JPH10286439A - 含フッ素化合物の分解法 - Google Patents
含フッ素化合物の分解法Info
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- JPH10286439A JPH10286439A JP9097154A JP9715497A JPH10286439A JP H10286439 A JPH10286439 A JP H10286439A JP 9097154 A JP9097154 A JP 9097154A JP 9715497 A JP9715497 A JP 9715497A JP H10286439 A JPH10286439 A JP H10286439A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
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- Fire-Extinguishing Compositions (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、含フッ素化合物（ガス状の含フッ
素化合物）、中でもＰＦＣを連続的に分解できる方法、
特に触媒的に連続分解できる方法を提供することを課題
とする。 【解決手段】 本発明の課題は、ガス状の含フッ素化合
物を、４Ａ族、５Ａ族、６Ａ族、７Ａ族、８族、１Ｂ
族、及び３Ｂ族から選ばれる少なくとも一種の金属が担
体に担持された触媒の存在下で、分子状酸素及び水と接
触させることを特徴とする含フッ素化合物の分解法によ
って達成される。
素化合物）、中でもＰＦＣを連続的に分解できる方法、
特に触媒的に連続分解できる方法を提供することを課題
とする。 【解決手段】 本発明の課題は、ガス状の含フッ素化合
物を、４Ａ族、５Ａ族、６Ａ族、７Ａ族、８族、１Ｂ
族、及び３Ｂ族から選ばれる少なくとも一種の金属が担
体に担持された触媒の存在下で、分子状酸素及び水と接
触させることを特徴とする含フッ素化合物の分解法によ
って達成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、含フッ素化合物、
特に半導体工場でのプラズマＣＶＤのチャンバークリー
ニングガス等に使用されているガス状の含フッ素化合物
（パーフルオロ化合物、フッ化炭化水素等）や、冷媒等
に使用されているガス状の含フッ素化合物（フロン等）
の分解法に関する。
特に半導体工場でのプラズマＣＶＤのチャンバークリー
ニングガス等に使用されているガス状の含フッ素化合物
（パーフルオロ化合物、フッ化炭化水素等）や、冷媒等
に使用されているガス状の含フッ素化合物（フロン等）
の分解法に関する。
【０００２】
【従来の技術】含フッ素化合物（ガス状の含フッ素化合
物）はオゾン層の破壊に関与するなど、地球環境に影響
を及ぼすため、その排出は極力抑える必要がある。この
うち、パーフルオロ化合物（以下、ＰＦＣと略する）
は、炭化水素の水素原子が全てフッ素原子で置換された
パーフルオロカーボンなどで、フロンとは異なり塩素を
含まず、かつ非常に安定であるため、オゾン層の破壊に
は関与しないものの、地球温暖化係数が大きく、使用後
の排出は今後規制される可能性がある。
物）はオゾン層の破壊に関与するなど、地球環境に影響
を及ぼすため、その排出は極力抑える必要がある。この
うち、パーフルオロ化合物（以下、ＰＦＣと略する）
は、炭化水素の水素原子が全てフッ素原子で置換された
パーフルオロカーボンなどで、フロンとは異なり塩素を
含まず、かつ非常に安定であるため、オゾン層の破壊に
は関与しないものの、地球温暖化係数が大きく、使用後
の排出は今後規制される可能性がある。
【０００３】このようなガス状の含フッ素化合物の排出
を抑制するためには、使用後の排ガスを何らかの方法で
回収又は分解する必要があるが、方法の簡便さを考慮す
れば、後者の排ガスを分解処理する方法が好ましい。し
かし、該含フッ素化合物のうち、ＰＦＣは非常に安定で
あるため、通常のフロン分解で用いられる方法では処理
が困難である。例えば、燃料と共に燃焼処理して分解す
る方法では、１０００℃以上の高温が必要とされるな
