JPH10287896A - 磁気カード用洗浄剤 - Google Patents
磁気カード用洗浄剤Info
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- JPH10287896A JPH10287896A JP11036497A JP11036497A JPH10287896A JP H10287896 A JPH10287896 A JP H10287896A JP 11036497 A JP11036497 A JP 11036497A JP 11036497 A JP11036497 A JP 11036497A JP H10287896 A JPH10287896 A JP H10287896A
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- Japan
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- hydroxide
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- ether
- magnetic card
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気カードを回収リサイクルする際に、
カード表面の印刷塗膜を効率的に剥離、洗浄する洗浄剤
を提供する。 【解決手段】 一般式(1)で表せる水酸化第4級アン
モニウムを含有することを特徴とする磁気カード用洗浄
剤。 一般式: (式中、R1、R2、R3、およびR4は、炭素数1〜6の
アルキル基、アルケニル基、フェニル基、ベンジル基、
および(CnH2nO)mH基(ただしnは2〜4の整数、
mは1〜5の整数である)から選ばれた何れかの置換基
である。)
カード表面の印刷塗膜を効率的に剥離、洗浄する洗浄剤
を提供する。 【解決手段】 一般式(1)で表せる水酸化第4級アン
モニウムを含有することを特徴とする磁気カード用洗浄
剤。 一般式: (式中、R1、R2、R3、およびR4は、炭素数1〜6の
アルキル基、アルケニル基、フェニル基、ベンジル基、
および(CnH2nO)mH基(ただしnは2〜4の整数、
mは1〜5の整数である)から選ばれた何れかの置換基
である。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気カードを回
収、再生使用するため、磁気カードの表面に塗布、印刷
されている塗膜を剥離、洗浄する洗浄剤に関する。更に
詳しくはアルカリ成分を添加することにより、優れた洗
浄効果を発揮する洗浄剤に関する。
収、再生使用するため、磁気カードの表面に塗布、印刷
されている塗膜を剥離、洗浄する洗浄剤に関する。更に
詳しくはアルカリ成分を添加することにより、優れた洗
浄効果を発揮する洗浄剤に関する。
【0002】
【従来の技術】電話などのプリペイドカードに代表され
る磁気カードは広く普及しており、使用後の回収リサイ
クル使用が望まれている。そのため、回収しリサイクル
使用するには磁気カード表面の塗膜を完全に取り除く必
要がある。従来、この目的に使用される洗浄剤としては
メチルエチルケトンなどのケトン類、塩化メチレンなど
のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミドやジメチルスルホキサイドなどの溶剤が単
独または混合して使用されることが記載されている(特
開昭64−24799号公報)。またキシレンなどの芳
香族炭化水素などが一般的な溶剤として使用されている
場合や、グリコールエーテルに水酸化ナトリウムなどの
無機のアルカリ剤を添加したものもある。
る磁気カードは広く普及しており、使用後の回収リサイ
クル使用が望まれている。そのため、回収しリサイクル
使用するには磁気カード表面の塗膜を完全に取り除く必
要がある。従来、この目的に使用される洗浄剤としては
メチルエチルケトンなどのケトン類、塩化メチレンなど
のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミドやジメチルスルホキサイドなどの溶剤が単
独または混合して使用されることが記載されている(特
開昭64−24799号公報)。またキシレンなどの芳
香族炭化水素などが一般的な溶剤として使用されている
場合や、グリコールエーテルに水酸化ナトリウムなどの
無機のアルカリ剤を添加したものもある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の溶剤では、磁気カード表面の塗膜の剥離または洗浄効
果が十分ではなく、また、臭気対策や環境中の濃度に注
意する必要があるなど、作業環境の面からも問題が指摘
されている。また、グリコールエーテルに無機アルカリ
剤を添加したものは、洗浄剤自体が相分離をおこした
り、無機アルカリ剤の析出がみられ、洗浄効果の点で十
分なものではないという問題があった。本発明は、磁気
カード表面の塗膜を剥離し、洗浄性に優れ、作業環境面
でも満足しうる磁気カード洗浄剤を提供することを目的
とする。
の溶剤では、磁気カード表面の塗膜の剥離または洗浄効
果が十分ではなく、また、臭気対策や環境中の濃度に注
意する必要があるなど、作業環境の面からも問題が指摘
されている。また、グリコールエーテルに無機アルカリ
剤を添加したものは、洗浄剤自体が相分離をおこした
り、無機アルカリ剤の析出がみられ、洗浄効果の点で十
分なものではないという問題があった。本発明は、磁気
