
置されるように吊持部(把持手段)13に開閉可能に枢
支されている。この吊持部13における各上端部の枢支
部を中心とした回動制御によって、各キャッチャーアー
ム1の開閉が行なわれる。
【0030】この吊持部13は、ワイヤ11を同軸状に
内包しており、ワイヤ11の種結晶14引上げに機械的
に干渉することなく不図示の駆動装置(駆動手段)によ
って軸方向に移動されるものである。この吊持部13の
駆動装置による軸方向移動に伴って、各キャッチャーア
ーム1が一斉に結晶引上げ方向に移動される。
内包しており、ワイヤ11の種結晶14引上げに機械的
に干渉することなく不図示の駆動装置(駆動手段)によ
って軸方向に移動されるものである。この吊持部13の
駆動装置による軸方向移動に伴って、各キャッチャーア
ーム1が一斉に結晶引上げ方向に移動される。
【0031】以上の如き構成をもつ引上装置の、大口径
半導体単結晶引上炉における単結晶引上げ動作を以下に
示す。まず、初期配置として、各キャッチャーアーム1
を開状態にした吊持部13を駆動装置によって上軸方向
に位置させておく。この初期配置において、巻上装置を
制御して、るつぼ20中の溶融シリコン(溶融液回転速
度0.1〜15rpm)に、ワイヤ11下端のカーボン
製シードチャック12に保持された種結晶14を接触さ
せる。
半導体単結晶引上炉における単結晶引上げ動作を以下に
示す。まず、初期配置として、各キャッチャーアーム1
を開状態にした吊持部13を駆動装置によって上軸方向
に位置させておく。この初期配置において、巻上装置を
制御して、るつぼ20中の溶融シリコン(溶融液回転速
度0.1〜15rpm)に、ワイヤ11下端のカーボン
製シードチャック12に保持された種結晶14を接触さ
せる。
【0032】その後、所定の回転速度約10rpmで引
上げワイヤ11を軸心方向に自転させつつ、同時に巻上
装置を制御して種結晶14が所定の上昇速度約3.0m
m/minで上昇するようにワイヤ11を引上げる。こ
の上昇によって種結晶14下端に直径約5mm程度の無
転位単結晶を成長せしめる。
上げワイヤ11を軸心方向に自転させつつ、同時に巻上
装置を制御して種結晶14が所定の上昇速度約3.0m
m/minで上昇するようにワイヤ11を引上げる。こ
の上昇によって種結晶14下端に直径約5mm程度の無
転位単結晶を成長せしめる。
【0033】次いで、巻上装置を制御して上昇速度を約
0.5mm/minと低下させることによって単結晶直
径を増大させる。直径が約50mm程度にまで増大した
後、上昇速度を約1.0mm/minとし、単結晶を縮
径させる。以上の操作によって単結晶頭部15が形成さ
れる。単結晶が直径約30mmまで減少した後、さらに
巻上装置を制御して上昇速度を約0.5mm/minと
低下させて単結晶直径を増大させる。この拡径が進む
と、頭部15下にくびれ部16が形成される。実際に
は、このような単結晶直径の制御は、例えば光反射方式
等を利用して経時的に単結晶の直径を計測し、そのデー
タに基づいて各駆動装置相互の駆動を制御することによ
って上昇及び回転速度の調整を行なうプログラム、所
謂、自動直径制御システムを用いてコンピュータ等によ
って行なわれる。
0.5mm/minと低下させることによって単結晶直
径を増大させる。直径が約50mm程度にまで増大した
後、上昇速度を約1.0mm/minとし、単結晶を縮
径させる。以上の操作によって単結晶頭部15が形成さ
れる。単結晶が直径約30mmまで減少した後、さらに
巻上装置を制御して上昇速度を約0.5mm/minと
低下させて単結晶直径を増大させる。この拡径が進む
と、頭部15下にくびれ部16が形成される。実際に
は、このような単結晶直径の制御は、例えば光反射方式
等を利用して経時的に単結晶の直径を計測し、そのデー
タに基づいて各駆動装置相互の駆動を制御することによ
って上昇及び回転速度の調整を行なうプログラム、所
謂、自動直径制御システムを用いてコンピュータ等によ
って行なわれる。
【0034】くびれ部16が形成された後、上記直径制
御システムによって所定の上昇速度を維持させながら単
結晶引上げが継続するように各駆動系を制御しつつ、吊
持部13を駆動させて各キャッチャーアーム1を閉状態
へ移行させる。このとき、各キャッチャーアーム1の単
結晶に対する相対位置は、閉状態なった際のキャッチャ
ーアーム下端部2(及び先端部材3)の単結晶に対向す
る位置が、くびれ部分16の各キャッチャーアーム下端
部2によって挟持されるべく定められた接触位置よりも
下方位置とする。従って、各キャッチャーアーム下端部
2の先端部材3どうしの相対間隔はくびれ部16の前記
所定の接触位置における直径に相当し、対向するくびれ
部16表面に対して僅かな間隙を持つ。
御システムによって所定の上昇速度を維持させながら単
結晶引上げが継続するように各駆動系を制御しつつ、吊
持部13を駆動させて各キャッチャーアーム1を閉状態
へ移行させる。このとき、各キャッチャーアーム1の単
結晶に対する相対位置は、閉状態なった際のキャッチャ
