JPH10290901A - 水切り乾燥装置 - Google Patents
水切り乾燥装置Info
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- JPH10290901A JPH10290901A JP11617797A JP11617797A JPH10290901A JP H10290901 A JPH10290901 A JP H10290901A JP 11617797 A JP11617797 A JP 11617797A JP 11617797 A JP11617797 A JP 11617797A JP H10290901 A JPH10290901 A JP H10290901A
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- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性をなくすフッ
素系溶剤と、上述のＩＰＡとが混合された混合液を設
け、この混合液が貯蔵された洗浄槽と、この洗浄槽の液
面上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層とを備える
ことで、フッ素系溶剤によりＩＰＡの引火性をなくし
て、防爆構造を不要となしつつ、水分の付着したワーク
から水分を除去し、良好な乾燥効果を得ることができる
水切り乾燥装置の提供を目的とする。 【解決手段】ＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性をなくす
フッ素系溶剤と、上記ＩＰＡとが混合された混合液ａを
設け、上記混合液ａが貯溜された洗浄槽３と、該洗浄槽
３の液面上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層１５
とを備え、水分の付着したワークを水切り乾燥すること
を特徴とする。
素系溶剤と、上述のＩＰＡとが混合された混合液を設
け、この混合液が貯蔵された洗浄槽と、この洗浄槽の液
面上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層とを備える
ことで、フッ素系溶剤によりＩＰＡの引火性をなくし
て、防爆構造を不要となしつつ、水分の付着したワーク
から水分を除去し、良好な乾燥効果を得ることができる
水切り乾燥装置の提供を目的とする。 【解決手段】ＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性をなくす
フッ素系溶剤と、上記ＩＰＡとが混合された混合液ａを
設け、上記混合液ａが貯溜された洗浄槽３と、該洗浄槽
３の液面上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層１５
とを備え、水分の付着したワークを水切り乾燥すること
を特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、水分の付着した
ワークを洗浄および水切り乾燥するような水切り乾燥装
置に関する。
ワークを洗浄および水切り乾燥するような水切り乾燥装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、上述例の洗浄および水切りには有
機溶剤としてのＡＫ−２２５（商品名）が用いられてい
たが、大気汚染や地球温暖化の要因となる関係上、規則
により使用不可能となる。なお上述のＡＫ−２２５の物
性は次の通りである。
機溶剤としてのＡＫ−２２５（商品名）が用いられてい
たが、大気汚染や地球温暖化の要因となる関係上、規則
により使用不可能となる。なお上述のＡＫ−２２５の物
性は次の通りである。
【０００３】分子量……２０２．９４ 沸 点……５４℃ 比 重……１．５５（但し２５℃において） 表面張力…１６．２dynes/cm（但し２５℃において） 引火点……なし ＫＢ値……３１ ＳＰ値……６．９ オゾン破壊係数…０．０１〜０．０４ 一方、ワークの水切り乾燥に有効な溶剤としてはＩＰＡ
（イソプロピルアルコール）が知られているが、このＩ
ＰＡは常温以下で引火する危険物（引火点２１．１℃）
であるから、防爆構造なしには使用することができない
問題点があった。
（イソプロピルアルコール）が知られているが、このＩ
ＰＡは常温以下で引火する危険物（引火点２１．１℃）
であるから、防爆構造なしには使用することができない
問題点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明の請求項１記
載の発明は、ＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性をなくす
フッ素系溶剤と、上述のＩＰＡとが混合された混合液を
設け、この混合液が貯蔵された洗浄槽と、この洗浄槽の
液面上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層とを備え