ど、実用的にはまだ解決されるべき問題が残されてい
る。また、シリカやゼオライト等を分解剤として用いて
分解する方法（特開平７−１１６４６６号公報、同７−
１３２２１１号公報）では、ＰＦＣを十分な速度で分解
するために同様に１０００〜１５００℃程度の高温が必
要とされ、更に、粉体の分解剤を供給しながら分解を行
うなど、操作的、装置的にも複雑かつ煩雑であり、更な
る改良が必要である。
を抑制するためには、使用後の排ガスを何らかの方法で
回収又は分解する必要があるが、方法の簡便さを考慮す
れば、後者の排ガスを分解処理する方法が好ましい。し
かし、該含フッ素化合物のうち、ＰＦＣは非常に安定で
あるため、通常のフロン分解で用いられる方法では処理
が困難である。例えば、燃料と共に燃焼処理して分解す
る方法では、１０００℃以上の高温が必要とされるな
ど、実用的にはまだ解決されるべき問題が残されてい
る。また、シリカやゼオライト等を分解剤として用いて
分解する方法（特開平７−１１６４６６号公報、同７−
１３２２１１号公報）では、ＰＦＣを十分な速度で分解
するために同様に１０００〜１５００℃程度の高温が必
要とされ、更に、粉体の分解剤を供給しながら分解を行
うなど、操作的、装置的にも複雑かつ煩雑であり、更な
る改良が必要である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記のような技術背景
に鑑み、本発明は、含フッ素化合物（ガス状の含フッ素
化合物）、中でもＰＦＣを連続的に分解できる方法、特
に触媒的に連続分解できる方法を提供することを課題と
する。
に鑑み、本発明は、含フッ素化合物（ガス状の含フッ素
化合物）、中でもＰＦＣを連続的に分解できる方法、特
に触媒的に連続分解できる方法を提供することを課題と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、ガス状
の含フッ素化合物を、４Ａ族、５Ａ族、６Ａ族、７Ａ
族、８族、１Ｂ族、及び３Ｂ族から選ばれる少なくとも
一種の金属が担体に担持された触媒の存在下で、分子状
酸素及び水と接触させることを特徴とする含フッ素化合
物の分解法によって達成される。
の含フッ素化合物を、４Ａ族、５Ａ族、６Ａ族、７Ａ
族、８族、１Ｂ族、及び３Ｂ族から選ばれる少なくとも
一種の金属が担体に担持された触媒の存在下で、分子状
酸素及び水と接触させることを特徴とする含フッ素化合
物の分解法によって達成される。
【０００６】
【発明の実施の形態】含フッ素化合物としては、半導体
工場でのプラズマＣＶＤのチャンバークリーニングガス
等に使用されているガス状の含フッ素化合物（パーフル
オロ化合物（ＰＦＣ）、フッ化炭化水素等）や、冷媒等
に使用されているガス状の含フッ素化合物（フロン等）
が使用される。これらの含フッ素化合物（ガス状の含フ
ッ素化合物）は、ヘリウム、アルゴン、窒素等の不活性
ガスで希釈されていてもよく、また、単独であっても二
種以上の混合物であってもよい。
工場でのプラズマＣＶＤのチャンバークリーニングガス
等に使用されているガス状の含フッ素化合物（パーフル
オロ化合物（ＰＦＣ）、フッ化炭化水素等）や、冷媒等
に使用されているガス状の含フッ素化合物（フロン等）
が使用される。これらの含フッ素化合物（ガス状の含フ
ッ素化合物）は、ヘリウム、アルゴン、窒素等の不活性
ガスで希釈されていてもよく、また、単独であっても二
種以上の混合物であってもよい。
【０００７】ＰＦＣとしては、ＣＦ4 、Ｃ2 Ｆ6 、Ｃ3
Ｆ8 等の炭化水素の水素原子が全てフッ素原子で置換さ
れたパーフルオロカーボン（飽和、不飽和を含む）や、
ＮＦ 3 等のフッ化窒素や、ＳＦ6 等のフッ化硫黄などが
挙げられる。フッ化炭化水素としては、ＣＨ3 Ｆ、ＣＨ
2 Ｆ2 、（ＣＨ2 Ｆ）2 等の炭化水素の水素原子の一部
がフッ素原子で置換されたものなどが挙げられる。フロ
ンとしては、Ｃ2 Ｃｌ3 Ｆ3 （フロン−１１３）、Ｃ2
Ｃｌ2 Ｆ4 （フロン−１１４）、Ｃ2 ＣｌＦ5 （フロン
−１１５）などが挙げられる。
Ｆ8 等の炭化水素の水素原子が全てフッ素原子で置換さ
れたパーフルオロカーボン（飽和、不飽和を含む）や、
ＮＦ 3 等のフッ化窒素や、ＳＦ6 等のフッ化硫黄などが
挙げられる。フッ化炭化水素としては、ＣＨ3 Ｆ、ＣＨ
