JPH10283628A

JPH10283628A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH10283628A
Application number: JP9091193A
Authority: JP
Inventors: Tadahiro Matsunaga; 直裕松永; Hiroshi Ogawa; 博小川
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1997-04-09
Filing date: 1997-04-09
Publication date: 1998-10-23

Abstract

(57)【要約】【課題】確実な磁気入出力性能と透明性を兼ね備えた
磁気記録層を有する透明磁気記録媒体を提供することに
ある。【解決手段】本発明は、支持体上に少なくとも１層の
磁性体粒子を含む磁気記録層を有する磁気記録媒体にお
いて、該磁気記録層側の少なくとも１層が無機粒子又は
／及び有機樹脂粒子を含有し、磁気記録層の表面粗さが
Ｒｑで５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、且つ前記磁気記
録層の１００μｍ² あたりの磁性粒子以外の粒子からな
る表面突起数が３０個以上であり、且つヘイズ度が９％
未満である透明磁気記録媒体である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気入出力エラー
のない透明磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】オーディオテープ、ビデオテープ、フロ
ッピーディスクのような磁気記録媒体の磁気記録層は、
磁性体含有量（塗布量) が多いため、高い磁気出力が得
られるが光透過性がないので磁気カードの印刷面上や、
写真フイルム上に磁気記録層を設けることはできない。
米国特許第５，４９１，０５１号明細書にはくり返し使
用しうる磁気特性及び写真特性のすぐれた写真要素が記
載されている。しかし、この写真要素は各種の情報、例
えば撮影の日時、天候、照明条件、縮小／拡大比等の撮
影時の条件、再プリント枚数、ズームしたい箇所、メッ
セージ等を組み込んで、くり返し使用したとき、現像、
プリント時の条件等の磁気記録情報の入出力が必ずしも
確実ではないという難点があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】実際、磁性体粒子の一
次粒径、使用量等従来にあわせて研磨剤を用いても、汚
れの磁気ヘッドへの転写防止・除去効果は充分ではな
く、また単に研磨剤使用量を増やしたり、研磨剤粒径を
大きくしたりすると、媒体そのものの透明性が極めて低
下する問題やスペースロスによる磁気出力低下といった
問題にぶつかり、実質的に透明でかつ、確実に磁気入出
力ができる磁気記録媒体の開発、そのための媒体の最適
な表面形状の設計が課題となっている。従って、本発明
の目的は、くり返し使用しても各種磁気情報を確実に磁
気入出力できる磁気エラーのない耐久性のある透明磁気
記録媒体を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に少
なくとも１層の磁性体粒子を含む磁気記録層を有する磁
気記録媒体において、該磁気記録層側の少なくとも１層
が無機粒子又は／及び有機樹脂粒子を含有し、磁気記録
層の表面粗さがＲｑ（二乗平均粗さ）で５ｎｍ以上３０
ｎｍ以下であり、且つ前記磁気記録層の１００μｍ² あ
たりの磁性粒子以外の粒子からなる表面突起数が３０個
以上であり、且つヘイズ度が９％未満であることを特徴
とする透明磁気記録媒体を提供するものである。本発明
で透明磁気記録媒体とは後述した透明磁気記録層を有す
る記録媒体をいう。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明で用いられる無機粒子とし
ては、酸化アルミニウム（α−アルミナ、γ−アルミ
ナ、コランダム等）、酸化クロム（Ｃｒ₂ Ｏ₃ ）、酸化
鉄（α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ）、二酸化珪素、コロイダルシリ
カ、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の酸化物、シリ
コンカーバイト（ＳｉＣ）、炭化珪素、炭化チタン等の
炭化物、ダイヤモンド等の微粉末、炭酸カルシウム、水
酸化アルミニウム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウム
バリウム、マンガンコロイド等があげられる。有機高分
子粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン、セルロ
ースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリプロピルメタクリレート、ポリメチルアクリ
レート、ポリエチレンカーボネートなどの樹脂粒子やで
んぷん等があり、またそれらの粉砕分級物もあげられ
る。

【０００６】また、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸エステ
ル、マレイン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、スチ
レン誘導体、ビニルエステル類、アクリルアミド類、ビ
ニルエーテル類、アリル化合物、ビニルケトン類、ビニ
ル異節環化合物、アリル化合物、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、多官能モノマー類、等の単量体の１
種または２種以上の重合体である高分子化合物を種々の
手段例えば懸濁重合法、スプレードライ法、あるいは分
散法等によって粒子としたものであっても良い。他に、
シロキサン樹脂やベンゾグアナミン樹脂等がある。

【０００７】これら粒子をバック層内に含有させること
によりできる、本発明の好ましい表面形態について以下
に述べる。バック層の表面粗さはＲｑで５ｎｍ以上３０
ｎｍ以下であり、好ましくは１０ｎｍ以上２５ｎｍ以下
である。前記表面粗さを満足した上で表面突起数は、瞬
時に磁気ヘッドの汚れを除去し、且つ媒体側に付着する
汚れを突起間にトラップし磁気ヘッドに転写させない為
に、１００μｍ² あたり３０個以上必要である。

【０００８】上記表面形状が達成されるためには、粒子
は透明磁気記録層又は／及び透明磁気記録層に隣接する
層に含有されることが好ましい。粒子は単独素材でも充
分効果が見られるが、粒子が少なくとも２種類以上（同
一素材種で粒径が異なる場合も含む）含有され、その中
の少なくとも一つの粒子の平均一次粒子径が０．２〜
０．４μｍで、少なくとも一つの粒子の平均一次粒子径
が０．０１〜０．１５μｍであることが好ましい。更に
好ましくは少なくとも一つの粒子の平均一次粒子径が
０．２〜０．３μｍで、少なくとも一つの粒子の平均一
次粒子径が０．０１〜０．１０μｍであることが好まし
い。また、前者粒子の硬度がモース硬度７以上、後者粒
子のモース硬度が７以下であることが更に好ましい。モ
ース硬度７以上の粒子としては、例えば、二酸化珪素、
酸化ジルコニウム、酸化クロム、酸化アルミニウム、ダ
イヤモンド、炭化珪素、炭化チタン、タングステンカー
ボン、窒化チタン、等がある。詳しくは例えば、「Ｈａ
ｎｄｂｏｏｋｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙ＆Ｐｈｙ
ｓ．６２ｅｄｉｔｉｏｎ」に記載されている。上記の中
でも、モース硬度９のα−アルミナが含有されているこ
とが磁気ヘッドを十分に研磨できる点では好ましい。更
には、前者粒子がα−アルミナで、後者粒子がモース硬
度７以下の金属酸化物であることが好ましい。

【０００９】大粒子は磁気ヘッドに接触したとき、ヘッ
ド研磨能を持たせ汚れをクリーニングする機能があり、
小粒子は大きい粒子間に存在し、微細汚れを媒体上にト
ラップし、これを磁気ヘッドに転写させない作用があ
る。特に現像処理を伴う、ハロゲン化銀乳剤層を有する
透明磁気記録媒体の場合、現像処理液の渇き物（汚れ）
を小粒子の突起間に微細分散化し（トラップし）、大粒
子が汚れと磁気ヘッドの接触を防ぐという機能が明確に
発揮される。これらの粒子の使用量は大粒子と小粒子の
合計はこれを含有する層の１ｗｔ．％以上２０ｗｔ．％
以下であることが望ましい。大粒子と小粒子の比は重量
比で大粒子：小粒子が、通常１：０．１〜１：１００、
好ましくは１：０．２〜１：３０、さらに好ましくは
１：０．３〜１：１０である。