ることで、フッ素系溶剤によりＩＰＡの引火性をなくし
て、防爆構造を不要となしつつ、水分の付着したワーク
から水分を除去し、良好な乾燥効果を得ることができる
水切り乾燥装置の提供を目的とする。
載の発明は、ＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性をなくす
フッ素系溶剤と、上述のＩＰＡとが混合された混合液を
設け、この混合液が貯蔵された洗浄槽と、この洗浄槽の
液面上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層とを備え
ることで、フッ素系溶剤によりＩＰＡの引火性をなくし
て、防爆構造を不要となしつつ、水分の付着したワーク
から水分を除去し、良好な乾燥効果を得ることができる
水切り乾燥装置の提供を目的とする。
【０００５】この発明の請求項２記載の発明は、上記請
求項１記載の発明の目的と併せて、上述のフッ素系溶剤
をＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）に設定する
ことで、ＨＦＥ＋ＩＰＡの状態にある混合液中に水分
（Ｈ2 Ｏ）の付着したワークが入ってくると、ＩＰＡ＋
Ｈ2 ＯとＨＦＥとに分離して、確実な水切り乾燥効果を
得ることができる水切り乾燥装置の提供を目的とする。
求項１記載の発明の目的と併せて、上述のフッ素系溶剤
をＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）に設定する
ことで、ＨＦＥ＋ＩＰＡの状態にある混合液中に水分
（Ｈ2 Ｏ）の付着したワークが入ってくると、ＩＰＡ＋
Ｈ2 ＯとＨＦＥとに分離して、確実な水切り乾燥効果を
得ることができる水切り乾燥装置の提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１記載
の発明は、ＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性をなくすフ
ッ素系溶剤と、上記ＩＰＡとが混合された混合液を設
け、上記混合液が貯溜された洗浄槽と、該洗浄槽の液面
上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層とを備え、水
分の付着したワークを水切り乾燥する水切り乾燥装置で
あることを特徴とする。この発明の請求項２記載の発明
は、上記請求項１記載の発明の目的と併せて、上記フッ
素系溶剤をＨＦＥに設定した水切り乾燥装置であること
を特徴とする。
の発明は、ＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性をなくすフ
ッ素系溶剤と、上記ＩＰＡとが混合された混合液を設
け、上記混合液が貯溜された洗浄槽と、該洗浄槽の液面
上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層とを備え、水
分の付着したワークを水切り乾燥する水切り乾燥装置で
あることを特徴とする。この発明の請求項２記載の発明
は、上記請求項１記載の発明の目的と併せて、上記フッ
素系溶剤をＨＦＥに設定した水切り乾燥装置であること
を特徴とする。
【０００７】
【発明の作用及び効果】この発明の請求項１記載の発明
によれば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）と混合し
てＩＰＡの引火性をなくすフッ素系溶剤と、ＩＰＡとを
混合した混合液を設けたので、上述のフッ素系溶剤によ
りＩＰＡの引火性をなくして、装置側の防爆構造を省略
することができる。しかも、混合液中に含有するＩＰＡ
により水分の付着したワークから水分を除去し、さらに
フッ素系溶剤の蒸気層にてワークの温度を上げて乾燥す
る。したがって、良好な水切り乾燥効果を得ることがで
き、大気汚染や地球温暖化の影響もなくなる効果があ
る。
によれば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）と混合し
てＩＰＡの引火性をなくすフッ素系溶剤と、ＩＰＡとを
混合した混合液を設けたので、上述のフッ素系溶剤によ
りＩＰＡの引火性をなくして、装置側の防爆構造を省略
することができる。しかも、混合液中に含有するＩＰＡ
により水分の付着したワークから水分を除去し、さらに
フッ素系溶剤の蒸気層にてワークの温度を上げて乾燥す
る。したがって、良好な水切り乾燥効果を得ることがで
き、大気汚染や地球温暖化の影響もなくなる効果があ
る。
【０００８】この発明の請求項２記載の発明によれば、
上記請求項１記載の発明の効果と併せて、上述のフッ素
系溶剤をＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）に設
定したので、ＨＦＥ＋ＩＰＡの状態にある混合液中に水
分（Ｈ2 Ｏ）の付着したワークが入ってくると、ＩＰＡ
＋Ｈ2 ＯとＨＦＥとに分離して、確実な水切り乾燥効果
を得ることができる。