2 Ｆ2 、（ＣＨ2 Ｆ）2 等の炭化水素の水素原子の一部
がフッ素原子で置換されたものなどが挙げられる。フロ
ンとしては、Ｃ2 Ｃｌ3 Ｆ3 （フロン−１１３）、Ｃ2
Ｃｌ2 Ｆ4 （フロン−１１４）、Ｃ2 ＣｌＦ5 （フロン
−１１５）などが挙げられる。
【０００８】本発明では、４Ａ族、５Ａ族、６Ａ族、７
Ａ族、８族、１Ｂ族、及び３Ｂ族から選ばれる少なくと
も一種の金属が担体に担持された触媒の存在下で、前記
含フッ素化合物を分子状酸素及び水と接触させることに
よって、含フッ素化合物の分解が行われる。これらの金
属は、その化合物、即ち、ハロゲン化物（塩化物等）、
無機酸塩（硝酸塩、硫酸塩等）、有機酸塩（シュウ酸
塩、酢酸塩等）、酸素酸塩、酸素酸、有機金属化合物、
酸化物等の形態で担持されていてもよく、また、金属の
形態で担持されていてもよい。
Ａ族、８族、１Ｂ族、及び３Ｂ族から選ばれる少なくと
も一種の金属が担体に担持された触媒の存在下で、前記
含フッ素化合物を分子状酸素及び水と接触させることに
よって、含フッ素化合物の分解が行われる。これらの金
属は、その化合物、即ち、ハロゲン化物（塩化物等）、
無機酸塩（硝酸塩、硫酸塩等）、有機酸塩（シュウ酸
塩、酢酸塩等）、酸素酸塩、酸素酸、有機金属化合物、
酸化物等の形態で担持されていてもよく、また、金属の
形態で担持されていてもよい。
【０００９】４Ａ族の金属としては、チタン、ジルコニ
ウム、ハフニウムが挙げられる。５Ａ族の金属として
は、バナジウム、ニオブ、タンタルが挙げられる。６Ａ
族の金属としては、クロム、モリブデン、タングステン
が挙げられる。７Ａ族の金属としては、マンガン、テク
ネチウム、レニウムが挙げられる。８族の金属として
は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウ
ム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金が挙げら
れる。１Ｂ族の金属としては、銅、銀、金が挙げられ
る。３Ｂ族の金属としては、ホウ素、ガリウム、インジ
ウム、タリウムが挙げられる。
ウム、ハフニウムが挙げられる。５Ａ族の金属として
は、バナジウム、ニオブ、タンタルが挙げられる。６Ａ
族の金属としては、クロム、モリブデン、タングステン
が挙げられる。７Ａ族の金属としては、マンガン、テク
ネチウム、レニウムが挙げられる。８族の金属として
は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウ
ム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金が挙げら
れる。１Ｂ族の金属としては、銅、銀、金が挙げられ
る。３Ｂ族の金属としては、ホウ素、ガリウム、インジ
ウム、タリウムが挙げられる。
【００１０】担体としては、例えば、γ−アルミナ、δ
−アルミナ、θ−アルミナ等のアルミナが好適に使用さ
れる。なお、アルミナの比表面積は１２０〜２００ｍ2
／ｇ程度であることが好ましい。アルミナの形状は特に
限定されるものではなく、反応器及び反応方法に合わせ
て、粒状、粉末状、ハニカム状など、それぞれに適した
形状のものを選ぶことができる。
−アルミナ、θ−アルミナ等のアルミナが好適に使用さ
れる。なお、アルミナの比表面積は１２０〜２００ｍ2
／ｇ程度であることが好ましい。アルミナの形状は特に
限定されるものではなく、反応器及び反応方法に合わせ
て、粒状、粉末状、ハニカム状など、それぞれに適した
形状のものを選ぶことができる。
【００１１】前記触媒を調製する方法としては、前記金
属のハロゲン化物（塩化物等）、無機酸塩（硝酸塩、硫
酸塩等）、有機酸塩（シュウ酸塩、酢酸塩等）、酸素
酸、酸素酸塩、錯体（アンミン錯体等）の水溶液や、前
記金属の有機金属化合物の溶液（水溶液又はアルコール
等の有機溶剤溶液）を用いて、含浸法、共沈法、イオン
交換法、機械的混練法等の通常の方法により、担体に前
記金属を担持させる方法が挙げられる。なお、前記金属
の担持量は、担体に対して、金属として０．０１〜５０
重量％、特に０．０１〜２０重量％であることが好まし
い。得られた触媒は、乾燥後、通常の前処理、即ち、空
気中あるいは窒素等の不活性ガス気流中での焼成を行う
