JPH1130830A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 72
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 44
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 77
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 65
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 41
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 16
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 122
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 46
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 25
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 25
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 18
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000011161 development Methods 0.000 description 15
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 14
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 14
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 10
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 10
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 9
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 6
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 6
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 6
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 5
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 5
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 5
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 5
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 5
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 5
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 5
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 5
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 208000032544 Cicatrix Diseases 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 231100000241 scar Toxicity 0.000 description 4
- 230000037387 scars Effects 0.000 description 4
- MTEZSDOQASFMDI-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylpropan-1-ol Chemical compound CCC(O)[Si](OC)(OC)OC MTEZSDOQASFMDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- 229910015189 FeOx Inorganic materials 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- UGFMBZYKVQSQFX-UHFFFAOYSA-N para-methoxy-n-methylamphetamine Chemical compound CNC(C)CC1=CC=C(OC)C=C1 UGFMBZYKVQSQFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 239000012791 sliding layer Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 2
- HMNUYYJYMOXWTN-UHFFFAOYSA-J strontium;barium(2+);disulfate Chemical compound [Sr+2].[Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HMNUYYJYMOXWTN-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXFVIWBTKYFOCY-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,3-n,3-n-tetramethylbutane-1,3-diamine Chemical compound CN(C)C(C)CCN(C)C AXFVIWBTKYFOCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQFBEBEBCHTBK-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(C=C)C1=CC=CC=C1 CBQFBEBEBCHTBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethanesulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCS(O)(=O)=O PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- KDNRZXGNYXGIFO-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanopropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC[N+]#[C-] KDNRZXGNYXGIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2-n,2-n-diethylpyrimidine-2,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(N)=CC(Cl)=N1 XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical class [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCELWOGDGMAGGN-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JCELWOGDGMAGGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMHQPTAFBUVYBA-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=CC=CC=C1N Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1=CC=CC=C1N JMHQPTAFBUVYBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 235000014548 Rubus moluccanus Nutrition 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUEIURIZJQRMQE-UHFFFAOYSA-N [2-(tert-butylsulfamoyl)phenyl]boronic acid Chemical compound CC(C)(C)NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1B(O)O TUEIURIZJQRMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920002988 biodegradable polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004621 biodegradable polymer Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229940090961 chromium dioxide Drugs 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N chromium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Cr+4] IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N chromium(IV) oxide Inorganic materials O=[Cr]=O AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical class C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- PKKGKUDPKRTKLJ-UHFFFAOYSA-L dichloro(dimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(Cl)Cl PKKGKUDPKRTKLJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N o-dicarboxybenzene Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- IBGXDQCATAOYOE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxymethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)COC(=O)C=C IBGXDQCATAOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAYRWMCIKCRHIN-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CCCS(O)(=O)=O AAYRWMCIKCRHIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000007613 slurry method Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 229940035044 sorbitan monolaurate Drugs 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N tetrabutyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】優れた膜強度を有し、また磁気入出力エラーが
なく、ブロッキングのないハロゲン化銀写真感光材料体
を提供する。 【解決手段】支持体の少なくとも一方の側にハロゲン化
銀乳剤層を有し、その反対側に透明磁気記録層を有する
撮影用ハロゲン化銀写真感光材料において、ハロゲン化
銀乳剤層を有する側の少なくとも一層に変動係数0.3
0以下である単分散無機粒子および/又は単分散重合体
粒子を含み、さらに磁気記録層を有する側の少なくとも
1層に変動係数0.40以下の単分散無機粒子および/
又は単分散重合体粒子を含むハロゲン化銀写真感光材
料。
なく、ブロッキングのないハロゲン化銀写真感光材料体
を提供する。 【解決手段】支持体の少なくとも一方の側にハロゲン化
銀乳剤層を有し、その反対側に透明磁気記録層を有する
撮影用ハロゲン化銀写真感光材料において、ハロゲン化
銀乳剤層を有する側の少なくとも一層に変動係数0.3
0以下である単分散無機粒子および/又は単分散重合体
粒子を含み、さらに磁気記録層を有する側の少なくとも
1層に変動係数0.40以下の単分散無機粒子および/
又は単分散重合体粒子を含むハロゲン化銀写真感光材
料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料に関するものであり、特に優れた膜強度を有し、
また磁気入出力エラーがなく、ブロッキングのないハロ
ゲン化銀写真感光材料体に関するものである。
光材料に関するものであり、特に優れた膜強度を有し、
また磁気入出力エラーがなく、ブロッキングのないハロ
ゲン化銀写真感光材料体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般にハロゲン化銀写真感光材料(以下
感材と略す)は支持体上に感光性ハロゲン化銀乳剤層と
その上層に保護層を有している。この保護層中にはマッ
ト剤と呼ばれる素材が組み込まれ、高温、高湿でのブロ
ッキングを防止したり、フィルム搬送性を良くしたりす
る効果が知られている。これらの効果は従来、生フィル
ムに対して特に付与されていたが、近年、特開平4−6
8336や、特開平4−73737に開示されているよ
うな、現像処理後もいわゆるカートリッジ内に長巻きの
まま保存される形態の撮影用フィルムが出現するように
なってきたため、処理後にも前記効果を十分に発揮でき
るようにする必要が生じてきた。このため、現像処理で
も溶解しないタイプのマット剤(以下、不溶性マット剤
と称す)を多く組み込むことが必要になってきた。一
方、これらの感材にはバック層に磁気記録層が設置され
ており、各種の情報、例えば撮影の日時、天候、照明条
件、縮小/拡大比等の撮影時の条件、再プリント枚数、
ズームしたい箇所、メッセージ等、現像、プリント時の
条件等を記録できるようにしている。しかしながら現像
処理を行った後、処理液がバック層表面に付着して磁気
ヘッドに汚れが転写、蓄積し、磁気出力が低下するとい
う問題がおこった。これらの対策としてバック層にマッ
ト材や研磨剤などの粒子を添加することが有効であるこ
とが見いだされた。このように乳剤層側とバック層側に
マット材を組み込んだとき、現像処理後でも乳剤層とバ
ック層の間にブロッキングが起こらない、また、処理後
の磁気出力低下がなくなる、という効果が見られたが、
特に現像処理後に感材を搬送させたときに、乳剤層およ
び/またはバック層表面に傷が発生するという問題が生
じた。
感材と略す)は支持体上に感光性ハロゲン化銀乳剤層と
その上層に保護層を有している。この保護層中にはマッ
ト剤と呼ばれる素材が組み込まれ、高温、高湿でのブロ
ッキングを防止したり、フィルム搬送性を良くしたりす
る効果が知られている。これらの効果は従来、生フィル
ムに対して特に付与されていたが、近年、特開平4−6
8336や、特開平4−73737に開示されているよ
うな、現像処理後もいわゆるカートリッジ内に長巻きの
まま保存される形態の撮影用フィルムが出現するように
なってきたため、処理後にも前記効果を十分に発揮でき
るようにする必要が生じてきた。このため、現像処理で
も溶解しないタイプのマット剤(以下、不溶性マット剤
と称す)を多く組み込むことが必要になってきた。一
方、これらの感材にはバック層に磁気記録層が設置され
ており、各種の情報、例えば撮影の日時、天候、照明条
件、縮小/拡大比等の撮影時の条件、再プリント枚数、
ズームしたい箇所、メッセージ等、現像、プリント時の
条件等を記録できるようにしている。しかしながら現像
処理を行った後、処理液がバック層表面に付着して磁気
ヘッドに汚れが転写、蓄積し、磁気出力が低下するとい
う問題がおこった。これらの対策としてバック層にマッ
ト材や研磨剤などの粒子を添加することが有効であるこ
とが見いだされた。このように乳剤層側とバック層側に
マット材を組み込んだとき、現像処理後でも乳剤層とバ
ック層の間にブロッキングが起こらない、また、処理後
の磁気出力低下がなくなる、という効果が見られたが、
特に現像処理後に感材を搬送させたときに、乳剤層およ
び/またはバック層表面に傷が発生するという問題が生
じた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は現像処
理後にカートリッジに保存され、磁気情報を読み書きす
る撮影用感材においても、現像処理後のブロッキングや
磁気読みとりエラーを発生させず、かつ乳剤面、バック
面表面に傷を発生させない透明磁気記録層付き感材を提
供することにある。
理後にカートリッジに保存され、磁気情報を読み書きす
る撮影用感材においても、現像処理後のブロッキングや
磁気読みとりエラーを発生させず、かつ乳剤面、バック
面表面に傷を発生させない透明磁気記録層付き感材を提
供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体の少な
くとも一方の側にハロゲン化銀乳剤層を有し、その反対
側に透明磁気記録層を有する撮影用ハロゲン化銀写真感
光材料において、ハロゲン化銀乳剤層を有する側の少な
くとも一層に変動係数0.30以下である単分散無機粒
子および/又は単分散重合体粒子を含み、さらに磁気記
録層を有する側の少なくとも1層に変動係数0.40以
下の単分散無機粒子および/又は単分散重合体粒子を含
むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料を提供す
るものである。
くとも一方の側にハロゲン化銀乳剤層を有し、その反対
側に透明磁気記録層を有する撮影用ハロゲン化銀写真感
光材料において、ハロゲン化銀乳剤層を有する側の少な
くとも一層に変動係数0.30以下である単分散無機粒
子および/又は単分散重合体粒子を含み、さらに磁気記
録層を有する側の少なくとも1層に変動係数0.40以
下の単分散無機粒子および/又は単分散重合体粒子を含
むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料を提供す
るものである。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明で用いられる乳剤側のマッ
ト剤は、変動係数0.30以下であるマット剤である。
変動係数は、小さければ小さいほど好ましく、好ましく
は0.20以下、より好ましくは0.10以下である。
ここでいう変動係数とは全粒子の粒子径の標準偏差を平
均径で割ったものである。これらのマット剤の数平均粒
子径は0.5μm〜10μmで、好ましくは1.0μm
〜8μmで、より好ましくは1.5μm〜4μmであ
