JPH10273533A - 印刷配線板用樹脂ワニス及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板の製造方法 - Google Patents
印刷配線板用樹脂ワニス及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板の製造方法Info
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Classifications
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Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
ガラス織布等の基材への含浸性が良好で、印刷配線板と
した場合の成形性、加工性、接着性、耐熱性、耐燃性等
に優れた印刷配線板用樹脂ワニス等を提供する。 【解決手段】(A)分子中にシアネート基を2個有する
シアネート類化合物またはそのプレポリマーの1種以上
と、(B)一価フェノール類化合物、(C)シアネート
類化合物と反応性を有しない難燃剤及び(D)溶剤とし
て芳香族炭化水素系溶剤とケトン系溶剤の混合溶剤を必
須成分として含む印刷配線板用樹脂ワニス。そのワニス
を基材に含浸、乾燥させプリプレグとしプリプレグの複
数枚と金属箔を積層し、加熱加圧して金属張り積層板と
する。
Description
に優れた配線板、積層板として有用な印刷配線板用樹脂
ワニス及びそのワニスを用いたプリプレグ、金属張り積
層板の製造方法に関する。
れるプリント配線板材料には,誘電率及び誘電正接の低
い積層板用樹脂が望まれている。これに対し誘電率や誘
電正接の低いふっ素樹脂やポリフェニレンエーテル等の
熱可塑性の樹脂材料やポリフェニレンエーテルにエポキ
シ樹脂,シアネートエステル樹脂及びBT(ビスマレイ
ミドトリアジン)樹脂等の熱硬化性樹脂を併用した樹脂
材料が提案されているが,これらは融点や軟化点が高い
ことから成形に高温,高圧が必要で成形性に劣るという
問題や金属箔や金属めっきとの接着性に劣るというに問
題があった。一方,上記熱可塑性樹脂を併用しなくとも
誘電率や誘電正接が低い樹脂材料として知られるシアネ
ートエステル樹脂単独では,硬化物の脆さに伴う加工
性,耐燃性及び吸湿時の耐熱性に問題があった。
レイミドトリアジン)樹脂又はシアネートエステル樹脂
に、特開昭63−54419号公報に記載されているフ
ェノールノボラックのグリシジルエーテル化物を併用す
る方法、特開平2−214741号公報に記載のフェノ
ール類付加ジシクロペンタジエン重合体のグリシジルエ
ーテル化物を併用する方法、特開平3−84040号公
報に記載のビスフェノールAのグリシジルエーテル化物
等のエポキシ樹脂、また特開平5−310673号公報
に記載のフェノール類付加ブタジエン重合体,特公平7
−47637号公報に記載のビスフェノールA等の多価
フェノール類化合物,或いは特公平4−24370号公
報に記載の臭素化ビスフェノールA及び臭素化ビスフェ
ノールAのヒドロキシルエーテル化物、特開平2−28
6723号公報に記載の臭素化フェノールノボラックの
グリシジルエーテル化物、特開平5−339342号公
報に記載の臭素化ビスフェノールAのグリシジルエーテ
ル化物、特開平7−207022号公報に記載の臭素化
マレイミド類化合物等のBT(ビスマレイミドトリアジ
ン)樹脂又はシアネートエステル樹脂との反応性を有す
る難燃剤を併用させる方法等が提案されている。
54419号公報、特開平2−214741号公報、特
開平3−84040号公報に示されているようなエポキ
シ樹脂をシアネートエステル樹脂に併用させる方法で
は、成形性、加工性、接着性、耐熱性、耐燃性に関する
欠点は改善されるものの、GHz帯域での誘電特性が悪
化するため高周波用途には不十分であった。また特開平
5−310673号公報、特公平7−47637号公報
に示されているような多価フェノール類化合物を併用さ
せる方法では、成形性や加工性は改善されるものの、接
着性や吸湿時の耐熱性に劣るという問題やGHz帯域で
の誘電特性が悪化するため高周波用途には対応できない
という問題があった。また特公平4−24370号公
報、特開平2−286723号公報、特開平5−339
342号公報、特開平7−207022号公報に示され
ているような難燃剤を併用させる方法では,耐燃性は付
加できるものの前述同様吸湿時の耐熱性やGHz帯域で
の誘電特性が悪化するという問題があった。
ため,ワニス化する際は予めプレポリマ化したり上述し
たようなエポキシ樹脂,フェノール類化合物及びイミド
類化合物等と予め反応させて用いられる。しかし,これ
らの場合,短期間で保存安定性が不十分となったり,ワ
ニスの表面張力が大きくなるためガラス織布等の基材に
含浸するときに良好な含浸性(ここでは,ボイドを生じ