ことが好ましい。この処理はマッフル炉等を用いて行っ
てもよく、また、反応器（反応管）中で分解反応を始め
る前に数時間行っても差し支えない。なお、焼成温度は
１００〜８００℃、特に４００〜７００℃であることが
好ましい。この温度が余りに高くなると、アルミナの表
面積の減少が起こって好ましくない。
属のハロゲン化物（塩化物等）、無機酸塩（硝酸塩、硫
酸塩等）、有機酸塩（シュウ酸塩、酢酸塩等）、酸素
酸、酸素酸塩、錯体（アンミン錯体等）の水溶液や、前
記金属の有機金属化合物の溶液（水溶液又はアルコール
等の有機溶剤溶液）を用いて、含浸法、共沈法、イオン
交換法、機械的混練法等の通常の方法により、担体に前
記金属を担持させる方法が挙げられる。なお、前記金属
の担持量は、担体に対して、金属として０．０１〜５０
重量％、特に０．０１〜２０重量％であることが好まし
い。得られた触媒は、乾燥後、通常の前処理、即ち、空
気中あるいは窒素等の不活性ガス気流中での焼成を行う
ことが好ましい。この処理はマッフル炉等を用いて行っ
てもよく、また、反応器（反応管）中で分解反応を始め
る前に数時間行っても差し支えない。なお、焼成温度は
１００〜８００℃、特に４００〜７００℃であることが
好ましい。この温度が余りに高くなると、アルミナの表
面積の減少が起こって好ましくない。
【００１２】分子状酸素としては、酸素ガスを窒素等の
不活性ガスで希釈したものも使用できるが、空気が好適
に使用される。分子状酸素の供給量は前記含フッ素化合
物中の炭素分（炭素原子）を二酸化炭素及び一酸化炭素
に変換するのに十分な量であれば、特に制限されるもの
ではない。即ち、分子状酸素の供給量は、前記含フッ素
化合物中の炭素原子に対して、等モル以上、好ましくは
等モルから１０倍モル程度である。分子状酸素の供給方
法は特に制限されず、例えば、含フッ素化合物と混合し
て反応器（反応管）に供給する方法などが挙げられる。
不活性ガスで希釈したものも使用できるが、空気が好適
に使用される。分子状酸素の供給量は前記含フッ素化合
物中の炭素分（炭素原子）を二酸化炭素及び一酸化炭素
に変換するのに十分な量であれば、特に制限されるもの
ではない。即ち、分子状酸素の供給量は、前記含フッ素
化合物中の炭素原子に対して、等モル以上、好ましくは
等モルから１０倍モル程度である。分子状酸素の供給方
法は特に制限されず、例えば、含フッ素化合物と混合し
て反応器（反応管）に供給する方法などが挙げられる。
【００１３】本発明では、分解反応で発生するハロゲン
（フッ素及び塩素）を除去するために水が添加される。
また、水を添加すると触媒活性が維持されるようにな
る。水の添加量は前記含フッ素化合物中のハロゲン分
（フッ素原子及び塩素原子）と等モル以上、好ましくは
等モルから１０倍モル程度であればよい。例えば、ＣＦ
4 であれば４倍モル以上、好ましくは４〜４０倍モルで
あって、Ｃ2 Ｆ6 であれば６倍モル以上、好ましくは６
〜６０倍モル程度であればよい。水の添加方法は特に制
限されず、例えば、マイクロフィーダーを用いて液体と
して反応器（反応管）に供給する方法、サチュレーター
を用いて含フッ素化合物に同伴させる方法などが挙げら
れる。
（フッ素及び塩素）を除去するために水が添加される。
また、水を添加すると触媒活性が維持されるようにな
る。水の添加量は前記含フッ素化合物中のハロゲン分
（フッ素原子及び塩素原子）と等モル以上、好ましくは
等モルから１０倍モル程度であればよい。例えば、ＣＦ
4 であれば４倍モル以上、好ましくは４〜４０倍モルで
あって、Ｃ2 Ｆ6 であれば６倍モル以上、好ましくは６
〜６０倍モル程度であればよい。水の添加方法は特に制
限されず、例えば、マイクロフィーダーを用いて液体と
して反応器（反応管）に供給する方法、サチュレーター
を用いて含フッ素化合物に同伴させる方法などが挙げら
れる。
【００１４】本発明の含フッ素化合物の分解は、例え
ば、前記触媒を充填した反応器（反応管）に、前記含フ
ッ素化合物、分子状酸素及び水の混合ガスを供給するこ
とによって行われる。このとき、反応温度は３００〜１
０００℃、好ましくは４００〜８００℃で、混合ガスの
供給速度は５００００ｈｒ-1以下、好ましくは１００〜
１００００ｈｒ-1程度である。また、反応圧力は１ｔｏ