ーアーム下端部2(及び先端部材3)の単結晶に対向す
る位置が、くびれ部分16の各キャッチャーアーム下端
部2によって挟持されるべく定められた接触位置よりも
下方位置とする。従って、各キャッチャーアーム下端部
2の先端部材3どうしの相対間隔はくびれ部16の前記
所定の接触位置における直径に相当し、対向するくびれ
部16表面に対して僅かな間隙を持つ。
【0035】この閉状態となった時点でのキャッチャー
アーム下端部2の周辺温度は800℃付近である。従っ
て、先端部材3では、内部の700℃前後に融点を持つ
アルミニウム4が周辺からのステンレスパイプ5を介し
た伝熱によって半融状態となる。
アーム下端部2の周辺温度は800℃付近である。従っ
て、先端部材3では、内部の700℃前後に融点を持つ
アルミニウム4が周辺からのステンレスパイプ5を介し
た伝熱によって半融状態となる。
【0036】次に、駆動装置による吊持部13の上軸方
向の移動速度を早めて、閉状態にある各キャッチャーア
ーム1の上軸方向へのるつぼ20内液面に対する移動速
度を単結晶頭部15のるつぼ20内液面に対する上昇速
度より早める。この速度制御によって、閉状態の各キャ
ッチャーアーム下端部2の先端部材3は、単結晶頭部1
5に対して上方向に相対移動し、前記くびれ部16の予
め定められた接触位置に接触する。即ち、各先端部材3
からみると、単結晶頭部15が落下するように下方へ相
対移動し、前記所定の接触位置でくびれ部16をキャッ
チすることとなる。
向の移動速度を早めて、閉状態にある各キャッチャーア
ーム1の上軸方向へのるつぼ20内液面に対する移動速
度を単結晶頭部15のるつぼ20内液面に対する上昇速
度より早める。この速度制御によって、閉状態の各キャ
ッチャーアーム下端部2の先端部材3は、単結晶頭部1
5に対して上方向に相対移動し、前記くびれ部16の予
め定められた接触位置に接触する。即ち、各先端部材3
からみると、単結晶頭部15が落下するように下方へ相
対移動し、前記所定の接触位置でくびれ部16をキャッ
チすることとなる。
【0037】このとき、先端部材3のステンレス層(ス
テンレスパイプ5壁)は可撓性を持ち、内部のアルミニ
ウム4は半融状態であるので、くびれ部15をキャッチ
した瞬間、この先端部材3は荷重作用を受けて撓み、そ
の衝撃を吸収する。その直後、先端部材3のくびれ部1
6との接触部は、把持圧によってくびれ部16表面の形
状に応じた形に変形し、面接触となって落ち着いて、安
定な把持状態が得られる。
テンレスパイプ5壁)は可撓性を持ち、内部のアルミニ
ウム4は半融状態であるので、くびれ部15をキャッチ
した瞬間、この先端部材3は荷重作用を受けて撓み、そ
の衝撃を吸収する。その直後、先端部材3のくびれ部1
6との接触部は、把持圧によってくびれ部16表面の形
状に応じた形に変形し、面接触となって落ち着いて、安
定な把持状態が得られる。
【0038】このような面接触による安定した把持状態
が得られた時点で、所定の回転および上昇速度での引上
げが継続するように駆動装置を吊持部13の上軸方向の
移動を制御し、結晶引上げ作業を進める。引上げ作業が
進むに従って、単結晶の引上げ重量は増大していくが、
同時に各キャッチャーアーム1も上昇して下端部2周辺
の温度も低下していくため、先端部材3のアルミニウム
4は凝固下し、先端部材3のくびれ部16表面に応じた
接触面形状も固定化して先端部材3の接触面における把
持強度も増大していく。
が得られた時点で、所定の回転および上昇速度での引上
げが継続するように駆動装置を吊持部13の上軸方向の
移動を制御し、結晶引上げ作業を進める。引上げ作業が
進むに従って、単結晶の引上げ重量は増大していくが、
同時に各キャッチャーアーム1も上昇して下端部2周辺
の温度も低下していくため、先端部材3のアルミニウム
4は凝固下し、先端部材3のくびれ部16表面に応じた
接触面形状も固定化して先端部材3の接触面における把
持強度も増大していく。
【0039】以上のように、本引上装置によれば、どの
ような形状のくびれ部であっても、キャッチの際に先端
部材3がキャッチの衝撃を吸収すると共に、接触部がく
びれ部の表面形状に応じた接触面形状となるだけでな
く、単結晶の把持引上げが進行するに従ってこの面接触
による把持もより強力となるため、大口径半導体単結晶
引上げにおいても、常に安定した把持状態による良好な
引上げ作業を遂行することができる。
ような形状のくびれ部であっても、キャッチの際に先端
部材3がキャッチの衝撃を吸収すると共に、接触部がく
びれ部の表面形状に応じた接触面形状となるだけでな
く、単結晶の把持引上げが進行するに従ってこの面接触
による把持もより強力となるため、大口径半導体単結晶
引上げにおいても、常に安定した把持状態による良好な
引上げ作業を遂行することができる。
【0040】なお、上記の実施の形態においては、先端
部材を、ステンレスパイプを用いた棒状のものを略U字
型に成形したものとしたが、本発明はこれに限定される
ものではなく、用いる金属、取り付け方法におうじて適