ることなくかつ均一に含浸すること)を得ることが困難
となる。このため,プリプレグとした場合にプリプレグ
内部にボイドが生じたり表面の平滑性が失われることが
あり,印刷配線板とした場合に耐熱性が悪くなる。
て,保存安定性及びガラス織布等の基材への含浸性が良
好で,また印刷配線板とした場合の成形性,加工性,接
着性,耐熱性,耐燃性等といった特性を損なうことな
く,高周波帯域での誘電特性に優れた印刷配線板を得る
ことのできる印刷配線板用樹脂ワニスとそれを用いたプ
リプレグ、金属張り積層板の製造方法を提供するもので
ある。
式で表される分子中にシアネート基を2個有するシアネ
ート類化合物またはそのプレポリマーの1種以上と、
(B)一価フェノール類化合物、(C)シアネート類化
合物と反応性を有しない難燃剤及び(D)溶剤として芳
香族炭化水素系溶剤とケトン系溶剤の混合溶剤を必須成
分として含む印刷配線板用樹脂ワニスである。また、本
発明は、前記印刷配線板用樹脂ワニスを基材に含浸後、
80〜200℃で乾燥させて得られるプリプレグ、さら
に、本発明は、このプリプレグを、多層プリント配線板
の層間接続用プリプレグとして使用することもでき、ま
た、プリプレグを複数枚重ね、さらにその外側に金属箔
を積層し加熱加圧して得られる金属張り積層板の製造方
法である。
2個有するシアネート類化合物またはそのプレポリマー
の材料は、(I)式で表され、少なくとも1種以上を用
いる。(I)式で表される化合物として、その具体例と
しては,ビス(4−シアネートフェニル)エタン,ビス
(3,5−ジメチル−4−シアネートフェニル)メタ
ン,2,2−ビス(4−シアネートフェニル)−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン,α,
α’−ビス(4−シアネートフェニル)−m−ジイソプ
ロピルベンゼン,フェノール付加ジシクロペンタジエン
重合体のシアネートエステル化物等及びそれらのプレポ
リマが挙げられる。この中では、ビス(3,5−ジメチ
ル−4−シアネートフェニル)メタン、2,2−ビス
(4−シアネートフェニル)−1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロプロパン、α,α’−ビス(4−シア
ネートフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼンである
と硬化物の誘電特性が特に良好となるためより好まし
い。
シアネート基を2個有するシアネート類化合物のモノマ
は結晶性が高く,これらのモノマを溶剤でワニス化する
場合、固形分濃度にもよるがワニス中で再結晶する場合
がある。そのため上記シアネート化合物モノマをあらか
じめプレポリマー化して用いるのが好ましい。プレポリ
マーのシアネート基の転化率は特に限定されるものでは
ないが,通常は20〜60重量%の範囲内で転化された
プレポリマーを用いることが望ましい。また(A)分子
中にシアネート基を2個有するシアネート類化合物また
はそのプレポリマーは一種類単独で用いてもよく、二種
類以上を混合して用いてもよい。
用いられる(B)一価フェノール類化合物は、(A)分
子中にシアネート基を2個有するシアネート類化合物ま
たはそのプレポリマー100重量部に対し、(B)一価
フェノール類化合物を5〜30重量部の範囲で配合する
ことが好ましい。更に好ましくは、7〜30重量部であ
る。5重量部未満の場合,誘電特性が悪化する傾向を示
すため望ましくない。30重量部を超えると、ワニス化
した場合のワニスの保存安定性が低下する傾向を示すた
め望ましくない。
化合物の具体例としては、p−ノニルフェノール、p−
tert−ブチルフェノール、p−tert−アミルフ
ェノール、p−tert−オクチルフェノール等のアル
キル基置換フェノール類化合物及び(II)式で表され
る一価フェノール類化合物等が挙げられる。(II)式
で表される一価フェノール類化合物としては,p−(α
−クミル)フェノールが好ましい。また(B)一価フェ
ノール類化合物は一種類単独で用いてもよく、二種類以
上を併用して用いてもよい。
用いられる(C)シアネート類化合物と反応性を有しな
い難燃剤としては、1,2−ジブロモ−4−(1,2−
ジブロモエチル)シクロヘキサン、テトラブロモオクタ
ン及びヘキサブロモシクロドデカン等の脂肪族環型難燃
剤及び(III)式で表される複素環型難燃剤が挙げら
れる。(III)式で表される複素環型難燃剤として
は,2,4,6−トリス(トリブロモフェノキシ)−
1,3,5−トリアジンが好ましい。この(C)シアネ
ート類化合物と反応性を有しない難燃剤は、(A)分子
中にシアネート基を2個有するシアネート類化合物また
はそのプレポリマー100重量部に対し、5〜200重
量部の範囲で配合することが好ましい。好ましくは、5
〜100重量部である。5重量部未満では難燃効果に乏
しく、200重量部を越えると耐熱性が低下するので好
ましくない。
