JPH102942A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH102942A
JPH102942A JP8156520A JP15652096A JPH102942A JP H102942 A JPH102942 A JP H102942A JP 8156520 A JP8156520 A JP 8156520A JP 15652096 A JP15652096 A JP 15652096A JP H102942 A JPH102942 A JP H102942A
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JP
Japan
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voltage
power supply
input
terminal
switching signal
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Withdrawn
Application number
JP8156520A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Yokoyama
隆 横山
Makoto Kojima
誠 小島
Kazuya Takahashi
和也 高橋
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
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Publication of JPH102942A publication Critical patent/JPH102942A/en
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  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Measurement Of Current Or Voltage (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable screening inspection and the like with a power-supply voltage being changed minutely at the time of burn-in operation. SOLUTION: In the burn-in operation and the like, wherein a power-supply voltage is specified value or more, the output of a high-voltage detecting circuit 202 becomes the high level, and a node 4 also becomes the high level. Therefore, an NMOS transistor T2-1 is conducted, and a node 2 is connected to a power supply terminal Vcc. The reference voltage of the node 2 becomes the value, which is obtained by subtracting the threshold voltage of the transistor T201 from the power supply voltage. Then, after an operation switching signal (high level) is inputted into an input 1, the high-level state of the node 4 is maintained by an AND gate 203 even if the power supply voltages is decreased to the value less than the preset value. Therefore, the potential of an output node 1 is finely changed in correspondence with the change in power supply voltage, and screening inspection and the like can be performed excellently.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置に関し、
特に、高電圧を加えたバーンイン(burn-in) 動作及びス
クリーニング検査等を行わせる場合の改良に関する。
The present invention relates to a semiconductor device,
In particular, the present invention relates to an improvement in performing a burn-in operation to which a high voltage is applied and a screening test.

【0002】[0002]

【従来の技術】図14は従来の半導体装置を示し、特に
その降圧回路部を示す。同図において、1は電圧供給回
路であって、ノード1に電圧を供給する。2は基準電圧
発生回路であって、前記ノード1の電圧レベルを決定す
るための基準電圧をノード2に出力する。3は比較器で
あって、前記ノード1の電位とノード2の基準電圧とを
比較して、ノード1の電位の方が低い場合に、電圧供給
回路1を駆動するための信号をノード3に出力する。電
圧供給回路1を構成するトランジスタT101は、前記
ノード3の電位により制御され、ノード3に出力された
比較器3からの駆動信号を受けて、ノード1と電源端子
とを接続し、ノード1に電圧を供給する。
2. Description of the Related Art FIG. 14 shows a conventional semiconductor device, particularly showing a step-down circuit portion thereof. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a voltage supply circuit, which supplies a voltage to a node 1. Reference numeral 2 denotes a reference voltage generation circuit which outputs a reference voltage for determining the voltage level of the node 1 to the node 2. Reference numeral 3 denotes a comparator which compares the potential of the node 1 with the reference voltage of the node 2 and outputs a signal for driving the voltage supply circuit 1 to the node 3 when the potential of the node 1 is lower. Output. The transistor T101 constituting the voltage supply circuit 1 is controlled by the potential of the node 3, receives the drive signal from the comparator 3 output to the node 3, connects the node 1 to the power supply terminal, and connects the node 1 to the node 1. Supply voltage.

【0003】また、201は前記基準電圧発生回路2の
一部を構成する定電圧源であって、電源電圧に依存しな
いで前記ノード2に定電圧を出力する。202は前記基
準電圧発生回路2の他の一部を構成する高電圧検知回路
であって、電源電圧が特定の高電圧以上であることを検
出して、ノード4にHighレベル信号を出力する、ト
ランジスタT201は、前記特定高電圧以上の電源電圧
時に、前記ノード4からの高電圧検知信号を受けて、前
記ノード2の基準電圧を引き上げる高電源電圧時の基準
電圧供給用NMOSトランジスタである。
Reference numeral 201 denotes a constant voltage source constituting a part of the reference voltage generating circuit 2, and outputs a constant voltage to the node 2 without depending on a power supply voltage. 202 is a high voltage detection circuit that constitutes another part of the reference voltage generation circuit 2, detects that the power supply voltage is equal to or higher than a specific high voltage, and outputs a High level signal to the node 4. The transistor T201 is a reference voltage supply NMOS transistor for receiving a high voltage detection signal from the node 4 and increasing the reference voltage of the node 2 when the power supply voltage is equal to or higher than the specific high voltage.

