JPH102836A

JPH102836A - 光学的異方性測定装置

Info

Publication number: JPH102836A
Application number: JP15264696A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Osaki; 美紀大嵜
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1996-06-13
Filing date: 1996-06-13
Publication date: 1998-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】プレティルト角を正確に測定する。【解決手段】測定用の光束Ａが入射されると、光束Ａは
透明電極５２と調整膜３１との界面にて全反射され、そ
の際にエバネッセント波Ｅが発生する。このエバネッセ
ント波Ｅは、調整膜３１及び配向膜５３を透過して液晶
５６に侵入し、その偏光状態が変化された後に反射され
る。そして、このように反射された光束を検知すること
により、プレティルト角が算出される。ここで、調整膜
３１の屈折率や厚さを適当に調整することにより、エバ
ネッセント波Ｅの侵入深さＤが調整され、配向膜５３の
近傍における配向状態の測定が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般的には、光学
的異方性を測定する光学的異方性測定装置に係り、特に
液晶セルにおけるプレティルト角の算出に用いて好適な
光学的異方性測定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、材料の光学的異方性の測定が
様々な分野で行なわれている。以下、液晶セルにおける
プレティルト角の算出に光学的異方性の測定を用いた例
を説明する。

【０００３】液晶セルは一対のガラス基板を有してお
り、各ガラス基板の表面には透明電極や配向膜が形成さ
れている。また、基板間隙には液晶が挟持されている。

【０００４】このような液晶セルの製造に際してはラビ
ング処理等の配向処理が行なわれ、この配向処理によっ
て、液晶分子はガラス基板面に対してある角度（プレテ
ィルト角）をなして配向されることとなる。

【０００５】したがって、液晶の配向状態を把握した
り、液晶セルの基本的な特性を改善したり、配向欠陥の
ない液晶セルを開発するにはプレティルト角を測定する
ことが必要不可欠であり、そのために、全反射法を用い
た光学的異方性測定装置が利用されている。

【０００６】図１は、全反射を用いた光学的異方性測定
装置の構造を示す模式図である。この光学的異方性測定
装置１は半球状のガラス部材（以下、“半球ガラス”と
する）２を備えており、この半球ガラス２は平面部２ａ
と球面部２ｂとを有している。また、この半球ガラス２
は、その平面部２ａと直交する回転軸Ｃを中心に回転す
るように回転自在に支持されており、半球ガラス２の平
面部２ａには、屈折率マッチング液３が塗布されると共
に液晶セル５が載置されている。

【０００７】この液晶セル５は、図２に詳示するよう
に、一対のガラス基板５１ａ，５１ｂ（以下、“上基板
５１ａ”並びに“下基板５１ｂ”とする）を有してお
り、これらの上下基板５１ａ，５１ｂの内面には透明電
極５２や配向膜５３がそれぞれ形成されている。そし
て、これらの上下基板５１ａ，５１ｂはシール部材５５
によって貼り合わされており、それらの間には被検体と
しての液晶５６が挟持されている。なお、下基板５１ｂ
の屈折率と、半球ガラス２の屈折率と、屈折率マッチン
グ液３の屈折率とはほぼ等しく設定されている。

【０００８】一方、この半球ガラス２の片側（図示左
側）にはＨｅ−Ｎｅレーザ装置１０が配置されており、
液晶セル５に対して斜め下から光束Ａを出射するように
構成されている。また、半球ガラス２の他側（図示右
側）には光検知器１１が配置されており、液晶５６の界
面にて全反射された光束を検知するように構成されてい
る。

【０００９】さらに、半球ガラス２とＨｅ−Ｎｅレーザ
装置１０との間には偏光子１２が配置されており、Ｈｅ
−Ｎｅレーザ装置１０からの光束Ａを直線偏光するよう
に構成されている。またさらに、半球ガラス２と光検知
器１１との間には検光子１３が配置されているが、この
検光子１３は、偏光子１２と直交する偏光方向を有して
いる。

【００１０】また、図３は、別の光学的異方性測定装置
の構造を示す図であるが、この測定装置２０において
は、上基板５１ａは、半球ガラス２の平面部２ａに直接
に貼り合わされており、これらの平面部２ａ及び上基板
５１ａの表面には、図４に詳示するように、透明電極５
２や配向膜５３がそれぞれ形成されている。さらに、平
面部２ａ及び上基板５１ａの間隙には、被検体としての
液晶５６が挟持されている。

