JPH08224740A - ガラスモールド用洗浄剤 - Google Patents
ガラスモールド用洗浄剤Info
- Publication number
- JPH08224740A JPH08224740A JP3349695A JP3349695A JPH08224740A JP H08224740 A JPH08224740 A JP H08224740A JP 3349695 A JP3349695 A JP 3349695A JP 3349695 A JP3349695 A JP 3349695A JP H08224740 A JPH08224740 A JP H08224740A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glycol
- cleaning agent
- glass mold
- ethylene
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/70—Maintenance
- B29C33/72—Cleaning
- B29C33/722—Compositions for cleaning moulds
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 グリコールジエーテルが３０重量％以上配合
されるとともに、水が３０重量％未満の割合で配合さ
れ、かつ、残部がエチレン系あるいはプロピレン系グリ
コールモノエーテルであるガラスモールド用洗浄剤。 【効果】 ガラスモールドに付着した光学プラスチック
レンズ樹脂のポリマー残渣や未反応モノマーの洗浄性に
優れ、かつＣＦＣ−１１３あるいは１，１，１−トリク
ロロエタンのようにオゾン層破壊物質に該当せず、ま
た、アルコールや炭化水素系溶剤あるいはアルカリ洗浄
剤や従来の準水系洗浄剤に比べて優れた洗浄性を保有
し、取扱いが容易である。
されるとともに、水が３０重量％未満の割合で配合さ
れ、かつ、残部がエチレン系あるいはプロピレン系グリ
コールモノエーテルであるガラスモールド用洗浄剤。 【効果】 ガラスモールドに付着した光学プラスチック
レンズ樹脂のポリマー残渣や未反応モノマーの洗浄性に
優れ、かつＣＦＣ−１１３あるいは１，１，１−トリク
ロロエタンのようにオゾン層破壊物質に該当せず、ま
た、アルコールや炭化水素系溶剤あるいはアルカリ洗浄
剤や従来の準水系洗浄剤に比べて優れた洗浄性を保有
し、取扱いが容易である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラスモールド用洗浄剤
に関し、詳しくは、ガラスモールドに付着したポリマ
ー、オリゴマー、モノマーを洗浄するための洗浄剤に関
する。
に関し、詳しくは、ガラスモールドに付着したポリマ
ー、オリゴマー、モノマーを洗浄するための洗浄剤に関
する。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来のガ
ラスモールド洗浄用洗浄剤としては、 ＣＦＣ−１１３あるいはトリクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素溶剤が広く利用されており、また、 アルコール類、ケトン類あるいは炭化水素系溶剤も使
用されていた。
ラスモールド洗浄用洗浄剤としては、 ＣＦＣ−１１３あるいはトリクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素溶剤が広く利用されており、また、 アルコール類、ケトン類あるいは炭化水素系溶剤も使
用されていた。
【０００３】しかしながら、上記の溶剤にあっては、
オゾン層を破壊する原因物質として厳しい使用削減を図
らねばならず、将来的にはそのほとんどが使用出来得な
くなる状況にある。
オゾン層を破壊する原因物質として厳しい使用削減を図
らねばならず、将来的にはそのほとんどが使用出来得な
くなる状況にある。
【０００４】また、上記はオゾン破壊物質では無いも
のの、当該ポリマー、オリゴマー、及びモノマーの汚染
物質に対する洗浄力が数段劣り、かつ、アルコール類や
ケトン類にあっては、その低い引火点により安全性に対
し多大の設備投資を行わなければならなかった。
のの、当該ポリマー、オリゴマー、及びモノマーの汚染
物質に対する洗浄力が数段劣り、かつ、アルコール類や
ケトン類にあっては、その低い引火点により安全性に対
し多大の設備投資を行わなければならなかった。
【０００５】なお、洗浄剤として広く用いられている多
くのアルカリ洗浄剤、あるいは、エチレン系あるいはプ
ロピレン系グリコールモノエーテルを主成分とした準水
系洗浄剤では、実用的レベルの洗浄性を全く呈さないと
いう問題点があった。
くのアルカリ洗浄剤、あるいは、エチレン系あるいはプ
ロピレン系グリコールモノエーテルを主成分とした準水
系洗浄剤では、実用的レベルの洗浄性を全く呈さないと
いう問題点があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段と作用】本発明はこのよう
な従来の問題点に着目してなされたものである。すなわ
ち、請求項１に記載のガラスモールド用洗浄剤は、下記
一般式で示されるグリコールジエーテルの１種以上より
構成されるものである。
な従来の問題点に着目してなされたものである。すなわ
ち、請求項１に記載のガラスモールド用洗浄剤は、下記
一般式で示されるグリコールジエーテルの１種以上より
構成されるものである。
【０００７】
【化４】 （式中、Ｒ１、Ｒ２は、各々独立に炭素数１あるいは２