化反応を促進するための硬化促進剤が用いられる。その
硬化促進剤の具体例としては,コバルト、マンガン、ス
ズ、ニッケル、亜鉛、銅等の有機金属塩化合物を挙げる
ことができる。特に2−エチルヘキサン酸コバルトやナ
フテン酸コバルト等の有機コバルト塩化合物が好まし
い。有機金属塩化合物は一種類単独で用いてもよく、二
種類以上を混合して用いてもよい。硬化促進剤の配合量
は、(A)分子中にシアネート基を2個有するシアネー
ト類化合物またはそのプレポリマー100重量部に対
し、配合効果と硬化物の物性を劣化させない範囲の0.
01〜3重量部であり、より好ましくは0.02〜0.
5重量部である。
に、必要に応じて充填剤及びその他の添加剤を配合する
ことができる。充填剤としては,通常,無機充填剤が好
適に用いられ、その具体例として、溶融シリカ、ガラ
ス、アルミナ、チタニア、ジルコン、炭酸カルシウム、
珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウ
ム、窒化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、チ
タン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸カルシウ
ム等が挙げられる。
をプリプレグとし加熱硬化させることにより誘電特性や
耐熱性に優れた積層板の製造に供せられる。即ち本発明
の印刷配線板用樹脂ワニスをガラス布等の基材に含浸し
乾燥することによってまずプリプレグを作製する。次い
でこのプリプレグを任意枚数重ねその上下面または片面
に金属箔を重ねて加熱加圧成形することによって両面ま
たは片面の金属張り積層板とすることができる。
溶剤として、芳香族炭化水素系溶剤とケトン系溶剤の混
合溶剤を用いる。芳香族炭化水素系溶剤として、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン
及びメシチレン等の沸点が70〜170℃の溶剤が好ま
しい。沸点が70℃未満であると、塗工中の粘度増加が
著しくなりプリプレグの樹脂分含有量の変化が大きくな
るので好ましくない。沸点が170℃を超えるとプリプ
レグ中の残存溶剤量が多くなり硬化物の特性劣化の原因
となったり成形中にボイドを生じるので好ましくない。
一方、ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、2−ペンタノン、3
−ペンタノン、シクロペンタノン、2−ヘキサノン、シ
クロヘキサノン、2−ヘプタノン等が挙げられ、沸点が
50〜170℃のものが好ましい。沸点が50℃未満で
あると、上記芳香族炭化水素系溶剤と同様、塗工中の粘
度増加が著しくなりプリプレグの樹脂分含有量の変化が
大きくなるので好ましくない。また、170℃を超える
とプリプレグ中の残存溶剤量が多くなり硬化物の特性劣
化の原因となったり成形中にボイドを生じるので好まし
くない。本発明のワニスに用いる溶剤の芳香族炭化水素
系溶剤とケトン系溶剤との混合比率は、ケトン系溶剤の
含有率が5〜95重量%とすることが望ましい。さらに
好ましくは、20〜95重量%である。5重量%未満で
は、ワニスの保存安定性が失われ、また、基材への含浸
性が低下したりプリプレグの表面平滑性が失われること
があるため好ましくない。95重量%を超えると、用い
るシアネート類化合物やその転化率にもよるが、シアネ
ート類化合物や難燃剤等がワニス中に再結晶する可能性
があるため望ましくない。印刷配線板用樹脂ワニスの溶
剤として、芳香族炭化水素系溶剤やケトン系溶剤の他
に、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテ
ート、ブトキシエチルアセテート、酢酸エチル等のエス
テル系溶剤、N−メチルピロリドン、ホルムアミド、N
−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、
メタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメ
チルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエー
テル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル等の
アルコール系溶剤等を併用することができる。
織布やガラス不織布、プラスチック織布やプラスチック
不織布、紙などの積層板に用いられている基材に含浸
後、80〜200℃で乾燥させてプリプレグとする。多
層プリント配線板の層間接着用プリプレグとして使用す
る場合は、プリプレグ中の樹脂分を多めにする。また、
金属張り積層板とするときは、要求される誘電特性に応
じて、誘電特性に優れる本発明の印刷配線板用樹脂の樹
脂分を調整し、誘電率や誘電正接の値が小さいものが要
求される場合は、樹脂分を多くするようにする。