ｒｒの減圧から１００ａｔｍの加圧まで広い範囲が可能
であるが、好ましくは常圧から１０ａｔｍ程度である。
分解反応は流通式又はバッチ式で行うことができるが、
簡便であることから前者の流通式が好ましい。また、流
通式の場合、固定床、流動床いずれの形態でも反応を行
いうる。
ば、前記触媒を充填した反応器（反応管）に、前記含フ
ッ素化合物、分子状酸素及び水の混合ガスを供給するこ
とによって行われる。このとき、反応温度は３００〜１
０００℃、好ましくは４００〜８００℃で、混合ガスの
供給速度は５００００ｈｒ-1以下、好ましくは１００〜
１００００ｈｒ-1程度である。また、反応圧力は１ｔｏ
ｒｒの減圧から１００ａｔｍの加圧まで広い範囲が可能
であるが、好ましくは常圧から１０ａｔｍ程度である。
分解反応は流通式又はバッチ式で行うことができるが、
簡便であることから前者の流通式が好ましい。また、流
通式の場合、固定床、流動床いずれの形態でも反応を行
いうる。
【００１５】
【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げて本発明を具
体的に説明する。なお、以下の操作は特に記載しない限
り常圧下で行った。また、含フッ素化合物（Ｃ2 Ｆ6 ）
の転化率は次式により求めた。
体的に説明する。なお、以下の操作は特に記載しない限
り常圧下で行った。また、含フッ素化合物（Ｃ2 Ｆ6 ）
の転化率は次式により求めた。
【００１６】
【数１】
【００１７】実施例１ パラジウムアンミン錯体〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4 Ｃｌ2 〕
（０．０１ｇ）を蒸留水（３０ｇ）に溶解し、この溶液
に市販の粒状のγ−アルミナ（１０ｇ）を加えた後、ロ
ータリーエバポレーターを用いて６０℃で減圧乾固し
た。得られた触媒（５．０ｍｌ）を１００℃で乾燥した
後、内径１０ｍｍの石英製反応管に充填し、窒素気流
中、７００℃で１時間焼成した。次いで、Ｃ2 Ｆ6 ／空
気混合ガス（Ｃ 2 Ｆ6 ：１容量％）を２０ｍｌ／ｍｉｎ
で、水を０．３６ｇ／ｈｒでそれぞれ反応管に供給して
同温度で分解反応を行った。出口ガス中のＣ2 Ｆ6 濃度
（Ｃ2 Ｆ6 残存量）をガスクロマトグラフィーにより分
析したところ、Ｃ2 Ｆ6 転化率は反応開始２時間後で４
９％であった。なお、反応生成物としては、二酸化炭素
がガスクロマトグラフィー及びＦＴ−ＩＲにより確認さ
れた。
（０．０１ｇ）を蒸留水（３０ｇ）に溶解し、この溶液
に市販の粒状のγ−アルミナ（１０ｇ）を加えた後、ロ
ータリーエバポレーターを用いて６０℃で減圧乾固し
た。得られた触媒（５．０ｍｌ）を１００℃で乾燥した
後、内径１０ｍｍの石英製反応管に充填し、窒素気流
中、７００℃で１時間焼成した。次いで、Ｃ2 Ｆ6 ／空
気混合ガス（Ｃ 2 Ｆ6 ：１容量％）を２０ｍｌ／ｍｉｎ
で、水を０．３６ｇ／ｈｒでそれぞれ反応管に供給して
同温度で分解反応を行った。出口ガス中のＣ2 Ｆ6 濃度
（Ｃ2 Ｆ6 残存量）をガスクロマトグラフィーにより分
析したところ、Ｃ2 Ｆ6 転化率は反応開始２時間後で４
９％であった。なお、反応生成物としては、二酸化炭素
がガスクロマトグラフィー及びＦＴ−ＩＲにより確認さ
れた。
【００１８】実施例２ 実施例１において、パラジウムアンミン錯体に代えて塩
化白金酸〔Ｈ2 ＰｔＣｌ4 〕（０．１ｇ）を用いたほか
は、実施例１と同様に触媒を調製して反応を行った。そ
の結果、Ｃ2 Ｆ6 転化率は反応開始２時間後で８０％で
あった。
化白金酸〔Ｈ2 ＰｔＣｌ4 〕（０．１ｇ）を用いたほか
は、実施例１と同様に触媒を調製して反応を行った。そ
の結果、Ｃ2 Ｆ6 転化率は反応開始２時間後で８０％で
あった。
【００１９】比較例１ 実施例１において、触媒として、金属を担持させていな
いγ−アルミナ（５．０ｍｌ）を用いたほかは、実施例
１と同様に反応を行った。その結果、Ｃ2 Ｆ6 転化率は
反応開始２時間後で２１％であった。
いγ−アルミナ（５．０ｍｌ）を用いたほかは、実施例
１と同様に反応を行った。その結果、Ｃ2 Ｆ6 転化率は
反応開始２時間後で２１％であった。
【００２０】実施例３〜１１ 実施例１において、パラジウムアンミン錯体に代えて、
