JPH10284672A - Lead frame for semiconductor device - Google Patents
Lead frame for semiconductor deviceInfo
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- JPH10284672A JPH10284672A JP9086232A JP8623297A JPH10284672A JP H10284672 A JPH10284672 A JP H10284672A JP 9086232 A JP9086232 A JP 9086232A JP 8623297 A JP8623297 A JP 8623297A JP H10284672 A JPH10284672 A JP H10284672A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/853—On the same surface
- H10W72/865—Die-attach connectors and bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップ(以
下、ICという)を搭載するための半導体装置用リード
フレームに関し、特に、ボンディングワイヤの断裂やボ
ンディングワイヤとインナーリードの接合性の低下等の
ワイヤボンディング工程に与える影響を低減させること
ができる半導体装置用リードフレームに関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame for a semiconductor device on which a semiconductor chip (hereinafter, referred to as an IC) is mounted. The present invention relates to a semiconductor device lead frame that can reduce the influence on a wire bonding step.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ICパッケージではリードフレー
ムの中央部にアイランドと呼ばれる平坦部が設けられ、
このアンランドに半導体チップが搭載される。このた
め、ICパッケージのサイズは、半導体チップのサイズ
に対して大きくならざるを得ない。ところが、近年の携
帯用電子機器の普及あるいは需要の増大に伴い、このよ
うな電子機器に用いられるICパッケージも小型化する
ことが要請されている。この要請に対応するために、リ
ードフレームにおけるインナーリードの先端部に傾斜し
たダウンセット加工部を形成し、ワイヤボンディング面
と反対側の面に絶縁性接着フィルムによって半導体チッ
プを接着するようにしてICパッケージの小型化を図っ
たLOC(Lead on Chip) 構造の半導体装置用リードフ
レームが用いられている。2. Description of the Related Art Conventionally, in an IC package, a flat portion called an island is provided at a central portion of a lead frame.
A semiconductor chip is mounted on this unland. For this reason, the size of the IC package must be larger than the size of the semiconductor chip. However, with the spread of portable electronic devices or the increase in demand in recent years, it is required to reduce the size of IC packages used for such electronic devices. In order to respond to this requirement, an inclined downset processing portion is formed at the tip of the inner lead in the lead frame, and the semiconductor chip is bonded to the surface opposite to the wire bonding surface with an insulating adhesive film. 2. Description of the Related Art A lead frame for a semiconductor device having a LOC (Lead on Chip) structure for miniaturizing a package is used.
【0003】図3は、このLOC構造の半導体装置用リ
ードフレームの構造を示す。図に示すように、ダウンセ
ット加工部10が形成されたインナーリード1のボンデ
ィング面11の反対面に接着性のある絶縁性フィルム2
を設けて半導体チップ5を接着し、インナーリード1を
治具3により位置決めしながら半導体チップ5を治具4
に載置し、インナーリード1のボンディング面11と半
導体チップ5をボンディングワイヤ6で接合する。FIG. 3 shows the structure of a lead frame for a semiconductor device having the LOC structure. As shown in the figure, an insulating film 2 having an adhesive property is provided on a surface opposite to a bonding surface 11 of an inner lead 1 on which a downset processing portion 10 is formed.
Is provided, the semiconductor chip 5 is bonded, and the semiconductor chip 5 is positioned while the inner lead 1 is positioned by the jig 3.
And the bonding surface 11 of the inner lead 1 and the semiconductor chip 5 are bonded by bonding wires 6.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
LOC構造の半導体装置用リードフレームによると、ダ
ウンセット加工部10のダウンセット量が規定の量より
深めに加工された場合には、ワイヤボンディング工程に
おいてインナーリード1が半導体チップ5を治具4に押
し付けるため、インナーリード1のダウンセット加工部
10に望ましくない傾きを与える。However, according to the conventional lead frame for a semiconductor device having a LOC structure, when the downset amount of the downset processing portion 10 is processed to be deeper than a prescribed amount, the wire bonding process is performed. Since the inner lead 1 presses the semiconductor chip 5 against the jig 4, the downset portion 10 of the inner lead 1 is given an undesired inclination.
【0005】即ち、ダウンセット量が深めであると、半
導体チップ5がワイヤボンディングの際に治具(金型)
4に押し付けられることとなり、インナーリード1の先
端部を押し上げ、ダウンセット加工部10に傾きを生じ
させる力が働く。傾きが生じた場合には、例えば、図4
に示すように、ボンディングワイヤ6を供給するキャピ
ラリ7とインナーリード1のダウンセット加工部10が
接触してボンディングワイヤ6が断裂したり、図5に示
すように、キャピラリ7とインナーリード1の先端部と
の間に規定よりも大きな間隔が生じてしまい、ボンディ
ングワイヤ6とインナーリード1との接合性が低下する
などワイヤボンディングに重大な影響を与える。[0005] That is, if the downset amount is deep, the jig (die) is used when the semiconductor chip 5 is wire-bonded.
4, the tip of the inner lead 1 is pushed up, and a force that causes the downset processing portion 10 to tilt acts. When the tilt occurs, for example, FIG.
