JPH10282123A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
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- JPH10282123A JPH10282123A JP9092636A JP9263697A JPH10282123A JP H10282123 A JPH10282123 A JP H10282123A JP 9092636 A JP9092636 A JP 9092636A JP 9263697 A JP9263697 A JP 9263697A JP H10282123 A JPH10282123 A JP H10282123A
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Abstract
も、その表面形状を正確に検出できるようにした走査型
プローブ顕微鏡を提供する。 【解決手段】 試料52の表面と探針54との間隙を目
標値と比較して誤差信号S2を発生する比較器75と、
探針54を試料52に対して相対的にXYZ方向へ微動
させるアクチュエータ55および駆動増幅器70と、誤
差信号S2に基づいて、試料表面と探針54との間隙を
予定値に保つための制御信号S6を発生するPI制御部
76と、試料表面が傾斜しているために試料の表面形状
とは別にZ方向に生じる偏差を補正する傾き補正信号S
4を発生する傾き補正手段81と、制御信号S6に傾き
補正信号S4を加算する加算手段82とを設けた。
Description
微鏡(AFM: Atomic Force Microscope)に代表され
る走査型プローブ顕微鏡に係り、特に、試料の観察面が
全体的に傾斜している場合でも、その表面形状を正確に
検出できるようにした走査型プローブ顕微鏡に関する。
試料表面と走査プローブとの間の相互作用を利用して試
料表面の微細な組織や構造を検出するために、片持ち梁
の先端に探針を装着したカンチレバーが走査プローブと
して使用される。このようなカンチレバーを用いると、
探針を試料表面で走査した際に試料表面と探針との間に
は原子間力に基づく引力または斥力が発生する。したが
って、この原子間力をカンチレバーの撓み量として検出
し、この撓み量が一定となるように、すなわち試料表面
と探針との間隙が一定となるように試料ステージをZ軸
方向へ微動させる制御を実行すれば、その際の制御信号
あるいは検出された撓み量そのものが試料表面の形状を
代表するようになる。 図5は、従来の走査型プローブ
顕微鏡の信号処理装置の一例を示したブロック図であ
る。3次元試料ステージ55上には試料52が載置さ
れ、試料52の上方には、カンチレバー53の自由端に
取り付けられた探針54が対向して配置されている。カ
ンチレバー53の撓み量は、レーザ発生器71から放出
されてカンチレバー53の背面で反射されたレーザ光7
2のスポット位置を位置検出器73で測定することによ
り検出される。
検出電極から構成されており、カンチレバー53の撓み
量が0の時にはレーザ光72のスポットが該4分割電極
の中央に来るように位置合わせされている。このため、
カンチレバー53に撓みが発生すると、該レーザ光72
のスポットが該4分割電極上を移動し、4分割電極から
出力される電圧に差が発生する。この電圧差は差動増幅
器74によって増幅され、撓み量信号S1として比較器
75の非反転入力端子(+)に入力される。比較器75
の反転入力端子(−)には、カンチレバー53の撓み量
に関する目標値信号が目標値設定部79から入力され
る。
比例積分(PI)制御部76に入力され、誤差信号S2
およびその積分値を合成した信号が、観察像信号を兼ね
た制御信号S3としてアクチュエータ駆動増幅器70お
よび観察像信号増幅器77に入力される。観察像信号増
幅器77は制御信号S3を増幅し、これを観察像信号S
5として画像表示装置(例えば、CRT)80へ供給す
る。走査信号発生部78は、試料52をXY方向へ微動
させるための微動信号をアクチュエータ駆動増幅器70
へ供給する。
プローブ顕微鏡では、試料表面の凹凸が表示装置80上
では輝度の強弱として観察されるため、解像度やSN比
を向上させるためには、観察像信号増幅器77から表示
装置80へ供給される信号の最大振幅と当該表示装置8
0の入力定格とを略一致させることが望ましい。このた
め、観察像信号増幅器77の増幅度は入力信号の大きさ
に応じて制御されていた。 一方、試料の表面形状が同
じであっても、図6に示したように試料表面が全体的に
傾斜している場合と、図7に示したように傾斜しておら
ず平坦な場合とを比較すると、試料表面が傾斜していな
ければ、図7に示したように、検出される振幅Δd2は
試料表面の凹凸成分の振幅と一致する。したがって、図
8に示したように、振幅Δd2が表示装置80の定格と
一致するように制御信号S3を増幅すれば、解像度やS
N比の優れた画像を得ることができる。
面が全体的に傾斜していると、制御信号S3には傾き成
分が含まれてしまうために変位量Δd1が比較的大きく
なってしまう。したがって、観察像信号増幅器77は増
幅度を上げることができず、傾斜していない場合に比べ
て凹凸成分の振幅が小さくなるので解像度やSN比が低
下してしまうという問題があった。
点を解決し、試料表面が全体的に傾斜している場合で
も、その表面形状を正確に検出できるようにした走査型
プローブ顕微鏡を提供することにある。
ために、本発明では、試料表面に探針を近接させ、両者
の間隙が予定値に保たれるように、探針および試料の少
