JPH10282642A - 平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 可視光に感度を有し、各種のレーザーにより
ディジタルデータから直接製版可能であり、水現像可能
あるいは現像不要で、熱安定性に優れた平版印刷版原版
を提供する。 【解決手段】 エステル基、ケタール基、チオケタール
基、アセタール基及び第三級アルコール基から選択され
る、酸により分解する末端基と、該末端基に隣接して該
末端基が分解することにより分解してスルホン酸を発生
させる基を有する構造、好ましくは下記一般式（Ｉ）で
表される構造を、側鎖に有する高分子化合物及び光若し
くは熱により酸を発生する化合物を含む感光／感熱層を
支持体上に設けたことを特徴とする。下記式中、Ｗ¹ は
エステル基、ケタール基、チオケタール基、アセタール
基及び第三級アルコール基から選択される酸分解性基を
示し、ＬはＷ¹ の分解に伴って分解する、一般式（Ｉ）
で示される構造単位をポリマー骨格に連結するのに必要
な多価の非金属原子から成る連結基を示す。 【化１】一般式（Ｉ） −ＳＯ₃ −Ｌ−Ｗ¹

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版、中でも
ディジタル信号に基づいて可視光もしくは赤外線などの
各種のレーザを操作することにより直接製版可能であ
り、且つ水現像可能あるいは現像することなしにそのま
ま印刷機に装着し、印刷することができる平版印刷用原
版に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来ディジタル化された画像データーか
らリスフィルムを介さずに印刷版を直接製版する方法と
しては、電子写真法によるもの、青色または緑色を
発光する比較的小出力のレーザで書き込める高感度フォ
トポリマーを用いる方法、銀塩あるいは銀塩と他のシ
ステムとの複合系を用いる方法、ヒートモードレーザ
露光により酸を発生させ、その酸を触媒として後加熱に
より熱硬化画像を得る方法等が知られている。

【０００３】これらの方法は印刷工程の合理化上極めて
有用ではあるが、現状では必ずしも十分満足できるもの
ではない。例えば、の電子写真法を用いるものは、帯
電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であり、装
置が複雑で大がかりなものになる。また、のフォトポ
リマーを用いるものでは、高感度な印刷版を使用するた
め、明室での取扱いが難しくなる。の銀塩を用いる方
法は、処理が煩雑になり、処理廃液中に銀が含まれる等
の欠点がある。の方法も、後加熱やその後の現像処理
が必要であり、処理が煩雑になる。

【０００４】またこれらの印刷版の製造には、露光工程
の後に、支持体表面の上に設けられた感光層を画像状に
除去するための湿式による現像工程や現像処理された印
刷版を水洗水で水洗したり、界面活性剤を含有するリン
ス液、アラビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂化液で処
理する後処理工程が含まれる。

【０００５】一方、近年の製版、印刷業界では現像廃液
がアルカリ性であるため環境問題が生じてきている。ま
た製版作業の合理化が進められており、上記のような複
雑な湿式現像処理を必要とせず、露光後にそのまま印刷
に使用できる印刷版用原版が望まれている。

【０００６】画像露光後に現像処理を必要としない印刷
版用原版については、例えば、米国特許（以下、適宜Ｕ
Ｓと表記する）５，２５８，２６３号に、露光領域で硬
化叉は不溶化が促進される感光性親水層と感光性疎水層
とを支持体上に積層した平版印刷プレートが開示されて
いる。しかしこのプレートは２層構成のため上層と下層
との接着力が問題となり多くの印刷物を刷ることができ
ない。

【０００７】また画像形成後、湿式現像処理を必要とし
ない平版印刷版材として、シリコーン層と、その下層に
レーザ感熱層を設けた版材がＵＳ５，３５３，７０５
号、ＵＳ５，３７９，６９８号に開示されている。これ
らは湿式現像は必要としないが、レーザアブレージョン
によるシリコーン層の除去を完結させるための、こすり
や特殊なローラーによる処理が必要となり、処理が煩雑
になる欠点を持つ。

【０００８】ポリオレフィン類をスルホン化したフィル
ムを版材として用い、熱書き込みにより、表面の親水性
を変化させることにより、現像処理を必要としない版材
を形成することが、特開平５ー７７５７４号、特開平４
ー１２５１８９号、ＵＳ５，１８７，０４７号、特開昭
６２ー１９５６４６号、に開示されている。このシステ
ムでは、熱書き込みにより、感材表面のスルホン基を脱
スルホンさせ画像形成しており、現像処理は不要になる
が、書き込み時に有害なガスを発生させる欠点を有す
る。

【０００９】ＵＳ５，１０２，７７１号、ＵＳ５，２２
５，３１６号には酸感受性基を側鎖にもつポリマーと光
酸発生剤を組み合わせた感材が提示されており、無現像
システムが提案されている。この版材は発生する酸がカ
ルボン酸であるために、親水性の程度が低いため汚れや
すく、版材の耐久性や印刷画像の鮮明さに劣る欠点を持
つ。ＵＳ３，８９２，５７０号にはスルホン酸エステル
基を側鎖に有するポリマー含むことを特徴とするネガ型
感光性組成物が、特開平2-132446号にはスルホン酸エス
テル基を側鎖に有するポリマー含むことを特徴とするポ
ジ型感光性組成物が記載されているが、これらのシステ
ムは溶剤、もしくはアルカリの現像液をもちいて現像し
ており、水現像もしくは無現像システムに関しては全く
提案されてはいなかった。

【００１０】特開平4-121748号にはスルホン酸エステル
基を側鎖にもつポリマーと酸発生剤と染料とを組み合わ
せた感材が提示されているが、このシステムもアルカリ
の現像液を用いて現像しており、環境的にも処理の簡便
性の観点からも好ましい水現像もしくは無現像システム
に関しては全く提案されていないのが現状である。

【００１１】また、特開平８−２４８５６１号にスルホ
ン酸を発生する官能基を有するスルホン酸エステルタイ
プの低分子化合物が記載されているが、これらは低分子
化合物であるため平板印刷材料のバインダーとしては適
しておらず、水現像型の版材に適用すると印刷するにつ
れて印刷汚れが増加する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、可視域の光の露光、もしくは可視光レーザーまたは
赤外線レーザーの照射により製版可能であり、さらに水
現像可能な平版印刷版用原版、あるいは画像書き込み
後、湿式現像処理やこすり等の特別な処理を必要とぜ
す、熱安定性に優れた平版印刷版用原版を提供すること
である。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的は、特定構造、
好ましくは下記一般式（Ｉ）で示される構造単位を側鎖
に有する高分子化合物及び可視域以上の長波の光若しく
は熱に対して活性な酸発生剤を感光／感熱層に用いるこ
とで本発明の目的が達成され、また、これらとともに、
赤外線吸収剤を添加することで本発明の目的が効果的に
達成された。即ち、本発明の平版印刷版用原版は、エス
テル基、ケタール基、チオケタール基、アセタール基及
び第三級アルコール基から選択される、酸により分解す
る末端基と、該末端基に隣接して該末端基が分解するこ
とにより分解してスルホン酸を発生させる基と、を側鎖
に有する高分子化合物と、光若しくは熱により酸を発生
する化合物とを含む感光／感熱層を支持体上に設けたこ
とを特徴とし、より具体的には、この側鎖の構造単位は
下記一般式（Ｉ）で表される構造であることを特徴とす
る。