【００１０】前記粒子を使用することにより、使用して
いない場合と比べ、透明性は若干低下するが、本発明の
磁気記録媒体を写真フイルム上に設けることを想定する
と、すべてのバック層のヘイズ度は９％以下にすること
が写真性能上必要で、さらには７％以下にすることが好
ましい。使用する粒子の平均一次粒子径は０．０１μｍ
以上０．４μｍ以下であるものが容易に入手でき、また
粒度も揃っていて、本発明の微細な表面形態を得るため
に好ましい。その際、塗設した層内に存在する粒子（２
次粒子を含む）の９５％以上が０．７μｍ以下であるこ
とが好ましい。極めて均一に磁気ヘッドに接触できる
上、カレンダリング（鏡面加工）の様な後工程が不要と
なる。このような粒子は、それぞれ単独で／または複数
で分散スラリー化され、組み込む層の塗布液に添加・混
合されることが、塗布液の安定性等の許容度が広がり好
ましい。

【００１１】透明磁気記録層とは実質的に写真画質に影
響を与えない程度の透明性を有した磁気記録層を指し、
ブルーフィルター透過濃度で０〜０．２、好ましくは０
〜０．１５、より好ましくは０〜０．１０のものであ
る。

【００１２】本発明で用いられる透明磁気記録層に含有
される磁性粒子は、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃などの強磁性酸化鉄
（ＦｅＯｘ、 4/3＜ｘ≦ 3/2) 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ
₃ などのＣｏ被着強磁性酸化鉄（ＦｅＯｘ、 4/3＜ｘ≦
3/2) 、Ｃｏ被着マグネタイト、その他Ｃｏ含有の強磁
性酸化鉄、Ｃｏ含有マグネタイト、強磁性二酸化クロ
ム、強磁性金属、強磁性合金、さらにその他のフェライ
ト、例えば六方晶系のＢａフェライト、Ｓｒフェライ
ト、Ｐｂフェライト、Ｃａフェライトあるいはこれらの
固溶体またはイオン置換体などを使用できる。

【００１３】強磁性体の形状としては針状、米粒状、球
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換特性上好ましい。粒子の比表面積はＳBET で２０ｍ²
／ｇ以上が好ましく、３０ｍ² ／ｇ以上が特に好まし
い。粒子サイズは、針状の場合は長軸が０．０１〜０．
８μｍ、短軸は０．００５〜０．４μｍで長軸と短軸の
比は１００：１〜２：１が好ましく、更に長軸は０．０
４〜０．４μｍ、短軸は０．０１〜０．１μｍがより好
ましく長軸と短軸の比は１００：１〜３：１がより好ま
しい。磁性体の粒子サイズ分布はできるだけシャープな
方が好ましい。

【００１４】強磁性体の飽和磁化（σs ）は５０emu/ｇ
以上、さらに好ましくは７０emu/ｇ以上である。また、
強磁性体の角型比（σr ／σs ）は４０％以上、さらに
は４５％以上が好ましい。保磁力（Ｈｃ）は２００ Oe
以上３０００ Oe 以下、好ましくは５００ Oe 以上２０
００ Oe 以下である。

【００１５】これらの強磁性体粒子を、例えば特開昭５
９−２３５０５や特開平４−０９６０５２記載のものな
どのような、シリカおよび／またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平４−１９５７２６、同４−１
９２１１６、同４−２５９９１１、同５−０８１６５２
記載のような無機および／または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。カップリング剤としては例え
ば、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３
−イソシアニルプロピルメチルジメトキシシラン、３
−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピ
ルトリメトキシシラン、３−メトキシ（ポリ（重合度
６）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシ
ラン、デシルトリメトキシシランなどが用いられる。こ
れらのシランカップリング剤及びチタンカップリング剤
の磁気粒子に対する添加量は１．０〜２００重量％であ
る。好ましくは１〜７５重量％であり、より好ましくは
２〜５０重量％である。又、これらのシランカップリン
グ剤及びチタンカップリング剤は磁気粒子への直接処理
方法やインテグラルブレンド法によって処理され、直接
法には乾式法、スラリー法、スプレー法がある。乾式法
では例えば、磁気粒子と少量の水、または有機溶剤、ま
たは水を含有する有機溶剤およびカップリング剤を混合
しオープンニーダーで攪拌して水、有機溶剤を除去した
後、更に微細分散するのが好ましい。

【００１６】上記磁性体を後述するバインダ−中に分散
する方法は、ニーダー、ピン型ミル、アニュラー型ミル
などが好ましく、ニーダーとピン型ミル、もしくはニー
ダーとアニュラー型ミルの併用も好ましい。ニーダーと
しては、開放型（オープン）、密閉型、連続型などがあ
り、その他３本ロールミル、ラボプラストミル等の混練
機も用いられる。

【００１７】磁気記録層の厚みは３μｍ以下、好ましく
は２μ以下、より好ましくは１．５μｍ以下である。磁
気粒子とバインダーの重量比は好ましくは０．５：１０
０〜６０：１００からなり、より好ましくは１：１００
〜３０：１００である。磁性体としての塗布量は０．０
０５〜０．３g/m²、好ましくは０．０１〜０．１５g/
m²、さらに好ましくは０．０２〜０．１g/m²である。磁
気記録層を付与したフイルムとしての保磁力は５００ O
e 以上３０００ Oe以下、好ましくは８００ Oe 以上１
５００ Oe 以下である。

【００１８】磁気記録層は写真用支持体の全面またはス
トライプ状に設けることができる。支持体上に塗布され
た磁気記録層は必要により層中の磁性材料を直ちに乾燥
しながら配向させる処理を施したのち、形成した磁気記
録層を乾燥する。磁性体を配向させるには永久磁石やソ
レノイドコイルを用いる方法がある。永久磁石の強度は
２０００ Oe 以上が好ましく、３０００ Oe 以上が特に
好ましい。ソレノイドの場合は５００ Oe 以上でもよ
い。また、乾燥時の配向のタイミングは磁気記録層内の
残留溶剤が５％〜７０％の地点が望ましい。

【００１９】磁気記録層には潤滑性向上、カール調節、
帯電防止、接着防止、ヘッド研磨、ゴミ付着防止などの
機能を合せ持たせてもよい。

【００２０】本発明に用いられる磁気記録層等のバイン
ダーは熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、
アルカリもしくは生分解性ポリマー、天然物重合体（セ
ルロース誘導体、糖誘導体など）およびこれらの混合物
を使用することができる。好ましい上記樹脂のＴｇは−
４０℃〜３００℃、重量平均分子量は０．２万〜１００
万、より好ましくは０．５万〜３０万である。

【００２１】上記熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、酢酸ビニルとビニル
アルコール、マレイン酸および／またはアクリル酸との
共重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル・アクリロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体などのビニル系共重合体、ニトロセルロー
ス、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセ
チルジブチルアセテート、トリプロピオニルアセテー
ト、ジドデシルアセテートなどのセルロース誘導体、ア
クリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエ
ーテルポリウレタン、ポリカーボネート、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、アミノ樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ブタジ
エンアクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン
系樹脂、フッ素系樹脂を挙げることができる。