上記請求項１記載の発明の効果と併せて、上述のフッ素
系溶剤をＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）に設
定したので、ＨＦＥ＋ＩＰＡの状態にある混合液中に水
分（Ｈ2 Ｏ）の付着したワークが入ってくると、ＩＰＡ
＋Ｈ2 ＯとＨＦＥとに分離して、確実な水切り乾燥効果
を得ることができる。
【０００９】
【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は水切り乾燥装置を示し、図１において、
この水切り乾燥装置はタンク本体１の上部にワーク出入
口２を形成する一方、このワーク出入口２と上下方向に
対向するタンク下部には超音波洗浄槽３を形成してい
る。
述する。図面は水切り乾燥装置を示し、図１において、
この水切り乾燥装置はタンク本体１の上部にワーク出入
口２を形成する一方、このワーク出入口２と上下方向に
対向するタンク下部には超音波洗浄槽３を形成してい
る。
【００１０】この超音波洗浄層３の一側（図示左側）に
はオーバフロー部４を介して分離槽５および蒸留槽６を
この順に配設し、超音波洗浄槽３の他側（図示右側）に
はオーバフロー部７を介して水分離槽８を配設してい
る。なお上述のタンク本体１においてワーク出入口２以
外の部分はそれぞれの天壁５ａ，６ａ，８ａにより覆わ
れている。
はオーバフロー部４を介して分離槽５および蒸留槽６を
この順に配設し、超音波洗浄槽３の他側（図示右側）に
はオーバフロー部７を介して水分離槽８を配設してい
る。なお上述のタンク本体１においてワーク出入口２以
外の部分はそれぞれの天壁５ａ，６ａ，８ａにより覆わ
れている。
【００１１】ここで、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）と混合してＩＰＡの引火性をなくすフッ素系溶剤と
してのＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）と、上
記ＩＰＡとが混合された混合液ａを設け、この混合液ａ
を上述の各槽３，５，６に貯溜している。上述のＨＦＥ
とＩＰＡとの混合比率は、ＨＦＥを約９５wt％、ＩＰＡ
を約５wt％の割合にて混合する。
ル）と混合してＩＰＡの引火性をなくすフッ素系溶剤と
してのＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）と、上
記ＩＰＡとが混合された混合液ａを設け、この混合液ａ
を上述の各槽３，５，６に貯溜している。上述のＨＦＥ
とＩＰＡとの混合比率は、ＨＦＥを約９５wt％、ＩＰＡ
を約５wt％の割合にて混合する。
【００１２】ところで、上述の超音波洗浄槽３の底部に
は両サイドのフラット部３ａ，３ｂと中央の凹部３ｃと
が形成され、上述のフラット部３ａ，３ｂには超音波振
動子９，９を設ける一方、凹部３ｃには混合液ａを例え
ば３５〜５０℃（最良の超音波効果を得られる温度）に
加熱する加熱手段としてのヒータ１０を取付けている。
は両サイドのフラット部３ａ，３ｂと中央の凹部３ｃと
が形成され、上述のフラット部３ａ，３ｂには超音波振
動子９，９を設ける一方、凹部３ｃには混合液ａを例え
ば３５〜５０℃（最良の超音波効果を得られる温度）に
加熱する加熱手段としてのヒータ１０を取付けている。
【００１３】また上述の分離槽５には同槽５の側壁と離
反する２枚の仕切板１１，１２を立設し、ＨＦＥ＋ＩＰ
Ａの状態の混合液ａと、ワークの水切り洗浄により形成
されるＨ2 Ｏ＋ＩＰＡの液ｂとを比重差により上下に分
離すべく構成し、蒸留槽６に対しては混合液ａのみをオ
ーバフローすべく構成している。なお、ＨＦＥの比重は
１．４３〜１．５２、ＩＰＡの比重は０．７８６〜０．
７８７、Ｈ2 Ｏの比重は１．０である。
反する２枚の仕切板１１，１２を立設し、ＨＦＥ＋ＩＰ
Ａの状態の混合液ａと、ワークの水切り洗浄により形成
されるＨ2 Ｏ＋ＩＰＡの液ｂとを比重差により上下に分
離すべく構成し、蒸留槽６に対しては混合液ａのみをオ
ーバフローすべく構成している。なお、ＨＦＥの比重は
１．４３〜１．５２、ＩＰＡの比重は０．７８６〜０．
７８７、Ｈ2 Ｏの比重は１．０である。
【００１４】さらに、上述の蒸留槽６には混合液ａをＨ
ＦＥの沸点（使用するＨＦＥの種類により異なるが、例
えば６０℃）に加熱する加熱手段としてのヒータ１３を
取付け、前述の超音波洗浄槽３の液面と、冷却手段とし
てタンク本体１の内部周壁部分にのみ配置された冷却ジ
ャケット１４との間にＨＦＥ蒸気層１５を形成すべく構
成している。
ＦＥの沸点（使用するＨＦＥの種類により異なるが、例
えば６０℃）に加熱する加熱手段としてのヒータ１３を
取付け、前述の超音波洗浄槽３の液面と、冷却手段とし
てタンク本体１の内部周壁部分にのみ配置された冷却ジ
ャケット１４との間にＨＦＥ蒸気層１５を形成すべく構
成している。
【００１５】一方、前述の水分離槽８の上方には冷却手
段としての冷却コイル１６（溶剤ロスの低減を図る目的
で、ＨＦＥ蒸気を凝縮して再生液化するためのコイル）