【化１】一般式（Ｉ） −ＳＯ₃ −Ｌ−Ｗ¹ （式中、Ｗ¹ はエステル基、ケタール基、チオケタール
基、アセタール基及び第三級アルコール基から選択され
る、酸により分解する基を示し、ＬはＷ¹ の分解に伴っ
て分解する、一般式（Ｉ）で示される構造単位をポリマ
ー骨格に連結するのに必要な多価の非金属原子から成る
連結基を示す。）

【００１４】本発明の平板印刷版原版は、高分子化合物
の側鎖にスルホン酸を発生する官能基を含む感光／感熱
層有するため、光又は熱の照射により発生するスルホン
酸の働きにより照射部分の版材表面が親水化されて、中
性の水を用いた現像若しくは露光／加熱処理後に如何な
る現像操作も必要としない版材の作製が可能となったと
考えられる。さらに、該高分子化合物の側鎖構造におけ
る末端基に隣接して該末端基が分解することにより分解
してスルホン酸を発生させる基（好ましくは、一般式
（Ｉ）中の−ＳＯ₃ −Ｌ−で示される基）が熱にたいし
て安定であり、且つ、末端の酸分解性基の分解に伴って
速やかに分解してスルホン酸を発生させうるため、熱安
定性に優れ、原版を高温条件で保存しても劣化しないと
いう良好な特性を示すと考えられる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、特定の酸分解性末端基と、
スルホン酸発生基とを側鎖に有する高分子化合物と光若
しくは熱により酸を発生する化合物（以下、適宜、酸発
生剤と称する）とを含む感光／感熱層を支持体上に設け
たことを特徴とするが、ここで、感光／感熱層とは露光
若しくは熱の照射などの輻射線に感度を有し、可視光の
露光や可視光〜赤外線レーザーの照射により書き込み可
能な層を含むものである。以下、この平版印刷版原版の
各構成成分について説明する。

【００１６】［側鎖に酸分解性末端基と、スルホン酸発
生基とを有する高分子化合物］この高分子化合物は、エ
ステル基、ケタール基、チオケタール基、アセタール基
及び第三級アルコール基から選択される、酸により分解
する末端基と、該末端基に隣接して該末端基が分解する
ことにより分解してスルホン酸を発生させる基とを側鎖
に有するが、より具体的にはこの側鎖構造は、上記一般
式（Ｉ）で表されるものであることが好ましい。即ち、
上記一般式（Ｉ）中、−ＳＯ₃ −Ｌ−で表される部分
は、末端のＷ¹ で表される酸分解性基の分解に伴って分
解して、スルホン酸を発生させる基を表し、Ｌは非金属
原子からなる多価の連結基であって、より具体的には下
記の構造単位が組み合わさって構成されるものを挙げる
ことができる。

【００１７】

【化２】

【００１８】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル、エチルなどの炭素数１から２０まで
のアルキル基、フェニル、ナフチルなどの炭素数６から
１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、スル
ホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシの
ような炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキ
シ、エトキシのような炭素数１から６までのアルコキシ
基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカル
ボニルのような炭素数２から７までのアルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネートのような炭
酸エステル基などを用いることができる。また、Ｗ¹ は
酸によって分解する末端基を示し、エステル基、ケター
ル基、チオケタール基、アセタール基及び第三級アルコ
ール基から選択されるものである。以上説明したよう
な、好ましくは一般式（Ｉ）で示される如き構造単位を
側鎖に有する高分子化合物（以下、適宜、スルホン酸発
生型高分子化合物と称する）における一般式（Ｉ）は、
好ましくは、下記一般式（１）〜（４）で示される構造
単位を側鎖に有する高分子化合物を指す。

【００１９】一般式（１）

【化３】

【００２０】（式中、A¹はアルキル基、もしくはアリー
ル基を示し、A²は水素原子、アルキル基、もしくはアリ
ール基を示し、A³は酸の作用により分解するカルボキシ
ル基の保護基を表す。）

【００２１】一般式（２）

【化４】

【００２２】（式中、B¹およびB⁴は水素原子、アルキル
基、もしくはアリール基を示し、X は酸素原子、もしく
は硫黄原子、B²およびB³はアルキル基、もしくはアリー
ル基を表す。）

【００２３】一般式（３）

【化５】

【００２４】（式中、D¹およびD²は水素原子、アルキル
基、もしくはアリール基を示し、D³はアルキル基、もし
くはアリール基を表す。）

【００２５】一般式（４）

【化６】

【００２６】（式中、E は水素原子、アルキル基、もし
くはアリール基を表す。） まず、前記一般式（１）で示される化合物について説明
する。前記一般式（１）において、A¹はアルキル基、も
しくはアリール基を示し、A²は水素原子、アルキル基、
もしくはアリール基を示し、A³は酸の作用により分解す
るカルボキシル基の保護基を表す。ここで、A¹はメチ
ル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基；フ
ェニル、４ーメトキシフェニルなどの如き炭素数６〜２
０までのアリール基を表す。A²は水素原子もしくはメチ
ル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基、も
しくはフェニル、４ーメトキシフェニルなどのような炭
素数６〜２０までのアリール基を表す。A¹又はA²は、さ
らにアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ
基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基
などの置換基で置換されていてもよい。A³は酸の作用に
より分解する基であり一般的にカルボキシル基の保護基
として用いられる原子団を有用に用いることができる。
この様な原子団としてはT.W.Greene著 " Protective Gr
oups in Organic Synthesis" John Wiley & Sons , In
c (1991) に記載の、カルボキシル基の保護基であり、
かつ酸の作用により脱保護される原子団を挙げることが
できる。これらの原子団のうち、特に好ましいA³の具体
的な例としては下記一般式(1A)〜(1D)の構造を用いるこ
とができる。

【００２７】

【化７】一般式(1A) -C(-R¹)(-R²)(-X-R³)