のアルキル基、Ｒ３は水素原子あるいはメチル基、ｍは
１〜３の整数を示す）。
のアルキル基、Ｒ３は水素原子あるいはメチル基、ｍは
１〜３の整数を示す）。
【０００８】請求項２に記載のガラスモールド用洗浄剤
は、請求項１記載のグリコールジエーテルの１種以上
と、エチレン系あるいはプロピレン系グリコールモノエ
ーテルとにより構成されるものである。
は、請求項１記載のグリコールジエーテルの１種以上
と、エチレン系あるいはプロピレン系グリコールモノエ
ーテルとにより構成されるものである。
【０００９】請求項３記載のガラスモールド用洗浄剤
は、請求項２記載の洗浄剤において、前記グリコールジ
エーテルが３０重量％（以下、単に「％」という）配合
されるとともに、水が３０％未満の割合で配合され、か
つ、残部がエチレン系あるいはプロピレン系グリコール
モノエーテルであることを特徴とする。
は、請求項２記載の洗浄剤において、前記グリコールジ
エーテルが３０重量％（以下、単に「％」という）配合
されるとともに、水が３０％未満の割合で配合され、か
つ、残部がエチレン系あるいはプロピレン系グリコール
モノエーテルであることを特徴とする。
【００１０】請求項４記載のガラスモールド用洗浄剤
は、請求項２または３記載の洗浄剤において、前記グリ
コールジエーテルの少なくとも１種が、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチル
メチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ルまたはポリエチレングリコールジメチルエーテルであ
り、前記エチレン系グリコールモノエーテルが下記一般
式（２）で示され、また、前記プロピレン系グリコール
モノエーテルが下記一般式（３）で示される水溶性グリ
コールモノエーテルであることを特徴とする。
は、請求項２または３記載の洗浄剤において、前記グリ
コールジエーテルの少なくとも１種が、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチル
メチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ルまたはポリエチレングリコールジメチルエーテルであ
り、前記エチレン系グリコールモノエーテルが下記一般
式（２）で示され、また、前記プロピレン系グリコール
モノエーテルが下記一般式（３）で示される水溶性グリ
コールモノエーテルであることを特徴とする。
【００１１】
【化５】 （式中、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基）
【化６】 （式中、Ｒ５は炭素数１〜２のアルキル基）
【００１２】［手段を構成する要件］本発明に使用する
グリコールジエーテルは、炭素数１あるいは２の脂肪族
アルコールのエチレンオキシドあるいはプロピレンオキ
シド１〜３モル付加物で構成された化合物の末端水素を
メチル基あるいはエチル基で置換したものが挙げられ、
例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリ
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリ
コールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールエチルメチルエーテル等が挙げられ
る。その中でも、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、ポリエチレングリ
コールジメチルエーテルは完全な水溶性のため、水すす
ぎ性に優れているという点で好ましい。
グリコールジエーテルは、炭素数１あるいは２の脂肪族
アルコールのエチレンオキシドあるいはプロピレンオキ
シド１〜３モル付加物で構成された化合物の末端水素を
メチル基あるいはエチル基で置換したものが挙げられ、
例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリ
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリ
コールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールエチルメチルエーテル等が挙げられ
る。その中でも、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、ポリエチレングリ
コールジメチルエーテルは完全な水溶性のため、水すす
ぎ性に優れているという点で好ましい。
【００１３】本発明の洗浄剤の各構成成分の配合割合と
しては、グリコールジエーテル１種以上が３０％以上が
好ましく、更に好ましくは４０％以上であり、１００％
に近い程洗浄力が高くなる傾向がある。３０％未満では
洗浄力に劣る傾向がある。
しては、グリコールジエーテル１種以上が３０％以上が
好ましく、更に好ましくは４０％以上であり、１００％
に近い程洗浄力が高くなる傾向がある。３０％未満では
洗浄力に劣る傾向がある。
【００１４】水の配合割合は３０％未満であることが望
ましい。３０％以上となると洗浄性が劣る傾向にある。
なお、水の配合量は、ガラスモールドに付着する汚染物
質の種類や分子量に依存する洗浄性と、取り扱い安全性
によって決定される。また、純水やイオン交換水、蒸留
水の使用が好ましい。
ましい。３０％以上となると洗浄性が劣る傾向にある。
なお、水の配合量は、ガラスモールドに付着する汚染物
質の種類や分子量に依存する洗浄性と、取り扱い安全性