硝酸銅、硝酸鉄、シュウ酸コバルト、硝酸クロム、硝酸
ニッケル、塩化ルテニウム、塩化ジルコニウム、硫酸イ
ンジウム、メタバナジン酸を各０．１ｇ用いたほかは、
実施例１と同様に触媒を調製して反応を行った。その結
果を表１に示す。
硝酸銅、硝酸鉄、シュウ酸コバルト、硝酸クロム、硝酸
ニッケル、塩化ルテニウム、塩化ジルコニウム、硫酸イ
ンジウム、メタバナジン酸を各０．１ｇ用いたほかは、
実施例１と同様に触媒を調製して反応を行った。その結
果を表１に示す。
【００２１】実施例１２、１３ 実施例１において、パラジウムアンミン錯体に代えて、
メタタングステン酸、モリブデン酸を各０．５ｇ用いた
ほかは、実施例１と同様に触媒を調製して反応操作を行
った。その結果を表１に示す。
メタタングステン酸、モリブデン酸を各０．５ｇ用いた
ほかは、実施例１と同様に触媒を調製して反応操作を行
った。その結果を表１に示す。
【００２２】実施例１４ 実施例１において、硝酸クロム（０．１ｇ）を同様に担
持した後、パラジウムアンミン錯体〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4
Ｃｌ2 〕（０．０１ｇ）を同様に担持した触媒を用いた
ほかは、実施例１に同様に反応を行った。その結果を表
１に示す。
持した後、パラジウムアンミン錯体〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4
Ｃｌ2 〕（０．０１ｇ）を同様に担持した触媒を用いた
ほかは、実施例１に同様に反応を行った。その結果を表
１に示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、入手が容易でかつ比較
的安価なアルミナを触媒として用いて、簡便な反応装置
において、非常に安定で処理が難しいＰＦＣ等の半導体
工場でのプラズマＣＶＤのチャンバークリーニングガス
等に使用されている含フッ素化合物を連続的に分解する
ことが可能である。この方法は、生成するガスも二酸化
炭素等であり、地球環境に極めて優しい、ガス状の含フ
ッ素化合物の処理方法である。
的安価なアルミナを触媒として用いて、簡便な反応装置
において、非常に安定で処理が難しいＰＦＣ等の半導体
工場でのプラズマＣＶＤのチャンバークリーニングガス
等に使用されている含フッ素化合物を連続的に分解する
ことが可能である。この方法は、生成するガスも二酸化
炭素等であり、地球環境に極めて優しい、ガス状の含フ
ッ素化合物の処理方法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 23/26 Ｂ０１Ｊ 23/26 Ａ 23/28 23/28 Ａ 23/30 23/30 Ａ 23/42 23/42 Ａ 23/44 23/44 Ａ 23/46 ３０１ 23/46 ３０１Ａ 23/72 23/72 Ａ 23/74 23/74 Ａ (72)発明者 松崎 徳雄 山口県宇部市大字小串1978番地の５ 宇部 興産株式会社宇部研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ガス状の含フッ素化合物を、４Ａ族、５
Ａ族、６Ａ族、７Ａ族、８族、１Ｂ族、及び３Ｂ族から
選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された触媒
の存在下で、分子状酸素及び水と接触させることを特徴
とする含フッ素化合物の分解法。 - 【請求項２】 含フッ素化合物が、パーフルオロ化合
物、フッ化炭化水素、又ははフロンであることを特徴と
する請求項１記載の含フッ素化合物の分解法。 - 【請求項３】 担体がアルミナであることを特徴とする