【００２８】式中、R¹は水素原子もしくはメチル、エチ
ルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基；テトラヒド
ロフラニルなどのように-X-R³ と結合し環を形成する
基；１ーメトキシシクロヘキシルなどのように-R² と結
合し環を形成する基を表す。R²はR¹と同義、もしくはメ
トキシ、エトシキ、２ークロロエトキシなどのような炭
素数１〜２０までのアルコキシ基を表す。X は酸素原
子、もしくは硫黄原子を、R³はメチル、エチル、２ーク
ロロエチル、ベンジル、４ーメトキシベンジル、2-（ト
リメチルシリル）エチル、 2-(ｔ−ブチルジメチルシリ
ル）エチル基のような炭素数１〜２０までのアルキル
基、フェニル、４ーメトキシフェニルなどのような炭素
数６〜２０までのアリール基を表す。ここで、R¹〜R
³は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ
基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基
などの置換基で置換されていてもよい。一般式(1A)で表
される原子団の具体的な例としては、メトキシメチル、
メトキシチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｐ−メト
キシベンジルオキシメチル、（４−メトキシフェノキ
シ）メチル、グアイアコルメチル、t-ブトキシメチル、
４−ペンテノイルメチル、ｔ−ブチル−ジメチルシリル
オキシメチル、２−エトキシメトキシメチル、2,2,2 −
トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキ
シ）メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチ
ル、テトラヒドロピラニル、３−ブロモテトラヒドロピ
ラニル、テトラヒドロチオピラニル、１−メトキシシク
ロヘキシル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、４−
メトキシテトラヒドロチオピラニル、Ｓ，Ｓ−ジオキシ
ド−４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、１−
［（２−クロロ−４−メチル）フェニル］−４−メトキ
シピペリジン−４−イル、1,4 −ジオキサン−２−イ
ル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニ
ル、2,3,3a,4,5,6,7,7a −オクタヒドロ−7,8,8 −トリ
メチル−4,7−メタノベンゾフラン−２−イルなどの置
換メチルエーテルを挙げることができる。

【００２９】

【化８】一般式(1B) -C(-R⁴)(-R⁵)(-R⁶)

【００３０】式中、R⁴、R⁵、R⁶はそれぞれ独立にメチ
ル、エチル、２−クロロエチル，２−フェネチルなどの
炭素数１〜２０までのアルキル基を表す。このアルキル
基は、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ
基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換
基で置換されていてもよい。一般式(1B)で表される原子
団の具体的な例としては、ｔ−ブチル、ｔ−オクチルな
どを挙げることができる。

【００３１】

【化９】一般式(1C) -C(-R⁷)(-R⁸)(-R⁹)

【００３２】式中、R⁷、R⁸はそれぞれ独立に水素原子も
しくはメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアル
キル基、もしくはフェニル、４−メトキシフェニルなど
のような炭素数６〜２０までのアリール基を、R⁹はフェ
ニル、４ーメトキシフェニルなどのような炭素数６〜２
０までのアリール基を表す。R⁷〜R⁹は、それぞれアルキ
ル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ
基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換
基で置換されていてもよい。一般式(1C)で表される原子
団の具体的な例としては、４−メトキシベンジル、３，
４−ジメトキシベンジル、２−ピコリル、ジフェニルメ
チル、５−ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α
−ナフチルジフェニルメチル、ｐ−メトキシフェニルジ
フェニルメチル、4,4',4''−トリス（ベンゾイルオキシ
フェニル）メチル、３−（イミダゾール−１−イルメチ
ル）ビス（４’，４’’−ジメトキシフェニル）メチ
ル、９−アンスリル、９−（９−フェニル）キサンテニ
ル、９−（９−フェニルー１０ーオキソ）アンスリル、
α−メチルシンナミルなどを挙げることができる。

【００３３】

【化１０】一般式(1D) -Si(-R¹⁰)(-R¹¹)(-R¹²)

【００３４】式中、R¹⁰ 、R¹¹ 、R¹² はメチル、エチル
などの炭素数１〜２０までのアルキル基、もしくはフェ
ニル、4-ブロモフェニル、４−メトキシフェニルなどの
ような炭素数６〜２０までのアリール基を表す。R¹⁰ 〜
R¹² はそれぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン原
子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル
基、アミド基などの置換基で置換されていてもよい。一
般式(1D)で表される原子団の具体的な例としては、トリ
メチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチル
シリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリベンジルシ
リル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル、
ｔ−ブチルメトキシフェニルシリルなどを挙げることが
できる。

【００３５】次に、一般式（２）で表される化合物につ
いて説明する。前記一般式（２）中、B¹およびB⁴は水素
原子、アルキル基、もしくはアリール基を示し、X は酸
素原子、もしくは硫黄原子、B²およびB³はアルキル基、
もしくはアリール基を表す。B¹〜B⁴のアルキル基、アリ
ール基としてはメチル、エチルなどの炭素数１〜２０ま
でのアルキル基、もしくはフェニル、４−メトキシフェ
ニルなどのような、炭素数６〜２０までのアリール基を
挙げることができる。B²、B³はともに結合して環を形成
していても良い。B¹〜B⁴はそれぞれアルキル基、アリー
ル基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ
基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されて
いてもよい。-C(-XB²)(-XB³)を含む構造の具体例として
は、ジメチルアセタール、ジメチルケタール、ビス
（２、２、２−トリクロロエチル）ケタール、ジベンジ
ルアセタール、ジベンジルケタール、 １，３−ジオキ
ソラン、４−フェニル−１，３−ジオキソランジオキソ
ラン、４−ブロモ−１，３−ジオキソラン、１，３−ジ
オキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサン、４−ブ
ロモ−１，３−ジオキサン、１，３−オキサチオランな
どのケタールおよびアセタールを挙げることができる。

【００３６】また、前記一般式（３）式中、D¹およびD²
は水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を示し、
D³はアルキル基、もしくはアリール基を表す。D¹〜D³の
アルキル基、アリール基としてはメチル、エチルなどの
炭素数１〜２０までのアルキル基、もしくはフェニル、
４ーメトキシフェニルなどのような炭素数６〜２０まで
のアリール基を挙げることができる。D¹、D²はともに結
合して環を形成していても良い。D¹〜D³のアルキル基、
アリール基は、それぞれアルキル基、アリール基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノ
キシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
シル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよ
い。

【００３７】前記一般式（４）式中、E は水素原子、ア
ルキル基、もしくはアリール基を表す。E のアルキル
基、アリール基としてはメチル、エチルなどの炭素数１
〜２０までのアルキル基、もしくはフェニル、４−メト
キシフェニルなどのような炭素数６〜２０までのアリー
ル基を挙げることができる。前記E のアルキル基、アリ
ール基は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シ
アノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミ
ド基などの置換基で置換されていてもよい。

