JPH10275924A - 光起電力装置の製造方法 - Google Patents

光起電力装置の製造方法

Info

Publication number
JPH10275924A
JPH10275924A JP9095276A JP9527697A JPH10275924A JP H10275924 A JPH10275924 A JP H10275924A JP 9095276 A JP9095276 A JP 9095276A JP 9527697 A JP9527697 A JP 9527697A JP H10275924 A JPH10275924 A JP H10275924A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
back electrode
electrode
semiconductor layer
hole
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9095276A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3174012B2 (ja
Inventor
Soichi Sakai
総一 酒井
Akira Terakawa
朗 寺川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP09527697A priority Critical patent/JP3174012B2/ja
Publication of JPH10275924A publication Critical patent/JPH10275924A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3174012B2 publication Critical patent/JP3174012B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造の歩留りを向上する。 【解決手段】 表面電極6を形成する前に、背面電極1
1,基板1,裏面電極3及び半導体層5に、背面電極1
1側から機械的手段により突き破った孔14を形成し、
その後、半導体層5上に表面電極6を形成し、この表面
電極6を前記孔14を通して背面電極11に接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光入射側から表面
電極,半導体層,裏面電極,可撓性の絶縁性基板,背面
電極の順で構成された光電変換素子が複数個直列接続さ
れる光起電力装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の逆タイプ構造のスルーホールコン
タクト光起電力装置につき、斜視図の図3、図3の一部
の断面図の図4A、Aの平面図の同B、図3の他の一部
の断面図の同C、Cの平面図の同Dを参照して説明す
る。それらの図において、1は可撓性の絶縁性フィルム
基板、2は基板1の前端部及び後端部にパンチ,ドリル
等の機械的手段により形成された複数個の孔であり、碁
盤の目の位置に形成されている。3は基板1の光入射
側,即ち表面に積層して形成された裏面電極であり、裏
面電極3の一部が孔2の内面と周縁部とに付着してい
る。4は裏面電極3及び基板1の中央部を貫通し,パン
チ,ドリル等の機械的手段により形成された複数個の孔
であり、孔2と同様に、碁盤の目の位置に形成されてい
る。
【0003】5は裏面電極3上に積層して形成された半
導体層、6は半導体層5上のほぼ中央部に積層して形成
された表面電極であり、表面電極6及び半導体層5の一
部が孔4の内面と周縁部とに付着している。7は表面電
極6から裏面電極3にかけて形成された複数個の分割
溝、8は基板1の光入射側の反対側,即ち背面に形成さ
れた背面電極であり、背面電極8と裏面電極2とが図4
Aに示すように、孔2の周縁部において接触し、背面電
極8と表面電極6とが図4Bに示すように、孔4の周縁
部において接触し、それぞれが電気的に導通状態になっ
ている。
【0004】9は背面電極8に形成された複数個の分割
溝であり、両分割溝7,9により装置が複数の領域に分
割されている。10は各領域に形成された光電変換素子
であり、光入射側から表面電極6,半導体層5,裏面電
極3,基板1,背面電極8の順で構成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の前記装置の場
合、背面電極8と表面電極6とを接続する孔4を、機械
的手段を用いて裏面電極3の形成された基板1の中央部
を、機械的手段により貫通することで形成するため、裏
面電極3に形成された孔の周辺にバリが生じるおそれが