【００２２】熱硬化性樹脂または反応型樹脂はたとえ
ば、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、
硬化型ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量
グリコール／高分子量ジオール／ポリイソシアネートの
混合物、ポリアミン樹脂、およびこれらの混合物が挙げ
られる。

【００２３】また、磁気記録層を構成するバインダーの
中で置換度１．７〜２．９のセルロースエステルが、好
ましく用いられる。特に好ましいのはセルロースジアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、セルロース
アセテートプロピオネートである。

【００２４】以上列挙のバインダー中に、極性基（エポ
キシ基、ＣＯ₂ Ｍ、ＯＨ、ＮＲ₂ 、ＮＲ₃ Ｘ、ＳＯ₃
Ｍ、ＯＳＯ₃ Ｍ、ＰＯ₃ Ｍ₂ 、ＯＰＯ₃ Ｍ₂ 、ただしＭ
は水素、アルカリ金属またはアンモニウムであり、一つ
の基の中に複数のＭがあるときは互いに異なっていても
よい、Ｒは水素またはアルキル基である）を導入してあ
ってもよい。

【００２５】上記バインダーは単独または数種混合で使
用され、エポキシ系、アジリジン系、イソシアネート系
の架橋剤を添加してあっても良い。架橋剤を使用するこ
とにより、層間の接着を強化できる。イソシアネート系
架橋剤としてはイソシアネート基を２個以上有するポリ
イソシアネート化合物で、たとえばトリレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレン
ジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネ
ート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート
などのイソシアネート類、これらのイソシアネート類と
ポリアルコールとの反応生成物（例えば、トルレンジイ
ソシアナート３ｍｏｌとトリメチロールプロパン１ｍｏ
ｌの反応生成物）、及びこれらのイソシアネート類の縮
合により生成したポリイソシアネートなどが挙げられ
る。上記架橋剤の中で特に好ましいのは下記の一般式
（１）であらわされるイソシアネート系架橋剤である。一般式（１）：

【００２６】

【化１】

【００２７】ｎは０〜５０の範囲が好ましいが、より好
ましくは０〜３０、さらに好ましくは０〜１０である。
ｎ数は単一である必要はなく、分布を持っていても構わ
ない。ｍは１〜２の整数である。Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ は
Ｈ、アルキル基（Ｃ₁ 以上）、あるいはアリール基（Ｃ
₆ 以上）である。この様な架橋剤の好ましい粘度は５０
（ｃＰ／２５℃）〜１０００（ｃＰ／２５℃）である。
またこのような架橋剤の好ましいＮＣＯ含有率は２０〜
４０％である。より好ましくは２５〜３５％である。こ
の様な架橋剤の市販品としては、日本ポリウレタン
（株）製の「ミリオネートＭＴ」、「ミリオネートＭＲ
−１００」、「ミリオネートＭＲ−２００」、「ミリオ
ネートＭＲ−３００」、「ミリオネートＭＲ−４０
０」、住友バイエルウレタン（株）製の「スミジュール
４４Ｖ１０」（以上、いずれも商品名）等が挙げられ
る。上記架橋剤の塗布量は、３ｍｇ／ｍ² 以上１０００
ｍｇ／ｍ² 以下で含まれることが好ましいが、より好ま
しくは５ｍｇ／ｍ² 以上５００ｍｇ／ｍ² 以下であり、
さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ² 以上３００ｍｇ／ｍ²
以下である。このような架橋剤が充分に架橋を行うため
に、５０℃以上、好ましくは７０℃以上で、１分〜７２
時間の加熱乾燥を行うことが好ましい。

【００２８】本発明で用いられる架橋剤を使用する際、
３級アミン系、金属塩系、ＤＢＵ（１，８−ジアザ−ビ
シクロ［５，４，０］ウンデセン−７）系化合物の中か
ら少なくとも１種類以上を同時に使用することで、磁気
記録層そのもの、あるいは磁気記録層とベース間／磁気
記録層間の架橋反応速度を促進させることができ、耐久
性向上のための架橋反応時間を短縮させることができ
る。３級アミン系では、例えば、Bruinsらの"Polyureth
ane Technology" P.25,Intーerscience(1960)に記載され
ているような、テトラメチルブタンジアミンや１，４−
ジアザビシクロ［２，２，２］オクタンやトリエチルア
ミンなどが挙げられる。また金属塩系では、例えば、ジ
ブチルすずジラウレート、オクトエ酸すず、ナフテン酸
コバルト、塩化第１すず、テトラ−ｎ−ブチルすず、塩
化第２すず、トリメチルすずヒドロキシド、ジメチル２
塩化すずなどが挙げられる。このような化合物は、例え
ば、磁気記録層あるいはこれに隣接する層の塗布液中に
本発明の架橋剤とともに添加した後、塗布するか、また
は／さらに上記層の下層または／さらに上層の塗布液中
に添加しておいて、耐久性改良する層への該化合物の拡
散を利用しても良い。

【００２９】本発明で使用されるフィルム支持体として
はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリアミド、ポ
リカーボネート及びポリエステル等があり、ポリエステ
ルが好ましい。これらのポリエステルの好ましい平均分
子量の範囲は約５０００ないし２０００００である。本
発明で用いられるポリエステルはそのＴｇが７０℃以上
２００℃以下であり、９０℃以上１８０℃以下が好まし
い。具体的には下記のような化合物例を示すことができ
る。

【００３０】Ｐ−１：〔テレフタル酸（ＴＰＡ）／エチレングリコール（ＥＧ））（１００／１００）〕（ＰＥＴ）Ｔｇ＝８０℃ Ｐ−２：〔２，６−ナフタレンジカルボン酸（ＮＤＣＡ）／エチレングリコール（ＥＧ）（１００／１００）〕（ＰＥＮ）Ｔｇ＝１１９℃ Ｐ−３：２，６−ＮＤＣＡ／ＴＰＡ／ＥＧ（５０／５０／１００）Ｔｇ＝９２℃ Ｐ−４：ＰＥＮ／ＰＥＴ（６０／４０）Ｔｇ＝９５℃ Ｐ−５：ＰＥＮ／ＰＥＴ（８０／２０）Ｔｇ＝１０４℃

【００３１】ポリエステルの中で好ましいのは２，６−
ナフタレンジカルボン酸を含むポリエステルであり、全
ジカルボン酸中に２，６−ナフタレンジカルボン酸を１
０モル％以上含むポリエステルである。中でも特に好ま
しいのはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキ
シレートである。又、支持体の厚みは８０〜１１５μｍ
が好ましく、特に好ましくは８５〜１０５μｍである。
更にポリエステル支持体は感光層を塗布する前に４０℃
以上ガラス転移温度以下の温度で、０．１〜１５００時
間熱処理を施すと、ロール状の感光材料としたとき、巻
きぐせをつきにくくすることができる。

【００３２】ＴＡＣ支持体では、トリフェニルフォスフ
ェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、ジメチ
ルエチルフォスフェート等の可塑剤を通常添加する。支
持体はベース色味のニュートラル化、ライトパイピング
防止、ハレーション防止などの目的のために染料を含有
してもよい。これら支持体上に写真層（例えば、感光性
ハロゲン化銀乳剤層、中間層、フィルター層、磁気記録
層、導電性層）を強固に接着させるために、薬品処理、
機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、
高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レー
ザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理などの表面活性化
処理をした後、直接写真乳剤を塗布して接着力を得ても
良いし、一旦これらの表面処理をした後、あるいは表面
処理無しで下塗り層を設け、この上に写真乳剤層を塗布
しても良い。