【００３８】本発明に用い得る一般式（１）〜（４）に
示す官能基を側鎖に有する高分子化合物に代表される如
きスルホン酸発生型高分子化合物をより具体的に示す
と、下記に示すモノマーをラジカル重合して得られる高
分子化合物を挙げることができる。モノマーの具体例と
しては下記化合物を挙げることができるが、本発明はこ
れにより限定されるものでない。

【００３９】

【化１１】

【００４０】

【化１２】

【００４１】

【化１３】

【００４２】

【化１４】

【００４３】本発明では、前述の如く、上記具体例に代
表されるモノマーを用い、ラジカル重合により得られる
高分子化合物を使用するが、このスルホン酸発生型高分
子化合物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、
一般式（１）に代表されるスルホン酸発生構造単位を有
するモノマーと、それ以外のモノマーとの共重合体であ
っても良い。本発明において、さらに好適に使用される
スルホン酸発生型高分子化合物は、上記一般式（１）で
表される構造単位を有するモノマーと他の公知のモノマ
ーを用い、ラジカル重合により得られる共重合体であ
る。

【００４４】共重合体に用いられる他のモノマーとして
は、例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニル
エステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、
アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド
等の公知のモノマーが挙げられる。アクリル酸エステル
類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、（ｎ−またはｉ−）プロピルアクリレート、
（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルアクリレー
ト、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリ
レート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジ
ルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒ
ドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、
ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアク
リレート、スルファモイルフェニルアクリレート、２−
（ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルアクリ
レート等が挙げられる。

【００４５】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−またはｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、
ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジル
メタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、
ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフ
ェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタ
クリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロ
ロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメ
タクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオ
キシ）エチルメタクリレート等が挙げられる。

【００４６】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキ
シフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）
アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【００４７】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。

【００４８】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。

【００４９】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、
アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。
またこれらのモノマーの他に、架橋反応性を有するモノ
マーと共重合してもよい。架橋反応性を有するモノマー
としては、グリシジルメタクリレート、Ｎ−メチロール
メタクリルアミド、オメガー（トリメトキシシリル）プ
ロピルメタクリレート、２−イソシアネートエチルアク
リレートなどを好ましく用いることができる。これらを
用いた共重合体中に含まれるスルホン酸発生基を含む構
成単位（モノマー）の割合は、５重量％以上であること
が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以上である。
５重量％より少ないと現像が好適に行えず、また１０重
量％より少ないと現像後に現像残膜が発生する虞がある
ため好ましくない。また、本発明で使用されるスルホン
酸発生型高分子化合物の分子量は、好ましくは重量平均
分子量で２０００以上であり、更に好ましくは５０００
〜３０万の範囲であり、数平均分子量で好ましくは８０
０以上であり、更に好ましくは１０００〜２５万の範囲
である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は
１以上が好ましく、更に好ましくは１．１〜１０の範囲
である。これらの高分子化合物は、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでも良い
が、ランダムポリマーであることが好ましい。

【００５０】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられる好適な溶媒としては、例えばテトラヒドロ
フラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテ
ート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１−メ
トキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピ
ルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸
メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙
げられる。これらの溶媒は単独であるいは２種以上混合
して用いられる。

【００５１】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等重合開始剤として公知の化合物を
任意に選択して使用できる。

【００５２】本発明で使用される高分子化合物は単独で
用いても混合して用いてもよい。これら高分子化合物
は、平板印刷版原版の感光／感熱層を構成する組成物
（以下、適宜、感光／感熱性組成物と称する）全固形分
に対し５０〜９８重量％、好ましくは６０〜９７重量％
の割合で感光性組成物中に添加される。添加量が５０重
量％未満の場合は、印刷画像が不鮮明になる。また添加
量が９８重量％以上の場合は、画像形成が十分できなく
なる。十分に鮮明な画像を得るには６０〜９７重量％の
割合で感光性組成物中に添加することが好ましい。本発
明で使用される高分子化合物の具体例を以下に示すが、
本発明はこれにより限定されるものでない。

【００５３】

【化１５】

【００５４】

【化１６】

【００５５】

【化１７】

【００５６】［光若しくは熱により酸を発生する化合
物］本発明の平板印刷版原版の感光／感熱層には、上記
スルホン酸発生型高分子化合物とともに、光若しくは熱
により酸を発生する化合物（酸発生剤）を含有させるこ
とを要する。この酸発生剤は感度向上の観点から有用で
ある。本発明に係る酸発生剤としては、光若しくは熱の
作用により酸を発生させる公知の化合物を選択して用い
ることができる。