請求項１記載の含フッ素化合物の分解法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9097154A JPH10286439A (ja) | 1997-04-15 | 1997-04-15 | 含フッ素化合物の分解法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9097154A JPH10286439A (ja) | 1997-04-15 | 1997-04-15 | 含フッ素化合物の分解法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10286439A true JPH10286439A (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=14184661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9097154A Pending JPH10286439A (ja) | 1997-04-15 | 1997-04-15 | 含フッ素化合物の分解法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10286439A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000074821A1 (fr) * | 1999-06-09 | 2000-12-14 | Hitachi, Ltd. | Procede et systeme pour eliminer un compose fluore par decomposition |
| JP2001232152A (ja) * | 1997-06-20 | 2001-08-28 | Hitachi Ltd | フッ素含有化合物の分解処理方法、触媒及び分解処理装置 |
| US6563011B2 (en) | 1999-04-28 | 2003-05-13 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Reactive agent and process for decomposing fluorine compounds and use thereof |
| JP2007130635A (ja) * | 1997-06-20 | 2007-05-31 | Hitachi Ltd | フッ素含有化合物の分解処理方法及び分解処理装置 |
| US7261868B2 (en) | 2001-09-13 | 2007-08-28 | Hitachi, Ltd. | Process and apparatus for the decomposition of fluorine compounds |
| WO2024101331A1 (ja) * | 2022-11-08 | 2024-05-16 | 株式会社レゾナック | 塩素ガスの分解方法および塩素ガスの除去方法 |
-
1997
- 1997-04-15 JP JP9097154A patent/JPH10286439A/ja active Pending
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| US6630421B1 (en) | 1999-04-28 | 2003-10-07 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Reactive agent and process for decomposing fluorine compounds and use thereof |
| WO2000074821A1 (fr) * | 1999-06-09 | 2000-12-14 | Hitachi, Ltd. | Procede et systeme pour eliminer un compose fluore par decomposition |
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| US7261868B2 (en) | 2001-09-13 | 2007-08-28 | Hitachi, Ltd. | Process and apparatus for the decomposition of fluorine compounds |
| WO2024101331A1 (ja) * | 2022-11-08 | 2024-05-16 | 株式会社レゾナック | 塩素ガスの分解方法および塩素ガスの除去方法 |
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