JPH10284651A - 放熱シート及びその製造方法 - Google Patents

放熱シート及びその製造方法

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JPH10284651A
JPH10284651A JP9085268A JP8526897A JPH10284651A JP H10284651 A JPH10284651 A JP H10284651A JP 9085268 A JP9085268 A JP 9085268A JP 8526897 A JP8526897 A JP 8526897A JP H10284651 A JPH10284651 A JP H10284651A
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JP
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sheet
heat
resin
semiconductor element
heat dissipation
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Application number
JP9085268A
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English (en)
Inventor
Yuji Hotta
祐治 堀田
Mitsuru Shimizu
満 清水
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体素子に対して高い放熱性を示し、半導
体素子の表面から剥離し難く、クラックが生じ難い放熱
シート及びその製造方法を提供することである。 【解決手段】 樹脂材料からなるシート基材4中に、熱
伝導性材料からなる複数の熱伝導路2を、シート基材4
の厚み方向に貫通させ、且つ、シート基材4の表裏面に
その両端部3が露出するように配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置を構成
する部品の一つであって、半導体素子に装着されて用い
られる放熱シート及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体装置のパッケージは、半導
体素子を樹脂により封止パッケージ化したものから、半
導体素子を樹脂により封止せずにそのまま回路基板に実
装するパッケージに変わりつつある。なお、ここでいう
半導体素子は、ベアチップとも呼ばれるものであり、結
晶基板(ウエハ)上に回路が形成され、切り出された段
階のものを指す。
【0003】また、これらの種のパッケージ(半導体パ
ッケージ)においては、半導体分野の技術革新によっ
て、半導体素子の集積度が増大し、半導体素子の寸法が
大型化するに伴い、半導体素子に発生する熱は増加の傾
向にある。そのため、半導体素子の作動時に発生した熱
が半導体装置内部で蓄積され、半導体素子のジャンクシ
ョン温度を越えて、機能不良に陥ることがある。このた
め、耐熱性および放熱性の向上が課題となっている。
【0004】これらの課題に対して、上記半導体パッケ
ージでは、半導体素子や封止樹脂の熱伝導率が極めて低
いため、例えば、特開平5−198701号公報では、
半導体素子を固定しているダイパッドに金属箔を積層さ
せて、この金属箔によって放熱を図ることが提案されて
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この場合、半
導体装置の厚み方向での構成材料のアンバランスから、
即ち、金属箔の線膨張係数は、一般に半導体素子やダイ
パッドに比べて大きいため、半導体素子が発熱を繰り返
すことにより、金属箔に繰り返しの応力が発生し、つい
には金属箔が剥離したり、金属疲労によって金属箔にク
ラックが生じるという問題がある。
【0006】また、特開昭63−187652号公報で
は、半導体装置の片面または両面に接着剤を介して金属
箔を貼り合わせることが開示されている。しかし、この
方法では、貼り合わせで形成される接着剤層は一般に吸
湿性が大きいため、半田付け時に水分の急激な膨張が発
生し、金属箔と接着剤層との界面にボイドまたは剥離を
生じるという問題がある。
【0007】更に、特開平8−17855号公報では、
封止樹脂の表面を金属箔で被覆する半導体装置が開示さ
れているが、この場合でも金属箔の剥離やクラックの問
題を解決するには至っていない。