その外側に金属箔を積層し加熱加圧して金属張り積層板
とする。
造,即ち分子内の極性基の量や強さ及び分子骨格の動き
やすさ等に影響を受ける。元来,シアネートエステル樹
脂の硬化物は低極性,剛直かつ対称性構造のトリアジン
骨格を有するため低誘電率及び低誘電正接である。しか
し、吸湿時の耐熱性や耐燃性を改善するためシアネート
エステル樹脂にエポキシ樹脂、多価フェノール類化合物
及びシアネート基との反応性を有する反応型難燃剤の併
用といった従来の方法では、シアネート基との反応によ
りトリアジン環以外の構造で極性基の高いものが生成し
たり、反応(硬化)の進行により流動性が失なわれ反応
しきれないで残存する官能基が多くなるため、耐熱性が
低下したり誘電率や誘電正接が高くなる。これに対し
て,本発明の印刷配線板用樹脂ワニスにおいて用いられ
るフェノール類化合物は、一価のフェノール類化合物で
あるため上記のような問題が無く,さらに一価のフェノ
ール類化合物の中でもシアネート基との反応性が高く,
かつトリアジン環の生成を促進するフェノール類化合物
を使用しているので上記のような問題はない。また、本
発明の印刷配線板用樹脂ワニスにおいて用いられる難燃
剤は,低極性構造でかつシアネート基に対し反応性を有
しない難燃剤であるため、トリアジン環の生成を妨げな
ことから誘電特性を悪化させることなく耐燃性を付加す
ることができる。したがって、得られる樹脂硬化物は高
耐熱性、高耐燃性であり誘電率や低誘電正接の値が低く
誘電特性に優れたものとなる。さらに、本発明に用いら
れる溶剤は、シアネート類化合物に対して良溶媒の芳香
族炭化水素系溶剤と貧溶媒のケトン系溶剤を混合した溶
剤であるため、ワニスとした場合、良好な溶解性と低表
面張力化を両立でき、かつ保存安定性も良好となる。こ
れによりガラス織布等の基材への含浸性が良好となり、
ボイド等のないプリプレグを得ることが出来る。以下実
施例により、本発明を具体的に説明するが,本発明はこ
れらに限られるものではない。
アネート類化合物としてビス(3,5−ジメチル−4−
シアネートフェニル)メタンのプレポリマ(Arocy
M−30,旭チバ株式会社製商品名)、一価フェノー
ル類化合物としてp−ノニルフェノール及びシアネート
類化合物と反応性を有しない難燃剤として1,2−ジブ
ロモ−4−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキサン
(SAYTEX BCL−462,アルベマール社製商
品名)とを表1に示す配合量でトルエン及びメチルエチ
ルケトン(メチルエチルケトンの含有率40重量%)に
溶解し,更に硬化促進剤としてシアネート類化合物10
0重量部に対してナフテン酸コバルトを0.1重量部の
割合で配合し,不揮発分65重量%の印刷配線板用樹脂
ワニスを作製した。
トフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
ロプロパンのプレポリマのメチルエチルケトン溶液(A
rocy F−40S,旭チバ株式会社製商品名)とp
−tert−ブチルフェノール及びテトラブロモシクロ
オクタン(SAYTEX BC−48,アルベマール社
製商品名)とを表1に示す配合量で配合した他は、実施
例1と同様にして不揮発分65重量%の印刷配線板用樹
脂ワニスを作製した。
ートフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン(RTX
−366,旭チバ株式会社製商品名)とp−tert−
オクチルフェノール及びヘキサブロモシクロドデカン
(CD−75P,グレートレイクス社製商品名)とを表
1に示す配合量で配合した他は、実施例1と同様にして
不揮発分65重量%の積層板用樹脂ワニスを作製した。
ルフェノールをp−(α−クミル)フェノールに,及び
1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチル)シ
クロヘキサンを臭素化トリフェニルシアヌレート(ピロ
ガードSR−245,第一工業製薬株式会社製商品名)
に代えて表1に示す配合量とした他は実施例1と同様に
して不揮発分65重量%の印刷配線板用樹脂ワニスを作
製した。
チルケトンを混合しないでトルエンのみとした他は実施
例1と同様にして印刷配線板用樹脂ワニスを作製した。
(3,5−ジメチル−4−シアネートフェニル)メタン
のプレポリマーを2,2−ビス(4−シアネートフェニ
ル)プロパンのプレポリマー(Arocy B−30,
旭チバ株式会社製商品名)に,及び1,2−ジブロモ−
4−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキサンを臭素
化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ESB400T,
住友化学工業株式会社製商品名)に代えて表1に示す配
合量でトルエンに溶解した他は実施例1と同様にして不