【００５７】例えば、 S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.E
ng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(198
0) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140,140 号等に記載のア
ンモニウム塩、D.C.Necker etal,Macromolecules,17,24
68(1984)、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478 Tokyo,Oct(1988) 、米国特許第4,069,055 号、
同4,069,056 号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivel
lo etal,Macromorecules,10(6),1307(1977) 、Chem.&En
g.News,Nov.28,p31(1988) 、欧州特許第104,143 号、米
国特許第339,049号、同第410,201 号、特開平2-150,848
号、特開平2-296,514 号等に記載のヨードニウム塩、
J.V.Crivello etal,Polymer J.17,73(1985) 、J.V.Criv
ello etal.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt eta
l,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984) 、
J.V.Crivello etal,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.
Crivello etal,Macromorecules,14(5),1141(1981) 、J.
V.Crivello etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,
2877(1979)、欧州特許第370,693 号、米国特許3,902,11
4 号，欧州特許第233,567 号、同297,443 号、同297,44
2 号、米国特許第4,933,377 号、同410,201 号、同339,
049 号、同4,760,013 号、同4,734,444 号、同2,833,82
7 号、獨国特許第2,904,626 号、同3,604,580 号、同3,
604,581 号等に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello e
tal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello
etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed., 17,1047(1979)
等に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Proc.C
onf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988) 等に記載
のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,81
5号、特公昭46-4605 号、特開昭48-36281号、特開昭55-
32070号、特開昭60-239736 号、特開昭61-169835 号、
特開昭61-169837 号、特開昭62-58241号、特開昭62-212
401 号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339 号等に記
載の有機ハロゲン化合物、K.Meier etal,J.Rad.Curing,
13(4),26(1986)、T.P.Gill etal,Inorg.Chem.,19,3007
(1980) 、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19(12),377(1896)
、特開平2-161445号等に記載の有機金属／有機ハロゲ
ン化物、S.Hayase etal,J.Polymer Sci.,25,753(198
7)、 E.Reichmanis etal,J.Pholymer Sci.,Polymer Che
m.Ed.,23,1(1985) 、 Q.Q.Zhu etal,J.Photochem.,36,8
5,39,317(1987)、 B.Amit etal,Tetrahedron Lett.,(24)
2205(1973)、 D.H.R.Barton etal,J.Chem Soc.,3571(196
5)、 P.M.Collins etal,J.Chem.SoC.,Perkin I,1695(197
5)、 M.Rudinstein etal,Tetrahedron Lett.,(17),1445
(1975) 、 J.W.Walker etalJ.Am.Chem.Soc.,110,7170(19
88)、 S.C.Busman etal,J.Imaging Technol.,11(4),191
(1985)、 H.M.Houlihan etal,Macormolecules,21,2001(1
988)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,53
2(1972) 、 S.Hayase etal,Macromolecules,18,1799(198
5)、 E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,Solid Sta
te Sci.Technol.,130(6)、 F.M.Houlihan etal,Macromol
cules,21,2001(1988) 、 欧州特許第0290,750号、同046,
083 号、同156,535 号、同271,851 号、同0,388,343
号、 米国特許第3,901,710 号、同4,181,531 号、特開昭
60-198538 号、特開昭53-133022 号等に記載の０−ニト
ロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、M.TUNOOKチ e
tal,Polymer Preprints Japan,35(8)、G.Berner etal,J.
Rad.Curing,13(4)、 W.J.Mijs etal,Coating Technol.,5
5(697),45(1983),Akzo、 H.Adachi etal,Polymer Prepr
ints,Japan,37(3)、 欧州特許第0199,672号、同84515
号、同199,672 号、同044,115 号、同0101,122号、米国
特許第4,618,564 号、同4,371,605 号、同4,431,774
号、特開昭64-18143号、特開平2-245756号、特願平3-14
0109号等に記載のイミノスルフォネ−ト等に代表される
光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166
544 号等に記載のジスルホン化合物、特開昭５０−３６
２０９号（米国特許第３９６９１１８号）記載のｏ−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸ハライド、特開昭
５５−６２４４４号（英国特許第２０３８８０１号）記
載あるいは特公平１−１１９３５号記載のｏ−ナフトキ
ノンジアジド化合物を挙げることができる。

【００５８】その他の酸発生剤としては、シクロヘキシ
ルシトレート、ｐ−アセトアミノベンゼンスルホン酸シ
クロヘキシルエステル、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸
シクロヘキシルエステル等のスルホン酸アルキルエステ
ル、本発明者らが先に出願した特願平９−２６８７８号
に記載の下記構造式で表されるアルキルスルホン酸エス
テル等を用いることができる。

【００５９】

【化１８】

【００６０】また、本発明の酸分解性末端基と、該末端
基に隣接して該末端基が分解することにより分解してス
ルホン酸を発生させる基と、を側鎖に有する高分子化合
物自体が、熱酸発生剤としての機能を有するため、特に
他の酸発生剤を併用しなくても画像を形成することがで
きる。

【００６１】上記光、熱または放射線の照射により分解
して酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられる
ものについて以下に説明する。 （１）トリハロメチル基が置換した下記一般式（ＰＡＧ
１）で表されるオキサゾール誘導体または一般式（ＰＡ
Ｇ２）で表されるＳ−トリアジン誘導体。

【００６２】

【化１９】

【００６３】式中、Ｒ¹ は置換もしくは未置換のアリー
ル基、アルケニル基、Ｒ² は置換もしくは未置換のアリ
ール基、アルケニル基、アルキル基、−ＣＹ₃ をしめ
す。Ｙは塩素原子または臭素原子を示す。具体的には以
下の化合物を挙げることができるがこれらに限定される
ものではない。

【００６４】

【化２０】

【００６５】

【化２１】

【００６６】（２）下記の一般式（ＰＡＧ３）で表され
るヨードニウム塩、または一般式（ＰＡＧ４）で表され
るスルホニウム塩、もしくはジアソニウム塩。

【００６７】

【化２２】

【００６８】ここで式Ａｒ¹ 、Ａｒ² は各々独立に置換
もしくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基と
しては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカ
プト基およびハロゲン原子が挙げられる。

【００６９】Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は各々独立に、置換もし
くは未置換のアルキル基、アリール基を示す。好ましく
は炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜８のアルキ
ル基およびそれらの置換誘導体である。好ましい置換基
としては、アリール基に対しては炭素数１〜８のアルコ
キシ基、炭素数１〜８のアルキル基、ニトロ基、カルボ
キシル基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子であり、ア
ルキル基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基である。

【００７０】Ｚ^- は対アニオンを示し、例えば BF₄ ^- 、
AsF₆ ^- 、PF₆ ^- 、SbF₆ ^- 、Si₂F₂ ^-、ClO₄ ^- 、CF₃SO₃ ^-
等のパーフルオロアルカンスルホン酸アニオン；ペンタ
フルオロベンゼンスルホン酸アニオン、ナフタレン−１
−スルホン酸アニオン等の結合多核芳香族スルホン酸ア
ニオン；アントラキノンスルホン酸アニオン；スルホン
酸基含有染料等を挙げることができるがこれらに限定さ
れるものではない。

【００７１】またＲ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ のうちの２つおよび
Ａｒ¹ 、Ａｒ² はそれぞれの単結合または置換基を介し
て結合してもよい。

【００７２】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。

【００７３】

【化２３】

【００７４】

【化２４】

【００７５】一般式（ＰＡＧ３）、（ＰＡＧ４）で示さ
れる上記オニウム塩は公知であり、たとえばJ. W. Knap
czyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969) 、A.
L. Maycok etal, J. Org. Chem., 35, 2532, (1970)、
B. Goethas etal, Bull. Soc.Chem. Belg., 73, 546,
(1964) 、H. M. Leicester, J. Ame. Chem. Soc., 51,3
587(1929) 、J. V. Crivello etal, J. Polym. Chem. E
d., 18, 2677(1980)、米国特許第２，８０７，６４８号
および同４，２４７，４７３号、特開昭５３−１０１，
３３１号等に記載の方法により合成することができる。

【００７６】（３）下記一般式（ＰＡＧ５）で表される
ジスルホン誘導体または一般式（ＰＡＧ６）で表される
イミノスルホネート誘導体。

【００７７】

【化２５】

【００７８】式中Ａｒ³ 、Ａｒ⁴ は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。Ｒ ⁶ は置換もしくは未
置換のアルキル基、アリール基を示す。Ａは置換もしく
は未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン
基を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。