る。なお、本発明での数平均粒子径及び粒子径分布は、
マット剤の電子顕微鏡写真を撮りその中からランダムに
500個以上のマット剤の粒子径を計測することで調べ
られる。また、マット剤の含有量は2〜300mg/m
2 であり、好ましくは5〜200mg/m2 、より好ま
しくは10〜100mg/m2 である。
ト剤は、変動係数0.30以下であるマット剤である。
変動係数は、小さければ小さいほど好ましく、好ましく
は0.20以下、より好ましくは0.10以下である。
ここでいう変動係数とは全粒子の粒子径の標準偏差を平
均径で割ったものである。これらのマット剤の数平均粒
子径は0.5μm〜10μmで、好ましくは1.0μm
〜8μmで、より好ましくは1.5μm〜4μmであ
る。なお、本発明での数平均粒子径及び粒子径分布は、
マット剤の電子顕微鏡写真を撮りその中からランダムに
500個以上のマット剤の粒子径を計測することで調べ
られる。また、マット剤の含有量は2〜300mg/m
2 であり、好ましくは5〜200mg/m2 、より好ま
しくは10〜100mg/m2 である。
【0006】本発明の乳剤層用のマット剤の種類として
は単分散粒子なら何でもよいが、無機粒子としては、酸
化アルミニウム(α−アルミナ、γ−アルミナ、コラン
ダム等)、酸化クロム(Cr2 O3 )、酸化鉄(α−F
e2 O3 )、シリカ、コロイダルシリカ、二酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化錫等の酸化物、シリコンカーバイト
(SiC)、炭化珪素、炭化チタン等の炭化物、ダイヤ
モンド等の微粉末、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウムバリウム、マン
ガンコロイド等があげられる。好ましくは下記一般式に
て表される単分散重合体ポリマーである。 −(A)x−(B)y−(C)z− ここで、Aは多官能エチレン性不飽和架橋性モノマー、
Bは酸含有エチレン性不飽和モノマー、Cは単官能エチ
レン性不飽和モノマー(除B)、xは0〜2モル%、y
は5〜70モル%、zは(100−x−y)モル%であ
る。Aの例としてはジビニルベンゼン、エチレングリコ
ールジメタクリルエステル等を挙げることができる。B
の例としてはアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、スチレンスルホン酸、ビニルベンジルスル
ホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイルオキシアルキ
ルスルホン酸(例えば、アクリロイルオキシメチルスル
ホン酸など);メタクリロイルオキシアルキルスルホン
酸(例えば、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸な
ど);アクリルアミドアルキルスルホン酸(例えば、2
−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸な
ど);メタクリルアミドアルキルスルホン酸(例えば、
2−メタクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸な
ど)が挙げられる。これらの酸はアルカリ金属(例え
ば、Na、Kなど)またはアンモニウムイオンの塩であ
ってもよい。Cの例としてはアクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸
エステル、マレイン酸ジエステル、フタル酸ジエステル
類が挙げられエステル残基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、2−エチ
ルヘキシル、2−クロロエチル、シアノエチル、2−ア
セトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ベンジル、シ
クロヘキシル、フルフリル、フェニル、2−ヒドロキシ
エチル、2−エトキシエチル、グリシジル、ω−メトキ
シポリエチレングリコール(付加モル数9)などが挙げ
られる。またその他、ビニルエステル類、オレフイン
類、スチレン類、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルケトン
類、ビニル異節環化合物、不飽和ニトリル類等も好まし
く用いられる。
は単分散粒子なら何でもよいが、無機粒子としては、酸
化アルミニウム(α−アルミナ、γ−アルミナ、コラン
ダム等)、酸化クロム(Cr2 O3 )、酸化鉄(α−F
e2 O3 )、シリカ、コロイダルシリカ、二酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化錫等の酸化物、シリコンカーバイト
(SiC)、炭化珪素、炭化チタン等の炭化物、ダイヤ
モンド等の微粉末、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウムバリウム、マン
ガンコロイド等があげられる。好ましくは下記一般式に
て表される単分散重合体ポリマーである。 −(A)x−(B)y−(C)z− ここで、Aは多官能エチレン性不飽和架橋性モノマー、
Bは酸含有エチレン性不飽和モノマー、Cは単官能エチ
レン性不飽和モノマー(除B)、xは0〜2モル%、y
は5〜70モル%、zは(100−x−y)モル%であ
る。Aの例としてはジビニルベンゼン、エチレングリコ
ールジメタクリルエステル等を挙げることができる。B
の例としてはアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、スチレンスルホン酸、ビニルベンジルスル
ホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイルオキシアルキ
ルスルホン酸(例えば、アクリロイルオキシメチルスル
ホン酸など);メタクリロイルオキシアルキルスルホン
酸(例えば、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸な
ど);アクリルアミドアルキルスルホン酸(例えば、2
−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸な
ど);メタクリルアミドアルキルスルホン酸(例えば、
2−メタクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸な
ど)が挙げられる。これらの酸はアルカリ金属(例え
ば、Na、Kなど)またはアンモニウムイオンの塩であ
ってもよい。Cの例としてはアクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸
エステル、マレイン酸ジエステル、フタル酸ジエステル
類が挙げられエステル残基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、2−エチ
ルヘキシル、2−クロロエチル、シアノエチル、2−ア
セトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ベンジル、シ
クロヘキシル、フルフリル、フェニル、2−ヒドロキシ
エチル、2−エトキシエチル、グリシジル、ω−メトキ
シポリエチレングリコール(付加モル数9)などが挙げ
られる。またその他、ビニルエステル類、オレフイン
類、スチレン類、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルケトン
類、ビニル異節環化合物、不飽和ニトリル類等も好まし
く用いられる。
【0007】これらのモノマー化合物のうち、アクリル
酸、及びそのエステル類、メタクリル酸、及びそのエス
テル類、ビニルエステル類、スチレン類、オレフィン類
が好ましく用いられ、なかでも特に好ましいのはアクリ
ル酸,及びそのエステル類、メタクリル酸、及びそのエ
ステル類である。また、本発明には特開昭62−146
47号、同62−17744号、同62−17743号
に記載されているようなフッ素原子あるいはシリコン原
子を有する粒子を用いてもよい。本発明のマット剤の中
で特に好ましいものはアクリル酸、及びそのエステル
類、メタクリル酸、及びそのエステル類をマット剤の組
成でトータル80モル%以上含有するマット剤が好まし
い。また、酸成分としては、5〜15モル%、さらに
は、7〜12モル%含むことが好ましい。例えば、本発
明の乳剤層用の好ましい高分子化合物マット剤について
記述すると、メタクリル酸メチル/アクリル酸の共重合
体(95〜85/5〜15(モル比))、メタクリル酸
メチル/メタクリル酸の共重合体(95〜85/5〜1
5(モル比))ジビニルベンゼン/メタクリル酸メチル
/メタクリル酸の共重合体(2〜5/50〜93/5〜
45(モル比))、その中でもより好ましいのはメタク
リル酸メチル/アクリル酸の共重合体(93〜88/7
〜12(モル比))、メタクリル酸メチル/メタクリル
酸の共重合体(93〜88/7〜12(モル比))、な
どである。他に、シロキサン樹脂粒子やベンゾグアナミ
ン樹脂粒子等もよい。以下に本発明の乳剤層用マット剤
の具体例を記すが、これに限定されるものではない。
酸、及びそのエステル類、メタクリル酸、及びそのエス
テル類、ビニルエステル類、スチレン類、オレフィン類
が好ましく用いられ、なかでも特に好ましいのはアクリ
ル酸,及びそのエステル類、メタクリル酸、及びそのエ
ステル類である。また、本発明には特開昭62−146
47号、同62−17744号、同62−17743号
に記載されているようなフッ素原子あるいはシリコン原
子を有する粒子を用いてもよい。本発明のマット剤の中
で特に好ましいものはアクリル酸、及びそのエステル
類、メタクリル酸、及びそのエステル類をマット剤の組
成でトータル80モル%以上含有するマット剤が好まし
い。また、酸成分としては、5〜15モル%、さらに
は、7〜12モル%含むことが好ましい。例えば、本発
明の乳剤層用の好ましい高分子化合物マット剤について
記述すると、メタクリル酸メチル/アクリル酸の共重合
体(95〜85/5〜15(モル比))、メタクリル酸
メチル/メタクリル酸の共重合体(95〜85/5〜1
5(モル比))ジビニルベンゼン/メタクリル酸メチル
/メタクリル酸の共重合体(2〜5/50〜93/5〜
45(モル比))、その中でもより好ましいのはメタク
リル酸メチル/アクリル酸の共重合体(93〜88/7
〜12(モル比))、メタクリル酸メチル/メタクリル
酸の共重合体(93〜88/7〜12(モル比))、な
どである。他に、シロキサン樹脂粒子やベンゾグアナミ
ン樹脂粒子等もよい。以下に本発明の乳剤層用マット剤
の具体例を記すが、これに限定されるものではない。
【0008】
【化1】
【0009】本発明の乳剤層用マット剤の他にアルカリ
処理により溶解するタイプのマット剤や、サイズが0.
5μm以下の無機化合物又は有機化合物からなる微粒子
をを含有させてもよい。アルカリ処理により溶解するタ
イプのマット剤としては先にあげた組成のマット剤の中
で架橋性モノマーを含まず、酸成分が40〜60モル
%、好ましくは43〜47モル%含まれるものが好まし
い。化合物例としては、メタクリル酸メチル/アクリル
酸の共重合体(60/40〜40/60(モル比))、
メタクリル酸メチル/メタクリル酸の共重合体(60/
40〜40/60(モル比))、その中でもより好まし
いのはメタクリル酸メチル/アクリル酸の共重合体(5
7/43〜53/47(モル比))、メタクリル酸メチ
ル/メタクリル酸の共重合体(57/43〜53/47
(モル比))、などである。これらのアルカリ処理によ
り溶解するタイプのマット剤の粒子サイズ分布はブロー
ドであってもシャープであってもよい。
処理により溶解するタイプのマット剤や、サイズが0.
5μm以下の無機化合物又は有機化合物からなる微粒子
をを含有させてもよい。アルカリ処理により溶解するタ
イプのマット剤としては先にあげた組成のマット剤の中
で架橋性モノマーを含まず、酸成分が40〜60モル
%、好ましくは43〜47モル%含まれるものが好まし
い。化合物例としては、メタクリル酸メチル/アクリル
酸の共重合体(60/40〜40/60(モル比))、
メタクリル酸メチル/メタクリル酸の共重合体(60/
40〜40/60(モル比))、その中でもより好まし
いのはメタクリル酸メチル/アクリル酸の共重合体(5
7/43〜53/47(モル比))、メタクリル酸メチ
ル/メタクリル酸の共重合体(57/43〜53/47
(モル比))、などである。これらのアルカリ処理によ
り溶解するタイプのマット剤の粒子サイズ分布はブロー
ドであってもシャープであってもよい。
【0010】また、微粒子としてはアルカリ不溶性であ
ることは好ましく、この微粒子は、高温高湿度の条件下
で本発明のマット剤が感光層を形成する膜の中に沈み込
むのを防ぎ、ブロッキング性をより向上させる効果があ
る。この微粒子の含有量は0.1〜2000mg/m2
であり、好ましくは1〜1500mg/m2 、より好ま
しくは10〜1000mg/m2 、更に好ましくは50
〜500mg/m2 である。この微粒子は、無機化合物
でも有機化合物でもよく、上記の本発明のマット剤と同
じ組成であっても良い。この微粒子は2種以上まぜて用
いることもできる。微粒子を含む層のバインダーがゼラ
チンを主な組成とするものであれば、二酸化ケイ素(シ
リカなど)と高分子化合物が好ましい。なかでも、シリ
カと、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、スチレン類、オレフィン類のな
かのモノマー化合物から得られる高分子化合物が特に好
ましい。高分子化合物の中で好ましく用いられる粒子と
しては、例えば、ポリスチレン、ポリメチル(メタ)ア
クリレート、ポリエチルアクリレート、ポリ(メタクリ
ル酸メチル/アクリル酸=90/10(モル比))、ポ
リ(スチレン/アクリル酸=95/5(モル比))、ポ
リ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸=90/10
(モル比))、ポリ(スチレン/スチレンスルホン酸=
95/5(モル比))、ポリアクリロニトリル、ポリ
(メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリル
酸=50/40/10(モル比))、ポリテトラフルオ
ロエチレン、セルロースアセテート、ポリプロピルメタ
クリレート、ポリエチレンカーボネートやでんぷん等が
あり、またそれらの粉砕分級物もあげられる。などを挙
げることができる。本発明で用いられる無機粒子として
は、酸化アルミニウム(α−アルミナ、γ−アルミナ、
コランダム等)、酸化クロム(Cr2 O3 )、酸化鉄
(α−Fe2O3 )、シリカ、コロイダルシリカ、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の酸化物、シリコンカー
バイト(SiC)、炭化珪素、炭化チタン等の炭化物、
ダイヤモンド等の微粉末、炭酸カルシウム、水酸化アル
ミニウム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウムバリウ
ム、マンガンコロイド等があげられる。
ることは好ましく、この微粒子は、高温高湿度の条件下
で本発明のマット剤が感光層を形成する膜の中に沈み込
むのを防ぎ、ブロッキング性をより向上させる効果があ
る。この微粒子の含有量は0.1〜2000mg/m2
であり、好ましくは1〜1500mg/m2 、より好ま
しくは10〜1000mg/m2 、更に好ましくは50
〜500mg/m2 である。この微粒子は、無機化合物
でも有機化合物でもよく、上記の本発明のマット剤と同
じ組成であっても良い。この微粒子は2種以上まぜて用
いることもできる。微粒子を含む層のバインダーがゼラ
チンを主な組成とするものであれば、二酸化ケイ素(シ
リカなど)と高分子化合物が好ましい。なかでも、シリ
カと、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、スチレン類、オレフィン類のな
かのモノマー化合物から得られる高分子化合物が特に好
ましい。高分子化合物の中で好ましく用いられる粒子と
しては、例えば、ポリスチレン、ポリメチル(メタ)ア
クリレート、ポリエチルアクリレート、ポリ(メタクリ
ル酸メチル/アクリル酸=90/10(モル比))、ポ
リ(スチレン/アクリル酸=95/5(モル比))、ポ
リ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸=90/10
(モル比))、ポリ(スチレン/スチレンスルホン酸=
95/5(モル比))、ポリアクリロニトリル、ポリ
(メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリル
酸=50/40/10(モル比))、ポリテトラフルオ
ロエチレン、セルロースアセテート、ポリプロピルメタ
クリレート、ポリエチレンカーボネートやでんぷん等が
あり、またそれらの粉砕分級物もあげられる。などを挙
げることができる。本発明で用いられる無機粒子として
は、酸化アルミニウム(α−アルミナ、γ−アルミナ、
コランダム等)、酸化クロム(Cr2 O3 )、酸化鉄
(α−Fe2O3 )、シリカ、コロイダルシリカ、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の酸化物、シリコンカー
バイト(SiC)、炭化珪素、炭化チタン等の炭化物、
ダイヤモンド等の微粉末、炭酸カルシウム、水酸化アル
ミニウム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウムバリウ
ム、マンガンコロイド等があげられる。
【0011】また、本発明のマット剤の屈折率は、マッ
ト剤を含む層のバインダーの屈折率に対し±0.5以内
であることが好ましい。本発明のマット剤の屈折率は、
なるべくマット剤を含む層のバインダーの屈折率に近い
方がよく、好ましくはバインダーの屈折率に対し±0.
4以内、より好ましくは±0.3以内、更に好ましくは
±0.2以内、特に好ましくは±0.1以内である。乳
剤層にこれらのマット剤を添加したとき、その突起の高
さはそろっていることが好ましく、マット剤粒径の0.
1〜0.5、好ましくは0.15〜0.4倍であること
が好ましい。この突起高さはAFMなどで測定出来る。
ト剤を含む層のバインダーの屈折率に対し±0.5以内
であることが好ましい。本発明のマット剤の屈折率は、
なるべくマット剤を含む層のバインダーの屈折率に近い
方がよく、好ましくはバインダーの屈折率に対し±0.
4以内、より好ましくは±0.3以内、更に好ましくは
±0.2以内、特に好ましくは±0.1以内である。乳
剤層にこれらのマット剤を添加したとき、その突起の高
さはそろっていることが好ましく、マット剤粒径の0.
1〜0.5、好ましくは0.15〜0.4倍であること
が好ましい。この突起高さはAFMなどで測定出来る。
【0012】次にバック層側に添加するマット剤につい
て述べる。本発明で用いられるバック層側のマット剤
は、変動係数0.40以下の単分散粒子なら何でもよい
が、好ましくは0.30以下、より好ましくは0.20
以下である。数平均1次粒子径は0.2μm以上3μm
以下、好ましくは0.2〜1μm、さらに好ましくは
0.3〜0.9μmであることが好ましい。また、マッ
ト剤の含有量は2〜1000mg/m2 であり、好まし
くは5〜300mg/m 2 、より好ましくは10〜10
0mg/m2 である。さらに、表面形状の効果を効率良
く発揮させる為に、最外層側に位置する磁気記録層及び
/又は磁気記録層に隣接する層にこれら粒子を含有させ
ることが特に好ましい。例えば磁気記録層の上層にマッ
ト剤を含む層(マット層)を設けたり、最上層に位置す
るすべり層中に組み込んでも良い。また、バック層にこ
れらのマット剤を添加したとき、その突起の高さはそろ
っていることが好ましく、マット剤粒径の0.1〜0.