カード表面の塗膜を剥離し、洗浄性に優れ、作業環境面
でも満足しうる磁気カード洗浄剤を提供することを目的
とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、洗浄剤中のアルカリ成
分として水酸化第4級アンモニウムを使用することがこ
の目的に合致するものであることを見出し本発明を完成
した。即ち本発明は水酸化第4級アンモニウムを含有す
ることを特徴とする磁気カード用洗浄剤である。
を達成すべく鋭意研究した結果、洗浄剤中のアルカリ成
分として水酸化第4級アンモニウムを使用することがこ
の目的に合致するものであることを見出し本発明を完成
した。即ち本発明は水酸化第4級アンモニウムを含有す
ることを特徴とする磁気カード用洗浄剤である。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明において、(A)の一般式
(1)のR1〜R4の炭素数1〜6のアルキル基の例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イ
ソプロピル基およびtert−ブチル基、ヘキシル基、
などが挙げられ、(CnH2nO)mH基の例としては、オ
キシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン
基があげられる。R1〜R4のうち好ましいものは炭素数
1〜4のアルキル基、ベンジル基、オキシエチレン基、
オキシプロピレン基であり、特に好ましいものは炭素数
1〜2のアルキル基、ベンジル基、オキシエチレン基で
ある。
(1)のR1〜R4の炭素数1〜6のアルキル基の例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イ
ソプロピル基およびtert−ブチル基、ヘキシル基、
などが挙げられ、(CnH2nO)mH基の例としては、オ
キシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン
基があげられる。R1〜R4のうち好ましいものは炭素数
1〜4のアルキル基、ベンジル基、オキシエチレン基、
オキシプロピレン基であり、特に好ましいものは炭素数
1〜2のアルキル基、ベンジル基、オキシエチレン基で
ある。
【0006】(A)の具体例としては、水酸化テトラメ
チルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、
水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチ
ルアンモニウム、水酸化トリメチルエチルアンモニウ
ム、水酸化トリメチルプロピルアンモニウム、水酸化ト
リメチルブチルアンモニウム、水酸化トリメチルペンチ
ルアンモニウム、水酸化トリメチルヘキシルアンモニウ
ム、水酸化ジメチルジエチルアンモニウム、水酸化メチ
ルトリエチルアンモニウム、水酸化トリメチルベンジル
アンモニウム、水酸化トリエチルベンジルアンモニウ
ム、水酸化メチルトリベンジルアンモニウム、水酸化メ
チルジエチルベンジルアンモニウム、水酸化トリメチル
(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化トリエ
チル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化ト
リメチル(3−ヒドロキシプロピル)アンモニウム、水
酸化トリエチル(3−ヒドロキシプロピル)アンモニウ
ム、水酸化ジメチルジ(2−ヒドロキシエチル)アンモ
ニウム、水酸化ジメチルジ(3−ヒドロキシプロピル)
アンモニウムおよびこれらの混合物等が挙げられる。
チルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、
水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチ
ルアンモニウム、水酸化トリメチルエチルアンモニウ
ム、水酸化トリメチルプロピルアンモニウム、水酸化ト
リメチルブチルアンモニウム、水酸化トリメチルペンチ
ルアンモニウム、水酸化トリメチルヘキシルアンモニウ
ム、水酸化ジメチルジエチルアンモニウム、水酸化メチ
ルトリエチルアンモニウム、水酸化トリメチルベンジル
アンモニウム、水酸化トリエチルベンジルアンモニウ
ム、水酸化メチルトリベンジルアンモニウム、水酸化メ
チルジエチルベンジルアンモニウム、水酸化トリメチル
(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化トリエ
チル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化ト
リメチル(3−ヒドロキシプロピル)アンモニウム、水
酸化トリエチル(3−ヒドロキシプロピル)アンモニウ
ム、水酸化ジメチルジ(2−ヒドロキシエチル)アンモ
ニウム、水酸化ジメチルジ(3−ヒドロキシプロピル)
アンモニウムおよびこれらの混合物等が挙げられる。
【0007】本発明の洗浄剤は水酸化第4級アンモニウ
ムを必須成分として含有するものであるが、下記の一般
式(2)で表される化合物(B)を併用する場合に洗浄
効果が増し好ましい。 R5O(CnH2nO)mR6 (2) (式中、R5は炭素数1〜8のアルキル基、R6は水素ま
たは炭素数1〜8のアルキル基、nは2〜3の整数、m
は1〜4の整数を表す。)
ムを必須成分として含有するものであるが、下記の一般
式(2)で表される化合物(B)を併用する場合に洗浄