【００１１】次に、光学的異方性の測定方法（プレティ
ルト角の算出方法）について説明する。

【００１２】Ｈｅ−Ｎｅレーザ装置１０から出射された
光束Ａは、偏光子１２によって直線偏光された上で半球
ガラス２に入射され、透明電極５２と配向膜５３との界
面にて全反射される。そして、この全反射の際には、図
５に詳示するようにエバネッセント波Ｅが発生するが、
このエバネッセント波Ｅは、配向膜５３を透過して液晶
５６の内部に侵入すると共に、液晶分子の光学的異方性
によりその偏光状態が変化された後に反射される。

【００１３】そして、半球ガラス２から出射された光束
は、いったん収束して検光子１３を通過するが（図１参
照）、その際、偏光子１２と直交する偏光方向を有する
成分の光束のみが検光子１３を通過し、光検知器１１に
到達する。

【００１４】いま、半球ガラス２を回転軸Ｃを中心にし
て回転させた場合、光束Ａの電場ベクトルの向きに対
し、液晶５６の液晶分子の向きを表す単位ベクトルであ
るダイレクタの向きが相対的に変化する。

【００１５】このため、半球ガラス２の回転角に応じ
て、半球ガラス２から出射される光束の偏光状態が変化
する。そして、半球ガラス２の回転角に対して光検知器
１１の出力をプロットすると、例えば図６に示すような
液晶の光学的異方性を示す特性曲線が得られる。ここ
で、強度の極大値とＩmax とし、極小値をＩmin とした
場合、それらの比（Ｉmax ／Ｉmin ）からプレティルト
角の大きさを算出することができる。なお、プレティル
ト角が大きいとＩmax ／Ｉmin は小さくなり、プレティ
ルト角が小さいとＩmax ／Ｉmin は大きくなる。

【００１６】このように、上述した光学的異方性測定装
置１は、全反射の際に生ずるエバネッセント波Ｅと液晶
分子との相互作用に伴う光束の偏光状態の変化から、液
晶の光学的異方性を測定しプレティルト角を算出するも
のである。

【００１７】次に、エバネッセント波Ｅの侵入深さにつ
いて簡単に説明する。

【００１８】エバネッセント波Ｅは透明電極５２と配向
膜５３との界面にて発生するが、該界面からの侵入深さ
Ｄ₀ （液晶５６と配向膜５３との界面からの侵入深さＤ
と区別するため、以下“総侵入深さＤ₀ ”とする。図５
参照）は次式にて表される。

【００１９】

【式２】（式２）ここで、ｎ_g は下基板５１ｂの屈折率、ｎ_L は液晶５６
（並びに配向膜５３）の屈折率、λは光束Ａの波長、θ
は光束Ａの入射角である。

【００２０】そして、この総侵入深さＤ₀ は、ｎ_g ＝
１．９、ｎ_L ＝１．５、λ＝０．６３２８μｍ、θ＝９
０°の場合には０．０８６μｍ程度となり、ｎ_g 等の数
値を調整することにより０．０５μｍ程度にまで下げら
れる。

【００２１】なお、配向膜５３は、０．０１〜０．０２
μｍ程度とかなり薄いものであるため、エバネッセント
波Ｅの液晶層への侵入深さＤ（以下“液晶層侵入深さ
Ｄ”とする）は、総侵入深さＤ₀ にほぼ等しくなり、配
向膜５３の影響を無視できる。

【００２２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、プレティル
ト角の算出のためには測定箇所は配向膜５３に近い程良
いが、従来の装置では、光束Ａの波長λ等を調整したと
しても総侵入深さＤ₀ は０．０５μｍより小さくはなら
ず、限界があった。

【００２３】そこで、本発明は、界面近傍における被検
体の光学的異方性を測定する光学的異方性測定装置を提
供することを目的とするものである。

【００２４】また本発明は、液晶セルにおけるプレティ
ルト角の測定を正確に行なう光学的異方性測定装置を提
供することを目的とするものである。

【００２５】さらに本発明は、測定箇所を変更できる光
学的異方性測定装置を提供することを目的とするもので
ある。

【００２６】

【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、被検体と、該被検体に対して
光束を照射する光源と、これら光源と被検体との間に配
置される透明な入射側透明部材と、前記光源から出射さ
れて前記被検体にて全反射された光束を検知する光検知
手段と、を備え、全反射される際に生じるエバネッセン
ト波を利用して前記被検体の界面近傍における光学的異
方性を測定する光学的異方性測定装置において、前記被
検体と前記入射側透明部材との間に、該入射側透明部材
よりも屈折率が小さくて透明な出射側透明層を配置し、
かつ、前記出射側透明層の屈折率並びに厚さを所定値に
することによって光学的異方性の測定箇所を調整した、
ことを特徴とする。