揮発分65重量%の印刷配線板用樹脂ワニスを作製し
た。
ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキ
サンを臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂(B
REN−S,日本化薬株式会社製商品名)に代えて表1
に示す配合量でトルエンに溶解した他は実施例1と同様
にして不揮発分65重量%の印刷配線板用樹脂ワニスを
作製した。
ルフェノールを除き、臭素化ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂を臭素化ビスフェノールA(TBA)に代えて表
1に示す配合量でトルエンに溶解した他は比較例2と同
様にして不揮発分65重量%の印刷配線板用樹脂ワニス
を作製した。
ルフェノールをフェノール類付加ブタジエン重合体(P
P700−300,日本石油化学株式会社製商品名)
に,及び臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂を臭素
化ビスフェノールAに代えて表1に示す配合量でトルエ
ンに溶解した他は比較例2と同様にして不揮発分65重
量%の印刷配線板用樹脂ワニスを作製した。
用樹脂ワニスを、厚み0.2mmのガラス布(Eガラ
ス、坪量210g/m2)に含浸し、140℃で10分
加熱して樹脂分約41重量%となるようにプリプレグを
得た。次いで,得られたプリプレグ4枚を重ね,その両
側に厚み18μmの銅箔を重ね,170℃、60分、
2.5MPaの条件でプレス成形した後、230℃で1
20分加熱処理し厚み0.8mmの銅張り積層板を作製
した。
を目視で、内部を顕微鏡で観察した。また、得られた銅
張り積層板について,誘電特性、はんだ耐熱性、Tg
(ガラス転移温度)及び銅箔引きはがし強さを測定し
た。その結果を表2に示す。
はじきのないものを良好とした。 内部;顕微鏡で観察し、ボイドの発生がないものを良好
とした。 ・1MHzの比誘電率(εr)及び誘電正接(tan
δ):JIS−C−6481に準拠して測定した。 ・1GHzの比誘電率(εr)及び誘電正接(tan
δ):トリプレート構造直線線路共振器法により測定し
た。 ・Tg:銅箔をエッチングし,TMA(熱機械分析)に
より測定した。 ・はんだ耐熱性:銅箔をエッチングし,PCT(121
℃,0.22MPa)中に保持した後、260℃の溶融
はんだに20秒浸漬して、外観を調べた。表中の異常無
し個数とは,ミーズリング及びふくれの発生が無いこと
を意味し、試験数(分母)に対する個数を(分子)であ
る。 ・耐燃性:UL−94垂直試験法に準拠して測定。 ・銅箔引きはがし強さ:JIS−C−6481に準拠し
て測定。 ・加工性:銅箔をエッチングし,金型による外形打ち抜
き後、切断部の外観を調べた。表中の良好とは剥離、ケ
バの発生が無いことを意味する。
印刷配線板用樹脂ワニスを用いた銅張り積層板は,何れ
もTgが高く,加工性,吸湿時のはんだ耐熱性,銅箔引
きはがし強さが良好でかつ1GHzでの比誘電率,誘電
正接が低い。これに対して,各比較例の銅張積層板は,
1GHzの比誘電率及び誘電正接が高く、吸湿時のはん
だ耐熱性及び銅箔引きはがし強さが低い。また、プリプ
レグの表面にゆずはだ、はじきの発生やプリプレグの内
部にボイドの発生が見られるものがあり、積層板のはん
だ耐熱性を低下させてしまう。さらにワニスのゲルタイ
ムが保存中に短くなる割合が実施例に比較して大きく保
存安定性に劣る。これに対し、各実施例では、いずれも
はんだ耐熱性やワニスの保存安定性が良好となってい
る。
ワニス及びそのワニスを用いたプリプレグそしてそのプ
リプレグから製造された金属張り積層板は、成形性、接
着性、吸湿時の耐熱性が良好でかつ高周波帯域での誘電
率、誘電正接が低く、高周波信号を扱う機器に対応した
印刷配線板として好適である。
Claims (18)
- 【請求項1】 (A)(I)式で表される分子中にシア
ネート基を2個有するシアネート類化合物またはそのプ
レポリマーの1種以上と、(B)一価フェノール類化合
物、(C)シアネート類化合物と反応性を有しない難燃
剤及び(D)溶剤として芳香族炭化水素系溶剤とケトン
系溶剤の混合溶剤を必須成分として含む印刷配線板用樹
脂ワニス。 【化1】 - 【請求項2】 請求項1記載の(A)分子中にシアネー
ト基を2個有するシアネート類化合物またはそのプレポ
リマー100重量部に対し、(B)一価フェノール類化
合物を5〜30重量部配合する請求項1記載の印刷配線
板用樹脂ワニス。 - 【請求項3】 請求項1記載の(A)分子中にシアネー
ト基を2個有するシアネート類化合物またはそのプレポ
リマーの材料が,ビス(3,5−ジメチル−4−シアネ
ートフェニル)メタンである請求項1又は請求項2に記
載の印刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項4】 請求項1記載の(A)分子中にシアネー