なくとも一方をZ方向へ微動させながら探針を試料表面
でXY方向に走査させる走査型プローブ顕微鏡におい
て、以下のような手段を講じた点に特徴がある。 (1) 試料表面と探針との間隙を予定値に保つための制御
信号を発生する制御手段と、試料表面が傾斜しているた
めに試料の表面形状とは別にZ方向に生じる偏差を補正
する傾き補正信号を走査位置の関数として発生する傾き
補正手段と、制御信号に傾き補正信号を加算する加算手
段と、制御信号に基づいて観察像信号を発生する手段
と、加算手段の出力信号に応答して探針をZ方向へ微動
させるZ方向微動手段とを具備した。 (2) 試料表面と探針との間隙を予定値に保つための制御
信号を発生する制御手段と、試料表面が傾斜しているた
めに試料の表面形状とは別にZ方向に生じる偏差を補正
する傾き補正信号を走査位置の関数として発生する傾き
補正手段と、制御信号に傾き補正信号を加算する加算手
段と、加算手段の出力信号に基づいて観察像信号を発生
する手段と、制御信号に応答して探針をZ方向へ微動さ
せるZ方向微動手段とを具備した。
生手段は、試料の傾き成分が含まれていない制御信号を
増幅することになるので、観察像信号としての制御信号
を十分に増幅することができ、鮮明でノイズの少ない画
像が得られるようになる。上記した構成(2) によれば、
制御信号には試料の傾き成分が含まれているものの、観
察像信号発生手段に入力される信号からは傾き成分が取
り除かれている。したがって、観察像信号発生段は、観
察像信号としての制御信号を十分に増幅することがで
き、鮮明でノイズの少ない画像が得られるようになる。
細に説明する。図1は、本発明の第1実施形態である走
査型プローブ顕微鏡の信号処理装置のブロック図であ
り、前記と同一の符号は同一または同等部分を表してい
る。図5に関して説明した従来技術のブロック図と比較
すれば明らかなように、本実施形態では、試料表面の傾
きを検出する傾き検出回路90と、試料表面が傾斜して
いるために試料の表面形状とは別にZ方向に生じる偏差
を補正するための傾き補正信号S4を発生する傾き補正
回路81と、この傾き補正信号S4を制御信号S6に加
算する加算回路82とを付加した点に特徴がある。 以
下、傾き検出回路90および傾き補正回路81の動作に
ついて説明する。傾き検出回路90は、作業者が実際の
観察に先立って試料表面でX方向へ探針を走査した際
に、その走査ライン上での一端の高さを、走査開始直後
に検出された制御信号S6に基づいて求める。さらに、
その走査ライン上での他端の高さを、走査終了直前に検
出された制御信号S6に基づいて求める。そして、図2
に示したように、検出された高さの偏差ΔZ0 とその間
の走査距離とに基づいてX方向に関する傾斜角θ(θX
)を求め、これを傾き補正回路81に登録する。Y方
向に関しても、走査開始直後および走査終了直前に検出
された制御信号S6ならびに走査距離に基づいてY方向
に関する傾斜角θ(θY )を求め、これを傾き補正回路
81に登録する。
る。本発明の傾き補正回路81は、X方向およびY方向
のそれぞれに対して傾き補正信号S4を出力するが、こ
こでは、X方向に関する動作のみを説明し、Y方向に関
する動作説明は省略する。傾き補正回路81には、図2
に示したように、X方向に関する走査位置xと、当該走
査位置xでの傾き補正量Δzとの関係を表す一次関数Δ
z=f(x)が前記傾斜角θに基づいて登録され、走査
信号発生部78から出力されるX走査信号と前記一次関
数f(x)とに基づいて、各走査位置ごとに補正量Δz
を算出し、これを傾き補正信号S4として出力する。す
なわち、図2に示したように試料表面が右上がりに傾斜
している場合、傾き補正回路81は、この傾斜角θに応
じた一次関数f(x)を利用して、図9(a) に示したよ
うに、探針54の走査位置が左端から右端へ移動するに
したがって増加する傾き補正信号S4を出力する。
構成の一例を示した図である。走査信号発生部78から
出力された走査信号は抵抗R1、R2の接続部に入力さ
れる。ここで、試料表面が右上がりに傾斜している場
合、抵抗R1は、オペアンプOP1の入力端子へ0V
(接地電位)が印加されるように調整され、抵抗R2
は、オペアンプOP2の入力端子へ前記傾斜角度θに応
答した電圧が印加されるように調整される。この結果、
傾き補正回路81からは、図9(a) に示したように、X
方向に関する走査位置に比例した傾き補正信号S4が出
力される。
ば、抵抗R1は、オペアンプOP1の入力端子へ傾斜角
度θに応答した電圧が印加されるように調整され、抵抗
R2は、オペアンプOP2の入力端子に0V(接地電
位)が印加されるように調整される。このような構成に
おいて、探針54を試料52の表面に近接させた状態で
試料ステージをX方向へ走査すると、試料表面と探針5
4との間の原子間力によってカンチレバー53が撓み、
これが位置検出器73および差動増幅器74で検出され
る。探針54と試料表面との間隙が前記PI制御部76
によって制御されていれば、作動増幅器74から出力さ
れる撓み量信号S1は試料52の表面と探針54との間
隙を代表するから、比較器75から出力される誤差信号
S2は、探針54によって検出された試料表面形状と実
際の試料表面形状との差を表すことになる。
の積分値を合成した信号を、観察像信号を兼ねた制御信
号S6として出力する。このとき、傾き補正回路81は
X方向に関する各走査位置xごとに傾き補正信号S4を
発生し、この傾き補正信号S4は加算回路82によって
前記制御信号S6に加算される。したがって、PI制御