によって決定される。また、純水やイオン交換水、蒸留
水の使用が好ましい。
【００１５】また、洗浄剤を構成するその他の成分とし
ては、各種界面活性剤、パラフィン系炭化水素類、テル
ペン系炭化水素類、更にはアルコール類やケトン類より
エチレン系あるいはプロピレン系グリコールモノエーテ
ル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が好ましい。中で
も、水溶性に優れるという点で、エチレン系あるいはプ
ロピレン系グリコールモノエーテル類が好ましい。
ては、各種界面活性剤、パラフィン系炭化水素類、テル
ペン系炭化水素類、更にはアルコール類やケトン類より
エチレン系あるいはプロピレン系グリコールモノエーテ
ル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が好ましい。中で
も、水溶性に優れるという点で、エチレン系あるいはプ
ロピレン系グリコールモノエーテル類が好ましい。
【００１６】さらには、これらエチレン系あるいはプロ
ピレン系グリコールモノエーテル類の中でも、上記した
一般式（２）（３）で示されるものは完全な水溶性のた
め、水すすぎ性に優れているという点で好ましい。
ピレン系グリコールモノエーテル類の中でも、上記した
一般式（２）（３）で示されるものは完全な水溶性のた
め、水すすぎ性に優れているという点で好ましい。
【００１７】これらグリコールモノエーテル類の具体例
としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールモノノルマルプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノノルマルブチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテルなどが挙げられる。
としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールモノノルマルプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノノルマルブチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテルなどが挙げられる。
【００１８】また、洗浄剤のすすぎ性の向上に、非イオ
ン界面活性剤等の添加も場合により有効であり、更に、
指紋等の油脂や微粒子等の汚染物質を効率的に除去する
場合には、フッ素系界面活性剤、水酸化テトラアルキル
アンモニウム等の併用も効果的である。
ン界面活性剤等の添加も場合により有効であり、更に、
指紋等の油脂や微粒子等の汚染物質を効率的に除去する
場合には、フッ素系界面活性剤、水酸化テトラアルキル
アンモニウム等の併用も効果的である。
【００１９】本発明が対象とする洗浄素材はガラスモー
ルドであり、主として光学用プラスチックレンズの成型
時に使用されるガラス型枠である。
ルドであり、主として光学用プラスチックレンズの成型
時に使用されるガラス型枠である。
【００２０】本発明の対象となる汚染物質は、主に光学
用プラスチックレンズのポリマー残渣、未反応モノマー
であり、プラスチックレンズの素材としてはメタクリル
樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ＣＲ３９（ア
メリカのＰＰＧ社の商品名がそのまま通称名となったも
の。モノマーの化学名はジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート。）、ポリメチルペンテン等が例示され
る。
用プラスチックレンズのポリマー残渣、未反応モノマー
であり、プラスチックレンズの素材としてはメタクリル
樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ＣＲ３９（ア
メリカのＰＰＧ社の商品名がそのまま通称名となったも
の。モノマーの化学名はジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート。）、ポリメチルペンテン等が例示され
る。
【００２１】本発明の洗浄剤は使用に当たり、原液にて
浸漬あるいは超音波洗浄装置を用いて前記ガラスモール
ドを洗浄し、次いですすぎ工程である水によるリンス洗
浄を行い、のち乾燥する。
浸漬あるいは超音波洗浄装置を用いて前記ガラスモール
ドを洗浄し、次いですすぎ工程である水によるリンス洗
浄を行い、のち乾燥する。
【００２２】場合により洗浄のみの操作で乾燥し、すす
ぎ操作を無くすることのノンリンス洗浄も可能である。
ぎ操作を無くすることのノンリンス洗浄も可能である。
【００２３】
【実施例】実施例１〜１７および比較例１〜７ 下記［表１］［表２］、及び［表３］の各洗浄剤を調製
し、効果例１〜３の各評価を行った。
し、効果例１〜３の各評価を行った。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】
【表３】
【００２７】効果例１（メタクリル樹脂成型用ガラスモ
ールドの超音波洗浄性） メタクリル樹脂残渣および未反応メタクリル酸メチルモ
ノマーが付着しているガラスモールドを室温２０℃、６
０秒で４０ＫＨｚ、６００Ｗの超音波洗浄を行った。次
に、後リンス処理を実施し、乾燥後、部品表面の仕上が
り性を目視で評価した。結果を下記［表４］に示す。
ールドの超音波洗浄性） メタクリル樹脂残渣および未反応メタクリル酸メチルモ
ノマーが付着しているガラスモールドを室温２０℃、６
０秒で４０ＫＨｚ、６００Ｗの超音波洗浄を行った。次