【００２７】この場合、前記出射側透明層が多層構造で
あっても良く、単層構造であっても良い。

【００２８】また、前記出射側透明層の屈折率ｎ₁ 〜ｎ
_k （但し、ｋ≧１）及び厚さｄ₁ 〜ｄ_k （但し、ｋ≧
１）は、

【００２９】

【式３】（式３）ｎ_L は被検体の屈折率、ｎ_g は前記入射側透明部材の屈
折率、λは前記光源から出射される光束の波長、θは該
光束の入射角である。なる関係を満足するようにすると
好ましい。

【００３０】また、前記被検体が液晶であり、光学的異
方性を測定することにより前記液晶の配向状態を検知す
る、ようにしてもよい。

【００３１】その場合、前記入射側透明部材に所定距離
隔てて貼り付けられた出射側部材、を備え、前記液晶
を、前記出射側部材と前記入射側透明部材との間に配置
した、ようにしてもよい。

【００３２】また、前記入射側透明部材がガラスにより
形成された板状の部材であって、該板状の部材や前記出
射側部材と共に液晶セルが構成され、半球状の透明な部
材を備え、前記液晶セルが前記半球状の透明な部材に保
持され、かつ、前記入射側透明部材と前記半球状の透明
な部材との間に、これらと屈折率がほぼ等しい液体を充
填してなる、ようにしてもよい。

【００３３】この場合、前記板状の部材の表面に透明電
極が形成されてなる、ようにしてもよい。

【００３４】さらに、前記入射側透明部材がガラスによ
り形成された半球状の部材であり、該半球状の入射側透
明部材の平面部に、前記出射側部材が所定距離隔てて貼
りつけられ、前記液晶を、前記出射側部材と前記平面部
との間に配置した、ようにしてもよい。

【００３５】この場合、前記入射側透明部材の平面部に
透明電極が形成されてなる、ようにしてもよい。

【００３６】また、前記出射側透明層が単層構造であっ
て配向膜としての機能を有し、前記出射側透明層に配向
処理を施すことにより、前記液晶が配向されてなる、よ
うにしてもよい。

【００３７】さらに、前記出射側透明層が多層構造であ
り、これら多層の出射側透明層のうち、前記液晶に隣接
される層が配向膜としての機能を有し、かつ、該層に配
向処理を施すことにより、前記液晶が配向されてなる、
ようにしてもよい。

【００３８】なお、以上構成に基づき、光源から照射さ
れた光束は、入射側透明部材に入射されて、該入射側透
明部材の界面にて全反射される。このとき発生したエバ
ネッセント波は、出射側透明層を透過して前記被検体に
まで到達し、該被検体内部にて全反射される。そして、
このように全反射された光束は、前記光検知手段によっ
て検知され、被検体の光学的異方性が測定される。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下、図７を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。なお、図１及び図２に示
すものと同一部分は同一符号を付して説明を省略する。

【００４０】本実施の形態に係る光学的異方性測定装置
３０は、液晶セルに透明な調整膜３１を設けた点を除い
ては（図７参照）、図１に示す装置と同様の構成であ
る。

【００４１】すなわち、光学的異方性測定装置３０は、
図１に示す装置と同様に、液晶セル５や半球ガラス２や
Ｈｅ−Ｎｅレーザ装置（光源）１０や光検知器（光検知
手段）１１等を備えている。また、液晶セル５は上下基
板５１ａ，５１ｂを有しており、基板間隙には、被検体
としての液晶５６が挟持されている。さらに、液晶セル
５は、半球状の透明な部材である半球ガラス２に保持さ
れており、この半球ガラス２と下基板５１ｂとの間には
屈折率マッチング液３が充填されている。なお、屈折率
マッチング液３の屈折率は、半球ガラス２や下基板５１
ｂの屈折率にほぼ等しく設定されている。

【００４２】つまり、本実施の形態においては、液晶セ
ル５の下基板５１ｂが、光源と被検体との間に配置され
た入射側透明部材となり、上基板５１ａは、下基板５１
ｂに所定距離隔てて貼り付けられた出射側部材となる。