【００３３】また、本発明のバック層には、そのほか、
染料、界面活性剤等を含有する事が出来る。バック層に
用いられる滑り剤としては、例えば、高級脂肪酸エステ
ル（炭素数１０〜２４の脂肪酸と炭素数１０〜６０のア
ルコールのエステル）が好ましい。滑り剤の使用量は
０．００１〜０．１ｇ／ｍ² が好ましく、より好ましく
は０．００５〜０．０５ｇ／ｍ² である。

【００３４】本発明の磁気記録材料はその構成層中にポ
リマーラテックスを含むことができる。感光材料の場合
は、高温高湿度下での密着不良を改良するために、表面
に凹凸を付与する方が好ましく、粗い表面ほど好まし
い。

【００３５】好ましい突起物は本発明の突起物の平均高
さを有する範囲であれば、例えば球形、不定形マット剤
で突起物を形成する場合はその含有量が０．５〜６００
mg／m²であり、より好ましいのは１〜４００mg／m²であ
る。この時、使用されるマット剤としてはその組成にお
いて特に限定されず、無機物でも有機物でもよく２種類
以上の混合物でもよい。本発明に用いられる粒子は、現
像処理後も感材中に残存する粒子でもよいが、処理液に
溶けてもよくその場合はアルカリ性で溶解するような基
を含有させることが望ましい。

【００３６】本発明のマット剤の無機化合物、有機化合
物は、例えば、硫酸バリウム、マンガンコロイド、二酸
化チタン、硫酸ストロンチウムバリウム、二酸化ケイ
素、などの無機物の微粉末があるが、さらに例えば湿式
法やケイ酸のゲル化より得られる合成シリカ等の二酸化
ケイ素やチタンスラッグと硫酸により生成する二酸化チ
タン（ルチル型やアナタース型）等が挙げられる。ま
た、粒径の比較的大きい、例えば２０μｍ以上の無機物
から粉砕した後、分級（振動ろ過、風力分級など）する
ことによっても得られる。他、ポリテトラフルオロエチ
レン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポリ
メチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、澱粉
等の有機高分子化合物の粉砕分級物もあげられる。ある
いは又懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレード
ライ法あるいは分散法等により球型にした高分子化合
物、または無機化合物を用いることができる。

【００３７】また以下に述べるような単量体化合物の１
種又は２種以上の重合体である高分子化合物を種々の手
段によって粒子としたものであってもよい。重合体は単
一モノマーから形成されても良いし、複数のモノマーを
組み合わせて重合した共重合体の粒子にして用いてもよ
い。モノマー化合物のうち、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、ビニルエステル類、スチレン
類、オレフィン類が好ましく用いられる。また、本発明
には特開昭６２−１４６４７号、同６２−１７７４４
号、同６２−１７７４３号に記載されているようなフッ
素原子あるいはシリコン原子を有する粒子を用いてもよ
い。

【００３８】これらの中で好ましく用いられる粒子組成
としてポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレー
ト、ポリエチルアクリレート、ポリ（メチルメタクリレ
ート／メタクリル酸＝９５／５、又は５０／５０（モル
比）、ポリ（スチレン／スチレンスルホン酸＝９５／
５、または６０／４０（モル比）、ポリアクリロニトリ
ル、ポリ（メチルメタクリレート／エチルアクリレート
／メタクリル酸＝５０／４０／１０）、シリカなどを挙
げることができる。これらのマット剤は、好ましくは
０．０１〜２５μｍの平均粒径を有するものであり、
０．１〜２０μｍがより好ましい。マット剤の含有層は
特に限定されないが、好ましくは乳剤保護層、バック
層、バック保護層である。中でも乳剤及びバック保護層
が好ましくその保護層の厚みは０．０５〜６μｍであり
より好ましくは０．１５〜５μｍである。

【００３９】特に本発明で好ましい磁気記録媒体とし
て、ハロゲン化銀感光層を含むカラーリバーサルフィル
ムとカラーネガフィルムをあげることができる。特に一
般用カラーネガフィルムが好ましい。ハロゲン化銀乳剤
は、通常、物理熟成、化学熟成および分光増感を行った
ものを使用する。本発明の効果は、金化合物と含イオウ
化合物で増感した乳剤を使用したときに特に顕著に認め
られる。このような工程で使用される添加剤はリサーチ
・ディスクロージャーNo. １７６４３および同No. １８
７１６に記載されており、その該当箇所を後に挙げた。

【００４０】本発明に使用できる公知の写真用添加剤も
上記の２つのリサーチ・ディスクロージャーに記載され
ており、下記の表に関連する記載箇所を示した。添加剤種類ＲＤ１７６４３ＲＤ１８７１６１化学増感剤２３頁６４８頁右欄２感度上昇剤同上３分光増感剤、２３〜２４頁６４８頁右欄〜強色増感剤６４９頁右欄４増白剤２４頁５かぶり防止剤２４〜２５頁６４９頁右欄〜および安定剤６光吸収剤、６４９頁右欄〜フィルター染料、２５〜２６頁６５０頁左欄紫外線吸収剤７ステイン防止剤２５頁右欄６５０頁左〜右欄８色素画像安定剤２５頁９硬膜剤２６頁６５１頁左欄１０バインダー２６頁同上１１可塑剤、潤滑剤２７頁６５０頁左欄１２塗布助剤、２６〜２７頁６５０頁右欄表面活性剤

【００４１】本発明でＡＰＳ（ＡｄｖａｎｃｅｄＰｈ
ｏｔｏＳｙｓｔｅｍ）カラー感材を内蔵したパトロー
ネの場合、パトローネおよびパトローネケースに使用さ
れるプラスチックの総重量は通常１ｇ以上２５ｇ以下、
好ましくは５ｇ以上１５ｇ以下である。ＡＰＳの場合、
フイルムのロール幅が２４ｍｍとなるのでパトローネを
小型化できる。本発明のパトローネは、その形態につい
て特に限定されない。収納される写真フイルムは現像前
のいわゆる生フイルムでもよいし、現像処理された写真
フイルムでもよい。又、生フイルムと現像済みの写真フ
イルムが同じ新パトローネに収納されていてもよいし、
別のパトローネでもよい。

【００４２】

【実施例】以下に実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００４３】実施例１（試料１−Ａの作製）１）第１層厚さ９０μm のポリエチレンナフタレート支持体の両面
に紫外線照射（ＵＶ）処理を施した後、バック面側に下
記組成の接着層を設けた。尚、塗布量を１０．４ｃｃ／
ｍ² とした。紫外線照射は、特公昭４５−３８２８号実
施例に示したような方法で行った。ゼラチン０．９重量部蒸留水０．９重量部酢酸０．９重量部メタノール４６．７重量部エチレンジクロライド４６．７重量部ｐ−クロロフェノール３．７重量部