ある。そして、このバリが生じた裏面電極3上に半導体
層5及び表面電極6を積層すると、半導体層5が膜厚5
000Å程度の薄膜であるためにバリが半導体層5を貫
通し、表面電極6と接して短絡が生じるため、光起電力
特性が劣化し歩留りが低下するという問題点がある。
【0006】本発明は、前記の点に留意し、製造の歩留
りを向上できる光起電力装置の製造方法を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の請求項1記載の光起電力装置の製造方法
は、光入射側から表面電極,半導体層,裏面電極,可撓
性の絶縁性基板,背面電極の順で構成される光電変換素
子を複数個直列接続する光起電力装置の製造方法におい
て、前記表面電極を形成する前に、前記背面電極,前記
基板,前記裏面電極及び前記半導体層に、前記背面電極
側から機械的手段により突き破った孔を形成し、その
後、前記半導体層上に前記表面電極を形成し、この表面
電極を前記孔を通して前記背面電極に接続するようにし
たものである。
【0008】したがって、表面電極を形成する前に、背
面電極,基板,裏面電極及び半導体層に、背面電極側か
ら機械的手段により突き破った孔を形成するようにした
ため、従来のように、裏面電極に生じたバリが半導体層
を貫通することがなく、短絡を防止し、製造の歩留りを
向上することができる。
【0009】また、本発明の請求項2記載の製造方法
は、金属箔で形成した背面電極と絶縁性基板とを接着す
るようにしたため、孔を形成した際、背面電極の一部が
伸長して孔の内面に位置し、背面電極と表面電極との接
続を容易に行うことができる。
【0010】
【発明の実施の形態】実施の形態につき、断面図の図1
及び製造プロセスの説明図の図2A,B,Cを参照して
説明する。まず、図2Aに示すように、可撓性の絶縁性
フィルム基板1の背面に、金属箔で形成された背面電極
11を接着し、その後、基板1の表面に裏面電極3を形
成し、裏面電極3にレーザ等によって除去部12を形成
し、裏面電極3を所定のパターンに形成する。
【0011】つぎに、図2Bに示すように、半導体層5
を、裏面電極3上に除去部12を埋めて形成し、表面電
極6を形成する前に、図2Cに示すように、針13を背
面電極11側から除去部12の中心付近に突き刺し、背
面電極11,基板1,裏面電極3及び半導体層5に突き
破った孔14を形成する。
【0012】この時、針13により孔14の上端の周縁
部15が半導体層5の上面より盛り上り、背面電極11
の一部が伸長して孔14の内面に位置する。
【0013】つぎに、図1に示すように、半導体層5上
にスパッタにより表面電極6を形成する。
【0014】この時、表面電極6の一部が孔14の上端
の周縁部15に付着し、孔14の周縁部において、表面
電極6と背面電極11とが接続する。
【0015】なお、基板1はポリイミド等の耐熱性の材
料を用い、膜厚は10μm〜20μm、背面電極11の
膜厚は100μm〜50μm、孔14の直径は50μm
〜300μmである。
【0016】以上のように、本願によれば半導体層5の
形成後に孔14の形成を行うので、従来のように孔14
の形成に伴う裏面電極3のバリが半導体層5を貫通して
表面電極6と接触することがなく、歩留りを従来の85
%から98%にまで向上することができた。
【0017】さらに、孔14の形成に際し、針13を用
いたが、これに限らず、パンチ,ドリル等を用いてもよ
い。
【0018】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているため、つぎに記載する効果を奏する。本発明の請
求項1記載の光起電力装置の製造方法は、表面電極6を
形成する前に、背面電極11,基板1,裏面電極3及び
半導体層5に、背面電極11側から機械的手段により突
き破った孔14を形成するようにしたため、従来のよう
に、裏面電極に生じたバリが半導体層5を貫通すること
がなく、短絡を防止し、製造の歩留りを向上することが
できる。
【0019】また、本発明の請求項2記載の製造方法
は、金属箔で形成した背面電極11と絶縁性基板1とを
接着するようにしたため、孔14を形成した際、背面電
極11の一部が伸長して孔14の内面に位置し、背面電
極11と表面電極6との接続を容易に行うことができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の1形態の断面図である。
【図2】A,B,Cは図1の製造プロセスの説明図であ
る。
【図3】従来例の斜視図である。
【図4】Aは図3の一部の断面図、BはAの平面図、C
は図3の他の一部の断面図、DはCの平面図である。
【符号の説明】
1 絶縁性基板 3 裏面電極 5 半導体層 6 表面電極 10 光電変換素子 11 背面電極 14 孔