【0008】本発明の課題は、半導体素子に対して高い
放熱性を示し、半導体装置の表面から剥離し難く、クラ
ックが生じ難い放熱シート及びその製造方法を提供する
ことである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下の特徴を
有する。
【0010】(1) 樹脂材料からなるシート基材中
に、熱伝導性材料からなる複数の熱伝導路が、シート基
材を厚み方向に貫通し、且つ、シート基材の表裏面にそ
の両端部を露出させた状態で配置されている半導体素子
装着用の放熱シート。
【0011】(2) 上記シート基材の弾性率が10M
Pa〜20GPaである上記(1)記載の放熱シート。
【0012】(3) 熱伝導路が互いに隔離された状態
でシート基材中に配置されている上記(1)記載の放熱
シート。
【0013】(4) 熱伝導路の両端部を除いた表面
に、シート基材を構成する材料とは異なる材料からなる
被覆層が形成されている上記(1)記載の放熱シート。
【0014】(5) シート基材と被覆層のうちの少な
くとも一方が接着性の材料から形成されたものである上
記(4)記載の放熱シート。
【0015】(6) 当該放熱シートを装着すべき面を
除いた全面が樹脂により封止された半導体素子に装着さ
れる上記(1)記載の放熱シート。
【0016】(7) 熱伝導性材料が金属材料である上
記(1)記載の放熱シート。
【0017】(8) 少なくとも一つの熱伝導路の少な
くとも一つの端部が、シート基材の表面より突出してい
る上記(1)記載の放熱シート。
【0018】(9) 熱伝導性材料からなる細線に少
なくとも樹脂層を形成する工程と、樹脂層が形成され
た細線を芯材に巻線する工程と、巻線コイルを加熱お
よび/または加圧して、樹脂層どうしを融着および/ま
たは圧着させて一体化し、巻線コイルブロックを形成す
る工程と、巻きつけられた細線の巻きつけ方向と角度
をなして交差する平面がシート面となるようにして、巻
線コイルブロックから放熱シートを切り出す工程とを少
なくとも有する放熱シートの製造方法。
【0019】(10) 樹脂層の形成前に、樹脂層を構
成する材料とは異なる材料で細線を被覆する工程を有す
る上記(9)記載の放熱シートの製造方法。
【0020】
【作用】本発明の放熱シートは、樹脂材料からなるシー
ト基材中に、複数の熱伝導路が厚み方向に貫通し、且
つ、シート基材の表裏面にその両端部が露出した構造と
なっている。そのため、高い放熱性を有することがで
き、更に、半導体素子の放熱に伴って熱伝導路が膨張又
は縮小する場合において、シート基材は緩衝材となって
熱伝導路に繰り返し発生する内部応力を緩和し、熱伝導
路の疲労を抑制する。
【0021】本発明の製造方法によれば、放熱シート
は、巻線コイルを加熱等して形成した巻線コイルブロッ
クから切り出されて製造される。そのため、シート基材
に熱伝導路用の貫通孔を形成する必要がなく、又貫通孔
に熱伝導性材料を充填する手間が省ける。
【0022】また、本発明の放熱シートでは、熱伝導路
の両端部を除いた表面に、シート基材を構成する材料と
は異なる材料からなる被覆層を形成することができる
が、本発明の製造方法を用いれば、被覆層の形成が容易
にでき、被覆層を構成する材料や被覆層の厚みの変更も
容易に行える。従って、放熱シートの分布構成を自由に
設計でき、ひいては放熱シートの面方向の線膨張係数も
自由に設定できる。
【0023】
【発明の実施の形態】次に、本発明を図を用いて詳細に
説明する。図1は、本発明の放熱シートの一例を示した
図であり、同図(a)は上面図、同図(b)は断面図で
ある。同図(a)、(b)に示すように、放熱シート1
は半導体素子装着用の放熱シートであり、半導体装置を
構成するための部材である。樹脂材料からなるシート基
材4中に、熱伝導性材料からなる複数の熱伝導路2が、
シート基材4を厚み方向に貫通し、且つ、その両端部3
をシート基材4の表裏面に露出させた状態で配置されて
いる。同図(a)の例では、複数の熱伝導路2は互いに
隔離された状態でシート基材中に配置されている。シー
ト基材4を形成する樹脂材料は接着性の材料である。同
図(b)の例では、放熱シート1は半導体素子6に接着
剤を介さないで直接貼付されている。
【0024】図2は、本発明の他の例を示した図であ
り、同図(a)は上面図、同図(b)は断面図である。
同図の例では、熱伝導路2の両端部3を除いた表面に、
被覆層5が形成されており、それ以外は図1の例と同様
である。被覆層5を形成する材料は、シート基材を形成
する材料とは異なる材料である。
【0025】上記図1、2に示した構造とすることによ