部76から出力される制御信号S6からは、図9(b) に
示したように、傾き成分が取り除かれていることにな
る。したがって、観察像信号増幅器77は入力信号(制
御信号S6)を十分に増幅することができ、鮮明でノイ
ズの少ない画像が得られるようになる。 図4は、本発
明の第2実施形態の構成を示したブロック図であり、前
記と同一の符号は同一または同等部分を表している。本
実施形態では、観察像信号増幅器77に入力される信号
に傾き補正信号S4を加算することで、観察像信号発生
手段77に入力される信号から傾き成分を取り除くよう
にした点に特徴がある。
性を第1実施形態とは逆にする必要があるので、傾き補
正回路81では、試料表面が右上がりに傾斜している場
合、抵抗R2は、オペアンプOP2の入力端子へ0V
(接地電位)が印加されるように調整され、抵抗R1
は、オペアンプOP1の入力端子へ傾斜角度θに応答し
た電圧が印加されるように調整される。また、試料表面
が右下がりに傾斜していれば、抵抗R1は、オペアンプ
OP1の入力端子へ0V(接地電位)が印加されるよう
に調整され、抵抗R2は、オペアンプOP2の入力端子
へ前記傾斜角度θに応答した電圧が印加されるように調
整される。
出力される制御信号S3には傾き成分が含まれることに
なるが、観察像信号増幅器77へは、傾き成分が取り除
かれた信号が入力される。したがって、観察像信号増幅
器77は入力信号を十分に増幅することができ、鮮明で
ノイズの少ない画像が得られるようになる。なお、上記
した各実施形態では、試料表面に探針54を近接させる
ための微動機構として試料ステージ55を用い、試料5
2をカンチレバー53に対して微動させるものとして説
明したが、本発明はこれのみに限定されるものではな
く、探針54を試料52に対して相対的に微動されるこ
とができるのであれば、その駆動機構はカンチレバー5
3(または、探針54そのもの)をZ軸方向へ駆動する
機構であっても良い。
傾斜角θが傾き検出回路90によって自動的に求められ
て傾き補正回路81に登録されるものとして説明した
が、本発明はこれのみに限定されるものではなく、傾き
検出回路90を動作させることなく作業者が傾き補正回
路81の抵抗R1,R2を手動操作により調整して傾斜
角θを登録するようにしても良い。
面が全体的に傾斜している場合を例にして本発明を説明
したが、Z軸中心と探針54とのずれによって試料表面
が傾いているように見える場合にも同様に適用すること
ができる。さらに、ボイスコイルモータはリニアリティ
に優れるので、試料ステージ55をXYZ方向へ微動さ
せる駆動手段としてボイスコイルモータを利用すれば、
本発明による効果は更に顕著なものとなる。
いていても、映像信号の増幅部へ供給される信号からは
傾き成分が取り除かれ、観察しようとする凹凸成分のみ
が供給される。したがって、増幅部は入力信号を十分に
増幅することができ、鮮明でノイズの少ない画像が得ら
れるようになる。
微鏡のブロック図である。
る。
である。
微鏡のブロック図である。
のブロック図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 試料表面に探針を近接させ、両者の間隙
が予定値に保たれるように、探針および試料の少なくと
も一方をZ方向へ微動させながら、探針を試料表面でX
Y方向に走査させる走査型プローブ顕微鏡において、 XY方向に関する走査信号を発生する走査信号発生手段
と、 前記走査信号に応答して、探針を試料に対して相対的に
XY方向へ微動させるXY方向微動手段と、 試料表面と探針との間隙を代表する信号を前記予定値を
代表する信号と比較し、両者の差分を誤差信号として発
生する手段と、 前記誤差信号に基づいて、試料表面と探針との間隙を予
定値に保つための制御信号を発生する制御手段と、 試料表面が傾斜しているために試料の表面形状とは別に
Z方向に生じる偏差を補正する傾き補正信号を走査位置
の関数として発生する傾き補正手段と、 前記制御信号に前記傾き補正信号を加算する加算手段
と、 前記制御信号に基づいて観察像信号を発生する手段と、 前記加算手段の出力信号に応答して、探針を試料に対し
て相対的にZ方向へ微動させるZ方向微動手段とを具備
したことを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項2】 試料表面に探針を近接させ、両者の間隙
が予定値に保たれるように、探針および試料の少なくと
も一方をZ方向へ微動させながら、探針を試料表面でX
Y方向に走査させる走査型プローブ顕微鏡において、
XY方向に関する走査信号を発生する走査信号発生手段
と、 前記走査信号に応答して、探針を試料に対して相対的に
XY方向へ微動させるXY方向微動手段と、 試料表面と探針との間隙を代表する信号を前記予定値を
代表する信号と比較し、両者の差分を誤差信号として発
生する手段と、 前記誤差信号に基づいて、試料表面と探針との間隙を予
定値に保つための制御信号を発生する制御手段と、 試料表面が傾斜しているために試料の表面形状とは別に
Z方向に生じる偏差を補正する傾き補正信号を走査位置
の関数として発生する傾き補正手段と、 前記制御信号に前記傾き補正信号を加算する加算手段
と、 前記加算手段の出力信号に基づいて観察像信号を発生す
る手段と、 前記制御信号に応答して、探針を試料に対して相対的に
Z方向へ微動させるZ方向微動手段とを具備したことを
特徴とする走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項3】 X方向およびY方向の少なくとも一方に