5、好ましくは0.15〜0.4倍であることが好まし
い。
て述べる。本発明で用いられるバック層側のマット剤
は、変動係数0.40以下の単分散粒子なら何でもよい
が、好ましくは0.30以下、より好ましくは0.20
以下である。数平均1次粒子径は0.2μm以上3μm
以下、好ましくは0.2〜1μm、さらに好ましくは
0.3〜0.9μmであることが好ましい。また、マッ
ト剤の含有量は2〜1000mg/m2 であり、好まし
くは5〜300mg/m 2 、より好ましくは10〜10
0mg/m2 である。さらに、表面形状の効果を効率良
く発揮させる為に、最外層側に位置する磁気記録層及び
/又は磁気記録層に隣接する層にこれら粒子を含有させ
ることが特に好ましい。例えば磁気記録層の上層にマッ
ト剤を含む層(マット層)を設けたり、最上層に位置す
るすべり層中に組み込んでも良い。また、バック層にこ
れらのマット剤を添加したとき、その突起の高さはそろ
っていることが好ましく、マット剤粒径の0.1〜0.
5、好ましくは0.15〜0.4倍であることが好まし
い。
【0013】バック層マット剤の種類としては無機粒
子、重合体粒子何でもよいが、PMMA、α−アルミ
ナ、シリカ、シロキサン粒子が好ましく、α−アルミ
ナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、PMMA、シリカ、
コロイダルシリカ、又は/及び二酸化チタン粒子が好ま
しい。但しこの限りではない。
子、重合体粒子何でもよいが、PMMA、α−アルミ
ナ、シリカ、シロキサン粒子が好ましく、α−アルミ
ナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、PMMA、シリカ、
コロイダルシリカ、又は/及び二酸化チタン粒子が好ま
しい。但しこの限りではない。
【0014】バック層マット剤に少なくとも一種の平均
1次粒子径が0.01μm以上0.2μm未満の単分散
無機粒子および/又は単分散重合体粒子をさらに添加し
てもよい。添加量は5〜500mg/m2 が好ましい。
1次粒子径が0.01μm以上0.2μm未満の単分散
無機粒子および/又は単分散重合体粒子をさらに添加し
てもよい。添加量は5〜500mg/m2 が好ましい。
【0015】本発明に使用する粒子の屈折率に特に制限
はないが、粒子を含有する層の屈折率に対して、その差
が0.08以下、より好ましくは0.04以下、さらに
好ましくは0.02以下であることが、ヘイズ等の媒体
の透明性を良化できる点で望ましい。
はないが、粒子を含有する層の屈折率に対して、その差
が0.08以下、より好ましくは0.04以下、さらに
好ましくは0.02以下であることが、ヘイズ等の媒体
の透明性を良化できる点で望ましい。
【0016】本発明に用いられる無機粒子及び有機高分
子粒子は、分散液中の粒子の分散性改良や凝集沈降の改
良や、耐久性(粒子の脱落防止など)の改良、走行性の
改良などの目的で、公知の表面処理をほどこすことが好
ましい。また、本発明に用いられる、無機粒子及び有機
高分子粒子は、後述する磁性体と同様な分散方法(分散
機など)を選択することができる。
子粒子は、分散液中の粒子の分散性改良や凝集沈降の改
良や、耐久性(粒子の脱落防止など)の改良、走行性の
改良などの目的で、公知の表面処理をほどこすことが好
ましい。また、本発明に用いられる、無機粒子及び有機
高分子粒子は、後述する磁性体と同様な分散方法(分散
機など)を選択することができる。
【0017】次に透明磁気記録層について述べる。透明
磁気記録層とは実質的に写真画質に影響を与えない程度
の透明性を有した磁気記録層を指し、ブルーフィルター
透過濃度で0〜0.2、好ましくは0〜0.15、より
好ましくは0〜0.10のものである。本発明で用いら
れる透明磁気記録層に含有される磁性粒子は、γ−Fe
2 O3などの強磁性酸化鉄(FeOx、4/3<x≦3
/2)、Co被着γ−Fe2 O 3 などのCo被着強磁性
酸化鉄(FeOx、4/3<x≦3/2)、Co被着マ
グネタイト、その他Co含有の強磁性酸化鉄、Co含有
マグネタイト、強磁性二酸化クロム、強磁性金属、強磁
性合金、さらにその他のフェライト、例えば六方晶系の
Baフェライト、Srフェライト、Pbフェライト、C
aフェライトあるいはこれらの固溶体またはイオン置換
体などを使用できる。
磁気記録層とは実質的に写真画質に影響を与えない程度
の透明性を有した磁気記録層を指し、ブルーフィルター
透過濃度で0〜0.2、好ましくは0〜0.15、より
好ましくは0〜0.10のものである。本発明で用いら
れる透明磁気記録層に含有される磁性粒子は、γ−Fe
2 O3などの強磁性酸化鉄(FeOx、4/3<x≦3
/2)、Co被着γ−Fe2 O 3 などのCo被着強磁性
酸化鉄(FeOx、4/3<x≦3/2)、Co被着マ
グネタイト、その他Co含有の強磁性酸化鉄、Co含有
マグネタイト、強磁性二酸化クロム、強磁性金属、強磁
性合金、さらにその他のフェライト、例えば六方晶系の
Baフェライト、Srフェライト、Pbフェライト、C
aフェライトあるいはこれらの固溶体またはイオン置換
体などを使用できる。
【0018】強磁性体の形状としては針状、米粒状、球
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換持性上好ましい。粒子の比表面積はSBET で20m2
/g以上が好ましく、30m2 /g以上が特に好まし
い。粒子サイズは、針状の場合は長軸が0.01〜0.
8μm、短軸は0.005〜0.4μmで長軸と短軸の
比は100:1〜2:1が好ましく、更に長軸は0.0
4〜0.4μm、短軸は0.01〜0.1μmがより好
ましく長軸と短軸の比は100:1〜3:1がより好ま
しい。磁性体の粒子サイズ分布はできるだけシャープな
方が好ましい。強磁性体の飽和磁化(σs)は50em
u/g以上、さらに好ましくは70emu/g以上であ
る。また、強磁性体の角型比(σr/σs)は40%以
上、さらには45%以上が好ましい。保磁力(Hc)は
200 Oe以上3000 Oe以下、好ましくは50
0 Oe以上2000 Oe以下である。
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換持性上好ましい。粒子の比表面積はSBET で20m2
/g以上が好ましく、30m2 /g以上が特に好まし
い。粒子サイズは、針状の場合は長軸が0.01〜0.
8μm、短軸は0.005〜0.4μmで長軸と短軸の
比は100:1〜2:1が好ましく、更に長軸は0.0
4〜0.4μm、短軸は0.01〜0.1μmがより好
ましく長軸と短軸の比は100:1〜3:1がより好ま
しい。磁性体の粒子サイズ分布はできるだけシャープな
方が好ましい。強磁性体の飽和磁化(σs)は50em
u/g以上、さらに好ましくは70emu/g以上であ
る。また、強磁性体の角型比(σr/σs)は40%以
上、さらには45%以上が好ましい。保磁力(Hc)は
200 Oe以上3000 Oe以下、好ましくは50
0 Oe以上2000 Oe以下である。
【0019】これらの強磁性体粒子を、例えば特開昭5
9−23505や特開平4−096052記載のものな
どのような、シリカおよび/またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平4−195726、同4一1
92116、同4−259911、同5−081652
記載のような無機および/または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。カップリング剤としては例え
ば、3−メルカプトプロピル トリメトキシシラン、3
−イソシアニルプロピル メチルジメトキシシラン、3
−(ポリ(重合度10)オキシエチニル)オキシプロピ
ル トリメトキシシラン、3−メトキシ(ポリ(重合度
6)オキシエチニル)オキシプロピル トリメトキシシ
ラン、デシルトリメトキシシランなどが用いられる。こ
れらのシランカップリング剤及びチタンカップリング剤
の磁気粒子に対する添加量は1.0〜200重量%であ
る。好ましくは1〜75重量%であり、より好ましくは
2〜50重量%である。又、これらのシランカップリン
グ剤及びチタンカップリング剤は磁気粒子への直接処理
方法やインテグラルブレンド法によって処理され、直接
法には乾式法、スラリー法、スプレー法がある。乾式法
では例えば、磁気粒子と少量の水、または有機溶剤、ま
たは水を含有する有機溶剤およびカップリング剤を混合
しオープンニーダーで攪拌して水、有機溶剤を除去した
後、更に微細分散するのが好ましい。
9−23505や特開平4−096052記載のものな
どのような、シリカおよび/またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平4−195726、同4一1
92116、同4−259911、同5−081652
記載のような無機および/または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。カップリング剤としては例え
ば、3−メルカプトプロピル トリメトキシシラン、3
−イソシアニルプロピル メチルジメトキシシラン、3
−(ポリ(重合度10)オキシエチニル)オキシプロピ
ル トリメトキシシラン、3−メトキシ(ポリ(重合度
6)オキシエチニル)オキシプロピル トリメトキシシ
ラン、デシルトリメトキシシランなどが用いられる。こ
れらのシランカップリング剤及びチタンカップリング剤
の磁気粒子に対する添加量は1.0〜200重量%であ
る。好ましくは1〜75重量%であり、より好ましくは
2〜50重量%である。又、これらのシランカップリン
グ剤及びチタンカップリング剤は磁気粒子への直接処理
方法やインテグラルブレンド法によって処理され、直接
法には乾式法、スラリー法、スプレー法がある。乾式法
では例えば、磁気粒子と少量の水、または有機溶剤、ま
たは水を含有する有機溶剤およびカップリング剤を混合
しオープンニーダーで攪拌して水、有機溶剤を除去した
後、更に微細分散するのが好ましい。
【0020】上記磁性体を後述するバインダー中に分散
する方法は、ニーダー、ピン型ミル、アニュラー型ミル
などが好ましく、ニーダーとピン型ミル、もしくはニー
ダーとアニュラー型ミルの併用も好ましい。ニーダーと
しては、開放型(オープン)、密閉型、連続型などがあ
り、その他3本ロールミル、ラボプラストミル等の混練
機も用いられる。またマイクロフルイダイザーによる分
散も好ましい。
する方法は、ニーダー、ピン型ミル、アニュラー型ミル
などが好ましく、ニーダーとピン型ミル、もしくはニー
ダーとアニュラー型ミルの併用も好ましい。ニーダーと
しては、開放型(オープン)、密閉型、連続型などがあ
り、その他3本ロールミル、ラボプラストミル等の混練
機も用いられる。またマイクロフルイダイザーによる分
散も好ましい。
【0021】磁気記録層の厚みは3μm以下、好ましく
は2μm以下、より好ましくはl.5μm以下である。
磁気粒子とバインダーの重量比は好ましくは0.5:1
00〜60:100からなり、より好ましくは1:10
0〜30:100である。磁性体としての塗布量は0.
005〜0.3g/m2 、好ましくは0.01〜0.1
5g/m2 、さらに好ましくは0.02〜0.1g/m
2 である。磁気記録層を付与したフイルムとしての保磁
力は500 Oe以上3000Oe以下、好ましくは8
00 Oe以上1500 Oe以下である。
は2μm以下、より好ましくはl.5μm以下である。
磁気粒子とバインダーの重量比は好ましくは0.5:1
00〜60:100からなり、より好ましくは1:10
0〜30:100である。磁性体としての塗布量は0.
005〜0.3g/m2 、好ましくは0.01〜0.1
5g/m2 、さらに好ましくは0.02〜0.1g/m
2 である。磁気記録層を付与したフイルムとしての保磁
力は500 Oe以上3000Oe以下、好ましくは8
00 Oe以上1500 Oe以下である。
【0022】磁気記録層は写真用支持体の全面またはス
トライプ状に設けることができる。支持体上に塗布され
た磁気記録層は必要により層中の磁性材料を直ちに乾燥
しながら配向させる処理を施したのち、形成した磁気記
録層を乾燥する。磁性体を配同させるには永久磁石やソ
レノイドコイルを用いる方法がある。永久磁石の強度は
2000 Oe以上が好ましく、3000 Oe以上が
特に好ましい。ソレノイドの場合は500 Oe以上で
もよい。また、乾燥時の配向のタイミングは磁気記録層
内の残留溶剤が5%〜70%の地点が望ましい。磁気記
録層には潤滑性向上、カール調節、帯電防止、接着防
止、ヘッド研磨、ゴミ付着防止などの機能を合せ持たせ
てもよい。
トライプ状に設けることができる。支持体上に塗布され
た磁気記録層は必要により層中の磁性材料を直ちに乾燥
しながら配向させる処理を施したのち、形成した磁気記
録層を乾燥する。磁性体を配同させるには永久磁石やソ
レノイドコイルを用いる方法がある。永久磁石の強度は
2000 Oe以上が好ましく、3000 Oe以上が
特に好ましい。ソレノイドの場合は500 Oe以上で
もよい。また、乾燥時の配向のタイミングは磁気記録層
内の残留溶剤が5%〜70%の地点が望ましい。磁気記
録層には潤滑性向上、カール調節、帯電防止、接着防
止、ヘッド研磨、ゴミ付着防止などの機能を合せ持たせ
てもよい。
【0023】本発明に用いられる磁気記録層等のバイン
ダーは熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、
アルカリもしくは生分解性ポリマー、天然物重合体(セ
ルロース誘導体、糖誘導体など)およびこれらの混合物
を使用することができる。バインダーの中で置換度1.