を配設している。この冷却コイル１６と上述の冷却ジャ
ケット１４とは図示しない冷凍サイクルに接続されてい
る。
段としての冷却コイル１６（溶剤ロスの低減を図る目的
で、ＨＦＥ蒸気を凝縮して再生液化するためのコイル）
を配設している。この冷却コイル１６と上述の冷却ジャ
ケット１４とは図示しない冷凍サイクルに接続されてい
る。
【００１６】また上述の水分離槽８には２つの仕切板１
７，１８を設け、一方の仕切板１７で水分離されたＨ2
Ｏが仕切板１８側へ流動しないように規制すると共に、
他方の仕切板１８で必要液面を確保すべく構成してい
る。
７，１８を設け、一方の仕切板１７で水分離されたＨ2
Ｏが仕切板１８側へ流動しないように規制すると共に、
他方の仕切板１８で必要液面を確保すべく構成してい
る。
【００１７】前述の超音波洗浄槽３の液面と冷却ジャケ
ット１４との間にはワークの出入と干渉しないようにシ
ャワー装置１９を配設し、水分離槽８における仕切板１
８と底板８ｂとの間から比較的ＨＦＥ濃度の濃い混合液
ａを、必要に応じて送液ポンプ２０、開閉弁２１および
送液ライン２２を介して上述のシャワー装置１９に送液
して、ワーク表面のすすぎを行なうように構成してい
る。
ット１４との間にはワークの出入と干渉しないようにシ
ャワー装置１９を配設し、水分離槽８における仕切板１
８と底板８ｂとの間から比較的ＨＦＥ濃度の濃い混合液
ａを、必要に応じて送液ポンプ２０、開閉弁２１および
送液ライン２２を介して上述のシャワー装置１９に送液
して、ワーク表面のすすぎを行なうように構成してい
る。
【００１８】さらに上述の水分離槽８における液面部と
分離槽５の液ｂの浮上部との間には、水分離槽８で分離
されたＨ2 Ｏを液ｂの部分に還流させるライン２３を槽
配置にて設ける一方、分離槽５において混合液ａ上に浮
上した液ｂを槽外へ排出すべく構成している。また前述
の冷却ジャケット４上の所定範囲をワークの乾燥領域α
に設定している。
分離槽５の液ｂの浮上部との間には、水分離槽８で分離
されたＨ2 Ｏを液ｂの部分に還流させるライン２３を槽
配置にて設ける一方、分離槽５において混合液ａ上に浮
上した液ｂを槽外へ排出すべく構成している。また前述
の冷却ジャケット４上の所定範囲をワークの乾燥領域α
に設定している。
【００１９】この実施例では上述のＨＦＥとしてＨＦＥ
−７１００（商品名）またはＨＦＥ−７２００（商品
名）を使用することができ、ＩＰＡとしてはＩＰＡＳＥ
（商品名）またはＩＰＡＳ（商品名）を使用することが
できるので、これら各溶剤の物性を以下に列記する。
−７１００（商品名）またはＨＦＥ−７２００（商品
名）を使用することができ、ＩＰＡとしてはＩＰＡＳＥ
（商品名）またはＩＰＡＳ（商品名）を使用することが
できるので、これら各溶剤の物性を以下に列記する。
【００２０】ＨＦＥ−７１００の物性 化学式……Ｃ4 Ｆ9 ＯＣＨ3 沸 点……６０℃ 表面張力…１３．６dynes/cm 引火点……なし ＶＯＣ……なし ＯＤＰ……０ 比 重……１．５２ ＨＦＥ−７２００の物性 化学式……Ｃ4 Ｆ9 ＯＣ2 Ｈ5 沸 点……７３℃ 表面張力…１３．６dynes/cm 引火点……なし ＶＯＣ……なし ＯＤＰ……０ 比 重……１．４３ ＩＰＡＳＥおよびＩＰＡＳの物性 比 重……０．７８６〜０．７８７ 沸 点……８２．４℃ 粘 度……２．４１cp/20 ℃ 引火点……２１．１℃（開放式） 発火点……４６０℃ 爆発範囲…２〜１２vol ％。
【００２１】図示実施例は上記の如く構成するものにし
て、以下作用を説明する。ワークの水切り乾燥に際して
は、水分の付着したワークをワーク出入口２から超音波
洗浄槽３の混合液ａの液中に浸漬し、超音波振動子９，
９を駆動して、上述のワークを超音波洗浄する。
て、以下作用を説明する。ワークの水切り乾燥に際して
は、水分の付着したワークをワーク出入口２から超音波
洗浄槽３の混合液ａの液中に浸漬し、超音波振動子９，
９を駆動して、上述のワークを超音波洗浄する。
【００２２】混合液ａはＨＦＥ＋ＩＰＡの状態にある
が、水分の付着したワークが浸漬されることで、混合液
ａの一部はＨＦＥとＩＰＡ＋Ｈ2 Ｏの状態に分離する。
つまりＩＰＡの物性によりワークに付着した水分（Ｈ2
Ｏ）が除去される。またＩＰＡ＋Ｈ2 Ｏの状態となった
液ｂは比重差により混合液ａ上に浮上する。
が、水分の付着したワークが浸漬されることで、混合液
ａの一部はＨＦＥとＩＰＡ＋Ｈ2 Ｏの状態に分離する。
つまりＩＰＡの物性によりワークに付着した水分（Ｈ2
Ｏ）が除去される。またＩＰＡ＋Ｈ2 Ｏの状態となった
液ｂは比重差により混合液ａ上に浮上する。
【００２３】次に超音波洗浄および水切り後のワークを
ＨＦＥ蒸気層１５まで上昇させ、ワークの乾燥が良好に
行なわれるようＨＦＥ蒸気にてワーク温度を上げる。な
お、すすぎ処理が必要な場合には超音波洗浄槽３におけ
るＨＦＥ濃度よりもその濃度が濃いＨＦＥをシャワー装
置１９からワークに吹付けて、ワーク表面のすすぎを実
行した後に、ＨＦＥ蒸気層１５にて所定時間ワークを蒸