関して、走査の一端および他端で得られた制御信号に基
づいて、それぞれX方向およびY方向の少なくとも一方
に関する試料面の傾きを検出する傾き検出手段をさらに
具備し、 前記傾き補正手段は、前記検出された傾きに基づいて傾
き補正信号を発生することを特徴とする請求項1または
2に記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項4】 自由端に探針が形成されたカンチレバー
と、 カンチレバーの撓み量を検出する手段とを具備し、 前記試料表面と探針との間隙は、前記検出されたカンチ
レバーの撓み量で代表されることを特徴とする請求項1
ないし3のいずれかに記載の走査型プローブ顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9092636A JPH10282123A (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-10 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9092636A JPH10282123A (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-10 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282123A true JPH10282123A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=14059942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9092636A Pending JPH10282123A (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-10 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10282123A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018211563A1 (ja) * | 2017-05-15 | 2018-11-22 | オリンパス株式会社 | 原子間力顕微鏡 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04212001A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-08-03 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 走査型トンネル顕微鏡 |
| JPH05180614A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-23 | Olympus Optical Co Ltd | 表面観察方法 |
| JPH06174461A (ja) * | 1992-12-10 | 1994-06-24 | Hitachi Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
-
1997
- 1997-04-10 JP JP9092636A patent/JPH10282123A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04212001A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-08-03 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 走査型トンネル顕微鏡 |
| JPH05180614A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-23 | Olympus Optical Co Ltd | 表面観察方法 |
| JPH06174461A (ja) * | 1992-12-10 | 1994-06-24 | Hitachi Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
Cited By (2)
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| WO2018211563A1 (ja) * | 2017-05-15 | 2018-11-22 | オリンパス株式会社 | 原子間力顕微鏡 |
| US10928417B2 (en) | 2017-05-15 | 2021-02-23 | Olympus Corporation | Atomic force microscope, atomic force microscopy, and controlling method of an atomic force microscopy |
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Legal Events
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| RD01 | Notification of change of attorney |
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