り、半導体素子が発熱する際に、放熱シートに掛かる応
力を緩和することができ、放熱シートの剥離やクラック
を抑制することができる。更に、接着剤を使用しないで
半導体素子に貼付できるため、前述した接着剤による問
題を解消することもできる。
【0026】本発明の放熱シートは、半導体素子に直接
装着されるものであり、そのため、シート基材を形成す
る樹脂材料は接着性の材料であるのが好ましい。なお、
ここでいう「接着性」とは、半導体素子に対する接着性
をいい、接着力が200g/cm〜2kg/cmである
ことをいう。なお、接着力の測定は、樹脂材料を300
℃程度に加熱して圧着力20kg/cm2 で貼付けた
後、室温で180°ピールにより行う。
【0027】また、「接着性の材料」とは、それ自体が
そのままの状態で接着性を示す材料だけでなく、そのま
まの状態では接着性を示さないが、加熱および/または
加圧により接着可能となる材料をもいう。例えば、加熱
および/または加圧により、融着および/または圧着す
る熱可塑性樹脂や、加熱により熱硬化する熱硬化性樹脂
が挙げられる。
【0028】シート基材を形成する樹脂材料としては、
一般的な樹脂シートに用いられる材料等を用いることが
できる。但し、樹脂材料が接着性材料であるならば、熱
可塑性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルイ
ミド樹脂、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、フェノキ
シ樹脂、アクリル樹脂、ポリカルボジイミド樹脂、フッ
素樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げ
られ、これらの中から目的に応じて適宜選択すれば良
い。なお、これらの樹脂は単独で使用しても良いし、二
種以上を混合して使用しても良い。
【0029】上記で例示した樹脂材料が、熱可塑性樹脂
であるならば、リワークが可能になる点で好ましい。一
方、熱硬化性樹脂であるならば、高温での接着信頼性が
高くなるという利点を有する点で好ましい。シート基材
を形成する樹脂材料として熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹
脂のいずれを用いるかは、放熱シートの用途等に応じて
適宜決定すれば良い。
【0030】上記で例示した樹脂材料には、その用途に
応じ、各種の充填剤、可塑剤等あるいはゴム材料を添加
してもよい。充填剤としては、例えば、SiO2 、Al
2 3 、可塑剤としては、例えばTCP(リン酸トリク
レシル)、DOP(フタル酸ジオクチル)、ゴム材料と
しては、例えばNBS(アクリロニトリルブタジエンゴ
ム)、SBS(ポリスチレン−ポリブチレン−ポリスチ
レン)等が挙げられる。
【0031】熱伝導路の両端部を除いた表面には、図2
と同様の被覆層を形成するのが好ましい。被覆層を形成
することにより、面方向に関して、放熱シートの分布構
成を変えることができ、よって、放熱シートの線膨張係
数を容易に設定できる。更に、被覆層の形成により、シ
ート基材と熱伝導路との接着性、得られる放熱シートの
強度、耐熱性を向上させることもできる。
【0032】熱伝導路に被覆層を形成する場合、シート
基材又は被覆層のうち少なくともどちらか一方は、前述
した理由から接着性の材料から形成されたものであるの
が好ましい。被覆層を形成する材料(以下「被覆材料」
という。)は、絶縁性であっても非絶縁性であっても良
い。被覆材料として絶縁性、且つ、接着性の材料を用い
るのであれば、上記のシート基材を形成する樹脂材料と
して例示したものと同様のものを用いることができる。
但し、シート基材を形成する樹脂材料とは異なる樹脂材
料を用いる必要がある。
【0033】シート基材を形成する樹脂材料と被覆材料
とを適宜選択し、組み合わせることによって、前述した
被覆層により生じる効果を、より好ましいものとするこ
とができる。例えば、シート基材と熱伝導路との接着性
を向上させるためには、シート基材を形成する樹脂材料
としてポリエーテルイミド樹脂を、被覆材料としてポリ
アミド樹脂を選択するのが好ましい。放熱シートの強度
を向上させるためには、シート基材を形成する樹脂材料
としてポリイミド樹脂を、被覆材料としてエポキシ樹脂
を選択するのが好ましい。放熱シートの耐熱性を向上さ
せるためには、シート基材を形成する樹脂材料としてポ
リイミド樹脂やポリカルボジイミド樹脂を、被覆材料と
してポリエステル樹脂やポリウレタン樹脂を選択するの
が好ましい。
【0034】シート基材の弾性率は、半導体素子が発熱