7〜2.9のセルロースエステルが、好ましく用いられ
る。特に好ましいのはセルロースジアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロ
ピオネートである。バインダー中に、極性基(エポキシ
基、CO2 M、OH、NR2 、NR3 X、SO3 M、O
SO3 M、PO3 M2 、OPO3 M2 、ただしMは水
素、アルカリ金属またはアンモニウムであり、一つの基
の中に複数のMがあるときは互いに異なっていてもよ
い、Rは水素またはアルキル基である)を導入してあっ
てもよい。
ダーは熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、
アルカリもしくは生分解性ポリマー、天然物重合体(セ
ルロース誘導体、糖誘導体など)およびこれらの混合物
を使用することができる。バインダーの中で置換度1.
7〜2.9のセルロースエステルが、好ましく用いられ
る。特に好ましいのはセルロースジアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロ
ピオネートである。バインダー中に、極性基(エポキシ
基、CO2 M、OH、NR2 、NR3 X、SO3 M、O
SO3 M、PO3 M2 、OPO3 M2 、ただしMは水
素、アルカリ金属またはアンモニウムであり、一つの基
の中に複数のMがあるときは互いに異なっていてもよ
い、Rは水素またはアルキル基である)を導入してあっ
てもよい。
【0024】バインダーは単独または数種混合で使用さ
れ、エポキシ系、アジリジン系、イソシアネート系の架
橋剤を添加してあっても良い。架橋剤を使用することに
より、層そのもの、あるいは層間の接着を強化できる。
イソシアネート系架橋剤としてはイソシアネート基を2
個以上有するポリイソシアネート化合物で、たとえばト
リレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1,
5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
ジイソシアネートなどのイソシアネート類、これらのイ
ソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物(例え
ば、トルレンジイソシアナート3molとトリメチロー
ルプロパン1molの反応生成物)、及びこれらのイソ
シアネート類の縮合により生成したポリイソシアネート
などが挙げられる。上記架橋剤の中で特に好ましいのは
下記の一般式(1)であらわされるイソシアネート系架
橋剤である。 一般式(1):
れ、エポキシ系、アジリジン系、イソシアネート系の架
橋剤を添加してあっても良い。架橋剤を使用することに
より、層そのもの、あるいは層間の接着を強化できる。
イソシアネート系架橋剤としてはイソシアネート基を2
個以上有するポリイソシアネート化合物で、たとえばト
リレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1,
5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
ジイソシアネートなどのイソシアネート類、これらのイ
ソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物(例え
ば、トルレンジイソシアナート3molとトリメチロー
ルプロパン1molの反応生成物)、及びこれらのイソ
シアネート類の縮合により生成したポリイソシアネート
などが挙げられる。上記架橋剤の中で特に好ましいのは
下記の一般式(1)であらわされるイソシアネート系架
橋剤である。 一般式(1):
【0025】
【化2】
【0026】nは1〜50の範囲が好ましいが、より好
ましくは0〜30、さらに好ましくは0〜10である。
n数は単一である必要はなく、分布を持っていても構わ
ない。mは1〜2の整数である。R1 、R2 、R3 は
H、アルキル基(C1 以上)、あるいはアリール基(C
6 以上)である。この様な架橋剤の好ましい粘度は50
(cP/25℃)〜1000(cP/25℃)である。
またこのような架橋剤の好ましいNCO含有率は20〜
40%である。より好ましくは25〜35%である。こ
の様な架橋剤の市販品としては、日本ポリウレタン
(株)製の「ミリオネートMT」、「ミリオネートMR
−100」、「ミリオネートMR−200」、「ミリオ
ネートMR−300」、「ミリオネートMR−40
0」、住友バイエルウレタン(株)製の「スミジュール
44V10」(以上、いずれも商品名)等が挙げられ
る。上記架橋剤の塗布量は、3mg/m2 以上1000
mg/m2 以下で含まれることが好ましいが、より好ま
しくは5mg/m2 以上500mg/m2 以下であり、
さらに好ましくは10mg/m2 以上300mg/m2
以下である。このような架橋剤が充分に架橋を行うため
に、50℃以上、好ましくは70℃以上で、1分〜72
時間の加熱乾燥を行うことが好ましい。
ましくは0〜30、さらに好ましくは0〜10である。
n数は単一である必要はなく、分布を持っていても構わ
ない。mは1〜2の整数である。R1 、R2 、R3 は
H、アルキル基(C1 以上)、あるいはアリール基(C
6 以上)である。この様な架橋剤の好ましい粘度は50
(cP/25℃)〜1000(cP/25℃)である。
またこのような架橋剤の好ましいNCO含有率は20〜
40%である。より好ましくは25〜35%である。こ
の様な架橋剤の市販品としては、日本ポリウレタン
(株)製の「ミリオネートMT」、「ミリオネートMR
−100」、「ミリオネートMR−200」、「ミリオ
ネートMR−300」、「ミリオネートMR−40
0」、住友バイエルウレタン(株)製の「スミジュール
44V10」(以上、いずれも商品名)等が挙げられ
る。上記架橋剤の塗布量は、3mg/m2 以上1000
mg/m2 以下で含まれることが好ましいが、より好ま
しくは5mg/m2 以上500mg/m2 以下であり、
さらに好ましくは10mg/m2 以上300mg/m2
以下である。このような架橋剤が充分に架橋を行うため
に、50℃以上、好ましくは70℃以上で、1分〜72
時間の加熱乾燥を行うことが好ましい。
【0027】上記の様な架橋剤を使用する際、3級アミ
ン系、金属塩系、DBU(1,8−ジアザ−ビシクロ
〔5,4,0〕ウンデセン−7)系化合物の中から少な
くとも1種類以上を同時に使用することで、層そのも
の、あるいは層とこれに隣接する層との架橋反応速度を
促進させることができ、耐久性向上のための架橋反応時
間を短縮させることができる。3級アミン系では、例え
ば、Bruinsらの”Polyurethane T
echnology”P.25,Interscien
ce(1960)に記載されているような、テトラメチ
ルブタンジアミンや1,4−ジアザビシクロ〔2,2,
2〕オクタンやトリエチルアミンなどが挙げられる。ま
た金属塩系では、例えば、ジブチルすずジラウレート、
オクトエ酸すず、ナフテン酸コバルト、塩化第1すず、
テトラ−n−ブチルすず、塩化第2すず、トリメチルす
ずヒドロキシド、ジメチル2塩化すずなどが挙げられ
る。このような化合物は、例えば、磁気記録層塗布液中
に上記架橋剤とともに添加した後、塗布するか、または
/さらに磁気記録層の下層または/さらに上層の塗布液
中に添加しておいて、磁気記録層への該化合物の拡散を
利用しても良い。
ン系、金属塩系、DBU(1,8−ジアザ−ビシクロ
〔5,4,0〕ウンデセン−7)系化合物の中から少な
くとも1種類以上を同時に使用することで、層そのも
の、あるいは層とこれに隣接する層との架橋反応速度を
促進させることができ、耐久性向上のための架橋反応時
間を短縮させることができる。3級アミン系では、例え
ば、Bruinsらの”Polyurethane T
echnology”P.25,Interscien
ce(1960)に記載されているような、テトラメチ
ルブタンジアミンや1,4−ジアザビシクロ〔2,2,
2〕オクタンやトリエチルアミンなどが挙げられる。ま
た金属塩系では、例えば、ジブチルすずジラウレート、
オクトエ酸すず、ナフテン酸コバルト、塩化第1すず、
テトラ−n−ブチルすず、塩化第2すず、トリメチルす
ずヒドロキシド、ジメチル2塩化すずなどが挙げられ
る。このような化合物は、例えば、磁気記録層塗布液中
に上記架橋剤とともに添加した後、塗布するか、または
/さらに磁気記録層の下層または/さらに上層の塗布液
中に添加しておいて、磁気記録層への該化合物の拡散を
利用しても良い。
【0028】本発明で使用されるフィルム支持体として
はトリアセチルセルロース(TAC)、ポリアミド、ポ
リカーボネート及びポリエステル等があり、ポリエステ
ルが好ましい。これらのポリエステルの好ましい平均分
子量の範囲は約5000ないし200000である。本
発明で用いられるポリエステルはそのTgが70℃以上
200℃以下であり、90℃以上180℃以下が好まし
い。具体的には下記のような化合物例を示すことができ
る。
はトリアセチルセルロース(TAC)、ポリアミド、ポ
リカーボネート及びポリエステル等があり、ポリエステ
ルが好ましい。これらのポリエステルの好ましい平均分
子量の範囲は約5000ないし200000である。本
発明で用いられるポリエステルはそのTgが70℃以上
200℃以下であり、90℃以上180℃以下が好まし
い。具体的には下記のような化合物例を示すことができ
る。
【0029】 P−1:〔テレフタル酸(TPA)/エチレングリコール(EG)) (100/100)〕 (PET) Tg=80℃ P−2:〔2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDCA)/エチレングリ コール(EG)(100/100)〕(PEN) Tg=119℃ P−3:2,6−NDCA/TPA/EG(50/50/100) Tg=92℃ P−4:PEN/PET(60/40) Tg=95℃ P−5:PEN/PET(80/20) Tg=104℃
【0030】ポリエステルの中で好ましいのは2,6−
ナフタレンジカルボン酸を含むポリエステルであり、全
ジカルボン酸中に2,6−ナフタレンジカルボン酸を1
0モル%以上含むポリエステルである。中でも特に好ま
しいのはポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキ
シレートである。また、支持体の厚みは80〜115μ
mが好ましく、特に好ましくは85〜105μmであ
る。更にポリエステル支持体は感光層を塗布する前に4
0℃以上ガラス転移温度以下の温度で、0.1〜150
0時間熱処理を施すと、ロール状の感光材料としたと
き、巻きぐせをつきにくくすることができる。
ナフタレンジカルボン酸を含むポリエステルであり、全
ジカルボン酸中に2,6−ナフタレンジカルボン酸を1
0モル%以上含むポリエステルである。中でも特に好ま
しいのはポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキ
シレートである。また、支持体の厚みは80〜115μ
mが好ましく、特に好ましくは85〜105μmであ
る。更にポリエステル支持体は感光層を塗布する前に4
0℃以上ガラス転移温度以下の温度で、0.1〜150
0時間熱処理を施すと、ロール状の感光材料としたと
き、巻きぐせをつきにくくすることができる。
【0031】支持体はベース色味のニュートラル化、ラ
イトパイピング防止、ハレーション防止などの目的のた
めに染料を含有してもよい。これら支持体上に写真層
(例えば、感光性ハロゲン化銀乳剤層、中間層、フィル
ター層、磁気記録層、導電性層)を強固に接着させるた
めに、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理
などの表面活性化処理をした後、直接写真乳剤を塗布し
て接着力を得ても良いし、一旦これらの表面処理をした
後、あるいは表面処理無しで下塗り層を設け、この上に
写真乳剤層を塗布しても良い。
イトパイピング防止、ハレーション防止などの目的のた
めに染料を含有してもよい。これら支持体上に写真層
(例えば、感光性ハロゲン化銀乳剤層、中間層、フィル
ター層、磁気記録層、導電性層)を強固に接着させるた
めに、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理
などの表面活性化処理をした後、直接写真乳剤を塗布し
て接着力を得ても良いし、一旦これらの表面処理をした
後、あるいは表面処理無しで下塗り層を設け、この上に