【００７９】

【化２６】

【００８０】

【化２７】

【００８１】これらの酸発生剤の含有量は、感光／感熱
性組成物の全固形分に対して通常０．１〜３０重量％で
あり、より好ましくは１〜１５重量％である。０．１重
量％より少ないと感度が低く３０重量％より多いと画像
強度が落ちる。

【００８２】［赤外線吸収剤］本発明においては、上記
の化合物に加えて赤外線吸収剤を併用することが好まし
い。ここで、好適に使用される赤外線吸収剤は、波長７
６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収する染
料または顔料であり、好ましくは、波長７６０ｎｍから
１２００ｎｍに吸収極大を有する染料または顔料であ
る。染料としては、市販の染料および文献（例えば「染
料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載
されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ
染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アント
ラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染
料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、金
属チオレート錯体などの染料が挙げられる。好ましい染
料としては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭
５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特
開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染
料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１
６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されて
いるメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭
５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特
開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、
特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキ
ノン染料、 特開昭５８−１１２７９２号等に記載され
ているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号
記載のシアニン染料等を挙げることができる。

【００８３】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。

【００８４】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。使用しうる顔
料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素
が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレー
キ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペ
リノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キ
ノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニ
トロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔
料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料の
うち好ましいものはカーボンブラックである。

【００８５】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。

【００８６】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。分散方法の詳細は、「最新
顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載が
ある。

【００８７】これらの染料もしくは顔料の添加量は、感
光／感熱性組成物全固形分に対し０．０１〜５０重量
％、好ましくは０．１〜１０重量％であり、特に染料を
用いる場合の添加量は、好ましくは０．５〜１０重量
％、顔料の場合、特に好ましくは３．１〜１０重量％の
範囲である。赤外線吸収剤の添加量が０．０１重量％未
満であると感度が低くなり、また５０重量％を越えると
印刷時非画像部に汚れが発生するおそれがでてくる。

【００８８】［その他の成分］本発明では、スルホン酸
発生型高分子化合物のほかに上述の成分が必要に応じて
感光／感熱層に添加されるが、さらに目的に応じて種々
の化合物を添加しても良い。例えば、可視域にまで感度
を持たない酸発生剤を用いる場合、可視光域の光に対し
て酸発生剤を活性にするために種々の酸発生剤の増感色
素が用いられる。このような増感色素の例としては、US
5238782 記載のピラン系色素、US4997745 号記載のシア
ニン色素、およびスクアリュウム系色素、US5262276 記
載のメロシアニン系色素、特公平8-20732 号記載のピリ
リュウム色素、その他、ミヒラーズケトン、チオキサン
トン、ケトクマリン色素、9-フェニルアクリジンなどを
有効なものとして用いることができる。またそのほかに
もUS4987230 記載のビスベンジリデンケトン色素、9,10
- ジフェニルアントラセンのような多環芳香族化合物な
どを用いることができる。そのほかの成分としては、例
えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤
として使用することができる。具体的にはオイルイエロ
ー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オ
イルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラ
ックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント
化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレ
ット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン
（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）など、あるいは特開昭６２−２９３２４７号公報、
特願平７−３３５１４５に記載されている染料を挙げる
ことができる。尚、添加量は、感光／感熱性組成物全固
形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合である。

【００８９】また、本発明における感光／感熱性組成物
中には、印刷条件に対する安定性を広げるため、特開昭
６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号
公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開
昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号
公報に記載されているような両性界面活性剤を添加する
ことができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、
ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテ
ート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリ
セリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等
が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、アル
キルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノ
エチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシ
エチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ンやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の感
光／感熱性組成物中に占める割合は、０．０５〜１５重
量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％であ
る。

【００９０】更に本発明の平板印刷版原版を構成する感
光／感熱性組成物中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を
付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチ
レングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよび
ポリマー等が用いられる。

【００９１】このような感光／感熱性組成物を用いて、
本発明の平板印刷用原版を作製するには、上記各成分を
溶媒に溶かしたものを、適当な支持体上に塗布すればよ
い。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、
２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチロラクトン、トルエン、水等をあげることができる
がこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独
あるいは混合して使用される。塗布液を調製する場合、
溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、
好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、乾燥後に
得られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途によって
異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的に０．
５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。塗布する方法として
は、公知の種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カー
テン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等を挙げることができる。

【００９２】本発明における感光／感熱性組成物中に
は、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭
６２−１７０９５０号公報に記載されているようなフッ
素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加
量は、全感光／感熱性組成物固形分中０．０１〜１重量
％、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量％である。

【００９３】感光／感熱性組成物を塗布して本発明の平
版印刷版原版を作製するために使用される支持体は、寸
法安定性の良好な板状物であり、これまで印刷版の支持
体として使用された公知のものはいずれも好適に使用す
ることができる。かかる支持体としては、紙、プラスチ
ックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど）がラミネートされた紙、例えばアルミニウ
ム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅などのよ
うな金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸
酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックスのフイルム、上記のような金属がラ
ミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフ
ィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好まし
い。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニ
ウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々
のものが使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなど
の金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの合
金組成物には、いくらかの鉄およびチタンに加えてその
他無視し得る程度の量の不純物を含むことが容認され
る。

【００９４】支持体は、必要に応じて表面処理される。
例えば感光／感熱性平版印刷版原版を作製する場合に
は、支持体の表面に、感光／感熱層を塗布するに先立っ
て親水化処理が施される。また金属、特にアルミニウム
の表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸
ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶
液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理
がなされていることが好ましい。また、米国特許第２，
７１４，０６６号明細書に記載されているように、砂目
立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアル
ミニウム板、米国特許第３，１８１，４６１号明細書に
記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理を
行った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理した
ものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例え
ば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは
蓚酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水
溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電
解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことに
より実施される。

【００９５】また、表面処理としては、米国特許第３，
６５８，６６２号明細書に記載されているようなシリケ
ート電着も有効である。これらの親水化処理は、支持体
の表面を親水性とするために施される以外に、その上に
設けられる感光／感熱性組成物との有害な反応を防ぐ為
や、感光層との密着性を向上させるために施されるもの
である。アルミニウム板を砂目立てにより粗面化するに
先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去するため、
あるいは清浄なアルミニウム面を表出させるためにその
表面に前処理を施しても良い。通常、圧延油等の除去に
は、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられてい
る。また、清浄な面の表出のためには水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリエッチング剤を用いる
方法が広く行われている。

【００９６】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法のうち、特に特
開昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
が、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線表面粗さ（Ｈａ）が０．３〜１．０μｍ
となるような範囲で施されることが好ましい。このよう
にして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水
洗および化学的にエッチングされる。