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光入射側から表面電極,半導体層,裏面
    電極,可撓性の絶縁性基板,背面電極の順で構成される
    光電変換素子を複数個直列接続する光起電力装置の製造
    方法において、 前記表面電極を形成する前に、前記背面電極,前記基
    板,前記裏面電極及び前記半導体層に、前記背面電極側
    から機械的手段により突き破った孔を形成し、 その後、前記半導体層上に前記表面電極を形成し、この
    表面電極を前記孔を通して前記背面電極に接続すること
    を特徴とする光起電力装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 背面電極を金属箔で形成し、前記背面電
    極と絶縁性基板とを接着することを特徴とする請求項1
    記載の光起電力装置の製造方法。
JP09527697A 1997-03-28 1997-03-28 光起電力装置の製造方法 Expired - Lifetime JP3174012B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09527697A JP3174012B2 (ja) 1997-03-28 1997-03-28 光起電力装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09527697A JP3174012B2 (ja) 1997-03-28 1997-03-28 光起電力装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10275924A true JPH10275924A (ja) 1998-10-13
JP3174012B2 JP3174012B2 (ja) 2001-06-11

Family

ID=14133260

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP09527697A Expired - Lifetime JP3174012B2 (ja) 1997-03-28 1997-03-28 光起電力装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3174012B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1411556A1 (en) * 2002-10-18 2004-04-21 VHF Technologies SA Photovoltaic product and process of fabrication thereof
JP2023536780A (ja) * 2020-05-29 2023-08-30 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 電子機器パッケージにおける機械的パンチングされたビア形成およびそれによって形成される電子機器パッケージ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1411556A1 (en) * 2002-10-18 2004-04-21 VHF Technologies SA Photovoltaic product and process of fabrication thereof
JP2023536780A (ja) * 2020-05-29 2023-08-30 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 電子機器パッケージにおける機械的パンチングされたビア形成およびそれによって形成される電子機器パッケージ

Also Published As

Publication number Publication date
JP3174012B2 (ja) 2001-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4209355A (en) Manufacture of bumped composite tape for automatic gang bonding of semiconductor devices
JP2001186725A (ja) プレス成形されたv字状溝パンケーキ型スリップリング
US8416577B2 (en) Coreless substrate and method for making the same
US6379996B1 (en) Package for semiconductor chip having thin recess portion and thick plane portion
CN102194763A (zh) 半导体元件搭载用基板及其制造方法
JPS5839071A (ja) 太陽電池素子
JP3174012B2 (ja) 光起電力装置の製造方法
JP2007095743A (ja) 貫通孔配線及びその製造方法
KR20080003802A (ko) 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
US4012833A (en) Method of making display structure having light emitting diodes
JP3519256B2 (ja) デバイスホール内ダミーパターンの改善
US4220963A (en) Fast recovery diode with very thin base
JP2782870B2 (ja) リードフレーム
JP5272176B2 (ja) トレンチ絶縁コンタクト端子を有する画像センサの作製方法
US6305074B1 (en) Support for integrated circuit and process for mounting an integrated circuit on a support
JP4723275B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JPH0992675A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH09246331A (ja) 半導体装置の製造方法及びこれに用いる配線パターンフィルム
JP2819321B2 (ja) 電子部品搭載用基板及びこの電子部品搭載用基板の製造方法
JPS6035230Y2 (ja) 板状貫通磁器コンデンサ
TW202437493A (zh) 用於連接晶片與金屬材的鍵合結構及其製作方法
JP2002508598A (ja) 光電池を製造し組み立てる方法
JP2621186B2 (ja) 転写用バンプの形成方法
JP2823046B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH06314723A (ja) 半導体装置及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080330

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090330

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100330

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100330

Year of fee payment: 9

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100330

Year of fee payment: 9

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130330

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140330

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term