効果が増し好ましい。 R5O(CnH2nO)mR6 (2) (式中、R5は炭素数1〜8のアルキル基、R6は水素ま
たは炭素数1〜8のアルキル基、nは2〜3の整数、m
は1〜4の整数を表す。)
【0008】化合物(B)の一般式(2)のR5の炭素
数1〜8のアルキル基の例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基およびte
rt−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基が挙げられ
る。これらのうち、洗浄効果の点で好ましいものはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基およびブ
チル基である。アルキル基の炭素数が8を越えると洗浄
性が悪くなる。R6の炭素数1〜8のアルキル基の例と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
イソプロピル基およびtert−ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基が挙げられる。R6のうち、好ましいも
のは水素および炭素数1〜4のアルキル基であり、特に
水素およびメチル基、エチル基の場合優れた洗浄効果を
示し好ましい。アルキル基の炭素数が8を越えると洗浄
性が悪くなる。式中のCnH2nOは、オキシエチレン基
および/またはオキシプロピレン基を表す。洗浄効果の
点で、少なくともオキシエチレン基が含まれることが好
ましい。mはエチレンオキシドおよび/またはプロピレ
ンオキシドの付加モル数を表し、通常1〜4の整数、好
ましくは2〜3である。mが2を越える場合エチレンオ
キシドおよび/またはプロピレンオキシドの付加形式は
単独でも、これらのランダム付加もしくはブロック付加
でもよい。mが4を越えるものは洗浄性が悪くなる。
数1〜8のアルキル基の例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基およびte
rt−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基が挙げられ
る。これらのうち、洗浄効果の点で好ましいものはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基およびブ
チル基である。アルキル基の炭素数が8を越えると洗浄
性が悪くなる。R6の炭素数1〜8のアルキル基の例と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
イソプロピル基およびtert−ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基が挙げられる。R6のうち、好ましいも
のは水素および炭素数1〜4のアルキル基であり、特に
水素およびメチル基、エチル基の場合優れた洗浄効果を
示し好ましい。アルキル基の炭素数が8を越えると洗浄
性が悪くなる。式中のCnH2nOは、オキシエチレン基
および/またはオキシプロピレン基を表す。洗浄効果の
点で、少なくともオキシエチレン基が含まれることが好
ましい。mはエチレンオキシドおよび/またはプロピレ
ンオキシドの付加モル数を表し、通常1〜4の整数、好
ましくは2〜3である。mが2を越える場合エチレンオ
キシドおよび/またはプロピレンオキシドの付加形式は
単独でも、これらのランダム付加もしくはブロック付加
でもよい。mが4を越えるものは洗浄性が悪くなる。
【0009】(B)の具体例としては、アルキレングリ
コールモノアルキルエーテル類(ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコール
モノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレンプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレンプロピレングリコールモノエチル
エーテル、エチレンプロピレングリコールモノプロピル
エーテル、エチレンプロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレンプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレンプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレンプロピレングリコールモノプロピル
エーテル、ジエチレンプロピレングリコールモノブチル
エーテル、トリエチレンプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレンプロピレングリコールモノプ
ロピルエーテル、トリエチレンプロピレングリコールモ
ノブチルエーテル、テトラエチレンプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノプロピルエーテル、エチレンジプロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレンプロピレングリコー
ルモノtert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエ
ーテル等)、アルキレングリコールジアルキルエーテル
類(ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコー
ルジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
等)およびこれらの混合物等が挙げられる。
コールモノアルキルエーテル類(ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコール
モノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレンプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレンプロピレングリコールモノエチル
エーテル、エチレンプロピレングリコールモノプロピル
エーテル、エチレンプロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレンプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレンプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレンプロピレングリコールモノプロピル
エーテル、ジエチレンプロピレングリコールモノブチル
エーテル、トリエチレンプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレンプロピレングリコールモノプ
ロピルエーテル、トリエチレンプロピレングリコールモ
ノブチルエーテル、テトラエチレンプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノプロピルエーテル、エチレンジプロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレンプロピレングリコー
ルモノtert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエ
ーテル等)、アルキレングリコールジアルキルエーテル
類(ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコー
ルジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
等)およびこれらの混合物等が挙げられる。
【0010】本発明の洗浄剤中の水酸化第4級アンモニ
ウム(A)の量は、洗浄力および取り扱い性の点で、通
常、重量基準で0.1〜10%、好ましくは1〜5%で
ある。一般式(2)で表される化合物(B)の量は、通
常、重量基準で0〜80%、好ましくは10〜60%で
ある。
ウム(A)の量は、洗浄力および取り扱い性の点で、通
常、重量基準で0.1〜10%、好ましくは1〜5%で
ある。一般式(2)で表される化合物(B)の量は、通
常、重量基準で0〜80%、好ましくは10〜60%で
ある。
【0011】本発明の洗浄剤組成物には、アルカリ成分
として上記水酸化第4級アンモニウムに加えて、アルカ
ノールアミン等の有機アルカリや、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無
機アルカリを添加することができる。また浸透性や湿潤
性を与えるために、例えばノニルフェノールのエチレン
オキシド付加物、オクチルフェノールのエチレンオキシ
ド付加物、脂肪酸のエチレンオキシド付加物、パーフル
オロアルキルエチレンオキシド付加物などの非イオン界
面活性剤や、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム、アルキルリン酸エステル、高
級脂肪酸塩などのアニオン界面活性剤、塩化ベンザルコ
ニウムなどのカチオン界面活性剤、アルキルベタインな
どの両性界面活性剤を加えることができる。
として上記水酸化第4級アンモニウムに加えて、アルカ
ノールアミン等の有機アルカリや、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無
機アルカリを添加することができる。また浸透性や湿潤
性を与えるために、例えばノニルフェノールのエチレン
オキシド付加物、オクチルフェノールのエチレンオキシ
ド付加物、脂肪酸のエチレンオキシド付加物、パーフル
オロアルキルエチレンオキシド付加物などの非イオン界
面活性剤や、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム、アルキルリン酸エステル、高
級脂肪酸塩などのアニオン界面活性剤、塩化ベンザルコ
ニウムなどのカチオン界面活性剤、アルキルベタインな
どの両性界面活性剤を加えることができる。
【0012】本発明の洗浄剤を用いて磁気カードを洗浄
するには、室温から100℃、好ましくは30〜70℃
の本発明の洗浄剤に浸漬しブラシロール付き洗浄機や、
超音波洗浄機などにより洗浄後、水または加温した水で
すすいだ後、乾燥する。
するには、室温から100℃、好ましくは30〜70℃
の本発明の洗浄剤に浸漬しブラシロール付き洗浄機や、
超音波洗浄機などにより洗浄後、水または加温した水で
すすいだ後、乾燥する。
【0013】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。尚、実施
例中%は特記しないかぎり重量%を示す。 実施例1〜13、比較例1〜4 <洗浄性試験>洗浄剤10リットルに磁気カード 1000
枚を入れ、回転、揺動しながら50℃で60分間超音波
洗浄機にて洗浄を行った。その後、水道水ですすぎ、乾
燥した後、磁気カード表面の塗膜の残存の有無を目視で