写真乳剤層を塗布しても良い。
【0032】帯電防止剤として好ましいものは、Zn
O、TiO2 、SnO2 、Al2 O3、In2 O3 、S
iO2 、MgO、BaO、MoO3 、V2 O5 の中から
選ばれた少くとも1種の結晶性の金属酸化物あるいはこ
れらの複合酸化物(Sb、P、B、In、S,Si、C
など)の微粒子、更にはゾル状の金属酸化物あるいはこ
れらの複合酸化物の微粒子である。本発明に使用される
導電性の結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子また
は針状フィラーはその体積抵抗率が107 Ω-cm 以下、
より好ましくは105 Ω-c m 以下である。またその粒子
サイズは0.001〜1.0μm、特に0.001〜
0.3μmとすることが望ましい。更に効率良く導電性
を与えるために、一次微粒子を一部凝集させて0.01
〜0.2μmにした導電性の結晶性酸化物又はその複合
酸化物の微粒子やフィラーを用いることが好ましい。更
に、これらを用いて帯電防止層を作製する場合に到達す
る導電性としては、好ましくは生,処理後共にその電気
抵抗が1012Ω以下であり、より好ましくは1010Ω以
下、特に好ましいのは電気抵抗が109.5 Ω以下であ
る。その場合一般的に感材への含有量としては、5〜50
0 mg/m2 が好ましく特に好ましくは10〜350 mg/
m2 である。また、バインダーの量は1〜500mg/
m2 が好ましく、特に5〜300mg/m2 が好まし
い。導電性の結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子
または針状フィラーとバインダーの量の比は1/300
〜100/1が好ましく、より好ましくは1/100〜
100/5である。
O、TiO2 、SnO2 、Al2 O3、In2 O3 、S
iO2 、MgO、BaO、MoO3 、V2 O5 の中から
選ばれた少くとも1種の結晶性の金属酸化物あるいはこ
れらの複合酸化物(Sb、P、B、In、S,Si、C
など)の微粒子、更にはゾル状の金属酸化物あるいはこ
れらの複合酸化物の微粒子である。本発明に使用される
導電性の結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子また
は針状フィラーはその体積抵抗率が107 Ω-cm 以下、
より好ましくは105 Ω-c m 以下である。またその粒子
サイズは0.001〜1.0μm、特に0.001〜
0.3μmとすることが望ましい。更に効率良く導電性
を与えるために、一次微粒子を一部凝集させて0.01
〜0.2μmにした導電性の結晶性酸化物又はその複合
酸化物の微粒子やフィラーを用いることが好ましい。更
に、これらを用いて帯電防止層を作製する場合に到達す
る導電性としては、好ましくは生,処理後共にその電気
抵抗が1012Ω以下であり、より好ましくは1010Ω以
下、特に好ましいのは電気抵抗が109.5 Ω以下であ
る。その場合一般的に感材への含有量としては、5〜50
0 mg/m2 が好ましく特に好ましくは10〜350 mg/
m2 である。また、バインダーの量は1〜500mg/
m2 が好ましく、特に5〜300mg/m2 が好まし
い。導電性の結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子
または針状フィラーとバインダーの量の比は1/300
〜100/1が好ましく、より好ましくは1/100〜
100/5である。
【0033】また、本発明の透明な磁気記録媒体には、
そのほか、染料、界面活性剤等を含有する事が出来る。
さらに、本発明の透明磁気記録媒体の透明磁気記録層側
の少なくともいずれか1層にシリコーン系化合物やフッ
素系化合物(含フッ素化合物)を組み込むことは、媒体
表面に汚れが付着しにくくなり、従って、磁気ヘッド表
面に汚れが転写しにくくなるので、磁気入出力トラブル
を低減できる点で好ましい。例えば、住友3M(株)製
のFC−431等が挙げられる。
そのほか、染料、界面活性剤等を含有する事が出来る。
さらに、本発明の透明磁気記録媒体の透明磁気記録層側
の少なくともいずれか1層にシリコーン系化合物やフッ
素系化合物(含フッ素化合物)を組み込むことは、媒体
表面に汚れが付着しにくくなり、従って、磁気ヘッド表
面に汚れが転写しにくくなるので、磁気入出力トラブル
を低減できる点で好ましい。例えば、住友3M(株)製
のFC−431等が挙げられる。
【0034】本発明の透明磁気記録媒体に用いられる滑
り剤としては、例えば、高級脂肪酸エステル(炭素数1
0〜24の脂肪酸と炭素数10〜60のアルコールのエ
ステル)が好ましい。滑り剤の使用量は0.001〜
0.1g/m2 が好ましく、より好ましくは0.005
〜0.05g/m2 である。
り剤としては、例えば、高級脂肪酸エステル(炭素数1
0〜24の脂肪酸と炭素数10〜60のアルコールのエ
ステル)が好ましい。滑り剤の使用量は0.001〜
0.1g/m2 が好ましく、より好ましくは0.005
〜0.05g/m2 である。
【0035】ポリオルガノシロキサンは、一般的に知ら
れている、ポリジメチルシロキサンポリジエチルシロキ
サン等のポリアルキルシロキサン、ポリジフェニルシロ
キサン、ポリメチルフェニルシロキサン等のポリアリー
ルシロキサンのほかに、特公昭53−292、特公昭5
5−49294、特開昭60−140341等に示され
るような、C5 以上のアルキル基を持つオルガノポリシ
ロキサン、側鎖にポリオキシアルキレン基を有するアル
キルポリシロキサン、側鎖にアルコキシ、ヒドロキシ、
水素、カルボキシル、アミノ、メルカプト基を有するよ
うなオルガノポリシロキサン等の変性ポリシロキサンを
用いることもできるし、シロキサンユニットを有するブ
ロックコポリマーや、特開昭60−191240に示さ
れるようなシロキサンユニットを側鎖に持つグラフトコ
ポリマーを用いることもできる。
れている、ポリジメチルシロキサンポリジエチルシロキ
サン等のポリアルキルシロキサン、ポリジフェニルシロ
キサン、ポリメチルフェニルシロキサン等のポリアリー
ルシロキサンのほかに、特公昭53−292、特公昭5
5−49294、特開昭60−140341等に示され
るような、C5 以上のアルキル基を持つオルガノポリシ
ロキサン、側鎖にポリオキシアルキレン基を有するアル
キルポリシロキサン、側鎖にアルコキシ、ヒドロキシ、
水素、カルボキシル、アミノ、メルカプト基を有するよ
うなオルガノポリシロキサン等の変性ポリシロキサンを
用いることもできるし、シロキサンユニットを有するブ
ロックコポリマーや、特開昭60−191240に示さ
れるようなシロキサンユニットを側鎖に持つグラフトコ
ポリマーを用いることもできる。
【0036】又、高級脂肪酸及びその誘導体、高級アル
コール及びその誘導体としては、高級脂肪酸、高級脂肪
酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、
高級脂肪酸の多価アルコールエステル等、また、高級脂
肪族アルコール、高級脂肪族アルコールのモノアルキル
フォスファイト、ジアルキルフォスファイト、トリアル
キルフォスファイト、モノアルキルフォスフェート、ジ
アルキルフォスフェート、トリアルキルフォスフェー
ト、高級脂肪族のアルキルスルフォン酸、そのアミド化
合物またはその塩等を用いることができる。
コール及びその誘導体としては、高級脂肪酸、高級脂肪
酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、
高級脂肪酸の多価アルコールエステル等、また、高級脂
肪族アルコール、高級脂肪族アルコールのモノアルキル
フォスファイト、ジアルキルフォスファイト、トリアル
キルフォスファイト、モノアルキルフォスフェート、ジ
アルキルフォスフェート、トリアルキルフォスフェー
ト、高級脂肪族のアルキルスルフォン酸、そのアミド化
合物またはその塩等を用いることができる。
【0037】一般式(1)、(2)で表されるような、
長鎖アルキル化合物は現像処理前、処理後供に十分な滑
り性、耐傷性が得られる点で好ましい。 一般式(1) R1 X1 R2 一般式(2) R3 X2 R4 X3 R5 一般式(3) R6 YBD この一般式(1)において、R1 、R2 は、脂肪族炭化
水素基である。この化合物の総炭素数は25以上120
以下が必要である。総炭素数は十分な滑り性を得るため
には、25以上が必要となる。また、総炭素数が120
より多くなると有機溶剤に対する溶解性が悪く、分散や
塗布による付与が困難となる。総炭素数としてより好ま
しくは30以上100以下、さらに好ましくは40以上
80以下である。また、R1 、R2 は、十分な耐傷性、
及び種々の使用条件での滑り性の悪化を抑えるため、そ
れぞれ炭素数10以上70以下の脂肪族炭化水素基であ
る事が好ましい。この脂肪族炭化水素基は、直鎖構造で
も良いし、不飽和結合を含んでいても良いし、一部置換
基を持っていても良いし、分岐構造を持っていても良
い。このうち、耐傷性の観点で特に好ましいのは直鎖構
造である。R1 、R2の炭素数として、さらに好ましい
のは、15以上50以下である。
長鎖アルキル化合物は現像処理前、処理後供に十分な滑
り性、耐傷性が得られる点で好ましい。 一般式(1) R1 X1 R2 一般式(2) R3 X2 R4 X3 R5 一般式(3) R6 YBD この一般式(1)において、R1 、R2 は、脂肪族炭化
水素基である。この化合物の総炭素数は25以上120
以下が必要である。総炭素数は十分な滑り性を得るため
には、25以上が必要となる。また、総炭素数が120
より多くなると有機溶剤に対する溶解性が悪く、分散や
塗布による付与が困難となる。総炭素数としてより好ま
しくは30以上100以下、さらに好ましくは40以上
80以下である。また、R1 、R2 は、十分な耐傷性、
及び種々の使用条件での滑り性の悪化を抑えるため、そ
れぞれ炭素数10以上70以下の脂肪族炭化水素基であ
る事が好ましい。この脂肪族炭化水素基は、直鎖構造で
も良いし、不飽和結合を含んでいても良いし、一部置換
基を持っていても良いし、分岐構造を持っていても良
い。このうち、耐傷性の観点で特に好ましいのは直鎖構
造である。R1 、R2の炭素数として、さらに好ましい
のは、15以上50以下である。
【0038】一般式(2)において、R3 、R4 、R5
は脂肪族炭化水素基である。この化合物の総炭素数は3
0以上150以下が必要である。総炭素数は十分な滑り
性を得るためには、30以上が必要となる。総炭素数と
してより好ましくは40以上130以下、さらに好まし
くは50以上120以下である。また、十分な耐傷性、
及び種々の使用条件での滑り性の悪化を抑えるため、R
3 、R5 は、それぞれ炭素数10以上70以下の脂肪族
炭化水素基、R4 は、炭素数10以上50以下の脂肪族
炭化水素基である事が好ましい。また、炭素数70以上
の片末端官能基化された脂肪族化合物は、一般的に知ら
れていない。この脂肪族炭化水素基は、直鎖構造でも良
いし、不飽和結合を含んでいても良いし、一部置換基を
持っていても良いし、分岐構造を持っていても良い。こ
のうち、耐傷性の観点で特に好ましいのは直鎖構造であ
る。R3 、R5 の炭素数として、特に好ましいのは、1
5以上50以下である。この脂肪族炭化水素基について
も、直鎖構造でも良いし、不飽和結合を含んでいても良
いし、一部置換基を持っていても良いし、分岐構造を持
っていても良い。このうち、耐傷性の観点で特に好まし
いのは直鎖構造である。R4 の炭素数として、好ましい
のは、10以上30以下である。特に好ましいのは、1
2以上25以下である。また、一般式(1)、(2)に
おいて、X1 、X2 、X3 は二価の連結基である。具体
的には、-C(O)O-,-C(O)NR-、-SO3-、-OSO3-、-SO2NR-
、-O- 、-S- 、-NR-、-OC(O)NR- 等が示される(R
は、Hまたは炭素数8以下のアルキル基を示す)。この
一般式(1)、(2)で表される化合物の具体例を示
す。
は脂肪族炭化水素基である。この化合物の総炭素数は3
0以上150以下が必要である。総炭素数は十分な滑り
性を得るためには、30以上が必要となる。総炭素数と
してより好ましくは40以上130以下、さらに好まし
くは50以上120以下である。また、十分な耐傷性、
及び種々の使用条件での滑り性の悪化を抑えるため、R
3 、R5 は、それぞれ炭素数10以上70以下の脂肪族
炭化水素基、R4 は、炭素数10以上50以下の脂肪族
炭化水素基である事が好ましい。また、炭素数70以上