宜形状を設計すれば良い。
部材を、ステンレスパイプを用いた棒状のものを略U字
型に成形したものとしたが、本発明はこれに限定される
ものではなく、用いる金属、取り付け方法におうじて適
宜形状を設計すれば良い。
【0041】また、本発明の把持手段は、上記実施形態
に示したように、キャッチャーアームからなる構成に限
定されるものではなく、機械的に単結晶を把んで引き上
げることができる機構であると共に、結晶との当接領域
に先端部材を備えることが可能なものであれば広く使用
可能である。
に示したように、キャッチャーアームからなる構成に限
定されるものではなく、機械的に単結晶を把んで引き上
げることができる機構であると共に、結晶との当接領域
に先端部材を備えることが可能なものであれば広く使用
可能である。
【0042】さらに、上記実施形態においては、種結晶
下の無転位化直後に単結晶頭部を形成し、この頭部下の
くびれ部を把持位置としたが、本発明は、これに限ら
ず、さらに単結晶の拡径化が進んだ時点で挟持を行なっ
ても良い。
下の無転位化直後に単結晶頭部を形成し、この頭部下の
くびれ部を把持位置としたが、本発明は、これに限ら
ず、さらに単結晶の拡径化が進んだ時点で挟持を行なっ
ても良い。
【0043】
【発明の効果】本発明は以上説明したとおり、大口径単
結晶引上げにおいても、無転位結晶の目的とする把持位
置の形状に応じて常に安定した把持状態が得られ、良好
な結晶引上げ作業を遂行することができるという効果が
ある。
結晶引上げにおいても、無転位結晶の目的とする把持位
置の形状に応じて常に安定した把持状態が得られ、良好
な結晶引上げ作業を遂行することができるという効果が
ある。
【図1】本発明の一実施の形態による挟持装置を示す説
明図であり、(a)は装置の概略構成図、(b)は
(a)におけるキャッチャーアーム下端部付近の部分拡
大図である。
明図であり、(a)は装置の概略構成図、(b)は
(a)におけるキャッチャーアーム下端部付近の部分拡
大図である。
【図2】図1の挟持装置に用いた先端部材の製造工程の
一例を示す説明図であり、(a)〜(c)はそれぞれ製
造工程の一過程を示す模式図である。
一例を示す説明図であり、(a)〜(c)はそれぞれ製
造工程の一過程を示す模式図である。
1:キャッチャーアーム 2:(キャッチャーアーム)下端部 3:先端部材 4:アルミニウム 5:ステンレスパイプ 6:ステンレス棒 7:溶接部 10:取付け穴 11:ワイヤ 12:シードチャック 14:種結晶 15:単結晶頭部 16:くびれ部
Claims (2)
- 【請求項1】 ダッシュネック法により無転位化を達成
した後の無転位結晶部位を把持して結晶成長を続けるチ
ョクラルスキー法による単結晶引上装置であって、 無転位結晶を把持する把持手段と、 前記結晶を把持した状態の把持手段を引上げ方向へ移動
させる駆動手段と、を備え、 前記把持手段は、前記結晶を把持する際に該結晶の表面
と当接する領域を占める先端部材を有し、 この先端部材は、前記結晶を把持する時の周辺温度付近
より低い融点を持つ金属と、該金属を被覆する前記温度
において可撓性を示す金属層とを備えたことを特徴とす
る単結晶引上装置。 - 【請求項2】 前記先端部材は、アルミニウムと、これ
を被覆するステンレス層とを備えたことを特徴とする請
求項1に記載の単結晶引上装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9139197A JPH10273384A (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | 単結晶引上装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9139197A JPH10273384A (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | 単結晶引上装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10273384A true JPH10273384A (ja) | 1998-10-13 |
Family
ID=14025089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9139197A Pending JPH10273384A (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | 単結晶引上装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10273384A (ja) |
-
1997
- 1997-03-27 JP JP9139197A patent/JPH10273384A/ja active Pending
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