ト基を2個有するシアネート類化合物またはそのプレポ
リマーの材料が,2,2−ビス(4−シアネートフェニ
ル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ンである請求項1又は請求項2に記載の印刷配線板用樹
脂ワニス。 - 【請求項5】 請求項1記載の(A)分子中にシアネー
ト基を2個有するシアネート類化合物またはそのプレポ
リマーの材料が,α,α’−ビス(4−シアネートフェ
ニル)−m−ジイソプロピルベンゼンである請求項1又
は請求項2に記載の印刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項6】 (B)一価フェノール類化合物が,アル
キル基置換フェノール類化合物である請求項1ないし請
求項5のいずれかに記載の印刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項7】 アルキル基置換フェノール類化合物が,
p−ノニルフェノール,p−tert−ブチルフェノー
ル,p−tert−アミルフェノール及びp−tert
−オクチルフェノールから選ばれるフェノール類化合物
又はこれらの2種類以上の混合物である請求項6に記載
の印刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項8】 (B)一価フェノール類化合物が、(I
I)式で表される一価フェノール類化合物を少なくとも
1種類以上含む請求項1ないし請求項5のいずれかに記
載の印刷配線板用樹脂ワニス。 【化2】 - 【請求項9】 請求項8の(II)式で表される一価フ
ェノール類化合物が,p−(α−クミル)フェノールで
ある請求項8に記載の印刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項10】 (C)シアネート類化合物と反応性を
有しない難燃剤が,1,2−ジブロモ−4−(1,2−
ジブロモエチル)シクロヘキサン,テトラブロモシクロ
オクタン及びヘキサブロモシクロドデカンから選ばれる
脂肪族環型難燃剤又はこれらの2種類以上の混合物であ
るである請求項1ないし請求項9のいずれかに記載の印
刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項11】 (C)シアネート類化合物と反応性を
有しない難燃剤が,(III)式で表される複素環型難
燃剤又はこれらの少なくとも1種類以上とシアネート類
化合物と反応性を有しない難燃剤との2種類以上の混合
物である請求項1ないし請求項9のいずれかに記載の印
刷配線板用樹脂ワニス。 【化3】 - 【請求項12】芳香族炭化水素系溶剤とケトン系溶剤の
混合溶剤において、ケトン系溶剤の含有率が全溶剤中の
5〜95重量%である請求項1ないし請求項11のいず
れかに記載の印刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項13】芳香族炭化水素系溶剤の沸点が70〜1
70℃である請求項1ないし請求項12のいずれかに記
載の印刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項14】芳香族炭化水素系溶剤が、トルエン、キ
シレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン及びメ
シチレンのうちいずれか1以上を用いた請求項1ないし
請求項13のいずれかに記載の印刷配線板用樹脂ワニ
ス。 - 【請求項15】ケトン系溶剤の沸点が、50〜170℃
である請求項1ないし請求項14のいずれかに記載の印
刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項16】ケトン系溶剤が、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ペンタノン、
3−ペンタノン、シクロペンタノン、2−ヘキサノン、
シクロヘキサノン、2−ヘプタノンのうちいずれか1以
上を用いた請求項1ないし請求項15のいずれかに記載
の印刷配線板用樹脂ワニス。 - 【請求項17】請求項1ないし請求項16のいずれかに
記載の印刷配線板用樹脂ワニスを基材に含浸後、80〜
200℃で乾燥させることを特徴とするプリプレグの製
造方法。 - 【請求項18】請求項17に記載のプリプレグを複数枚
重ね、さらにその外側に金属箔を積層し加熱加圧するこ
とを特徴とする金属張り積層板の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP8003497A JP3261062B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 印刷配線板用樹脂ワニス及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板の製造方法 |