の片末端官能基化された脂肪族化合物は、一般的に知ら
れていない。この脂肪族炭化水素基は、直鎖構造でも良
いし、不飽和結合を含んでいても良いし、一部置換基を
持っていても良いし、分岐構造を持っていても良い。こ
のうち、耐傷性の観点で特に好ましいのは直鎖構造であ
る。R3 、R5 の炭素数として、特に好ましいのは、1
5以上50以下である。この脂肪族炭化水素基について
も、直鎖構造でも良いし、不飽和結合を含んでいても良
いし、一部置換基を持っていても良いし、分岐構造を持
っていても良い。このうち、耐傷性の観点で特に好まし
いのは直鎖構造である。R4 の炭素数として、好ましい
のは、10以上30以下である。特に好ましいのは、1
2以上25以下である。また、一般式(1)、(2)に
おいて、X1 、X2 、X3 は二価の連結基である。具体
的には、-C(O)O-,-C(O)NR-、-SO3-、-OSO3-、-SO2NR-
、-O- 、-S- 、-NR-、-OC(O)NR- 等が示される(R
は、Hまたは炭素数8以下のアルキル基を示す)。この
一般式(1)、(2)で表される化合物の具体例を示
す。
【0039】
【化3】
【0040】更に好ましい滑り剤としては、前述一般式
(1)、(2)中のR1 、R2 の少なくとも一方にまた
は、R3 、R4 、R5 の少なくとも一方に、極性の置換
基を持つ化合物である。ここで言う極性置換基とは、水
素結合をしうる基、もしくはイオン性解離基の事を示
す。極性置換基としては、特に制限されないが、−O
H、−COOH、−COOM、−NH3 、−NR4 + A
- 、−CONH2 等が好ましい。ここで、Mはアルカリ
金属、アルカリ土類金属、4級アンモニウム塩等のカチ
オン、RはHまたは炭素数8以下の炭化水素基、A- は
ハロゲン原子等のアニオンである。また、これらの基の
うち−OHは特に好ましい。この極性の置換基は、1分
子中にいくつあっても良い。
(1)、(2)中のR1 、R2 の少なくとも一方にまた
は、R3 、R4 、R5 の少なくとも一方に、極性の置換
基を持つ化合物である。ここで言う極性置換基とは、水
素結合をしうる基、もしくはイオン性解離基の事を示
す。極性置換基としては、特に制限されないが、−O
H、−COOH、−COOM、−NH3 、−NR4 + A
- 、−CONH2 等が好ましい。ここで、Mはアルカリ
金属、アルカリ土類金属、4級アンモニウム塩等のカチ
オン、RはHまたは炭素数8以下の炭化水素基、A- は
ハロゲン原子等のアニオンである。また、これらの基の
うち−OHは特に好ましい。この極性の置換基は、1分
子中にいくつあっても良い。
【0041】一般式(1)、(2)で表される滑り剤の
使用量は特に限定されないが、その含有量は十分な滑
り、耐傷性を発現するためには0.001〜0.1g/
m2 が好ましく、より好ましくは0.005〜0.05
g/m2 である。以下に具体例を挙げるがこれに限定さ
れない。
使用量は特に限定されないが、その含有量は十分な滑
り、耐傷性を発現するためには0.001〜0.1g/
m2 が好ましく、より好ましくは0.005〜0.05
g/m2 である。以下に具体例を挙げるがこれに限定さ
れない。
【0042】
【化4】
【0043】
【化5】
【0044】前述一般式(1)、(2)の化合物は疎水
性が高いため溶剤にたいして溶解性が悪いものが多い。
そのためトルエンやキシレン等の非極性の有機溶剤中に
溶解する方法または塗布液中に分散する方法があるが非
極性有機溶剤は取扱い難いため分散する方法が好まし
い。この時滑り剤兼分散剤として一般式(3)に記載の
ものを併用または単独使用すると良い。一般式(3)に
おいて、R6 は、炭素数25以上70以下の脂肪族炭化
水素基である。この炭化水素基は、不飽和結合を含んで
いても良く、各種置換基で置換されていても良く、分岐
構造を含んでいても良い。滑り性、耐傷性のために特に
好ましいのは、直鎖脂肪族炭化水素基である。この炭化
水素基の炭素数は、25以上70以下の範囲である。炭
素数として、特に好ましいのは、30以上、60以下で
ある。また、Yは二価の連結基である。具体的には-C
(O)O- 、-OCO- 、-C(O)NR'- 、-NR'CO- 、-SO2NR'-、-N
R'SO2-、-O- 、-S- 、-NR-、-OCOR''COO- 、-OCOR''O-
等をあげる事ができる(R'は、Hまたは炭素数8以下の
炭化水素基を示す。また、R'' は、炭素数0から8まで
の炭化水素基を示す)。また、Bは、-(CH2CH2O)a-、ま
たは-(CH2CH(OH)CH2O)b-、または-((CH2)cCH(R)CH2O)d
-、または-(CH2CH2O)e-(CH2CH(OH)CH2O)f-((CH2)cCH(R)
CH2O)g-のいずれかのユニットからなり、a は3〜4
0、b 、d は3〜30、c は1〜3、e は0〜40、f
、g は0〜30であり、e +f +g は3〜40、Rは
H、CH3 、フェニル基である。また、長すぎると十分
な滑り、耐傷性が発現しない、処理後、経時による滑り
性の悪化が起こる等の問題が生じる。上記のノニオン性
基のうち特に好ましいものは-(CH2CH2O)a-であり、a は
好ましくは5〜30である。この一般式(3)対滑り剤
(1)または(2)の使用比は、好ましくは1:9〜
9:1、より好ましくは6:4〜2:8である。この一
般式(3)で表される化合物の具体例を示す。
性が高いため溶剤にたいして溶解性が悪いものが多い。
そのためトルエンやキシレン等の非極性の有機溶剤中に
溶解する方法または塗布液中に分散する方法があるが非
極性有機溶剤は取扱い難いため分散する方法が好まし
い。この時滑り剤兼分散剤として一般式(3)に記載の
ものを併用または単独使用すると良い。一般式(3)に
おいて、R6 は、炭素数25以上70以下の脂肪族炭化
水素基である。この炭化水素基は、不飽和結合を含んで
いても良く、各種置換基で置換されていても良く、分岐
構造を含んでいても良い。滑り性、耐傷性のために特に
好ましいのは、直鎖脂肪族炭化水素基である。この炭化
水素基の炭素数は、25以上70以下の範囲である。炭
素数として、特に好ましいのは、30以上、60以下で
ある。また、Yは二価の連結基である。具体的には-C
(O)O- 、-OCO- 、-C(O)NR'- 、-NR'CO- 、-SO2NR'-、-N
R'SO2-、-O- 、-S- 、-NR-、-OCOR''COO- 、-OCOR''O-
等をあげる事ができる(R'は、Hまたは炭素数8以下の
炭化水素基を示す。また、R'' は、炭素数0から8まで
の炭化水素基を示す)。また、Bは、-(CH2CH2O)a-、ま
たは-(CH2CH(OH)CH2O)b-、または-((CH2)cCH(R)CH2O)d
-、または-(CH2CH2O)e-(CH2CH(OH)CH2O)f-((CH2)cCH(R)
CH2O)g-のいずれかのユニットからなり、a は3〜4
0、b 、d は3〜30、c は1〜3、e は0〜40、f
、g は0〜30であり、e +f +g は3〜40、Rは
H、CH3 、フェニル基である。また、長すぎると十分
な滑り、耐傷性が発現しない、処理後、経時による滑り
性の悪化が起こる等の問題が生じる。上記のノニオン性
基のうち特に好ましいものは-(CH2CH2O)a-であり、a は
好ましくは5〜30である。この一般式(3)対滑り剤
(1)または(2)の使用比は、好ましくは1:9〜
9:1、より好ましくは6:4〜2:8である。この一
般式(3)で表される化合物の具体例を示す。
【0045】
【化6】
【0046】次に本発明の写真感光材料の写真層につい
て記載する。本発明のハロゲン化銀乳剤層としては撮影
用のものであれば黒白用カラー用何れでもよい。ここで
はカラーハロゲン化銀写真感光材料について説明する。
本発明の感光材料は、支持体上に青感色性層、緑感色性
層、赤感色性層のハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層
が設けられていればよく、ハロゲン化銀乳剤層および非
感光性層の層数および層順に特に制限はない。典型的な
例としては、支持体上に、実質的に感色性は同じである
が感光度の異なる複数のハロゲン化銀乳剤層から成る感
光性層を少なくとも1つ有するハロゲン化銀写真感光材
料であり、該感光性層は青色光、緑色光、および赤色光
の何れかに感色性を有する単位感光性層であり、多層ハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料においては、一般に単位
感光性層の配列が、支持体側から順に赤感色性層、緑感
色性層、青感色性の順に設置される。しかし、目的に応
じて上記設置順が逆であっても、また同一感色性層中に
異なる感光性層が挟まれたような設置順をも取り得る。
て記載する。本発明のハロゲン化銀乳剤層としては撮影
用のものであれば黒白用カラー用何れでもよい。ここで
はカラーハロゲン化銀写真感光材料について説明する。
本発明の感光材料は、支持体上に青感色性層、緑感色性
層、赤感色性層のハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層
が設けられていればよく、ハロゲン化銀乳剤層および非
感光性層の層数および層順に特に制限はない。典型的な
例としては、支持体上に、実質的に感色性は同じである
が感光度の異なる複数のハロゲン化銀乳剤層から成る感
光性層を少なくとも1つ有するハロゲン化銀写真感光材
料であり、該感光性層は青色光、緑色光、および赤色光
の何れかに感色性を有する単位感光性層であり、多層ハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料においては、一般に単位
感光性層の配列が、支持体側から順に赤感色性層、緑感
色性層、青感色性の順に設置される。しかし、目的に応
じて上記設置順が逆であっても、また同一感色性層中に
異なる感光性層が挟まれたような設置順をも取り得る。
【0047】ハロゲン化銀粒子は、立方体、八面体、十
四面体のような規則的な結晶を有するもの、球状、板状
のような変則的な結晶形を有するもの、双晶面などの結
晶欠陥を有するもの、あるいはそれらの複合形でもよ
い。ハロゲン化銀の粒径は、約0.2ミクロン以下の微
粒子でも投影面積直径が約10ミクロンに至るまでの大
サイズ粒子でもよく、多分散乳剤でも単分散乳剤でもよ
い。本発明に使用できるハロゲン化銀写真乳剤は、例え
ばリサーチ・ディスクロージャー(RD)No. 176
43(1978年12月)、22〜23頁、“I.乳剤
製造(Emulsion preparation a
nd types)" 、および同No. 18716(1
979年11月)、648頁、グラフキデ著「写真の物
理と化学」、ポールモンテル社刊(P.Glafkid
es,Chemie et Phisique Pho
tographique,PaulMontel, 19
67)、ダフィン著「写真乳剤化学」、フォーカルプレ
ス社刊(G.F.Duffin,Photograph
ic Emulsion Chemistry(Foc
al Press,1966)、ゼリクマンら著「写真
乳剤の製造と塗布」、フォーカルプレス社刊(V.L.
Zelikman et al.,Making an
d Coating Photographic Em
ulsion,Focal Press,1964)な
どに記載された方法を用いて調製することができる。
四面体のような規則的な結晶を有するもの、球状、板状
のような変則的な結晶形を有するもの、双晶面などの結
晶欠陥を有するもの、あるいはそれらの複合形でもよ
い。ハロゲン化銀の粒径は、約0.2ミクロン以下の微
粒子でも投影面積直径が約10ミクロンに至るまでの大
サイズ粒子でもよく、多分散乳剤でも単分散乳剤でもよ
い。本発明に使用できるハロゲン化銀写真乳剤は、例え
ばリサーチ・ディスクロージャー(RD)No. 176
43(1978年12月)、22〜23頁、“I.乳剤
製造(Emulsion preparation a
nd types)" 、および同No. 18716(1
979年11月)、648頁、グラフキデ著「写真の物
理と化学」、ポールモンテル社刊(P.Glafkid
es,Chemie et Phisique Pho
tographique,PaulMontel, 19
67)、ダフィン著「写真乳剤化学」、フォーカルプレ
ス社刊(G.F.Duffin,Photograph
ic Emulsion Chemistry(Foc
al Press,1966)、ゼリクマンら著「写真
乳剤の製造と塗布」、フォーカルプレス社刊(V.L.