した際に放熱シート内部に発生する応力を緩和する点か
ら、好ましくは10MPa〜20GPa、より好ましく
は10MPa〜2GPaに設定するのが良い。熱伝導路
に被覆層を形成する場合においては、被覆層の弾性率
は、好ましくは10MPa〜30GPa、より好ましく
は1000MPa〜20GPaに設定するのが良い。
【0035】シート基材の弾性率と被覆層の弾性率と
は、一方が他方に対して10倍以上となるよう設定され
ているのが好ましいが、応力緩和性の点から、シート基
材の弾性率が被覆層の弾性率の10倍以上となるように
設定されているのがより好ましい。このように設定する
ことにより、放熱シート内部に発生する応力をより好ま
しく緩和することができ、放熱シートの信頼性を高める
ことができる。
【0036】シート基材又は被覆層の弾性率の設定は、
材料の選択や、充填剤、ゴム材料等の添加等により適宜
設定すれば良い。なお、充填剤やゴム材料としては、前
述した充填剤やゴム材料と同様のものを使用すれば良
い。シート基材を形成する樹脂材料や被覆材料が、熱硬
化性樹脂である場合には硬化条件を選択する方法も採用
される。
【0037】熱伝導路は、熱伝導性材料で形成されたも
のであって、シート基材を厚み方向に貫通し、且つ、そ
の両端部をシート基材に露出させた状態で設置されるも
のであれば良い。熱伝導路は、シート基材中に設置され
たとき、他の熱伝導路と接触した状態にあっても良い
し、互いに隔離された状態であっても良い。なお、本発
明でいう「熱伝導性」とは、熱伝導率が0.1〜0.9
5であることをいう。
【0038】熱伝導性材料としては、例えば、銅、金、
アルミニウム、ニッケル等の金属材料、及び、これら金
属材料とポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、フッ素樹脂等の有機材料との混合物等が挙げられ
る。熱伝導性材料は、本発明の放熱シートの用途により
適宜選択すれば良いが、熱伝導特性の点で金属材料が好
ましく、特に銅を用いるのが好ましい。
【0039】熱伝導路の大きさや数は、放熱シートの用
途等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、図1に示し
たような円柱状の熱伝導路の場合、直径が10〜300
μm程度、ピッチが30〜150μm程度で配置される
のが好ましい。熱伝導路が小さすぎたり、数が少なすぎ
ると熱伝導性が劣り好ましくない。逆に、熱伝導路が大
きすぎたり、数が多すぎると放熱シートの強度が劣る。
熱伝導路の形状は、このような問題が生じない範囲であ
れば、どのような形状でも良く、図1に示される円柱状
以外の形状、例えば多角柱状であっても良い。
【0040】熱伝導路の貫通方向は、図1に示すような
厳密な意味でのシート基材の厚み方向、即ちシート基材
面に垂直な方向に限られず、シート基材面に垂直な方向
に対して角度をなした方向であっても良い。
【0041】図3は、本発明の放熱シートの他の例を示
した断面図である。同図に示すように、少なくとも一つ
の熱伝導路32の、少なくとも一つの端部33がシート
基材34の表面より突出している。同図の例では、シー
ト基材34の一方の面に半導体素子36が貼付されてい
る。熱伝導路32の半導体素子の反対側にある全ての端
部33は、シート基材34面から半球状に突起してい
る。35は被覆層である。また、図示していないが、端
部33の形状は、同図の半球部分が更に熱伝導路32の
直径を越えて面方向に広がった形状となってもいても良
いし、円柱状や角柱状であっても良い。このように熱伝
導路の端部を突出させれば、熱伝導路の露出面積を拡大
できるので、本発明の放熱シートの放熱性を更に高める
ことができる。
【0042】熱伝導路の端部をシート基材面より円柱状
に突出させる方法としては、例えば、得られた放熱シー
トの表面を選択的に除去する方法が挙げられる。具体的
には、有機溶剤によるウエットエッチングやプラズマエ
ッチング、アルゴンイオンレーザー、KrFエキシマレ
ーザーなどによるドライエッチング等が挙げられ、これ
らを単独又は併用して除去すれば良い。上記有機溶剤は
シート基材となる絶縁性材料や被覆材料の種類により適
宜選択される。例えば、ジメチルアセトアミド、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン等が挙げられ
る。熱伝導路の端部を図3に示すように半球状に突出さ
せる方法としては、無電解メッキにより突出させる方法
が挙げられる。
【0043】熱伝導路の端部をシート基材面から窪ませ