【0004】図15は、前記図14の構成の半導体回路
の降圧回路において、電源電圧とノード1の電圧との関
係を示す。先ず、電源電圧が高電圧検知回路202の検
知レベルよりも低い場合には、ノード4はLowレベル
であり、トランジスタT201は非導通状態にある。こ
のため、ノード2の基準電圧は定電圧源201の出力に
より決定される。電源電圧が定電圧源201の所定定電
圧よりも低いとき、定電圧源201の発生電圧は定電圧
とならず、電源電圧と同電圧となり、ノード2の電位は
電源電圧と同電位である。従って、ノード1の電位は、
同図に記号Aで示す範囲で、電圧供給回路1及び比較器
3により、ノード2の電位と同電位に保たれる。
FIG. 15 shows the relationship between the power supply voltage and the voltage of node 1 in the step-down circuit of the semiconductor circuit having the structure shown in FIG. First, when the power supply voltage is lower than the detection level of the high voltage detection circuit 202, the node 4 is at the Low level, and the transistor T201 is off. Therefore, the reference voltage of the node 2 is determined by the output of the constant voltage source 201. When the power supply voltage is lower than the predetermined constant voltage of the constant voltage source 201, the generated voltage of the constant voltage source 201 does not become the constant voltage, but becomes the same voltage as the power supply voltage, and the potential of the node 2 is the same as the power supply voltage. Therefore, the potential of the node 1 is
In the range indicated by the symbol A in the figure, the voltage supply circuit 1 and the comparator 3 keep the same potential as the potential of the node 2.

【0005】次に、電源電圧が定電圧源201の所定定
電圧よりも高い場合には、定電圧源201は電源電圧に
関係なく定電圧を発生するので、ノード2の基準電圧は
この定電位に固定され、ノード1の電位は同図に記号B
で示す範囲のように、ノード2の電位と同電位に保持さ
れる。
Next, when the power supply voltage is higher than a predetermined constant voltage of the constant voltage source 201, the constant voltage source 201 generates a constant voltage regardless of the power supply voltage. , And the potential of node 1 is
As shown in the range indicated by, the potential of the node 2 is maintained at the same potential.

【0006】更に、電源電圧が高電圧検知回路202の
検知レベルより高い場合、例えばバーンイン等の動作時
では、高電圧検知回路202はHighレベルの信号を
出力し、トランジスタT201が導通状態となる。この
ため、ノード2の基準電圧は、定電圧源201の定電圧
に依存せず、電源電圧からトランジスタT201のしき
い値電圧Vtnを引いた電圧となるので、ノード1の電
位は、同図に記号Cで示す範囲のように、電源電圧−し
きい値電圧Vtnの電位に保持される。
Further, when the power supply voltage is higher than the detection level of the high voltage detection circuit 202, for example, during an operation such as burn-in, the high voltage detection circuit 202 outputs a high level signal, and the transistor T201 is turned on. Therefore, the reference voltage of the node 2 does not depend on the constant voltage of the constant voltage source 201, and is a voltage obtained by subtracting the threshold voltage Vtn of the transistor T201 from the power supply voltage. As in the range indicated by the symbol C, the potential is maintained at the power supply voltage-threshold voltage Vtn.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の半導体装置では、高電圧検知回路202が高電圧を
検知した時点では、図15の記号Bの範囲から記号Cの
範囲に移行して、ノード1の電圧は、定電圧源201の
定電圧から所定電圧(電源電圧−しきい値電圧Vtn)
に唐突に変化する。このため、ノード1の電圧を任意の
電圧に微細に変化させて規定の品質水準に満たない部品
を除去するスクリーニング検査等を行うことができな
い。
However, in the conventional semiconductor device, when the high voltage detection circuit 202 detects a high voltage, the range shifts from the range of symbol B to the range of symbol C in FIG. 1 is a predetermined voltage (power supply voltage−threshold voltage Vtn) from the constant voltage of the constant voltage source 201.
It changes suddenly. For this reason, it is impossible to perform a screening test or the like that finely changes the voltage of the node 1 to an arbitrary voltage and removes a component that does not satisfy a specified quality level.