【００４３】また下基板５１ｂの表面には、図７に詳示
するように、透明電極５２、調整膜３１並びに配向膜５
３が順に形成されており、これらの調整膜３１と配向膜
５３とによって出射側透明層が２層構造で構成されてい
る。そして、配向膜５３には、液晶セルの製造工程にお
いて配向処理が施されるようになっており、その配向処
理によって液晶５６が配向されるようになっている。

【００４４】なお、調整膜３１は、光学的異方性のない
高分子等の材料によって形成されている。また、調整膜
３１の屈折率をｎ₁ 、配向膜５３の屈折率をｎ₂ 、調整
膜３１の厚さをｄ₁ 、並びに配向膜５３の厚さをｄ₂ と
した場合に、これらは、

【００４５】

【式４】（式４）ｎ_L は液晶５６の屈折率、ｎ_g は下基板５１ｂの屈折
率、λは光束Ａの波長、θは光束Ａの入射角である。を
満足するように設定されている。

【００４６】また、下基板５１ｂの屈折率と透明電極５
２の屈折率とはほぼ等しく設定されており（例えば、下
基板５１ｂの屈折率を１．８〜１．９とし、透明電極５
２の屈折率を１．９５としている）、調整膜３１の屈折
率は、これらの屈折率よりも小さく設定されている。

【００４７】次に、本実施の形態の作用について説明す
る。

【００４８】本実施の形態においては、調整膜３１の屈
折率が、それに隣接する透明電極５２の屈折率よりも小
さく設定されているため、液晶セル５に対して照射され
た光束Ａは、この透明電極５２と調整膜３１との界面に
て全反射され、エバネッセント波Ｅが発生する。そし
て、このエバネッセント波Ｅは、上述したように液晶層
内部にて全反射され、光検知器１１によって検知され
る。これにより、液晶層の界面近傍における光学的異方
性が測定され、液晶５６の配向状態が算出される。

【００４９】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。

【００５０】一般に、エバネッセント波Ｅの液晶層侵入
深さＤは、

【００５１】

【式５】（式５）と表されるが、本実施の形態においては、式４を満足す
るようにｎ₁ 等が設定されているため、液晶層侵入深さ
Ｄは、０＜Ｄ＜０．０５μｍの範囲内にあり、配向膜５３の極近傍における液晶分子
の配向状態を測定できる。したがって、従来装置よりも
正確にプレティルト角を測定でき、液晶の配向状態の把
握がより正確となり、液晶セルの基本的な特性を改善し
たり、配向欠陥のない液晶セルを開発する上で重要な情
報が得られる。

【００５２】また、調整膜３１の厚さｄ₁ や屈折率ｎ₁
等を調整することにより、測定箇所を変更できる。

【００５３】なお、上述した実施の形態においては出射
側透明層を調整膜３１や配向膜５３による２層構造とし
たが、もちろんこれに限る必要はなく、単層構造（図９
参照）としても、或は３層以上の多層構造としても良
い。但し、出射側透明層の屈折率ｎ₁ 〜ｎ_k （但し、ｋ
≧１）及び厚さｄ₁ 〜ｄ_k （但し、ｋ≧１）は、

【００５４】

【式６】（式６）ｎ_L は被検体の屈折率、ｎ_g は前記入射側透明部材の屈
折率、λは前記光源から出射される光束の波長、θは該
光束の入射角である。なる関係を満足している必要があ
る。

【００５５】また、上述した実施の形態においては下基
板５１ｂの表面に透明電極５２を形成しているが、直接
調整膜３１を設けるようにしてもよい。

【００５６】さらに、上述した実施の形態においては、
半球ガラス２と液晶セル５とを別体に構成したが、もち
ろんこれに限る必要はなく、図４に示すような一体型の
ものであっても良い。この場合、半球ガラス２が入射側
透明部材となる。

【００５７】またさらに、上述した基板５１ａ，５１ｂ
や半球ガラス２は、光学的異方性を持たず、光束Ａに対
して透明で、かつ液晶５６の屈折率よりも大きな屈折率
を持つ媒質であれば如何なるものであっても良い。

【００５８】一方、上述した測定は、電場や磁場を与え
て液晶を駆動した状態で行なうようにしても良く、その
場合には、駆動時における液晶分子の挙動を観察でき
る。

【００５９】なお、半球ガラス２の屈折率、下基板５１
ｂの屈折率、及び屈折率マッチング液３は、半球ガラス
２と屈折率マッチング液３との界面、並びに屈折率マッ
チング液３と下基板５１ｂとの界面で全反射が生じない
ような値であれば良い。