【００４４】２）第２層塩化第２スズ水和物２３０重量部と三塩化アンチモン２
３重量部をエタノール３０００重量部に溶解し均一溶液
を得た。この溶液に１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を前期
溶液がpH３になるまで滴下し、コロイド状酸化第２スズ
と酸化アンチモンの共沈澱物を得た。得られた共沈澱を
５０℃に２４時間放置し、赤褐色のコロイド状沈澱を得
た。赤褐色コロイド状沈澱を遠心分離により分離した。
過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心分離によっ
て水洗した。この操作を３回繰り返し過剰イオンを除去
した。過剰イオンを除去したコロイド状沈澱２００重量
部を水１５００重量部に再分散し、５００℃に加熱した
焼成炉に噴霧し、青みがかった平均粒径０．００５μm
の酸化第二スズ酸化アンチモン複合酸化物の微粒子を得
た。この微粒子粉末の抵抗率は２５Ω・cmであった。上
記微粉末４０重量部と水６０重量部の混合液をpH７．０
に調整し、撹はん機で粗分散の後横型サンドミル（ダイ
ノミル、 Willy A. Backfen ＡＧ製）で滞留時間が３０
分になるまで分散して、一次粒子が一部凝集して２次凝
集体として０．０５μm になる分散液を調製した。

【００４５】下記処方の液を乾燥膜厚が０．３μm にな
るように塗布し、１１０℃で３０秒間乾燥した。・上記導電性微粒子分散液（ＳｎＯ₂ ／Ｓｂ₂ Ｏ₃ 複合酸化物、０．１５μm ）１０重量部・ゼラチン１重量部・水２７重量部・メタノール６０重量部・レゾルシン２重量部・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（重合度１０）０．０１重量部

【００４６】３）第３層 Co被着γーFe₂O₃ 磁性体（Ｈｃ：８３１Ｏｅ、σs ：７
７．１ｅｍｕ／ｇ、σr ：３７．４ｅｍｕ／ｇ、ＳBET
：３８．７ｍ² ／ｇ）１１００重量部、水２２０重量
部及びシランカップリング剤〔３−（ポリ（重合度１
０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシ
ラン〕１６５重量部を添加して、オープンニーダーで３
時間良く混練した。この粗分散した粘性のある液を７０
℃で１昼夜乾燥し水を除去した後、１１０℃、１時間加
熱して処理をし、表面処理をした磁気粒子を作製した。

【００４７】さらに以下の処方で、再びオープンニーダ
ーにて４時間混練した。上記表面処理済み磁気粒子８５５ｇジアセチルセルロース２５．３ｇメチルエチルケトン１３６．３ｇシクロヘキサノン１３６．３ｇ

【００４８】さらに、以下の処方で、サンドミル（１／
４Ｇのサンドミル）にて２０００ｒｐｍ、４時間微細分
散した。メディアは１ｍｍΦのガラスビーズを用いた。上記混練液４５ｇジアセチルセルロース２３．７ｇメチルエチルケトン１２７．７ｇシクロヘキサノン１２７．７ｇ

【００４９】さらに、以下の処方で、第３層塗布液を作
製した。磁性体含有中間液の作製上記微細分散液４８．４ｇジアセチルセルロース溶液１９１７．１ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）これらをディスパ−にて攪拌・混合し、「磁性体含有中
間液」を作製した。

【００５０】粒子分散液の作製以下の処方にて、サンドミル（ベッセル内及び回転ディ
スクがセラミックコートされた１／４Ｇのサンドミル）
にて２０００ｒｐｍ、５時間微細分散した。メディアは
１ｍｍΦのジルコニアビーズを用いた。ＡＫＰ５０３７ｇ（α−アルミナ、住友化学工業製、平均一次粒子径０．１９μｍ）シランカップリング剤２．６ｇ〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシラン〕ジアセチルセルロース溶液３３０．４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）

【００５１】第３層塗布液の作製上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液１９８ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）ＡＫＰ５０粒子分散液８９ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００１５．８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン３１ｇシクロヘキサノン３１ｇ

【００５２】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２
９．３ｃｃ／ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０
℃で行った。ＡＫＰ５０は６０ｍｇ／ｍ² で塗布され
た。

【００５３】４）第４層滑り剤の分散原液の作成下記のａ液を９０℃加温溶解し、ｂ液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り剤の分散原液を作成した。ａ液化合物０．７５重量部Ｃ₆ Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＣ₄₀Ｈ₆₁ 化合物０．７５重量部ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁ Ｏ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₁₆Ｈキシレン２．１１重量部プロピレングリコール−モノメチルエーテル０．０８重量部ｂ液シクロヘキサノン９６．３重量部第４層塗布液の作製上記滑り分散原液４８２ｇに下記のバインダー、溶剤を
加え塗布液とした。ヒドロキシプロピルセルロース０．９６ｇ（日本曹達（株) 製、商品名ＨＰＣ−ＳＬ）イソプロピルアルコール３２４３ｇメタノール１１４．５５ｇシクロヘキサノン１４４ｇ化合物０．７３ｇＣ₈ Ｆ₁₇ＳＯ₂ Ｎ（Ｃ₃ Ｈ₇ ）（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₄ （ＣＨ₂ ）₄ ＳＯ₃ Ｎａポリエステル変性シリコーン溶液２．８８ｇ（ＢＹＫケミジャパン（株) 製、商品名ＢＹＫ３１０、固形分含量２５％）

【００５４】上記滑り層塗布液を１０．４ｃｃ／ｍ² の
塗布量で塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００５５】次に試料の評価について記す。

【００５６】ａ）ヘイズの測定日本電色工業（株) 製のヘイズ計「ＶＧＳ−１００１Ｄ
Ｐ」を用いてヘイズ度を測定した。この時、光がバック
層側から入射するように測定した。媒体のヘイズ度が９
％未満の試料を○、９％以上の試料を×（Ｎ．Ｇ．）と
判定した。尚、ヘイズ度は以下のように定義される。

【００５７】Ｔ＝Ｄ＋ＰＴＰＴ：平行透過率Ｈ＝（Ｄ／Ｔ）×１００（％）Ｔ：全透過率Ｄ：拡散Ｈ：ヘイズ度（濁度）

【００５８】ｂ）表面粗さ測定東京精密（株) 製の接触式３次元表面粗さ計「サーフコ
ム５７０Ａ−３ＤＦ」を用いて次のような条件で表面粗
さ（Ｒｑ) を測定した。スキャンスピード：０．１５ｍｍ／ｓｅｃカットオフ値：０．２５ｍｍ測定面積：１ｍｍ×０．５ｍｍ針：９０°２μｍＲダイヤ針

【００５９】ｃ）表面突起数の評価走査型電子顕微鏡「ＥＳＭ−３２００」（ＥＬＩＯＮＩ
Ｘ（株) 製）を用いて、作製した試料の表面を５０００
倍〜１００００倍で写真に写し、１００μｍ²あたりの
表面突起数を磁性体粒子と区別しながら求めた。

【００６０】ｄ）塗設層中に分散された粒子の粒度測定作製した試料の塗設層中に分散された粒子の粒度（平均
２次粒子径）を求めるために、以下の手順で行った。低温灰化装置（プラズマリアクターＰＲ−５０３ヤ
マト科学（株) 製）を用いて、粒子を覆っているバイン
ダーを除去する。粒子の表面を覆っていたバインダーを除去した後の試
料表面を、走査型電子顕微鏡「ＥＳＭ−３２００」に
て、５０００倍〜１００００倍で写真に写す。写真に写っている粒子一個一個をデジタイザーを用い
て、円相当径を求めた。上記円相当径を「塗設層中に分散された粒子の粒度」
とした。