As shown in FIG. 5, the capillary 7 for supplying the bonding wire 6 comes in contact with the downset processing section 10 of the inner lead 1, and the bonding wire 6 is torn. As shown in FIG. An interval larger than the specified interval is generated between the bonding wire 6 and the inner lead 1, which has a significant effect on wire bonding, such as a decrease in bondability between the bonding wire 6 and the inner lead 1.
【0006】[0006]
【発明の目的】従って、本発明の目的は、ボンディング
ワイヤの断裂やボンディングワイヤとインナーリードの
接合性の低下等のワイヤボンディング工程に与える影響
を低減させることができる半導体装置用リードフレーム
を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a lead frame for a semiconductor device which can reduce the influence on a wire bonding process such as a breakage of a bonding wire or a decrease in bonding property between a bonding wire and an inner lead. It is in.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、インナーリードの先端部にダウンセット
加工部を形成して前記先端部を半導体チップにボンディ
ングしてなる半導体装置用リードフレームにおいて、前
記ダウンセット加工部は、前記先端部の他の部分より変
形が容易な変形容易部が形成されていることを特徴とす
る半導体装置用リードフレームを提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor device lead formed by forming a downset processing portion at the tip of an inner lead and bonding the tip to a semiconductor chip. In the frame, the downset processing portion is provided with a lead frame for a semiconductor device, wherein an easily deformable portion that is easier to deform than other portions of the distal end portion is formed.
【0008】この場合、前記変形容易部は、前記インナ
ーリードの幅方向に形成されたくびれであることが望ま
しく、また、前記インナーリードの板厚方向に形成され
たくびれであることが望ましい。In this case, the easily deformable portion is preferably a constriction formed in a width direction of the inner lead, and is preferably a constriction formed in a thickness direction of the inner lead.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照しながら詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
【0010】図1(a),(b),(c)は、本発明の
実施の形態に係る半導体装置用リードフレームを示す。
図3と同一の部分には同一の引用数字,符号を付したの
で重複する説明は省略するが、この実施の形態では、図
1(c)に一部拡大して示したように、インナーリード
1のダウンセット加工部10にインナーリード1の幅方
向に対してくびれ21を形成してダウンセット加工部1
0の変形力を他の部分より小さくした点において従来の
LOC構造の半導体装置用リードフレームと異なる。FIGS. 1A, 1B and 1C show a lead frame for a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
The same parts as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals and symbols, and thus redundant description will be omitted. However, in this embodiment, as shown in FIG. A constriction 21 is formed in the downset processing portion 10 in the width direction of the inner lead 1 so as to form the downset processing portion 1.
The difference from the conventional LOC structure lead frame for a semiconductor device is that the zero deformation force is smaller than that of the other parts.
【0011】この半導体装置用リードフレームによる
と、ダウンセット量が深めの場合、半導体チップ5が治
具4に押し付けられ、インナーリード1のダウンセット
加工部10を押し上げて傾きを生じさせる力が働こうと
するが、ダウンセット加工部10にインナーリード1の
幅方向に対して形成されたくびれ21が変形を起こし、
ダウンセット加工部10を板厚方向へ押し上げて傾かせ
ようとする力を吸収し、それによってインナーリード1
のボンディング面11の傾きを抑制する。According to the lead frame for a semiconductor device, when the downset amount is deep, the semiconductor chip 5 is pressed against the jig 4 to push up the downset processing portion 10 of the inner lead 1 to generate a tilting force. However, the constriction 21 formed in the downset processing portion 10 in the width direction of the inner lead 1 is deformed,
The force which pushes down set processing section 10 in the thickness direction to tilt it is absorbed.
Of the bonding surface 11 is suppressed.
【0012】図2(a),(b),(c)は、本発明の
実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの他の例
を示す。図1(a),(b),(c)と同一の部分には
同一の引用数字,符号を付したので重複する説明は省略
するが、この例によると、図2(c)に一部拡大して示
したように、インナーリード1のダウンセット加工部1
0にインナーリード1の板厚方向に対してくびれ22を
形成した点に特徴がある。FIGS. 2A, 2B and 2C show another example of a semiconductor device lead frame according to an embodiment of the present invention. 1 (a), 1 (b), and 1 (c) are denoted by the same reference numerals and symbols, and duplicate description will be omitted. However, according to this example, FIG. As shown in an enlarged manner, the downset processing portion 1 of the inner lead 1
0 is characterized in that a constriction 22 is formed in the thickness direction of the inner lead 1.
【0013】この半導体装置用リードフレームによれ
ば、図1に示した半導体装置用リードフレームと同様
に、くびれ22が形成されたインナーリード1のダウン
セット加工部10が変形を起こして、ダウンセット加工
部10を板厚方向へ押し上げて傾かせようとする力を吸
収し、インナーリード1のボンディング面11の傾きを
抑制する。According to the lead frame for a semiconductor device, similarly to the lead frame for a semiconductor device shown in FIG. 1, the downset processing portion 10 of the inner lead 1 having the constriction 22 is deformed, and It absorbs a force that pushes the processed portion 10 in the plate thickness direction to tilt it, and suppresses the tilt of the bonding surface 11 of the inner lead 1.