【００６０】また、上述した実施の形態においては、液
晶５６の光学的異方性を測定することとしたが、もちろ
んこれに限る必要はなく、高分子材料等の光学的異方性
を測定するようにしてもよい。

【００６１】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。

【００６２】まず、本発明の第１実施例について説明す
る。

【００６３】本実施例においては、図７に詳示するよう
に、出射側透明層を調整膜３１及び配向膜５３の２層構
造としている。また、調整膜３１の屈折率ｎ₁ を、配向
膜５３の屈折率ｎ₂ や液晶５６の屈折率ｎ_L に等しく
し、かつ、

【００６４】

【式７】（式７）０＜Ｄ₀ −ｄ₁ −ｄ₂ ＜０．０５μｍなる関係を満足するように、調整膜３１や配向膜５３の
厚さｄ₁ ，ｄ₂ を設定している。なお、調整膜３１の屈
折率ｎ₁ を透明電極５２の屈折率よりも小さく設定し、
調整膜３１と透明電極５２との界面にて全反射が生じる
ようにしている。

【００６５】ここで、総侵入深さＤ₀ は、

【００６６】

【式８】（式８）で表される値である。

【００６７】具体的には、光束Ａの波長λを０．６３２
８μｍとし、該光束Ａの入射角θを８０°とし、さらに
下基板５１ｂの屈折率ｎ_g を１．９とした場合、総侵入
深さＤ₀ は、ほぼ０．０９μｍとなる。そして、調整膜
３１の厚さｄ₁ を０．０４μｍとし、配向膜５３の厚さ
ｄ₂ を０．０１μｍとすると、液晶層侵入深さＤは０．
０４μｍとなる。なお、調整膜３１の屈折率ｎ₁ 、配向
膜５３の屈折率ｎ₂ 並びに液晶５６の屈折率ｎ_L は１．
５に設定している。

【００６８】また、調整膜３１の厚さｄ₂ を０．０６μ
ｍとすれば、液晶層侵入深さＤは０．０２μｍとなり、
界面により近い部分の測定が可能となる。

【００６９】ところで、上述した実施例においては、調
整膜３１の屈折率ｎ₁ 、配向膜５３の屈折率ｎ₂ 並びに
液晶５６の屈折率ｎ_L を等しくしたが、もちろんこれに
限る必要はなく、調整膜３１の屈折率ｎ₁ を小さくして
も良い。

【００７０】ついで、本発明の第２実施例について、図
８に沿って説明する。

【００７１】本実施例においては、図８に詳示するよう
に、出射側透明層を配向膜５３のみの単層構造とし、配
向膜５３に調整膜としての機能を兼用させている。ま
た、配向膜５３の厚みｄ₂ や屈折率ｎ₂ は、次式を満足
するように設定されている。

【００７２】

【式９】（式９）ｎ_L は被検体の屈折率、ｎ_g は前記入射側透明部材の屈
折率、λは前記光源から出射される光束の波長、θは該
光束の入射角である。

【００７３】なお、上式は、式１にｎ₁ ＝ｎ₂ 、ｄ₁ ＝
ｄ₂ 、ｎ_i ＝ｄ_i ＝０を代入したものである。

【００７４】例えば、総侵入深さＤ₀ が０．１μｍで、
配向膜５３の屈折率ｎ₂ や液晶５６の屈折率ｎ_L が１．
５である場合、配向膜５３の厚さｄ₂ を０．０５μｍよ
り小さくすれば良い。

【００７５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
光学的異方性の測定箇所を調整できる。

【００７６】また、出射側透明層の屈折率ｎ₁ 〜ｎ_k
（但し、ｋ≧１）及び厚さｄ₁ 〜ｄ_k（但し、ｋ≧１）
を、

【００７７】

【式１０】（式１０）ｎ_L は被検体の屈折率、ｎ_g は前記入射側透明部材の屈
折率、λは前記光源から出射される光束の波長、θは該
光束の入射角である。なる関係を満足するように設定し
た場合には、界面近傍の光学的異方性を測定できる。

【００７８】特に、被検体を液晶とした場合には、プレ
ティルト角の測定が正確となり、液晶の配向状態を正確
に把握できる。これにより、液晶セルの基本的な特性を
改善したり、配向欠陥のない液晶セルを開発する上で重
要な情報が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の光学的異方性測定装置の構成を説明する
ための図。