る方法としては、得られた放熱シートの熱伝導路のみを
選択的に除去する方法が挙げられる。具体的には、酸又
はアルカリによるケミカルエッチングが挙げられる。
【0044】本発明の放熱シートの、厚み方向に対して
垂直な方向、即ち面拡張方向の線膨張係数は、2ppm
〜100ppmであれば良く、4ppm〜30ppmで
あるのが好ましい。このように設定すれば、上記線膨張
係数は熱導電性材料の線膨張係数と半導体素子の線膨張
係数との間の値となり、TCTテストにおいて放熱シー
トに歪みや剥離が生じるのを防止できる。線膨張係数の
設定は、放熱シートの分布構成を変更したり、その構成
材料の選択により自由に行える。
【0045】本発明の放熱シートの厚みは、25μm〜
1000μmに設定されていれば良く、50μm〜40
0μmに設定されているのが好ましい。厚みが25μm
未満であると半導体素子への接着力が低下するため好ま
しくない。逆に、1000μmを越えると、放熱性が低
くなるので好ましくない。
【0046】本発明の放熱シートを取り付けた半導体素
子の実装方法は、特に限定されるものではなく、フリッ
プチップ工法によるフェイスダウン実装や、ワイヤーボ
ンディング工法によるフェイスアップ実装等の実装方法
が利用できる。図4は、本発明の放熱シートを半導体素
子に装着して半導体装置を形成した場合の一例を示す断
面図である。なお、放熱シート41においては、熱伝導
路にのみハッチングを施している。同図の例では、放熱
シート41が固着された半導体素子46を、フリップチ
ップ工法によるフェイスダウン実装法で回路基板48に
実装して半導体装置40を形成している。47は回路配
線である。なお、同図では、半導体素子46は回路基板
48に直接実装されているが、これらの間に異方導電性
フィルムや導電性樹脂を介在させて間接的に実装されて
いても良い。放熱シート41は、半導体素子46を回路
基板へ実装した後、半導体素子46に固着させても良
い。半導体素子46は、樹脂により封止しても良い。
【0047】図5は、本発明の放熱シートを半導体素子
に装着して半導体装置を形成した場合の他の例を示す断
面図である。なお、放熱シート51においては、熱伝導
路にのみハッチングを施している。同図の例では、放熱
シート51が固着された半導体素子56を、ワイヤボン
ディング工法によるフェイスアップ実装法で回路基板に
実装して半導体装置50を形成している。半導体素子5
6はワイヤ57を介してグランリード58に電気的に接
続されている。半導体素子56は、放熱シート51を装
着すべき面を除いた全面が樹脂59により封止されてい
る。なお、放熱シート51の取付は、半導体素子56を
実装した後であっても良いし、更に樹脂による封止前、
封止中、封止後のいずれの段階であっても良い。放熱シ
ート51は、いずれの場合であっても、大気中に放熱面
を露出している。
【0048】半導体素子の封止樹脂としては、半導体分
野において、通常用いられる各種樹脂を用いることがで
きる。具体的には、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の
耐熱性樹脂に、必要に応じて適宜の充填材を添加したも
の等が挙げられる。ワイヤボンディング工法に用いられ
るワイヤの材料としては、各種の金属、例えば、アルミ
ニウム、金、銅、金属粉末(例えば銀)を含有する有機
材料等が挙げられる。
【0049】図6は、本発明の放熱シートの製造方法及
びその製造方法により製造された放熱シートを示す図で
ある。同図(a)、(b)に示すように放熱シート61
は、熱伝導性材料からなる細線65に樹脂層66を形
成する工程と、樹脂層66が形成された細線65を、
芯材67に巻線する工程と、この巻線コイルを加熱お
よび/または加圧して、樹脂層66を融着および/また
は圧着させて一体化し巻線コイルブロック68を形成す
る工程と、巻つけられた細線65の巻きつけ方法と角
度をなして交差する平面を切断面とし、この切断面がシ
ート面となるようにして、巻線コイルブロック68から
放熱シート61を切り出す工程とにより製造される。
【0050】同図(a)の例では、巻線コイルブロック
68から放熱シートを切り出す直前を示している。細線
65には樹脂層66のみが形成されている。芯材67の
形状は四角柱である。細線65は、芯材67を中心とし
て、芯材67の軸方向(長手方向)に対して略垂直に巻
線され、細密充填されている。放熱シート61の切り出
しは、刃物69によって行われる。刃物69は心材67
の軸方向に平行に設置されている。なお、図示していな
いが、刃物69は放熱シートの厚み分の間隔で芯材の軸
方向に入れられる。