【００６１】ｅ）磁気入出力性能の評価幅２４ｍｍ、長さ２００ｍにスリットした作製試料を、
搬送速度１００ｍｍ／ｓｅｃにて、予め６ｋＨｚのＦＭ
信号にて磁気記録し、ギャップ５μm 、巻き数２０００
ターンの汎用の磁気再生ヘッドにて、約９５ｄＢのゲイ
ンがあるアンプを用いて記録信号を再生し、再生信号の
一つ一つを以下の様に調べ、磁気入出力性能の評価を行
った。媒体バック面に存在する汚れが、磁気ヘッド表面
に転写してしまう媒体はスペースロスにより信号振幅の
大きさが小さくなりドロップアウトの回数が増加するこ
とから採用した。各々の再生信号の大きさが、磁気ヘッ
ドに汚れの無い場合の理想的な再生信号の平均の大きさ
に対し、３５％以下になったとき「ドロップアウト」と
定義し、ドロップアウトが１０回以上の時 ×（Ｎ．Ｇ．）ドロップアウトが５回以上１０回未満の時 △（Ｎ．Ｇ．）ドロップアウトが３回以上５回未満の時 ○ ドロップアウトが１回以上３回未満の時 ○○ ドロップアウトがない時 ○○○ と判定した。

【００６２】（試料１−Ｂ〜Ｄ、比較試料１−Ｅ〜Ｇの
作製）試料１−Ａのバック第３層に含有されるアルミナ
ＡＫＰ５０の塗布量を表１に示すように変える以外は、
試料１−Ａと全く同じように作製した。これを試料１−
Ｂ〜Ｄ、比較試料１−Ｅ〜Ｇとする。

【００６３】

【表１】

【００６４】表１よりわかる様に、確実な磁気入出力性
を達成する為には、Ｒｑが３０ｎｍを越えても、表面突
起数が３０個／１００μｍ² を下回ってもいけないこと
がわかる。

【００６５】（比較試料１−Ｈの作製）試料１−Ａにお
いて、バック第３層とバック第４層の間に下記処方に
て、一層設ける以外は試料１−Ａと全く同じように作製
した。これを比較試料１−Ｈとする。ジアセチルセルロース４ｇメチルエチルケトン４９８ｇシクロヘキサノン４９８ｇこれを塗布量１０．４ｃｃ／ｍ² で塗布した。

【００６６】表１の結果からわかる様に、表面突起数が
３０個／１００μｍ² を越えていても、Ｒｑが５ｎｍ未
満であると磁気入出力性が悪化することがわかる。

【００６７】（試料１−Ｉ、Ｍ、Ｌ比較試料１−Ｊ、
Ｋの作製）試料１−Ａにおいて、バック第３層の処方を
以下に変更する以外は試料１−Ａと全く同じように作製
した。これを試料１−Ｉ、Ｍ、Ｌ比較試料１−Ｊ、Ｋ
とする。

【００６８】第３層 Co被着γーFe₂O₃ 磁性体（Ｈｃ：８３１Ｏｅ、σs ：７
７．１ｅｍｕ／ｇ、σr ：３７．４ｅｍｕ／ｇ、ＳBET
：３８．７ｍ² ／ｇ）１１００重量部、水２２０重量
部及びシランカップリング剤〔３−（ポリ（重合度１
０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシ
ラン〕１６５重量部を添加して、オープンニーダーで３
時間良く混練した。この粗分散した粘性のある液を７０
℃で１昼夜乾燥し水を除去した後、１１０℃、１時間加
熱して処理をし、表面処理をした磁気粒子を作製した。

【００６９】さらに以下の処方で、再びオープンニーダ
ーにて４時間混練した。上記表面処理済み磁気粒子８５５ｇジアセチルセルロース２５．３ｇメチルエチルケトン１３６．３ｇシクロヘキサノン１３６．３ｇ

【００７０】さらに、以下の処方で、サンドミル（１／
４Ｇのサンドミル）にて２０００ｒｐｍ、４時間微細分
散した。メディアは１ｍｍΦのガラスビーズを用いた。上記混練液４５ｇジアセチルセルロース２３．７ｇメチルエチルケトン１２７．７ｇシクロヘキサノン１２７．７ｇ

【００７１】さらに、以下の処方で、第３層塗布液を作
製した。磁性体含有中間液の作製上記微細分散液４８．４ｇジアセチルセルロース溶液１９１７．１ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）これらをディスパ−にて攪拌・混合し、「磁性体含有中
間液」を作製した。

【００７２】粒子分散液の作製以下の処方にて、超音波分散機にて、氷冷しながら、５
０Ｈｚ３０分間微細分散した。試料１−Ｉ０．３μｍシリカ：シーホスタＫＥＰ３０１０ｇ（比較試料１−Ｊ０．５μｍシリカ：シーホスタＫＥＰ５０１０ｇ）（比較試料１−Ｋ１．０μｍシリカ：シーホスタＫＥＰ１００１０ｇ）（試料１−Ｌ０．２μｍメラミン樹脂：エポスタＳ１０ｇ）＜いずれも、日本触媒（株）製＞（試料１−Ｍ０．３μｍシロキサン樹脂：トスパール１０３１０ｇ）＜東芝シリコーン（株）製＞

【００７３】上記粉体に以下を加えるジアセチルセルロース溶液９０ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）

【００７４】第３層塗布液の作製上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液１９８ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）上記シリカ微細分散液試料１−Ｉの場合４４．５ｇ（比較試料１−Ｊの場合４４．５ｇ）（比較試料１−Ｋの場合３．０ｇ）（試料１−Ｌの場合４４．５ｇ）（試料１−Ｍの場合４４．５ｇ）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００１５．８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン３１ｇシクロヘキサノン３１ｇ

【００７５】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２
９．３ｃｃ／ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０
℃で行った。

【００７６】表１の結果からわかる様に、ＡＫＰ５０以
外の無機又は有機粒子を用いても、同様の結果が得られ
た。

【００７７】実施例２（試料２−Ａの作製）試料１−Ａにおいて、第３層の処
方を以下に変更する以外は試料１−Ａと全く同じように
作製した。これを試料２−Ａとする。第３層 Co被着γーFe₂O₃ 磁性体（Ｈｃ：８３１Ｏｅ、σs ：７
７．１ｅｍｕ／ｇ、σr ：３７．４ｅｍｕ／ｇ、ＳBET
：３８．７ｍ² ／ｇ）１１００重量部、水２２０重量
部及びシランカップリング剤〔３−（ポリ（重合度１
０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシ
ラン〕１６５重量部を添加して、オープンニーダーで３
時間良く混練した。この粗分散した粘性のある液を７０
℃で１昼夜乾燥し水を除去した後、１１０℃、１時間加
熱して処理をし、表面処理をした磁気粒子を作製した。

【００７８】さらに以下の処方で、再びオープンニーダ
ーにて４時間混練した。上記表面処理済み磁気粒子８５５ｇジアセチルセルロース２５．３ｇメチルエチルケトン１３６．３ｇシクロヘキサノン１３６．３ｇ