【００９７】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、ク
ロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面
に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これらの
エッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用
するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間１
分あたり０．３ｇ／m²から４０ｇ／m²になる様に行なわ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。

【００９８】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５
〜１０ｇ／m²の範囲となるように処理されることが好ま
しい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度
が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望
ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デス
マット処理される。デスマット処理に使用される酸は、
硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水
素酸等が用いられる。

【００９９】エッチング処理されたアルミニウム板は、
必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この
分野で従来より行なわれている方法で行なうことができ
る。具体的には、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スル
ファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二
種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニ
ウムに直流または交流の電流を流すと、アルミニウム支
持体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。

【０１００】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが、一
般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０アンペア/dm²、電圧１〜１０
０Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４
１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で陽極酸化する方法および米国特許第３，５１１，
６６１号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽
極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化され、
さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて
親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特
許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１
号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例
えば珪酸ナトリウム水溶液または特公昭３６−２２０６
３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム
および米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法が
ある。

【０１０１】次に、有機下塗層について述べる。感光／
感熱性組成物を用いて本発明の平版印刷版原版を作製す
るには、感光／感熱性組成物を主材とする感光／感熱層
を塗設する前に有機下塗層を設けることが非画像部（光
／熱未照射部）における感光／感熱層残りを減らす上で
好ましい。かかる有機下塗層に用いられる有機化合物と
しては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキスト
リン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸など
のアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよ
いフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキル
ホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン
酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、
置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン
酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナ
フチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリ
セロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンや
β−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノール
アミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの
塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いても
よい。その他ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などの構造単
位を有する高分子化合物を用いることができる。

【０１０２】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機
化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾
燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度
の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などい
ずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶
液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５
〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましく
は２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、
好ましくは２秒〜１分である。

【０１０３】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１
〜１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加する
こともできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２
００mg／m²が適当であり、好ましくは５〜１００mg／m²
である。上記の被覆量が２mg／m²より少ないと十分な耐
刷性能が得られない。また、２００mg／m²より大きくて
も同様である。

【０１０４】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平
５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物および特
開平６−３５１７４号公報記載の有機または無機金属化
合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物
からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層
のうち、Ｓi(ＯＣＨ₃)₄ 、Ｓi(ＯＣ₂ Ｈ₅)₄ 、Ｓi(ＯＣ
₃ Ｈ₇) ₄ 、Ｓi(ＯＣ₄ Ｈ₉)₄ などのケイ素のアルコキシ
化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化
物の被覆層が親水性に優れており特に好ましい。

【０１０５】以上のようにして、感光／感熱性組成物を
用いて平版印刷版原版を作成することができる。本発明
の平版印刷版原版は、波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの
赤外線を放射する固体レーザーおよび半導体レーザーに
より画像露光しうる。本発明の平版印刷版原版は、レー
ザー照射後に水現像し、さらに必要であればガム引きを
行ったのち、印刷機に版を装着し印刷を行うこともで
き、さらに、レーザー照射後ただちに（現像工程を経ず
に）印刷機に版を装着し印刷を行うこともできるが、い
ずれの場合もレーザー照射後に加熱処理を行うことが記
録時の感度向上の観点から好ましい。加熱処理の条件
は、８０℃〜１５０℃の範囲内で１０秒〜５分間行うこ
とが好ましい。即ち、この加熱処理を施すことにより、
レーザー照射時、記録に必要なレーザーエネルギーを減
少させることができる。

【０１０６】この様な処理によって得られた本発明の平
版印刷版原版は水現像されるかあるいは現像工程を経ず
にそのままオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印
刷に用いられる。

【０１０７】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 ［スルホン酸発生型高分子化合物の合成］ （モノマー（１）の合成）２−メチル−２−ヒドロキシ
メチル−ｔ−ブチルアセトアセテート84.9ｇ、アセトニ
トリル 300ｍｌおよびピリジン130 ｇを1000ｍｌの三口
フラスコに取り、氷冷下撹拌しながらスチレンスルホニ
ルクロライド71ｇを滴下した．滴下後５時間同温度で撹
拌を続けた後、反応液を濃塩酸 135ｍｌと氷水1000ｇの
中に投入した。液を酢酸エチルを用いて抽出をした。水
洗後、酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムにて乾燥を行
った後溶媒を減圧留去した。得られた残査をシリカゲル
のカラムを用いて精製し、先に具体例で挙げた式（１）
の構造を有するモノマー［モノマー（１）］を得た。得
られたモノマー（１）の元素分析は、理論値：C:89.66
%, H:6.85% 、実測値：C:89.43%, H: 6.91 % であっ
た。モノマー（１）のＩＲスペクトルのピークデータ及
びＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中）データを下記に示す。

【０１０８】 IRスヘ゜クトル : 1710cm^-1, 1370cm^-1, 1190cm^-1, 1165cm^-1, NMR テ゛ーター(CDCl₃中):7.84ppm,2H,m 7.56ppm,2H,m 6.76ppm,1H,dd, J=11.0,17.6Hz 5.91ppm,1H,d, J=17.6Hz 5.47ppm,1H,d J=11.0Hz 4.35ppm,1H,d J=9.6Hz 4.25ppm,1H,d J=9.6Hz 2.14ppm,3H,S 1.41ppm,9H,S 1.39ppm,3H,S

【０１０９】（ポリマー（１）の合成）200 ｍｌの３口
フラスコに上記モノマー（１）を20ｇおよびメチルエチ
ルケトンを40ｇ入れ65℃、窒素気流下、アゾビスジメチ
ルバレロニトリル0.25ｇを加えた。５時間撹拌しながら
同温度に保った後、減圧下溶媒を留去し、固体を得た。
ＧＰＣにより1.08万の重量平均分子量を有するポリマー
であり、出発物質より前記（１）で示される構造のポリ
マー［ポリマー（１）］であることが分かった。

【０１１０】（ポリマー（２）〜（８）の合成）前記ポ
リマー（１）の合成において使用したモノマー（１）に
変えて、先に構造を示した下記のモノマーを用いた他は
ポリマー（１）の合成と同様にしてポリマー（２）〜
（８）を合成した。得られたポリマー（２）〜（８）の
ＧＰＣにより測定した重量平均分子量を併記する。

【０１１１】 ［合成例］ ［出発物質］ ［分子量］ ポリマー（２） ：モノマー（２） ２０ｇ １．２万 ポリマー（３） ：モノマー（３） ２０ｇ １．４万 ポリマー（１０）：モノマー（１０）２０ｇ ２．１万 ポリマー（５） ：モノマー（１）１７．１ｇ＋ メタクリロイルフ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン ２．９ｇ ３．５万 ポリマー（６） ：モノマー（６） ２０ｇ １．０万 ポリマー（７） ：モノマー（７） ２０ｇ ２．８万 ポリマー（８） ：モノマー（８） ２０ｇ １．５万

