JPH10277957A5 - - Google Patents

Description

【０００３】
従来、光ファイバコネクタ部分の研磨方法として、ダイヤモンド等の硬質の研磨剤で１次研磨を行った後、フィルムにコネクタ部を押しつけた状態で研磨剤を含む研磨液をフィルムとコネクタ部との間に供給しながら光ファイバを回転させて研磨する方法が知られている（特開昭６２−１７３１５９号、特開平３−８１７０８号など）。

【００２１】
第１の研磨層２は、上述した第２の研磨層３の下層となる層で、水不溶性の樹脂と研磨剤とから構成される。水不溶性の樹脂としてはアクリル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール樹脂、シリコーン樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、セルロース誘導体樹脂、架橋性ポリエステルポリオール、架橋性アクリルポリオール等を用いることができるが、特にイソシアネートで架橋されたポリエステルポリオール、アクリルポリオールが好適である。これらの架橋性樹脂は、研磨層としての硬度、可撓性に優れ、また支持体との接着性も良好である。架橋性樹脂は、単独で或いは他の水不溶性の樹脂と混合して用いることができる。

【００２５】
本発明の研磨フィルムは、上述した支持体１の上に、第１の研磨層２を構成する水不溶性樹脂と研磨剤とを含む塗工液を塗布後、乾燥させて第１の研磨層２を形成した後、この上に第２の研磨層３を構成する水溶性樹脂と研磨剤とを含む塗工液を塗布後、乾燥させることにより製造することができる。第１および第２の研磨層には上述した材料の他、必要に応じてレベリング剤、分散剤、酸化剤、帯電防止剤、防カビ剤等を添加することができる。

【００３１】
次に第１の研磨層の上に下記処方の第２の研磨層用塗布液を塗布、乾燥させて乾燥厚さ１０μｍの第２の研磨層を形成し、研磨フィルムを作製した。
第２の研磨層用塗布液
ポリビニルアルコール ５重量部
（ゴーセノールGL-03：日本合成化学社）
シリカ ５重量部
（アエロジル200、粒径12nm：日本アエロジル社）
水 ４０重量部

【００３２】
このように作製した研磨フィルム（φ１２７mm）を用いて、光コネクタ研磨機（SFP-120A：(株)精工技研製）により石英ファイバの光コネクタフェルールを最終研磨した。研磨は前記光コネクタフェルール１２本を研磨機の研磨ホルダーに取付け、精製水を研磨フィルム上に３〜５cc供給し、最終研磨時間３０秒で行った。研磨後のコネクタ部について、鏡面性、反射減衰量、曲率およびフェルールから石英ファイバの凹み量を評価した。鏡面性は光学顕微鏡（倍率２００）で観察した。反射減衰量は光測定器（JDSFITEL:RM3750B）で評価した。また曲率および凹み量は、自動コネクトチェック干渉システム（アクシス：NTT-AT）で評価した。

【００３４】
【発明の効果】
以上の実施例からも明らかなように本発明の研磨フィルムは、第１の研磨層の上に、水溶性樹脂と第１の研磨層の研磨剤より粒径の細かい研磨剤を含む第２の研磨層を備えた構成を有しているので、フェルールとガラスファイバとを同時に研磨することができ、フェルールとガラスファイバとの段差を発生させることなく、優れた研磨性能を有する。とくに研磨剤としてシリカを用いることにより、加工変質層の生成を抑制して、反射減衰量を大幅に改善し、光学特性の優れた光ファイバコネクタ部を作製することができる。また本発明の研磨フィルムは、最上層となる第２の研磨層を水溶性樹脂と研磨剤とで構成することにより、研磨剤を含む研磨液を不要とし、低温の環境でも使用でき、しかも優れた研磨特性を実現することができる。

Claims (1)

1. 前記第２の研磨層に含有される研磨剤の平均粒径が、前記第１の研磨層に含有される研磨剤の平均粒径より小さいことを特徴とする請求項１記載の研磨フィルム。