【００７９】さらに、以下の処方で、サンドミル（１／
４Ｇのサンドミル）にて２０００ｒｐｍ、４時間微細分
散した。メディアは１ｍｍΦのガラスビーズを用いた。上記混練液４５ｇジアセチルセルロース２３．７ｇメチルエチルケトン１２７．７ｇシクロヘキサノン１２７．７ｇ

【００８０】さらに、以下の処方で、第３層塗布液を作
製した。磁性体含有中間液の作製上記微細分散液４８．４ｇジアセチルセルロース溶液１９１７．１ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）これらをディスパ−にて攪拌・混合し、「磁性体含有中
間液」を作製した。粒子分散液の作製以下の処方にて、サンドミル（ベッセル内及び回転ディ
スクがセラミックコートされた１／４Ｇのサンドミル）
にて２０００ｒｐｍ、５時間微細分散した。メディアは
１ｍｍΦのジルコニアビーズを用いた。ＨＩＴ１００３７ｇ（α−アルミナ、住友化学工業製、平均一次粒子径０．１０μｍ）シランカップリング剤８．４ｇ〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシラン〕ジアセチルセルロース溶液３２４．６ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）バック第３層塗布液の作製上記磁性体含有中間液３５００ｇＨＩＴ１００微細分散液２８７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００１５．８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン３１ｇシクロヘキサノン３１ｇ

【００８１】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２
９．３ｃｃ／ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０
℃で行った。

【００８２】

【表２】

【００８３】表２の結果からわかるように、平均粒径
０．２μｍ以下のα−アルミナである、ＨＩＴ１００を
用いても良好な磁気入出力性を有する磁気記録媒体が得
られた。

【００８４】実施例３（試料３−Ａの作製）実施例１−Ａ試料において、アル
ミナＡＫＰ５０の分散時間を５時間から１０時間に延長
する以外は試料１−Ａと全く同じように作製した。これ
を試料３−Ａとする。試料１−Ａと試料３−Ａについ
て、塗設層中に分散されたＡＫＰ５０粒子の粒径測定し
たところ、試料１−Ａは０．７μｍ以下の粒子が９５％
以下で含有されていたのに対し、試料３−Ａは０．７μ
ｍ以下の粒子が９５％以上で含有されていた。表２の結
果からわかるように、塗設層中に０．７μｍ以下の粒子
が９５％以上含有されているとさらに磁気入出力特性が
良化することがわかる。

【００８５】実施例４（試料４−Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの作製）試料１−Ａにお
いて、第３層の処方を以下に変更する以外は試料１−Ａ
と全く同じように作製した。これを試料４−Ａ、Ｂ、
Ｃ、Ｄ、Ｅとする。第３層 Co被着γーFe₂O₃ 磁性体（Ｈｃ：８３１Ｏｅ、σs ：７
７．１ｅｍｕ／ｇ、σr ：３７．４ｅｍｕ／ｇ、ＳBET
：３８．７ｍ² ／ｇ）１１００重量部、水２２０重量
部及びシランカップリング剤〔３−（ポリ（重合度１
０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシ
ラン〕１６５重量部を添加して、オープンニーダーで３
時間良く混練した。この粗分散した粘性のある液を７０
℃で１昼夜乾燥し水を除去した後、１１０℃、１時間加
熱して処理をし、表面処理をした磁気粒子を作製した。

【００８６】さらに以下の処方で、再びオープンニーダ
ーにて４時間混練した。上記表面処理済み磁気粒子８５５ｇジアセチルセルロース２５．３ｇメチルエチルケトン１３６．３ｇシクロヘキサノン１３６．３ｇ

【００８７】さらに、以下の処方で、サンドミル（１／
４Ｇのサンドミル）にて２０００ｒｐｍ、４時間微細分
散した。メディアは１ｍｍΦのガラスビーズを用いた。上記混練液４５ｇジアセチルセルロース２３．７ｇメチルエチルケトン１２７．７ｇシクロヘキサノン１２７．７ｇ

【００８８】さらに、以下の処方で、第３層塗布液を作
製した。磁性体含有中間液の作製上記微細分散液４８．４ｇジアセチルセルロース溶液１９１７．１ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）これらをディスパ−にて攪拌・混合し、「磁性体含有中
間液」を作製した。

【００８９】粒子分散液の作製（１）粒子１分散液の作製以下の処方にて、サンドミル（ベッセル内及び回転ディ
スクがセラミックコートされた１／４Ｇのサンドミル）
にて２０００ｒｐｍ、５時間微細分散した。メディアは
１ｍｍΦのジルコニアビーズを用いた。ＡＫＰ５０３７ｇ（α−アルミナ、住友化学工業製、平均一次粒子径０．１０μｍ）シランカップリング剤２．６ｇ〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシラン〕ジアセチルセルロース溶液３３０．４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）

【００９０】（２）粒子２分散液の作製その１以下の処方にて、超音波分散機にて、氷冷しながら、５
０Ｈｚ３０分間微細分散した。試料４−Ａ０．１μｍシリカ：シーホスタＫＥＰ１０１０ｇ日本触媒（株）製（試料４−Ｂ０．１４μｍ炭酸カルシウム：ホモカルＤ１０ｇ白石工業（株）製）上記粉体に以下を加えるジアセチルセルロース溶液９０ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）その２以下の処方にて、粒子分散液を作製した。

【００９１】試料４−Ｄ試料２−Ａに用いたＨＩＴ１００（０．１０μｍ）分散
液を使用した。第３層塗布液の作製（試料４−Ａの作製）上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液１０９ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）ＡＫＰ５０粒子分散液８９ｇシーホスタＫＥＰ１０分散液８９ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００１５．８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン３１ｇシクロヘキサノン３１ｇ

【００９２】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２
９．３ｃｃ／ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０
℃で行った。

【００９３】（試料４−Ｂの作製）上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液１０９ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）ＡＫＰ５０粒子分散液８９ｇホモカルＤ分散液８９ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００１５．８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン３１ｇシクロヘキサノン３１ｇ

【００９４】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２
９．３ｃｃ／ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０
℃で行った。

【００９５】（試料４−Ｃの作製）上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液９９ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）ＡＫＰ５０粒子分散液８９ｇＭＩＢＫシリカゾル分散液（０．０１５μｍシリカゾル固形分３０％日産化学（株）製）９９ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００１５．８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン３１ｇシクロヘキサノン３１ｇ

【００９６】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２
９．３ｃｃ／ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０
℃で行った。

【００９７】（試料４−Ｄの作製）上記磁性体含有中間液３５００ｇＡＫＰ５０粒子分散液８９ｇＨＩＴ１００分散液１９８ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００１５．８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン３１ｇシクロヘキサノン３１ｇ

【００９８】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２
９．３ｃｃ／ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０
℃で行った。

【００９９】（試料４−Ｅの作製）上記磁性体含有中間液３５００ｇ試料１−Ｉ粒子分散液（粒子１として。シーホスタＫＥＰ３０１０％微分散液）８９ｇ試料２−Ａ粒子分散液（粒子２として。ＨＩＴ１００１０％微分散液１９８ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００１５．８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン３１ｇシクロヘキサノン３１ｇ

【０１００】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２
９．３ｃｃ／ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０
℃で行った。

【０１０１】表２の結果よりわかる様に、無機粒子を２
種類以上含有し、少なくとも一つの粒子の平均一次粒子
径が０．２〜０．４μｍ以下で、少なくとも一つの粒子
の平均一次粒子径が０．１５μｍ以下であると、更に良
好な磁気入出力特性を有する磁気記録媒体が作製でき
る。