に、後リンス処理を実施し、乾燥後、部品表面の仕上が
り性を目視で評価した。結果を下記［表４］に示す。
【００２８】効果例２（ＣＲ３９成型用ガラスモールド
の超音波洗浄性） ＣＲ３９樹脂残渣および未反応ジエチレングリコールビ
スアリルカーボネートモノマーが付着しているガラスモ
ールドを４０℃、６０秒で４０ＫＨｚ、６００Ｗの超音
波洗浄を行った。次に、後リンス処理を実施し、乾燥
後、部品表面の仕上がり性を目視で評価した。結果を
［表４］に示す。
の超音波洗浄性） ＣＲ３９樹脂残渣および未反応ジエチレングリコールビ
スアリルカーボネートモノマーが付着しているガラスモ
ールドを４０℃、６０秒で４０ＫＨｚ、６００Ｗの超音
波洗浄を行った。次に、後リンス処理を実施し、乾燥
後、部品表面の仕上がり性を目視で評価した。結果を
［表４］に示す。
【００２９】効果例３（メタクリル樹脂成型用ガラスモ
ールドの超音波ノンリンス洗浄性） メタクリル樹脂の未反応メタクリル酸メチルモノマー、
ポリマー微粒子および指紋が付着しているガラスモール
ドを室温２０℃、３０秒で４０ＫＨｚ、６００Ｗの超音
波洗浄を行った。次に、充分ブロー処理の後、同一新洗
浄液に３０秒間浸漬し再びブロー処理の後、１２０℃で
１０分間乾燥後、部品表面の仕上がり性を目視で評価し
た。結果を［表４］に示す。
ールドの超音波ノンリンス洗浄性） メタクリル樹脂の未反応メタクリル酸メチルモノマー、
ポリマー微粒子および指紋が付着しているガラスモール
ドを室温２０℃、３０秒で４０ＫＨｚ、６００Ｗの超音
波洗浄を行った。次に、充分ブロー処理の後、同一新洗
浄液に３０秒間浸漬し再びブロー処理の後、１２０℃で
１０分間乾燥後、部品表面の仕上がり性を目視で評価し
た。結果を［表４］に示す。
【００３０】
【表４】
【００３１】
【発明の効果】本発明洗浄剤は、ガラスモールドに付着
した光学プラスチックレンズ樹脂のポリマー残渣や未反
応モノマーの洗浄性に優れ、かつＣＦＣ−１１３あるい
は１，１，１−トリクロロエタンのようにオゾン層破壊
物質に該当せず、また、アルコールや炭化水素系溶剤あ
るいはアルカリ洗浄剤や従来の準水系洗浄剤に比べて優
れた洗浄性を保有し、取扱いが容易である。
した光学プラスチックレンズ樹脂のポリマー残渣や未反
応モノマーの洗浄性に優れ、かつＣＦＣ−１１３あるい
は１，１，１−トリクロロエタンのようにオゾン層破壊
物質に該当せず、また、アルコールや炭化水素系溶剤あ
るいはアルカリ洗浄剤や従来の準水系洗浄剤に比べて優
れた洗浄性を保有し、取扱いが容易である。
Claims (4)
- 【請求項１】下記一般式で示されるグリコールジエーテ
ルの１種以上より構成されることを特徴とするガラスモ
ールド用洗浄剤。 【化１】 （式中、Ｒ１、Ｒ２は、各々独立に炭素数１あるいは２
のアルキル基、Ｒ３は水素原子あるいはメチル基、ｍは
１〜３の整数を示す。） - 【請求項２】請求項１記載のグリコールジエーテルの１
種以上と、エチレン系あるいはプロピレン系グリコール
モノエーテルとにより構成されることを特徴とするガラ
スモールド用洗浄剤。 - 【請求項３】前記グリコールジエーテルが３０重量％以
上配合されるとともに、水が３０重量％未満の割合で配
合され、かつ、残部が前記エチレン系あるいはプロピレ
ン系グリコールモノエーテルであることを特徴とする請
求項２記載の洗浄剤。 - 【請求項４】前記グリコールジエーテルの少なくとも１
種が、 ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテルまたはポリエチレングリコールジメチ
ルエーテルであり、 前記エチレン系グリコールモノエーテルが下記一般式
（２）で示され、また、前記プロピレン系グリコールモ
ノエーテルが下記一般式（３）で示される水溶性グリコ
ールモノエーテルであることを特徴とする請求項２又は
３記載の洗浄剤。 【化２】 （式中、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基） 【化３】 （式中、Ｒ５は炭素数１〜２のアルキル基）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3349695A JPH08224740A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | ガラスモールド用洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3349695A JPH08224740A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | ガラスモールド用洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08224740A true JPH08224740A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=12388168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3349695A Pending JPH08224740A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | ガラスモールド用洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08224740A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5954891A (en) * | 1997-01-09 | 1999-09-21 | Kao Corporation | Detergent composition for removing resinous stains |