【図２】液晶セルの構造を示す詳細断面図。

【図３】従来の光学的異方性測定装置の構成を説明する
ための図。

【図４】図３の詳細断面図。

【図５】エバネッセント波の挙動を説明するための模式
図。

【図６】液晶の配向状態の算出方法を説明するための
図。

【図７】本発明に係る光学的異方性測定装置を説明する
ための詳細断面図。

【図８】本発明の変形例を説明するための図。

【図９】本発明の変形例を説明するための図。

【符号の説明】

２半球ガラス（半球状の透明な部材）２ａ平面部３屈折率マッチング液５液晶セル１０Ｈｅ−Ｎｅレーザ装置（光源）１１光検知器（光検知手段）３０光学的異方性測定装置３１調整膜（出射側透明層）５１ａ上基板（出射側部材）５１ｂ下基板（入射側透明部材）５２透明電極５３配向膜（出射側透明層）５６液晶（被検体）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被検体と、該被検体に対して光束を照射
する光源と、これら光源と被検体との間に配置される透
明な入射側透明部材と、前記光源から出射されて前記被
検体にて全反射された光束を検知する光検知手段と、を
備え、全反射される際に生じるエバネッセント波を利用
して前記被検体の界面近傍における光学的異方性を測定
する光学的異方性測定装置において、前記被検体と前記入射側透明部材との間に、該入射側透
明部材よりも屈折率が小さくて透明な出射側透明層を配
置し、かつ、前記出射側透明層の屈折率並びに厚さを所
定値にすることによって光学的異方性の測定箇所を調整
した、ことを特徴とする光学的異方性測定装置。
【請求項２】前記出射側透明層が多層構造である、ことを特徴とする請求項１記載の光学的異方性測定装
置。
【請求項３】前記出射側透明層が単層構造である、ことを特徴とする請求項１記載の光学的異方性測定装
置。
【請求項４】前記出射側透明層の屈折率ｎ₁ 〜ｎ_k
（但し、ｋ≧１）及び厚さｄ₁ 〜ｄ_k （但し、ｋ≧１）
は、【式１】（式１）ｎ_L は被検体の屈折率、ｎ_g は前記入射側透明部材の屈折率、 λは前記光源から出射される光束の波長、 θは該光束の入射角である。なる関係を満足する、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の
光学的異方性測定装置。
【請求項５】前記被検体が液晶であり、光学的異方性を測定することにより前記液晶の配向状態
を検知する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の
光学的異方性測定装置。
【請求項６】前記入射側透明部材に所定距離隔てて貼
り付けられた出射側部材、を備え、前記液晶を、前記出射側部材と前記入射側透明部材との
間に配置した、ことを特徴とする請求項５記載の光学的異方性測定装
置。
【請求項７】前記入射側透明部材がガラスにより形成
された板状の部材であって、該板状の部材や前記出射側
部材と共に液晶セルが構成され、半球状の透明な部材を備え、前記液晶セルが前記半球状の透明な部材に保持され、か
つ、前記入射側透明部材と前記半球状の透明な部材との間
に、これらと屈折率がほぼ等しい液体を充填してなる、ことを特徴とする請求項６記載の光学的異方性測定装
置。
【請求項８】前記板状の部材の表面に透明電極が形成
されてなる、請求項７記載の光学的異方性測定装置。
【請求項９】前記入射側透明部材がガラスにより形成
された半球状の部材であり、該半球状の入射側透明部材の平面部に、前記出射側部材
が所定距離隔てて貼りつけられ、前記液晶を、前記出射側部材と前記平面部との間に配置
した、ことを特徴とする請求項６記載の光学的異方性測定装
置。
【請求項１０】前記入射側透明部材の平面部に透明電
極が形成されてなる、請求項９記載の光学的異方性測定装置。
【請求項１１】前記出射側透明層が単層構造であって
配向膜としての機能を有し、前記出射側透明層に配向処理を施すことにより、前記液
晶が配向されてなる、ことを特徴とする請求項５乃至１０のいずれか１項記載
の光学的異方性測定装置。
【請求項１２】前記出射側透明層が多層構造であり、これら多層の出射側透明層のうち、前記液晶に隣接され
る層が配向膜としての機能を有し、かつ、該層に配向処理を施すことにより、前記液晶が配向され
てなる、ことを特徴とする請求項５乃至１０のいずれか１項記載
の光学的異方性測定装置。