【０１０２】実施例５試料１−Ａと同様にして、以下の試料５−Ａを作成し
た。

【０１０３】厚さ９０μm のポリエチレンナフタレート
支持体について、その各々の両面に、処理雰囲気圧力
０．２Ｔｏｒｒ、雰囲気気体中のＨ₂ Ｏ分圧７５％、放
電周波数３０ｋＨｚ、出力２５００Ｗ、処理強度０．５
ｋＶ・Ａ・分／ｍ² でグロー放電処理を施した。この支
持体上に、第１層を設けず、第２層として下記組成の塗
布液を特公昭５８−４５８９号公報のバー塗布法を用い
て、５ｃｃ／ｍ² の塗布量で塗布した。

【０１０４】導電性微粒子分散液（ＳｎＯ₂ ／Ｓｂ₂ Ｏ₅ 粒子濃度５０重量部１０％の水分散液．一次粒子径０．００５μm の２次凝集体でその平均粒径が０．０５μm ）ゼラチン０．５重量部水４９重量部ポリグリセロールポリグリシジルエーテル０．１６重量部ポリ（重合度２０）オキシエチレン０．１重量部ソルビタンモノラウレート

【０１０５】さらに、バック第２層を塗設後、直径２０
ｃｍのステンレス巻き芯に巻付けて、１１０℃（ＰＥＮ
支持体のＴｇ：１１９℃）、４８時間加熱処理し熱履歴
させた後、支持体をはさみバック層側と反対側に下塗り
層として下記組成の塗布液をバー塗布法を用いて、１０
ｃｃ／ｍ² の塗布量で塗布した。

【０１０６】ゼラチン１．０１重量部サリチル酸０．３０重量部レゾルシン０．４０重量部ポリ（重合度１０）オキシエチレンノニルフェニルエーテル０．１１重量部水３．５３重量部メタノール８４．５７重量部ｎ−プロパノ−ル１０．０８重量部さらに、試料１−Ａと同様に第２層側に第３、４層を塗
設し、その後で、以下に記載の感光層を塗設し、ハロゲ
ン化銀乳剤層付き磁気記録媒体を作製した。

【０１０７】（感光層の塗設）特開平７−２８７３４５
号公報の実施例１に記載された、多層カラーネガ感光材
料となる試料５−Ａを作製した。更に、試料５−Ａにつ
いて、磁気信号読み取り前に以下の現像処理を行った。（写真フイルムの現像処理）得られた写真フイルムは、
富士写真フイルムのＣＮ−１６Ｘケミカル処方により現
像処理を行った。現像機は富士写真フイルム株式会社製
のシネ式自動現像機ＦＮＣＰ−９００を用いた。

【０１０８】現像処理後の試料５−Ａの磁気出力性能
は、試料１−Ａや現像処理前の試料５−Ａと同様に優れ
たものであった。また、先に述べた実施例試料・比較例
試料についても、試料５−Ａと同様にして調べたところ
（乳剤層の塗設・現像処理の実施）、磁気入出力性能の
良否は同じ結果が得られた。

【０１０９】実施例６（試料６−Ａの作製）試料５−Ａにおいて、乳剤層を、
反転カラー乳剤層である特開平２−８５４実施例１の試
料１０１と同様にして、さらに、現像処理を特開平２−
８５４実施例１に示されるようなカラーリバーサル感材
用の現像処理法により実施する以外は、試料５−Ａの作
製と同様に行ったところ、試料５−Ａと同様の結果が得
られ、透明性と磁気入出力性が両立した、ハロゲン化銀
乳剤層付き磁気記録媒体が得られた。

【０１１０】実施例７（試料７−Ａ、Ｂの作製）試料１−Ａのバック第３層の
溶剤をＭＥＫ（５０％）シクロヘキサノン（５０％）か
ら、ＭＥＫ（５０％）シクロヘキサノン（１０％）アセ
トン（４０％）に変更しただけの試料を試料７−Ａ、Ｍ
ＥＫ（５０％）シクロヘキサノン（１０％）酢酸メチル
（４０％）に変更しただけの試料を試料７−Ｂとする。
試料７−Ａ、７−Ｂともに性能上なんら試料１−Ａと違
いはなく、また一方で乾燥が速くなるため塗布スピード
がアップでき、したがって製造コストを低減することが
でき、好ましい試料であった。なお、実施例１〜７で作
製した試料は全て透明である。

【０１１１】

【発明の効果】本発明により、繰り返し使用しても確実
な磁気入出力性能と透明性を兼ね備えた耐久性のある磁
気記録層を有する透明磁気記録媒体を提供することがで
きる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に少なくとも１層の磁性体粒子
を含む磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該磁
気記録層側の少なくとも１層が無機粒子又は／及び有機
樹脂粒子を含有し、磁気記録層の表面粗さがＲｑで５ｎ
ｍ以上３０ｎｍ以下であり、且つ前記磁気記録層の１０
０μｍ² あたりの磁性粒子以外の粒子からなる表面突起
数が３０個以上であり、且つヘイズ度が９％未満である
ことを特徴とする透明磁気記録媒体。
【請求項２】該透明磁気記録層又は／及び該透明磁気
記録層に隣接する層が、無機粒子又は／及び有機高分子
粒子を含有することを特徴とする請求項１記載の透明磁
気記録媒体。
【請求項３】該無機粒子のうち、少なくとも１つが、
平均１次粒子径が０．４μｍ以下のα−アルミナである
ことを特徴とする請求項１又は２記載の透明磁気記録媒
体。
【請求項４】平均一次粒子径が異なる無機粒子又は／
及び有機高分子粒子を２種類以上含有し、少なくとも一
つの粒子の平均一次粒子径が０．２〜０．４μｍで、少
なくとも一つの粒子の平均一次粒子径が０．０１〜０．
１５μｍであることを特徴とする請求項１、２又は３記
載の透明磁気記録媒体。
【請求項５】平均一次粒子径が異なる無機粒子又は／
及び有機高分子粒子を２種類以上含有し、少なくとも一
つの粒子の平均一次粒子径が０．２〜０．４μｍで、モ
ース硬度が７以上であり、少なくとも一つの粒子の平均
一次粒子径が０．０１〜０．１５μｍで、モース硬度が
７以下であることを特徴とする請求項１、２、３又は４
記載の透明磁気記録媒体。
【請求項６】平均一次粒子径が異なる無機粒子を２種
類以上含有し、少なくとも一つの粒子が、平均一次粒子
径が０．２〜０．４μｍであるα−アルミナであり、少
なくとも一つの粒子が、平均一次粒子径が０．０１〜
０．１５μｍであるモース硬度７以下の金属酸化物であ
ることを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載の
透明磁気記録媒体。
【請求項７】塗設層中に分散された該無機粒子、有機
樹脂粒子の９５％以上が０．７μｍ以下であることが特
徴である請求項１、２、３、４、５又は６記載の透明磁
気記録媒体。
【請求項８】該透明磁気記録媒体において、支持体を
はさみ、該バック層に対して反対側に、少なくとも１層
のハロゲン化銀乳剤層を有することを特徴とする請求項
１、２、３、４、５、６又は７記載のハロゲン化銀乳剤
層付き透明磁気記録媒体。