気洗浄する。次に蒸気洗浄終了後のワークを乾燥領域α
まで上昇させて、乾燥処理し、乾燥後のワークはワーク
出入口２から取出して、次工程へ搬送する。
ＨＦＥ蒸気層１５まで上昇させ、ワークの乾燥が良好に
行なわれるようＨＦＥ蒸気にてワーク温度を上げる。な
お、すすぎ処理が必要な場合には超音波洗浄槽３におけ
るＨＦＥ濃度よりもその濃度が濃いＨＦＥをシャワー装
置１９からワークに吹付けて、ワーク表面のすすぎを実
行した後に、ＨＦＥ蒸気層１５にて所定時間ワークを蒸
気洗浄する。次に蒸気洗浄終了後のワークを乾燥領域α
まで上昇させて、乾燥処理し、乾燥後のワークはワーク
出入口２から取出して、次工程へ搬送する。
【００２４】なお、上述の超音波洗浄槽３において混合
液ａ上に浮上したＩＰＡ＋Ｈ2 Ｏ状態の液ｂはオーバフ
ロー４を介して隣設する分離槽５に流下した後に、この
分離槽５において混合液ａと比重分離されてその液ａ面
上に浮上した後に、槽外に排出される。
液ａ上に浮上したＩＰＡ＋Ｈ2 Ｏ状態の液ｂはオーバフ
ロー４を介して隣設する分離槽５に流下した後に、この
分離槽５において混合液ａと比重分離されてその液ａ面
上に浮上した後に、槽外に排出される。
【００２５】以上要するに、ＩＰＡ（イソプロピルアル
コール）と混合してＩＰＡの引火性をなくすフッ素系溶
剤（ＨＦＥ参照）と、ＩＰＡとを混合した混合液ａを設
けたので、上述のフッ素系溶剤（ＨＦＥ参照）によりＩ
ＰＡの引火性をなくして、装置側の防爆構造を省略する
ことができる。しかも、混合液ａ中に含有するＩＰＡに
より水分の付着したワークから水分を除去し、さらにフ
ッ素系溶剤（ＨＦＥ参照）の蒸気層１５にてワークの温
度を上げて乾燥する。したがって、良好な水切り乾燥効
果を得ることができ、大気汚染や地球温暖化の影響もな
くなる効果がある。
コール）と混合してＩＰＡの引火性をなくすフッ素系溶
剤（ＨＦＥ参照）と、ＩＰＡとを混合した混合液ａを設
けたので、上述のフッ素系溶剤（ＨＦＥ参照）によりＩ
ＰＡの引火性をなくして、装置側の防爆構造を省略する
ことができる。しかも、混合液ａ中に含有するＩＰＡに
より水分の付着したワークから水分を除去し、さらにフ
ッ素系溶剤（ＨＦＥ参照）の蒸気層１５にてワークの温
度を上げて乾燥する。したがって、良好な水切り乾燥効
果を得ることができ、大気汚染や地球温暖化の影響もな
くなる効果がある。
【００２６】また、上述のフッ素系溶剤をＨＦＥ（ハイ
ドロ・フルオロ・エーテル）に設定したので、ＨＦＥ＋
ＩＰＡの状態にある混合液ａ中に水分（Ｈ2 Ｏ）の付着
したワークが入ってくると、ＩＰＡ＋Ｈ2 ＯとＨＦＥと
に分離して、確実な水切り乾燥効果を得ることができる
効果がある。
ドロ・フルオロ・エーテル）に設定したので、ＨＦＥ＋
ＩＰＡの状態にある混合液ａ中に水分（Ｈ2 Ｏ）の付着
したワークが入ってくると、ＩＰＡ＋Ｈ2 ＯとＨＦＥと
に分離して、確実な水切り乾燥効果を得ることができる
効果がある。
【００２７】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明のＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性
をなくすフッ素系溶剤は、実施例のＨＦＥに対応し、以
下同様に、洗浄槽は、超音波洗浄槽３に対応し、フッ素
系溶剤の蒸気層は、ＨＦＥ蒸気層１５に対応するも、こ
の発明は、上述の実施例の構成のみに限定されるもので
はない。例えば、必要に応じて洗浄槽３の槽数を増加し
てもよいことは勿論である。
において、この発明のＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性
をなくすフッ素系溶剤は、実施例のＨＦＥに対応し、以
下同様に、洗浄槽は、超音波洗浄槽３に対応し、フッ素
系溶剤の蒸気層は、ＨＦＥ蒸気層１５に対応するも、こ
の発明は、上述の実施例の構成のみに限定されるもので
はない。例えば、必要に応じて洗浄槽３の槽数を増加し
てもよいことは勿論である。
【図１】 本発明の水切り乾燥装置を示す断面図。
ａ…混合液 ３…超音波洗浄槽 １５…ＨＦＥ蒸気層
Claims (2)
- 【請求項１】ＩＰＡと混合してＩＰＡの引火性をなくす
フッ素系溶剤と、上記ＩＰＡとが混合された混合液を設
け、上記混合液が貯溜された洗浄槽と、該洗浄槽の液面
上に形成された上記フッ素系溶剤の蒸気層とを備え、水
分の付着したワークを水切り乾燥する水切り乾燥装置。 - 【請求項２】上記フッ素系溶剤をＨＦＥに設定した請求
項１記載の水切り乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11617797A JP3349650B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 水切り乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11617797A JP3349650B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 水切り乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10290901A true JPH10290901A (ja) | 1998-11-04 |