【0014】以上の実施の形態において、ダウンセット
加工部に設けられたインナーリードの幅方向のくびれ
は、リードフレームの打ち抜きと同時に形成することが
できる。また、板厚方向のくびれは、切削,エッチング
等によって形成することができる。ただし、ダウンセッ
ト加工部に形成される変形容易な構造はこれに限定され
るものではない。In the above embodiment, the constriction in the width direction of the inner lead provided in the downset portion can be formed simultaneously with the punching of the lead frame. The constriction in the thickness direction can be formed by cutting, etching, or the like. However, the easily deformable structure formed in the downset processing portion is not limited to this.
【0015】[0015]
【発明の効果】以上述べたように、本発明の半導体装置
用リードフレームによれば、ダウンセット加工部に、イ
ンナーリード先端部の他の部分より変形が容易な変形容
易部を形成するようにしたので、ボンディングワイヤの
断裂やボンディングワイヤとインナーリードの接合性の
低下等のワイヤボンディング工程に与える影響を低減さ
せることができる。As described above, according to the lead frame for a semiconductor device of the present invention, an easily deformable portion which is more easily deformed than the other portion of the tip of the inner lead is formed in the downset portion. Therefore, it is possible to reduce the influence on the wire bonding process, such as the tearing of the bonding wire and the deterioration of the bonding property between the bonding wire and the inner lead.
【図1】本発明の実施の形態に係る半導体装置用リード
フレームを示し、(a)は概略断面図、(b)はその平
面図、(c)はダウンセット加工部の一部拡大図であ
る。1A and 1B show a semiconductor device lead frame according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a schematic cross-sectional view, FIG. 1B is a plan view thereof, and FIG. is there.
【図2】本発明の実施の形態に係る半導体装置用リード
フレームの他の例を示し、(a)は概略断面図、(b)
はその平面図、(c)はダウンセット加工部の一部拡大
図である。2A and 2B show another example of a semiconductor device lead frame according to the embodiment of the present invention, wherein FIG. 2A is a schematic cross-sectional view, and FIG.
Is a plan view thereof, and (c) is a partially enlarged view of a downset processing portion.
【図3】従来の半導体装置用リードフレームを示す図で
ある。FIG. 3 is a view showing a conventional lead frame for a semiconductor device.
【図4】従来の半導体装置用リードフレームの問題点を
示す図であり、ワイヤボンディング工程においてボンデ
ィング面が傾斜してボンディングワイヤが断裂する状態
を示す。FIG. 4 is a view showing a problem of a conventional lead frame for a semiconductor device, showing a state in which a bonding surface is inclined and a bonding wire is torn in a wire bonding step.
【図5】従来の半導体装置用リードフレームの問題点を
示す図であり、ワイヤボンディング工程においてボンデ
ィング面が傾斜してボンディングワイヤとインナーリー
ドの接合性が低下する状態を示す。FIG. 5 is a view showing a problem of a conventional lead frame for a semiconductor device, and shows a state in which a bonding surface is inclined in a wire bonding step and the bonding property between a bonding wire and an inner lead is reduced.
1 インナーリード 2 絶縁性フィルム 3 治具 4 治具 5 半導体チップ 6 ボンディングワイヤ 10 ダウンセット加工部 11 ボンディング面 21 くびれ 22 くびれ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inner lead 2 Insulating film 3 Jig 4 Jig 5 Semiconductor chip 6 Bonding wire 10 Downset processing part 11 Bonding surface 21 Neck 22 Neck
Claims (3)
工部を形成して前記先端部を半導体チップにボンディン
グしてなる半導体装置用リードフレームにおいて、 前記ダウンセット加工部は、前記先端部の他の部分より
変形が容易な変形容易部が形成されていることを特徴と
する半導体装置用リードフレーム。1. A lead frame for a semiconductor device, wherein a downset portion is formed at a tip portion of an inner lead and the tip portion is bonded to a semiconductor chip. A lead frame for a semiconductor device, wherein an easily deformable portion which is easier to deform than a portion is formed.
幅方向に形成されたくびれである請求項1に記載の半導
体装置用リードフレーム。2. The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein said easily deformable portion is a constriction formed in a width direction of said inner lead.
板厚方向に形成されたくびれである請求項1に記載の半
導体装置用リードフレーム。3. The semiconductor device lead frame according to claim 1, wherein said easily deformable portion is a constriction formed in a thickness direction of said inner lead.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9086232A JPH10284672A (en) | 1997-04-04 | 1997-04-04 | Lead frame for semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9086232A JPH10284672A (en) | 1997-04-04 | 1997-04-04 | Lead frame for semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10284672A true JPH10284672A (en) | 1998-10-23 |
Family
ID=13881056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9086232A Pending JPH10284672A (en) | 1997-04-04 | 1997-04-04 | Lead frame for semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10284672A (en) |
-
1997
- 1997-04-04 JP JP9086232A patent/JPH10284672A/en active Pending
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