【０１１２】（実施例１〜８）厚さ０．３０ｍｍのアル
ミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく
水で洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更
に２％ＨＮＯ₃に２０秒間浸漬して水洗した。この時の
砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ² であった。
次にこの板を７％Ｈ₂ ＳＯ₄ を電解液として電流密度１
５Ａ／ｄｍ² で２. ４ｇ／ｍ² の直流陽極酸化被膜を設
けた後、水洗乾燥した。

【０１１３】次に、下記溶液〔Ａ〕において、本発明の
高分子化合物の種類を変えて、８種類の溶液〔Ａ−１〕
〜〔Ａ−８〕を調整した。ポリマーとしてはそれぞれポ
リマーの具体例で挙げたポリマー（１）〜（８）を用い
た。つぎにこの溶液を上記の処理済みのアルミニウム板
に塗布し、８０℃で３分間乾燥して平版印刷用版材〔Ａ
−１〕〜〔Ａ−８〕を得た。乾燥後の塗布量は１．２ｇ
／ｍ² であった。

【０１１４】 溶液〔Ａ〕 本発明に係るスルホン酸発生型高分子化合物 １．６ｇ （ポリマー具体例の化合物(1) 〜(8) ） 赤外線吸収剤（ＩＲ−１２５、和光純薬（株）製） ０．１５ｇ 酸発生剤 ０. １５ｇ （ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩） ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを１− ナフタレン−スルホン酸にした染料 ０．０５ｇ フッ素系界面活性剤 ０．０６ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） メチルエチルケトン ２０ｇ γーブチロラクトン １０ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ８ｇ 水 ２ｇ

【０１１５】得られた平版印刷用版材〔Ａ−１〕〜〔Ａ
−８〕を、波長１０６４ｎｍの赤外線を発するＹＡＧレ
ーザで露光した。露光後、平版印刷用版材〔Ａ−１〕〜
〔Ａ−８〕を４分割し各印刷版を（Ａ）水現像しハイデ
ルＳＯＲ- Ｍで印刷（Ｂ）１００度で３分加熱処理した
後水現像しハイデルＳＯＲ- Ｍで印刷（Ｃ）そのままハ
イデルＳＯＲ- Ｍで印刷（Ｄ）１００度で３分加熱処理
した後、ハイデルＳＯＲ- Ｍで印刷した。この際、印刷
物の非画像部に汚れが発生しているかどうかを観察し
た。結果を表１に示す。本発明の平版印刷用原版はいず
れも、水現像を行っても、現像工程を経なくても、ま
た、加熱処理を施しても施さなくても非画像部に汚れの
ない良好な印刷物が得られることがわかった。

【０１１６】

【表１】

【０１１７】実施例９〜１２ 下記溶液〔Ｂ〕において、本発明によるポリマーの種類
を変えて、４種類の溶液〔Ｂ−１〕〜〔Ｂ−４〕を調整
した。この溶液をそれぞれ、実施例１〜９で用いた下塗
り済みのアルミニウム板に塗布し、８０℃で３分間乾燥
して平版印刷用版材〔Ｂ−１〕〜〔Ｂ−４〕を得た。乾
燥後の塗布量は１．７ｇ／ｍ² であった。

【０１１８】 溶液〔Ｂ〕 本発明に係るスルホン酸発生型高分子化合物 １．６ｇ （ポリマー具体例の化合物(1) 、(3) 、(5) 、(7) ） 酸発生剤 ０．１ｇ 4-((4-（N,N-ジ( エトキシカルボニルメチル) アミノ） フェニル）-2,6- ビス- トリクロロメチル-S- トリアジン フッ素系界面活性剤 ０．０６ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） メチルエチルケトン ２０ｇ １ーメトキシー２ープロパノール １５ｇ

【０１１９】得られた平版印刷用版材〔Ｂ−１〕〜〔Ｂ
ー４〕を、メタルハライドランプを光源とするＰＳ版の
露光機をもちいて露光した。露光した版材を１００度で
３分加熱処理した後、ハイデルＳＯＲ- Ｍで印刷した。
この際、印刷物の非画像部に汚れが発生しているかどう
かを観察した。

【表２】 表２に明らかなように、いずれも非画像部に汚れのない
良好な印刷物が得られた。つぎに版材の保存安定性を調
べるために平版印刷用版材〔Ｂ−１〕〜〔Ｂー４〕を、
60℃の恒温室で７日間保存した後、上記と同様に、メタ
ルハライドランプを光源とするＰＳ版の露光機をもちい
て露光し、現像機を通すことなく１００度で３分加熱処
理した後、ハイデルＳＯＲ- Ｍで印刷した。結果を上記
表２に併記した。この結果より明らかなように、本発明
の印刷用原版は、高温での保存後も特性の低下はみられ
ず、いずれも非画像部に汚れのない良好な印刷物が得ら
れることがわかった。

【０１２０】（実施例１３）下記溶液〔Ｃ〕を調整し実
施例１〜９と同様にして平版印刷用版材〔Ｃ−１〕を作
成した。

【０１２１】 溶液〔Ｃ〕 本発明に係るスルホン酸発生型高分子化合物 １．６ｇ （ポリマー具体例の化合物(1) ） 赤外線吸収剤（ＩＲ−１２５、和光純薬（株）製） ０．１５ｇ メチルエチルケトン ２０ｇ

【０１２２】得られた平版印刷用版材〔Ｃ−１〕を、実
施例１と同じ波長１０６４ｎｍの赤外線を発するＹＡＧ
レーザを用いて、実施例１で実施した時の１／４のスキ
ャンスピードで露光し、現像処理することなくそのまま
ハイデルＳＯＲ- Ｍで印刷を行った。非画像部に汚れの
ない良好な印刷物が得られることがわかった。

【発明の効果】本発明は、可視光露光もしくは赤外線な
どの各種のレーザにより直接製版可能であり、また水現
像可能な、あるいは画像露光後湿式現像処理やこすり等
の特別な処理を必要としない、熱安定性に優れた平版印
刷版用原版を提供することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エステル基、ケタール基、チオケタール
   基、アセタール基及び第三級アルコール基から選択され
   る、酸により分解する末端基と、該末端基に隣接して該
   末端基が分解することにより分解してスルホン酸を発生
   させる基と、を側鎖に有する高分子化合物と、光若しく
   は熱により酸を発生する化合物とを含む感光／感熱層を
   支持体上に設けたことを特徴とする平版印刷版原版。