| JP3349650B2 JP3349650B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=14680711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11617797A Expired - Fee Related JP3349650B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 水切り乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3349650B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000038813A1 (en) * | 1998-12-29 | 2000-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dehydration process |
| JP2002370001A (ja) * | 2001-06-13 | 2002-12-24 | Shin Ootsuka Kk | 溶剤分離装置 |
| JP2003047802A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-18 | Shin Ootsuka Kk | 水分除去装置 |
| WO2008038610A1 (fr) * | 2006-09-26 | 2008-04-03 | Koujiro Ookawa | Appareil de déshydratation/séchage et procédé de déshydratation/séchage |
| JP2009248063A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Tosoh Corp | 洗浄剤の回収方法 |
| EP2289606A3 (de) * | 2009-09-01 | 2015-12-09 | Riebesam GmbH & Co. KG | Maschine zur Trocknung von Werkstücken nach einer wässrigen Reinigung |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1173785C (zh) | 1994-10-19 | 2004-11-03 | 东芝硅株式会社 | 洗涤剂、洗涤方法及除水干燥方法 |
-
1997
- 1997-04-18 JP JP11617797A patent/JP3349650B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000038813A1 (en) * | 1998-12-29 | 2000-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dehydration process |
| JP2002370001A (ja) * | 2001-06-13 | 2002-12-24 | Shin Ootsuka Kk | 溶剤分離装置 |
| JP2003047802A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-18 | Shin Ootsuka Kk | 水分除去装置 |
| WO2008038610A1 (fr) * | 2006-09-26 | 2008-04-03 | Koujiro Ookawa | Appareil de déshydratation/séchage et procédé de déshydratation/séchage |
| JP2009248063A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Tosoh Corp | 洗浄剤の回収方法 |
| EP2289606A3 (de) * | 2009-09-01 | 2015-12-09 | Riebesam GmbH & Co. KG | Maschine zur Trocknung von Werkstücken nach einer wässrigen Reinigung |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3349650B2 (ja) | 2002-11-25 |
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