【0051】同図(b)の例では、巻線コイルブロック
68から刃物69によって切り出された放熱シート61
を示している。細線65に形成された樹脂層66は、放
熱シート61のシート基材64となっており、細線65
は熱伝導路62となっている。熱伝導路62は、シート
基材64を厚み方向に貫通し、且つ、その両端部をシー
ト基材64の表裏に露出させた状態で設置されており、
互いに隔離されている。なお、図示していないが、放熱
シート61は、必要に応じて更に厚みが薄くされ、半導
体素子の大きさに合わせてカットされて、半導体素子に
装着される。
【0052】本発明の製造方法に用いられる細線の材料
としては、前述した熱伝導性材料を用いれば良い。細線
の線径も前述した熱伝導路の直径と同様であれば良い。
ここで細線の材料が金属材料であれば、その線径は本発
明の放熱シートの用途により適宜選択されるが、直径1
0〜200μm程度に設定するのが好ましく、20μm
〜100μm程度に設定するのがより好ましい。細線の
断面形状は、図6に示したような丸形に限定されず、放
熱シートの用途等に応じて適宜決定すれば良い。
【0053】細線に樹脂層を形成する方法としては、公
知の方法が利用でき、例えば溶剤コーティング(湿式コ
ーティング)、溶融コーティング(乾式コーティング)
等が挙げられる。樹脂層の厚みは、得られる放熱シート
中の熱伝導路の所望するピッチ、即ち単位面積当たりの
数により適宜選択されるが、好ましくは10μm〜10
0μm、より好ましくは20μm〜50μmである。
【0054】図6の例では、細線には樹脂層のみが形成
されているが、図2に示した放熱シートを製造するので
あれば、樹脂層の形成前に予め該樹脂層とは異なる材料
からなる被覆層を形成し、図6と同様に製造すれば良
い。被覆層の形成方法としては、上記に示した樹脂層の
形成方法と同様の方法を用いることができる。
【0055】巻線は、少なくとも樹脂層が形成された細
線を、芯材に所定の幅、厚みでロール状に巻き付けて行
えば良いが、幅方向(芯材の軸方向)、厚み方向に均一
に細密充填されるように行われているのが好ましい。巻
線に用いられる細線の数は、一本であっても良いし、複
数本であっても良い。複数本の場合は、複数本の細線を
同時に繰り出して巻線しても良い。巻き方向は、通常
は、図6に示したように芯材の軸とほぼ垂直な方向であ
るが、特に限定されるものではない。
【0056】芯材は、図6に示した形状が四角柱のもの
に限られず、四角柱以外の多角柱や円柱であっても良
い。芯材を構成する材料は、放熱シートの製造過程にお
いて、変形、劣化等の少ない材料であれば良く、具体的
にはポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ
樹脂、BTレジン(三菱瓦斯化学社製)等が挙げられ
る。これらの樹脂には、用途に応じて各種の充填剤を添
加しても良く、充填剤としてはSiO2 、Al2 3
が挙げられる。
【0057】巻線コイルを加熱する場合の温度は、樹脂
層を形成する樹脂材料の種類に応じて適宜選択すれば良
いが、樹脂材料の軟化点〜300℃程度、好ましくは5
0℃〜300℃程度に設定すれば良い。樹脂材料として
熱硬化性樹脂を使用した場合には、硬化温度よりも低い
温度で加熱すれば良い。巻線コイルを加圧する場合の圧
力は、好ましくは1kg/cm2 〜100kg/c
2 、より好ましくは2kg/cm2 〜20kg/cm
2 程度に設定するのが良い。
【0058】巻線コイルブロックからの放熱シートの切
り出しは、巻きつけられた細線の方向と角度をなして交
差する平面がシート面となるようにして行われていれば
良い。即ち、巻線コイルをカットする方向が、金属細線
の巻き付け方向とは異なる方向であれば良く、通常は、
芯材の軸方向と垂直な方向ではない方向である。カット
する間隔は、得られる放熱シートの厚さに相当するの
で、刃物を入れる間隔を変えることによりシートの厚み
を任意に設定できる。このような製造方法によれば、厚
みが50μm以上の放熱シートを容易につくることが可
能となる。
【0059】なお、シート基材面の垂直方向に対して角
度をなした熱伝導路を作製するのであれば、刃物を入れ
る方向を、金属細線の巻き付け方向と垂直な方向に対し
て所定の角度をなす方向(通常は、芯材の軸方向と所定
の角度をなす方向)とすれば良い。このようにすること
により、熱伝導路は、シート基材面の垂直方向に対して
所定の角度をなして配置される。
【0060】本発明の放熱シートの表面に記録材料層を
設け、その記録材料層に固体識別情報を記録しておけ
ば、本発明の放熱シートは情報記録ラベルとしても使用