Zelikman et al.,Making an
d Coating Photographic Em
ulsion,Focal Press,1964)な
どに記載された方法を用いて調製することができる。
【0048】ハロゲン化銀乳剤は、通常、物理熟成、化
学熟成および分光増感を行ったものを使用する。本発明
の効率は、金化合物と含イオウ化合物で増感した乳剤を
使用したときに特に顕著に認められる。このような工程
で使用される添加剤はリサーチ・ディスクロージャーN
o. 17643および同No. 18716に記載されて
おり、その該当箇所を後掲の表にまとめた。
学熟成および分光増感を行ったものを使用する。本発明
の効率は、金化合物と含イオウ化合物で増感した乳剤を
使用したときに特に顕著に認められる。このような工程
で使用される添加剤はリサーチ・ディスクロージャーN
o. 17643および同No. 18716に記載されて
おり、その該当箇所を後掲の表にまとめた。
【0049】本発明に使用できる公知の写真用添加剤も
上記の2つのリサーチ・ディスクロージャーに記載され
ており、下記の表に関連する記載箇所を示した。 (添加剤種類) (RD176439)(RD187169) 1 化学増感剤 23頁 648頁右欄 2 感度上昇剤 同上 3 分光増感剤、強色増感剤 23〜24頁 648頁右欄 〜649頁右欄 4 増 白 剤 24頁 5 かぶり防止剤および安定剤 24〜25頁 649頁右欄〜 6 光吸収剤、フィルター染料、 紫外線吸収剤 25〜26頁 649頁右欄 〜650頁左欄 7 ステイン防止剤 25頁右欄 650頁左〜右欄 8 色素画像安定剤 25頁 9 硬 膜 剤 26頁 651頁左欄 10 バインダー 26頁 同上 11 可塑剤、潤滑剤 27頁 650頁右欄 12 塗布助剤、表面活性剤 26〜27頁 650頁右欄 また、ホルムアルデヒドガスによる写真性能の劣化を防
止するために、米国特許4,411,987号、や同第
4,435,503号に記載されたホルムアルデヒドと
反応して、固定化できる化合物を感光材料に添加するこ
とが好ましい。
上記の2つのリサーチ・ディスクロージャーに記載され
ており、下記の表に関連する記載箇所を示した。 (添加剤種類) (RD176439)(RD187169) 1 化学増感剤 23頁 648頁右欄 2 感度上昇剤 同上 3 分光増感剤、強色増感剤 23〜24頁 648頁右欄 〜649頁右欄 4 増 白 剤 24頁 5 かぶり防止剤および安定剤 24〜25頁 649頁右欄〜 6 光吸収剤、フィルター染料、 紫外線吸収剤 25〜26頁 649頁右欄 〜650頁左欄 7 ステイン防止剤 25頁右欄 650頁左〜右欄 8 色素画像安定剤 25頁 9 硬 膜 剤 26頁 651頁左欄 10 バインダー 26頁 同上 11 可塑剤、潤滑剤 27頁 650頁右欄 12 塗布助剤、表面活性剤 26〜27頁 650頁右欄 また、ホルムアルデヒドガスによる写真性能の劣化を防
止するために、米国特許4,411,987号、や同第
4,435,503号に記載されたホルムアルデヒドと
反応して、固定化できる化合物を感光材料に添加するこ
とが好ましい。
【0050】本発明には種々のカラーカプラーを使用す
ることができ、その具体例は前出のリサーチ・ディスク
ロージャー(RD)No. 17643、VII −C〜Gに
記載された特許に記載されている。
ることができ、その具体例は前出のリサーチ・ディスク
ロージャー(RD)No. 17643、VII −C〜Gに
記載された特許に記載されている。
【0051】本発明でAPS(Advanced Ph
oto System)カラー感材を内蔵したパトロー
ネの場合、パトローネおよびパトローネケースに使用さ
れるプラスチックの総重量は通常1g以上25g以下、
好ましくは5g以上15g以下である。APSの場合、
フィルムのロール幅が24mmとなるのでパトローネを
小型化できる。本発明のパトローネは、その形態につい
て特に限定されない。収納される写真フィルムは現像前
のいわゆる生フィルムでもよいし、現像処理された写真
フィルムでもよい。また、生フィルムと現像済みの写真
フィルムが同じパトローネに収納されていてもよいし、
別のパトローネでもよい。
oto System)カラー感材を内蔵したパトロー
ネの場合、パトローネおよびパトローネケースに使用さ
れるプラスチックの総重量は通常1g以上25g以下、
好ましくは5g以上15g以下である。APSの場合、
フィルムのロール幅が24mmとなるのでパトローネを
小型化できる。本発明のパトローネは、その形態につい
て特に限定されない。収納される写真フィルムは現像前
のいわゆる生フィルムでもよいし、現像処理された写真
フィルムでもよい。また、生フィルムと現像済みの写真
フィルムが同じパトローネに収納されていてもよいし、
別のパトローネでもよい。
【0052】
【実施例】以下に実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0053】1)第1層及び下塗り層 厚さ90μm のポリエチレンナフタレート支持体につい
て、その各々の両面に、処理雰囲気圧力0.2Tor
r、雰囲気気体中のH2 O分圧75%、放電周波数30
kHz、出力2500W、処理強度0.5kV・A・分
/m2 でグロー放電処理を施した。この支持体上に、第
1層として下記組成の塗布液を特公昭58−4589号
公報のバー塗布法を用いて、5cc/m2 の塗布量で塗
布した。 導電性微粒子分散液(SnO2 /Sb2 O5 粒子濃度 50 重量部 10%の水分散液.1次粒子径0.005μm の 2次凝集体でその平均粒径が0.05μm ) ゼラチン 0.5 重量部 水 49 重量部 ポリグリセロールポリグリシジルエーテル 0.16 重量部 ポリ(重合度20)オキシエチレン 0.1 重量部 ソルビタンモノラウレート さらに、第1層を塗設後、直径20cmのステンレス巻
き芯に巻付けて、110℃(PEN支持体のTg:11
9℃)、48時間加熱処理し熱履歴させた後、支持体を
はさみ第1層側と反対側に下塗り層として下記組成の塗
布液をバー塗布法を用いて、10cc/m2 の塗布量で
塗布した。 ゼラチン 1.01 重量部 サリチル酸 0.30 重量部 レゾルシン 0.40 重量部 ポリ(重合度10)オキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.11 重量部 水 3.53 重量部 メタノール 84.57 重量部 n−プロパノール 10.08 重量部 さらに、後述する第2、第3層を、先述の第1層の上に
順に塗設した。
て、その各々の両面に、処理雰囲気圧力0.2Tor
r、雰囲気気体中のH2 O分圧75%、放電周波数30
kHz、出力2500W、処理強度0.5kV・A・分
/m2 でグロー放電処理を施した。この支持体上に、第
1層として下記組成の塗布液を特公昭58−4589号
公報のバー塗布法を用いて、5cc/m2 の塗布量で塗
布した。 導電性微粒子分散液(SnO2 /Sb2 O5 粒子濃度 50 重量部 10%の水分散液.1次粒子径0.005μm の 2次凝集体でその平均粒径が0.05μm ) ゼラチン 0.5 重量部 水 49 重量部 ポリグリセロールポリグリシジルエーテル 0.16 重量部 ポリ(重合度20)オキシエチレン 0.1 重量部 ソルビタンモノラウレート さらに、第1層を塗設後、直径20cmのステンレス巻
き芯に巻付けて、110℃(PEN支持体のTg:11
9℃)、48時間加熱処理し熱履歴させた後、支持体を
はさみ第1層側と反対側に下塗り層として下記組成の塗
布液をバー塗布法を用いて、10cc/m2 の塗布量で
塗布した。 ゼラチン 1.01 重量部 サリチル酸 0.30 重量部 レゾルシン 0.40 重量部 ポリ(重合度10)オキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.11 重量部 水 3.53 重量部 メタノール 84.57 重量部 n−プロパノール 10.08 重量部 さらに、後述する第2、第3層を、先述の第1層の上に
順に塗設した。
【0054】2)第2層(透明磁気記録層) 〔磁性体の分散〕Co被着γ-Fe2O3磁性体(Hc:831
Oe、σs :77.1emu/g、σr :37.4e
mu/g、SBET :38.7m2 /g)1100重量
部、水220重量部及びシランカップリング剤〔3−
(ポリ(重合度10)オキシエチニル)オキシプロピル
トリメトキシシラン〕165重量部を添加して、オー
プンニーダーで3時間良く混練した。この粗分散した粘
性のある液を70℃で1昼夜乾燥し水を除去した後、1
10℃、1時間加熱して処理をし、表面処理をした磁気
粒子を作製した。さらに以下の処方で、再びオープンニ
ーダーにて4時間混練した。 上記表面処理済み磁気粒子 855 g ジアセチルセルロース 25.3 g メチルエチルケトン 136.3 g シクロヘキサノン 136.3 g さらに、以下の処方で、サンドミル(1/4Gのサンド
ミル)にて2000rpm、4時間微細分散した。メデ
ィアは1mmΦのガラスビーズを用いた。 上記混練液 45 g ジアセチルセルロース 23.7 g メチルエチルケトン 127.7 g シクロヘキサノン 127.7 g
Oe、σs :77.1emu/g、σr :37.4e
mu/g、SBET :38.7m2 /g)1100重量
部、水220重量部及びシランカップリング剤〔3−
(ポリ(重合度10)オキシエチニル)オキシプロピル
トリメトキシシラン〕165重量部を添加して、オー
プンニーダーで3時間良く混練した。この粗分散した粘
性のある液を70℃で1昼夜乾燥し水を除去した後、1
10℃、1時間加熱して処理をし、表面処理をした磁気
粒子を作製した。さらに以下の処方で、再びオープンニ
ーダーにて4時間混練した。 上記表面処理済み磁気粒子 855 g ジアセチルセルロース 25.3 g メチルエチルケトン 136.3 g シクロヘキサノン 136.3 g さらに、以下の処方で、サンドミル(1/4Gのサンド
ミル)にて2000rpm、4時間微細分散した。メデ
ィアは1mmΦのガラスビーズを用いた。 上記混練液 45 g ジアセチルセルロース 23.7 g メチルエチルケトン 127.7 g シクロヘキサノン 127.7 g
【0055】 〔磁性体含有中間液の作製〕 上記磁性体微細分散液 50.8 g ジアセチルセルロース溶液 1914.7 g (固形分4.5%、溶媒:メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=1/1) これらをディスパ−にて攪拌・混合し、「磁性体含有中
間液」を作製した。 〔粒子分散液の作製〕以下の処方にて粒子分散液を作製
した。 粒子 10 g ジアセチルセルロース溶液 190 g (固形分3%、溶媒:メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=1/1) 氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「SONI
FIER450(BRANSON(株) 製)」を用いて
1時間分散した。 コロイダルシリカ粒子分散液(微細粒子) 日産化学(株)製の「MEK−シリカゾル」を使用し
た。これは、メチルエチルケトンを分散媒とした、平均
1次粒子径0.015μmのコロイダルシリカの分散液
であり、固形分は30%である。 〔第2層塗布液の作製〕 上記磁性体含有中間液 3500 g 架橋剤〔1〕:ミリオネートMR−400 8 g (日本ポリウレタン(株) 製) メチルエチルケトン 15.5 g シクロヘキサノン 15.5 g 粒子分散液 x g コロイダルシリカ粒子分散液 y g この塗布液をワイヤーバーにて、磁性体塗布量が55m
g/m2 になるように塗布し、粒子および/ またはコロ
イダルシリカ粒子は表2の塗布量になるようにx、yを
決め各分散液を添加した。乾燥は110℃で行った。
間液」を作製した。 〔粒子分散液の作製〕以下の処方にて粒子分散液を作製
した。 粒子 10 g ジアセチルセルロース溶液 190 g (固形分3%、溶媒:メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=1/1) 氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「SONI
FIER450(BRANSON(株) 製)」を用いて
1時間分散した。 コロイダルシリカ粒子分散液(微細粒子) 日産化学(株)製の「MEK−シリカゾル」を使用し
た。これは、メチルエチルケトンを分散媒とした、平均
1次粒子径0.015μmのコロイダルシリカの分散液
であり、固形分は30%である。 〔第2層塗布液の作製〕 上記磁性体含有中間液 3500 g 架橋剤〔1〕:ミリオネートMR−400 8 g (日本ポリウレタン(株) 製) メチルエチルケトン 15.5 g シクロヘキサノン 15.5 g 粒子分散液 x g コロイダルシリカ粒子分散液 y g この塗布液をワイヤーバーにて、磁性体塗布量が55m
g/m2 になるように塗布し、粒子および/ またはコロ
イダルシリカ粒子は表2の塗布量になるようにx、yを
決め各分散液を添加した。乾燥は110℃で行った。
【0056】 3)第3層(マット層)塗布液の作製 ジアセチルセルロース溶液 83 g (固形分4.5%、溶媒:メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=1/1) メチルエチルケトン 1821 g シクロヘキサノン 1821 g 粒子分散液 x g コロイダルシリカ粒子分散液 y g この塗布液をワイヤーバーにて、バインダー塗布量が3
0mg/m2 になるように塗布し、粒子および/または
コロイダルシリカ粒子は表2の塗布量になるようにx、
yを決め、各分散液を添加した。第3層は必要に応じて
設置した。また乾燥は110℃で行った。
0mg/m2 になるように塗布し、粒子および/または
コロイダルシリカ粒子は表2の塗布量になるようにx、
yを決め、各分散液を添加した。第3層は必要に応じて
設置した。また乾燥は110℃で行った。
【0057】3)第4層(すべり層)塗布液の作製 滑り剤の分散原液の作成 下記のa液を90℃加温溶解し、b液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り剤の分散原液を作成した。 a液 下記化合物 0.75 重量部 C6 H13CH(OH)(CH2 )10COOC50H101 下記化合物 0.75 重量部 n−C50H101 O(CH2 CH2 O)16H キシレン 2.11 重量部 プロピレングリコール− 0.08 重量部 モノメチルエーテル b液 シクロヘキサノン 96.3 重量部 第4層塗布液の作製 上記滑り分散原液482gに下記の溶剤を加え塗布液と
した。 イソプロピルアルコール 3081 g メタノール 115 g 下記化合物 0.73 g C8 F17SO2 N(C3 H7 )(CH2 CH2 O)4 − (CH2 )4 SO3 Na ポリエステル変性シリコーン溶液 2.88 g (BYKケミジャパン(株) 製、 商品名BYK310、固形分含量25%) 粒子分散液 x g コロイダルシリカ粒子分散液 y g 上記第4層塗布液を上記滑り剤塗布量がそれぞれ7.5
mg/m2 の塗布量となるように塗布した。粒子および
/またはコロイダルシリカ粒子は表2の塗布量になるよ
う各分散液を添加塗布した。
モジナイザーで分散し滑り剤の分散原液を作成した。 a液 下記化合物 0.75 重量部 C6 H13CH(OH)(CH2 )10COOC50H101 下記化合物 0.75 重量部 n−C50H101 O(CH2 CH2 O)16H キシレン 2.11 重量部 プロピレングリコール− 0.08 重量部 モノメチルエーテル b液 シクロヘキサノン 96.3 重量部 第4層塗布液の作製 上記滑り分散原液482gに下記の溶剤を加え塗布液と
した。 イソプロピルアルコール 3081 g メタノール 115 g 下記化合物 0.73 g C8 F17SO2 N(C3 H7 )(CH2 CH2 O)4 − (CH2 )4 SO3 Na ポリエステル変性シリコーン溶液 2.88 g (BYKケミジャパン(株) 製、 商品名BYK310、固形分含量25%) 粒子分散液 x g コロイダルシリカ粒子分散液 y g 上記第4層塗布液を上記滑り剤塗布量がそれぞれ7.5
mg/m2 の塗布量となるように塗布した。粒子および
/またはコロイダルシリカ粒子は表2の塗布量になるよ
う各分散液を添加塗布した。
【0058】4)感材層の作製 4−1)Em層用マット剤の作製 不溶性マット剤としてポリ(メタクリル酸メチル/メタ