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| JP2001330966A Division JP2002206072A (ja) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | 印刷配線板用樹脂ワニス及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10273533A true JPH10273533A (ja) | 1998-10-13 |
| JP3261062B2 JP3261062B2 (ja) | 2002-02-25 |
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| JP8003497A Expired - Fee Related JP3261062B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 印刷配線板用樹脂ワニス及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板の製造方法 |
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|---|---|
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001081322A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 変性シアネートエステル樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
| WO2001070885A1 (en) * | 2000-03-21 | 2001-09-27 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Resin composition with excellent dielectric characteristics, process for producing resin composition, varnish prepared from the same, process for producing the same, prepreg made with these, and metal-clad laminate |
| JP2001339130A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-12-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 誘電特性に優れる樹脂組成物並びにこれを用いて作製されるワニス、ワニスの製造方法、プリプレグ及び金属張積層板 |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP8003497A patent/JP3261062B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001081322A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 変性シアネートエステル樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
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| JP2001339130A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-12-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 誘電特性に優れる樹脂組成物並びにこれを用いて作製されるワニス、ワニスの製造方法、プリプレグ及び金属張積層板 |
| US7157506B2 (en) | 2000-03-21 | 2007-01-02 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Resin composition with excellent dielectric characteristics, process for producing resin composition, varnish prepared from the same, process for producing the same, prepeg made with these, and metal-clad laminate |
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