することができ、好ましい態様となる。
【0061】
【実施例】
実施例1 実際に、図6に示す製造工程に準じて図1に示す放熱シ
ートを製造し、得られた放熱シートについての評価を行
なった。
【0062】図6に示すように、直径35μmの銅線
(長さ10万m)に、ポリエーテルイミド樹脂(ウルテ
ム−1000、日本ポリイミド製、弾性率1000MP
a)を被覆した。なお、該樹脂層の厚みは25μmとな
るようにした。次に、芯材(プラスチック製、四角柱:
30mm×30mm×300mm)に、この樹脂層が形
成された銅線を所定の幅、厚みで、幅及び厚み方向に均
一に細密充填されるように、且つ、芯材の軸にほぼ垂直
になるように巻き取った。なお、この場合、一般的な被
覆電線をロール状に巻き取る装置を使用した。
【0063】得られた巻線コイルを約300℃に加熱し
ながら、加圧(60kg/cm2 )して、ポリエーテル
イミド樹脂を融着させ、室温まで冷却して巻線コイルブ
ロックを形成した。次に、巻線コイルブロックに、刃物
を10mm間隔で芯材の軸方向に入れて、300mm×
約120mm×約10mm(縦×横×厚み)のシートを
切り出した。この切り出されたシートをさらに刃物によ
りスライスして、300mm×30mm×0.1mm
(縦×横×厚み)の放熱シートを得た。放熱シートの弾
性率は1100MPa、線膨張係数は60ppmであっ
た。この放熱シートを更に切断して半導体素子(5.7
mm×5.7mm×5.7mm)に貼着し、半導体素子
を図4と同様に回路基板に実装して半導体装置を得た。
【0064】実施例2 銅線の直径を100μm、長さを1万mとした以外は、
実施例1と同様にして放熱シートを作製し、同様にして
回路基板に実装して半導体装置を得た。
【0065】実施例3 実施例1で作製した放熱シートを、同様の半導体素子に
貼付し、図5に示すようにワイヤーボンディング法によ
り実装して半導体装置を得た。なお、ワイヤーの材料と
しては金を使用し、封止樹脂としてはエポキシ樹脂を使
用した。
【0066】実施例4 直径35μmの銅線にフッ素樹脂(PTFE樹脂、弾性
率10MPa)を厚みが5μmとなるように被覆し、更
にこれにポリエーテルイミド樹脂を厚みが25μmとな
るように被覆した。次に、実施例1と同様の処理を行っ
て、放熱シートを作製し、実施例1と同様の半導体装置
を得た。
【0067】比較例1 実施例1と同様の半導体素子を、回路基板にフリップチ
ップ実装した。但し、半導体素子には放熱シートは貼着
されていない。
【0068】比較例2 図7に示すように黒色アルマイト製放熱フィン71を、
実施例1と同様の半導体素子76に貼付し、回路基板
(図示せず)に実装して半導体装置70を得た。
【0069】実施例及び比較例の評価 実施例1〜4及び比較例1、2で得た半導体装置を用い
て放熱テストを行なった。具体的には、消費電力1W、
風速4m/秒において、熱抵抗の測定を行なった。さら
に、各々の半導体装置に対して、−50℃/5分〜15
0℃/5分のTCTテストを行い、剥離発生個数を測定
した。この結果を表1に示す。
【0070】
【表1】
【0071】表1から明らかなように、比較例2では、
放熱シートの剥離が数多く発生しており、比較例1では
実施例に比べて放熱性に問題があった。これに対し、実
施例1〜4ではいずれの評価項目についても良好な結果
が得られていた。
【0072】
【発明の効果】本発明の放熱シートでは、半導体素子の
発熱によって、クラックが生じたり、半導体装置から剥
離したりすることが抑制されている。よって、本発明に
よれば信頼性の高い放熱シートを提供することができ
る。更に、本発明の製造方法によれば、簡単な工程で放
熱シートを製造できるため、低コストで放熱シートを提
供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の放熱シートの一例を示す図である。
【図2】本発明の放熱シートの他の例を示す図である。
【図3】本発明の放熱シートの他の例を示す断面図であ
る。
【図4】本発明の放熱シートを半導体素子に装着して半
導体装置を形成した場合の一例を示す断面図である。
【図5】本発明の放熱シートを半導体素子に装着して半
導体装置を形成した場合の他の例を示す断面図である。
【図6】本発明の製造方法及びその製造方法により製造
された放熱シートを示す図である。
【図7】従来の半導体装置を示す図である。
【符号の説明】
1 放熱シート 2 熱伝導路 3 端部(両端部) 4 シート基材 5 被覆層 6 半導体素子

