JPH10290033A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09945297A JP4144043B2 (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 圧電体薄膜素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09945297A JP4144043B2 (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 圧電体薄膜素子の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007277296A Division JP4144653B2 (ja) | 2007-10-25 | 2007-10-25 | インクジェット式記録ヘッド |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10290033A JPH10290033A (ja) | 1998-10-27 |
| JPH10290033A5 true JPH10290033A5 (fr) | 2005-03-17 |
| JP4144043B2 JP4144043B2 (ja) | 2008-09-03 |
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ID=14247736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09945297A Expired - Fee Related JP4144043B2 (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 圧電体薄膜素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4144043B2 (fr) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999065689A1 (fr) * | 1998-06-18 | 1999-12-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Dispositif de projection de fluide et son procede de fabrication |
| US6502930B1 (en) | 1999-08-04 | 2003-01-07 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording head, method for manufacturing the same, and ink jet recorder |
| JP4560860B2 (ja) * | 1999-11-02 | 2010-10-13 | Tdk株式会社 | 積層型圧電体の製造方法 |
| US6705708B2 (en) | 2001-02-09 | 2004-03-16 | Seiko Espon Corporation | Piezoelectric thin-film element, ink-jet head using the same, and method for manufacture thereof |
| JP4182329B2 (ja) | 2001-09-28 | 2008-11-19 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電体薄膜素子およびその製造方法、ならびにこれを用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
| EP1560279B1 (fr) | 2004-01-27 | 2007-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Elément piezoélectrique et procédé de fabrication, tête jet d'encre et dispositif d'enregistrement à jet d'encre utilisant l'élément |
| JP5251031B2 (ja) * | 2006-09-08 | 2013-07-31 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、センサー |
| JP2012174955A (ja) * | 2011-02-23 | 2012-09-10 | Stanley Electric Co Ltd | 圧電アクチュエータ及びその製造方法 |
| JP6263950B2 (ja) * | 2013-10-22 | 2018-01-24 | 株式会社リコー | 電気−機械変換素子とその製造方法及び電気−機械変換素子を備えた液滴吐出ヘッド、インクカートリッジ並びに画像形成装置 |
-
1997
- 1997-04-16 JP JP09945297A patent/JP4144043B2/ja not_active Expired - Fee Related
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