| JP2001518552A (ja) * | 1997-09-29 | 2001-10-16 | キーゼン コーポレイション | 製造中で使用した重合物及び樹脂のクリーニング組成物及びクリーニング方法 |
| WO2003035356A1 (en) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | Hoya Corporation | Method for manufacturing molded lens product and detergent |
| WO2013077383A1 (ja) * | 2011-11-25 | 2013-05-30 | 東ソー株式会社 | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 |
-
1995
- 1995-02-22 JP JP3349695A patent/JPH08224740A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5954891A (en) * | 1997-01-09 | 1999-09-21 | Kao Corporation | Detergent composition for removing resinous stains |
| JP2001518552A (ja) * | 1997-09-29 | 2001-10-16 | キーゼン コーポレイション | 製造中で使用した重合物及び樹脂のクリーニング組成物及びクリーニング方法 |
| WO2003035356A1 (en) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | Hoya Corporation | Method for manufacturing molded lens product and detergent |
| WO2013077383A1 (ja) * | 2011-11-25 | 2013-05-30 | 東ソー株式会社 | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 |
| JP2013129815A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-07-04 | Tosoh Corp | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 |
| CN103987833A (zh) * | 2011-11-25 | 2014-08-13 | 东曹株式会社 | 洗涤剂组合物及使用其的洗涤方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6017862A (en) | Cleaning compositions and methods for cleaning resin and polymeric materials used in manufacture | |
| JP2949574B2 (ja) | 樹脂汚れ用洗浄剤組成物 | |
| JP6383046B2 (ja) | ハードディスク用基板用の洗浄剤組成物 | |
| JPH08224740A (ja) | ガラスモールド用洗浄剤 | |
| CN100412184C (zh) | 清洗漂洗方法 | |
| CN100497573C (zh) | 一种清洗剂 | |
| JP2003113400A (ja) | 樹脂レンズ成形用ガラスモールド洗浄剤組成物、洗浄方法及び該洗浄剤組成物の再生方法 | |
| JP4026790B2 (ja) | ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物 | |
| WO2017212827A1 (ja) | ハードディスク用基板用の洗浄剤組成物 | |
| JP2004189944A (ja) | 樹脂状汚れ除去用洗浄剤、及び洗浄方法 | |
| JPS60106896A (ja) | 洗浄剤 | |
| JPH09241685A (ja) | レンズ洗浄用工業用洗浄剤 | |
| JP4990074B2 (ja) | プラスチックレンズ用洗浄剤組成物 | |
| JP4530381B2 (ja) | 洗浄液組成物 | |
| JPH06122898A (ja) | 洗浄組成物および洗浄方法 | |
| JPH05125396A (ja) | 洗浄剤 | |
| JP5600404B2 (ja) | 水置換剤およびそれを用いた洗浄方法 | |
| JP3744029B2 (ja) | 洗浄剤 | |
| JPS6257491A (ja) | 非水洗浄用洗浄剤 | |
| JP3454533B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JP3375097B2 (ja) | 物品の洗浄方法 | |
| WO2001021750A1 (fr) | Detergent | |
| JPH10287896A (ja) | 磁気カード用洗浄剤 | |
| JPH11116995A (ja) | 工業用精密部品洗浄剤組成物および洗浄方法 | |
| JP2005179687A (ja) | 洗浄剤 |