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂材料からなるシート基材中に、熱伝
    導性材料からなる複数の熱伝導路が、シート基材を厚み
    方向に貫通し、且つ、シート基材の表裏面にその両端部
    を露出させた状態で配置されている半導体素子装着用の
    放熱シート。
  2. 【請求項2】 上記シート基材の弾性率が10MPa〜
    20GPaである請求項1記載の放熱シート。
  3. 【請求項3】 熱伝導路が互いに隔離された状態でシー
    ト基材中に配置されている請求項1記載の放熱シート。
  4. 【請求項4】 熱伝導路の両端部を除いた表面に、シー
    ト基材を構成する材料とは異なる材料からなる被覆層が
    形成されている請求項1記載の放熱シート。
  5. 【請求項5】 シート基材と被覆層のうちの少なくとも
    一方が接着性の材料から形成されたものである請求項4
    記載の放熱シート。
  6. 【請求項6】 当該放熱シートを装着すべき面を除いた
    全面が樹脂により封止された半導体素子に装着される請
    求項1記載の放熱シート。
  7. 【請求項7】 熱伝導性材料が金属材料である請求項1
    記載の放熱シート。
  8. 【請求項8】 少なくとも一つの熱伝導路の少なくとも
    一つの端部が、シート基材の表面より突出している請求
    項1記載の放熱シート。
  9. 【請求項9】 熱伝導性材料からなる細線に少なくと
    も樹脂層を形成する工程と、樹脂層が形成された細線
    を芯材に巻線する工程と、巻線コイルを加熱および/
    または加圧して、樹脂層どうしを融着および/または圧
    着させて一体化し、巻線コイルブロックを形成する工程
    と、巻きつけられた細線の巻きつけ方向と角度をなし
    て交差する平面がシート面となるようにして、巻線コイ
    ルブロックから放熱シートを切り出す工程とを少なくと
    も有する放熱シートの製造方法。
  10. 【請求項10】 樹脂層の形成前に、樹脂層を構成する
    材料とは異なる材料で細線を被覆する工程を有する請求
    項9記載の放熱シートの製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003110069A (ja) * 2001-09-28 2003-04-11 Kyocera Chemical Corp 熱伝導シートおよびそれを用いた複合部材
JP2010520435A (ja) * 2007-03-07 2010-06-10 サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション 多層管
JP2012138566A (ja) * 2010-12-08 2012-07-19 Nippon Dourooingu:Kk 複合熱伝導部材
WO2017110614A1 (ja) * 2015-12-25 2017-06-29 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JPWO2021246262A1 (ja) * 2020-06-03 2021-12-09

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003110069A (ja) * 2001-09-28 2003-04-11 Kyocera Chemical Corp 熱伝導シートおよびそれを用いた複合部材
JP2010520435A (ja) * 2007-03-07 2010-06-10 サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション 多層管
JP2012138566A (ja) * 2010-12-08 2012-07-19 Nippon Dourooingu:Kk 複合熱伝導部材
WO2017110614A1 (ja) * 2015-12-25 2017-06-29 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JPWO2017110614A1 (ja) * 2015-12-25 2017-12-28 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JPWO2021246262A1 (ja) * 2020-06-03 2021-12-09

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