確認した。 評価基準 ◎:磁気カード1000枚中、塗膜の残存している磁気
カードは20枚以下であった。 ○:磁気カード1000枚中、塗膜の残存している磁気
カードは20〜50枚であった。 △:磁気カード1000枚中、塗膜の残存している磁気
カードは50〜200枚であった。 ×:磁気カード1000枚中、塗膜の残存している磁気
カードは200枚以上であった。 <安定性比較>実施例および比較例で示した洗浄剤を5
0℃で放置し、30分後に外観を目視観察し比較した。 ○:外観変化なく、安定性良好 ×:相分離または沈降物を認め安定性不良。
が、本発明はこれに限定されるものではない。尚、実施
例中%は特記しないかぎり重量%を示す。 実施例1〜13、比較例1〜4 <洗浄性試験>洗浄剤10リットルに磁気カード 1000
枚を入れ、回転、揺動しながら50℃で60分間超音波
洗浄機にて洗浄を行った。その後、水道水ですすぎ、乾
燥した後、磁気カード表面の塗膜の残存の有無を目視で
確認した。 評価基準 ◎:磁気カード1000枚中、塗膜の残存している磁気
カードは20枚以下であった。 ○:磁気カード1000枚中、塗膜の残存している磁気
カードは20〜50枚であった。 △:磁気カード1000枚中、塗膜の残存している磁気
カードは50〜200枚であった。 ×:磁気カード1000枚中、塗膜の残存している磁気
カードは200枚以上であった。 <安定性比較>実施例および比較例で示した洗浄剤を5
0℃で放置し、30分後に外観を目視観察し比較した。 ○:外観変化なく、安定性良好 ×:相分離または沈降物を認め安定性不良。
【0014】
【表1】
【0015】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は水酸化第4級アンモニ
ウムを含有し、磁気カード表面の塗膜を効果的に剥離洗
浄する。無機アルカリ剤を添加した洗浄剤にみられる相
分離などをおこさず、臭気、作業環境面でも問題もない
きわめて有用な磁気カード用の洗浄剤である。
ウムを含有し、磁気カード表面の塗膜を効果的に剥離洗
浄する。無機アルカリ剤を添加した洗浄剤にみられる相
分離などをおこさず、臭気、作業環境面でも問題もない
きわめて有用な磁気カード用の洗浄剤である。
Claims (3)
- 【請求項1】 水酸化第4級アンモニウムを含有するこ
とを特徴とする磁気カード用洗浄剤。 - 【請求項2】 該水酸化第4級アンモニウムが下記一般
式(1)で表される化合物(A)である請求項1記載の
洗浄剤。 一般式: (式中、R1、R2、R3、およびR4は、炭素数1〜6の
アルキル基、アルケニル基、フェニル基、ベンジル基、
および(CnH2nO)mH基(ただしnは2〜4の整数、
mは1〜5の整数である)から選ばれた何れかの置換基
である。) - 【請求項3】 さらに一般式(2)で表される化合物
(B)を含有してなる請求項1または2記載の洗浄剤。 一般式: R5O(CnH2nO)mR6 (2) (式中、R5は炭素数1〜8のアルキル基、アルケニル
基、R6は水素または炭素数1〜8のアルキル基、アル
ケニル基、nは2〜3の整数、mは1〜4の整数を表
す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11036497A JPH10287896A (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-10 | 磁気カード用洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11036497A JPH10287896A (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-10 | 磁気カード用洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10287896A true JPH10287896A (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=14533927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11036497A Pending JPH10287896A (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-10 | 磁気カード用洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10287896A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003253298A (ja) * | 2002-02-27 | 2003-09-10 | Nicca Chemical Co Ltd | 磁気カードの剥離洗浄法 |
| WO2013077383A1 (ja) * | 2011-11-25 | 2013-05-30 | 東ソー株式会社 | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 |
-
1997
- 1997-04-10 JP JP11036497A patent/JPH10287896A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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