クリル酸=90/10(モル比))の酢酸エチル/n−
ブタノール=2/1(wt)のポリマー溶液(30wt
%)を用いた。12wt%のゼラチン水溶液200重量
部にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.4重量
部を添加し50℃に加温した。次いで、上記ポリマー溶
液を100重量部を添加し、スリーワンモータで1時間
分散した。1時後、500重量部の水を添加し分散を停
止させた。平均粒子サイズは攪拌の強さを適当に変化さ
せて目標のものを得た。また、ここで得たマット剤乳化
物を遠心分離を重ねて表3に示される粒子サイズ分布を
持つマット剤を得た。ここで得たマット剤の数平均粒子
径、及び粒径分布は、マット剤の電子顕微鏡写真を撮
り、600個のマット剤について測定した。 4−2)感材層の設置 次に、前記で得られたバック層の反対側に最上層の保護
層以外は特開平7−287345号公報の実施例1に記
載された各層を重層塗布し、カラーネガ写真フィルムを
作成した。本発明のマット剤は感光層の最外層(第2保
護層)に含有させた。 (第2保護層) H−1 0.40 B−1(不溶性マット剤) 表2参照 B−2(可溶性マット剤) 0.045 B−3 0.10 S−1 0.20 C6H13CH(OH)C7H15COOC40H81/C50H101O(CH2CH2O)16H = (4/6 重量比) の水分散物 (平均粒径 20 nm) 0.05 W−1 0.015 W−3 0.015 F−1 0.005 コロイダルシリカ(0.015 μm) 0.25 ゼラチン 0.70
クリル酸=90/10(モル比))の酢酸エチル/n−
ブタノール=2/1(wt)のポリマー溶液(30wt
%)を用いた。12wt%のゼラチン水溶液200重量
部にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.4重量
部を添加し50℃に加温した。次いで、上記ポリマー溶
液を100重量部を添加し、スリーワンモータで1時間
分散した。1時後、500重量部の水を添加し分散を停
止させた。平均粒子サイズは攪拌の強さを適当に変化さ
せて目標のものを得た。また、ここで得たマット剤乳化
物を遠心分離を重ねて表3に示される粒子サイズ分布を
持つマット剤を得た。ここで得たマット剤の数平均粒子
径、及び粒径分布は、マット剤の電子顕微鏡写真を撮
り、600個のマット剤について測定した。 4−2)感材層の設置 次に、前記で得られたバック層の反対側に最上層の保護
層以外は特開平7−287345号公報の実施例1に記
載された各層を重層塗布し、カラーネガ写真フィルムを
作成した。本発明のマット剤は感光層の最外層(第2保
護層)に含有させた。 (第2保護層) H−1 0.40 B−1(不溶性マット剤) 表2参照 B−2(可溶性マット剤) 0.045 B−3 0.10 S−1 0.20 C6H13CH(OH)C7H15COOC40H81/C50H101O(CH2CH2O)16H = (4/6 重量比) の水分散物 (平均粒径 20 nm) 0.05 W−1 0.015 W−3 0.015 F−1 0.005 コロイダルシリカ(0.015 μm) 0.25 ゼラチン 0.70
【0059】
【化7】
【0060】
【化8】
【0061】得られたフィルムを24mm幅にスリット
し、特開平5−210202号公報の実施例図9に記載
のパトローネ(スプール径7mm)に1.5m分巻き込
み加工した。上記サンプルと同様にして、マット剤処方
を変更して表1に示すようなサンプルを作製した。現像
処理はCN−16処方により行った。
し、特開平5−210202号公報の実施例図9に記載
のパトローネ(スプール径7mm)に1.5m分巻き込
み加工した。上記サンプルと同様にして、マット剤処方
を変更して表1に示すようなサンプルを作製した。現像
処理はCN−16処方により行った。
【0062】次に試料の評価について記す。 1)フィルム傷評価 上記現像処理後、APS用カートリッジに巻き込んだ
後、富士写真フイルム製フォトプレーヤーAP−1に2
0回通した後、フィルムの乳剤面とバック面の傷を目視
にて評価した。◎は全く問題ないレベル、○はわずか傷
跡あるがほとんど問題なし、△はやや傷跡が見えるが許
容内、×は傷跡が目立つもの、××は酷く傷跡が目立つ
もの、を示す。△以上がOKレベルである。 2)磁気入出力性能の評価 幅24mm、長さ300mにスリットした作製試料を、
搬送速度100mm/secにて、予め6kHzのFM
信号にて磁気記録した。この後、上記現像処方により現
像処理を行った。現像機は富士写真フイルム(株) 製の
シネ式自動現像機FNCP−900を用いた。現像処理
後の試料について、ギャップ5μm 、巻き数2000タ
ーンの汎用の磁気再生ヘッドにて、約95dBのゲイン
があるアンプを用いて記録信号を再生し、再生信号の一
つ一つを以下の様に調べ、磁気入出力性能の評価を行っ
た。透明磁気記録層側表面に残存する、現像処理液の乾
固物が主成分である汚れが、試料走行時に、磁気ヘッド
表面に転写・蓄積してしまう試料は、スペースロス損失
により信号振幅の大きさが小さくなり、ドロップアウト
の回数が増加することから採用した。各々の再生信号
(再生出力)の大きさが、磁気ヘッドに汚れの無い場合
の理想的な再生信号の大きさに対し、35%以下になっ
たとき「ドロップアウト」と定義し、 ドロップアウトが10回以上の時 ×(N.G.) ドロップアウトが5回以上10回未満の時 △(N.G.) ドロップアウトが3回以上5回未満の時 ○ ドロップアウトが1回以上3回未満の時 ○○ ドロップアウトがない時 ○○○ と判定した。 3)耐接着テスト サンプルを上記現像処理を行った後、 25℃85%R
H雰囲気下に2時間放置し、APS用カートリッジに巻
き込んだ後、密封して35℃に1カ月間保存した。その
後カートリッジから取り出して接着跡を目視にて評価し
た。◎は全く問題ないレベル、○はわずか接着跡あるが
ほとんど問題なし、△はやや接着跡が見えるが許容内、
×は接着跡が目立つもの、××は酷く接着跡が目立つも
の、を示す。△以上がOKレベルである。表面突起高さ
はマット材平均粒径に対するAFMでのRz値の比で示
した。
後、富士写真フイルム製フォトプレーヤーAP−1に2
0回通した後、フィルムの乳剤面とバック面の傷を目視
にて評価した。◎は全く問題ないレベル、○はわずか傷
跡あるがほとんど問題なし、△はやや傷跡が見えるが許
容内、×は傷跡が目立つもの、××は酷く傷跡が目立つ
もの、を示す。△以上がOKレベルである。 2)磁気入出力性能の評価 幅24mm、長さ300mにスリットした作製試料を、
搬送速度100mm/secにて、予め6kHzのFM
信号にて磁気記録した。この後、上記現像処方により現
像処理を行った。現像機は富士写真フイルム(株) 製の
シネ式自動現像機FNCP−900を用いた。現像処理
後の試料について、ギャップ5μm 、巻き数2000タ
ーンの汎用の磁気再生ヘッドにて、約95dBのゲイン
があるアンプを用いて記録信号を再生し、再生信号の一
つ一つを以下の様に調べ、磁気入出力性能の評価を行っ
た。透明磁気記録層側表面に残存する、現像処理液の乾
固物が主成分である汚れが、試料走行時に、磁気ヘッド
表面に転写・蓄積してしまう試料は、スペースロス損失
により信号振幅の大きさが小さくなり、ドロップアウト
の回数が増加することから採用した。各々の再生信号
(再生出力)の大きさが、磁気ヘッドに汚れの無い場合
の理想的な再生信号の大きさに対し、35%以下になっ
たとき「ドロップアウト」と定義し、 ドロップアウトが10回以上の時 ×(N.G.) ドロップアウトが5回以上10回未満の時 △(N.G.) ドロップアウトが3回以上5回未満の時 ○ ドロップアウトが1回以上3回未満の時 ○○ ドロップアウトがない時 ○○○ と判定した。 3)耐接着テスト サンプルを上記現像処理を行った後、 25℃85%R
H雰囲気下に2時間放置し、APS用カートリッジに巻
き込んだ後、密封して35℃に1カ月間保存した。その
後カートリッジから取り出して接着跡を目視にて評価し
た。◎は全く問題ないレベル、○はわずか接着跡あるが
ほとんど問題なし、△はやや接着跡が見えるが許容内、
×は接着跡が目立つもの、××は酷く接着跡が目立つも
の、を示す。△以上がOKレベルである。表面突起高さ
はマット材平均粒径に対するAFMでのRz値の比で示
した。
【0063】
【表1】
【0064】
【表2】
【0065】なお、本発明2は、マグネ層コロイダルシ
リカを200mg/m2、本発明4は10mg/m2、本発明1
0は200mg/m2、本発明11は10mg/m2添加した。
表2よりわかる様に、本発明試料は乳剤面、バック面と
もに傷付き性が良好で、かつ処理後のカートリッジ保存
でもブロッキングをおこさず、確実な磁気入出力性能を
与える、優れたハロゲン化銀写真感光材料提供すること
がわかる。
リカを200mg/m2、本発明4は10mg/m2、本発明1
0は200mg/m2、本発明11は10mg/m2添加した。
表2よりわかる様に、本発明試料は乳剤面、バック面と
もに傷付き性が良好で、かつ処理後のカートリッジ保存
でもブロッキングをおこさず、確実な磁気入出力性能を
与える、優れたハロゲン化銀写真感光材料提供すること
がわかる。
【0066】(その他−本発明試料−その2)前述した
本発明試料すべてにおいて、それぞれ、第2層の磁性体
塗布量を0.6倍にし、乳剤層を反転カラー乳剤層であ
る特開平2−854実施例1の試料101と同様にし
て、さらに現像処理を特開平2−854実施例1に示さ
れるようなカラーリバーサル感材用の現像処理法により
実施する以外は、前述本発明試料とそれぞれ同様に行っ
たところ、全く同じ改良効果(結果)が得られ、乳剤
面、バック面ともに傷がつかず、かつ処理後のカートリ
ッジない保存でもブロッキングをおこさず、確実な磁気
入出力性能を与える、優れたハロゲン化銀写真感光材料
が得られた。
本発明試料すべてにおいて、それぞれ、第2層の磁性体
塗布量を0.6倍にし、乳剤層を反転カラー乳剤層であ
る特開平2−854実施例1の試料101と同様にし
て、さらに現像処理を特開平2−854実施例1に示さ
れるようなカラーリバーサル感材用の現像処理法により
実施する以外は、前述本発明試料とそれぞれ同様に行っ
たところ、全く同じ改良効果(結果)が得られ、乳剤
面、バック面ともに傷がつかず、かつ処理後のカートリ
ッジない保存でもブロッキングをおこさず、確実な磁気
入出力性能を与える、優れたハロゲン化銀写真感光材料
が得られた。
【0067】
【発明の効果】本発明により、乳剤面、バック面ともに
傷がつかず、かつ処理後のカートリッジない保存でもブ
ロッキングをおこさず、確実な磁気入出力性能を与え
る、優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供することが
できる。
傷がつかず、かつ処理後のカートリッジない保存でもブ
ロッキングをおこさず、確実な磁気入出力性能を与え
る、優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11B 5/704 G11B 5/704 5/708 5/708
Claims (13)
- 【請求項1】 支持体の少なくとも一方の側にハロゲン
化銀乳剤層を有し、その反対側に透明磁気記録層を有す
る撮影用ハロゲン化銀写真感光材料において、ハロゲン
化銀乳剤層を有する側の少なくとも一層に変動係数0.
30以下である単分散無機粒子および/又は単分散重合
体粒子を含み、さらに磁気記録層を有する側の少なくと
も1層に変動係数0.40以下の単分散無機粒子および
/又は単分散重合体粒子を含むことを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。 - 【請求項2】 ハロゲン化銀乳剤層側の単分散粒子が、
数平均粒子径が0.5〜10μmの単分散粒子であるこ
とを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 - 【請求項3】 ハロゲン化銀乳剤層側の単分散粒子が下
記一般式(1)からなることを特徴とする請求項1、2
記載のハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(1) −(A)x−(B)y−(C)z− A:多官能エチレン性不飽和架橋性モノマー B:酸含有エチレン性不飽和モノマー C:単官能エチレン性不飽和モノマー(B除く) x:0〜2モル% y:5〜70モル% z:(100−x−y)モル% - 【請求項4】 ハロゲン化銀乳剤層側の単分散粒子を2
〜300mg/m2含有することを特徴とする請求項1
〜3に記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項5】 透明磁気記録層側の単分散無機粒子およ
び/又は単分散重合体粒子の数平均粒子径が0.2〜3
μmであることを特徴とする請求項1〜4に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項6】 透明磁気記録層側の単分散無機粒子およ
び/又は単分散重合体粒子を該透明磁気記録層中および
/又は該透明磁気記録層の上層中に含むことを特徴とす
る請求項1〜5に記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項7】 透明磁気記録層側の粒子の少なくとも1
種がポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、α−ア
ルミナ、シリカ、又は/及びシロキサン粒子であること
を特徴とする請求項1〜6記載のハロゲン化銀写真感光
材料。 - 【請求項8】 透明磁気記録層側の単分散無機粒子およ
び/又は単分散重合体粒子を2〜1000mg/m2 含
有することを特徴とする請求項1〜7に記載のハロゲン
化銀写真感光材料。 - 【請求項9】 透明磁気記録層側の粒子の表面突起高さ
が平均1次粒子径の0.1〜0.5倍であることを特徴
とする請求項1〜8に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 - 【請求項10】 乳剤層側の粒子の表面突起高さが平均
1次粒子径の0.1〜0.5倍であることを特徴とする
請求項1〜9に記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項11】 透明磁気記録層側に少なくとも一種の
平均1次粒子径が0.01μm以上0.2μm未満の単
分散無機粒子および/又は単分散重合体粒子を含むこと
を特徴とする請求項1〜10に記載のハロゲン化銀写真
感光材料。 - 【請求項12】 透明磁気記録層側に少なくとも一種の
平均1次粒子径が0.01μm以上0.2μm未満の単
分散無機粒子および/又は単分散重合体粒子を5〜50
0mg/m2 含むことを特徴とする請求項1〜11に記
載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項13】 透明磁気記録層側に平均1次粒子径が
0.01μm以上0.2μm未満であるα−アルミナ、
γ−アルミナ、θ−アルミナ、ポリメチルメタクリレー
ト、シリカ、コロイダルシリカ、二酸化チタン粒子のう
ち少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項1〜1
2記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9184205A JPH1130830A (ja) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9184205A JPH1130830A (ja) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1130830A true JPH1130830A (ja) | 1999-02-02 |
Family
ID=16149205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9184205A Pending JPH1130830A (ja) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1130830A (ja) |
-
1997
- 1997-07-09 JP JP9184205A patent/JPH1130830A/ja active Pending
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