【0008】また、基板電位発生回路は、例えば特開平
6−113530号公報に開示されるように、電源電圧
が変動しても常に一定の基板電圧を保つような設計であ
るため、以上のようにスクリーニング検査で高電圧を印
加するバーンイン動作等では、内部回路での消費電流が
増加し、これに伴い基板電流が増加して基板電圧が上昇
するため、ラッチアップ現象が生じ易く、回路の正常な
動作が不安定ないし困難になる。
Further, as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-113530, the substrate potential generating circuit is designed to keep a constant substrate voltage even when the power supply voltage fluctuates. In a burn-in operation, etc., in which a high voltage is applied in a screening test, current consumption in an internal circuit increases, and accordingly, a substrate current increases and a substrate voltage rises. Operation becomes unstable or difficult.

【0009】更に、従来の昇圧電位発生回路は、例えば
特開平5−235734号公報に開示されるように、電
源電圧が高くなると、その発生する昇圧電圧も比例して
高くなり、過昇圧となるため、回路の構成トランジスタ
の負担が増大し、信頼性上問題がある。
Further, in the conventional boosted potential generating circuit, as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-235734, when the power supply voltage increases, the boosted voltage generated also increases proportionally, resulting in an excessive boost. Therefore, the load on the transistors constituting the circuit increases, and there is a problem in reliability.

【0010】加えて、前記の降圧回路及び昇圧電圧発生
回路では、これ等回路を構成するトランジスタの特性の
バラツキに伴い、その生成する降圧電圧や昇圧電圧が変
化し、このため、信頼性試験における加速係数が変動す
る欠点もある。
In addition, in the above-described step-down circuit and step-up voltage generating circuit, the step-down voltage and step-up voltage generated by the variation in the characteristics of the transistors constituting these circuits change. There is also a disadvantage that the acceleration coefficient varies.

【0011】また、DRAM(ダイナミックRAM)等
の半導体装置では、外部との接続を行う端子の配置が予
め決定されるため、新たな端子を追加して、スクリーニ
ング検査等で使用する特殊モードに動作状態を切り換え
ることが困難である。
In a semiconductor device such as a DRAM (Dynamic RAM), the arrangement of terminals for connection to the outside is determined in advance, so that a new terminal is added to operate in a special mode used for screening inspection and the like. It is difficult to switch states.

【0012】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
のであり、その目的は、半導体装置において、通常動作
時での電源電圧以上の高電圧を印加して行うバーンイン
動作等では、その印加する高電圧を細かく変化可能とし
て、スクリーニング検査等を精度よく行うと共に、基板
電圧や昇圧電圧の上昇を抑えて、安定動作を保証し、更
にはDRAM等の半導体装置では、端子を追加しなくて
も動作状態を切り換え可能にすることにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device in which a high voltage equal to or higher than a power supply voltage in a normal operation is applied. The high voltage that can be changed can be finely changed, so that the screening test and the like can be performed accurately, the rise of the substrate voltage and the boosted voltage can be suppressed, the stable operation can be guaranteed, and further, in the case of a semiconductor device such as a DRAM, a terminal is not added. Is to make the operation state switchable.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに、本発明では、一旦、高電源電圧下でのバーンイン
動作等に移行した後は、その電源電圧の変化に応じて出
力ノードの電位を任意に値に微細に変更して、細かなス
クリーニング検査が可能な半導体装置を構成する。
In order to achieve the above object, according to the present invention, once a transition is made to a burn-in operation or the like under a high power supply voltage, an output node is changed according to a change in the power supply voltage. A semiconductor device capable of performing a fine screening test by finely changing the potential to a desired value.

【0014】また、本発明では、バーンイン動作等の高
電圧電源時には、基板電圧発生回路の基板電圧や、昇圧
電圧発生回路の昇圧電圧を下げて、基板電圧や昇圧電圧
の過上昇を抑え、動作を安定に、また高い信頼性を確保
することとする。
Further, according to the present invention, at the time of a high voltage power supply such as a burn-in operation, the substrate voltage of the substrate voltage generating circuit and the boosted voltage of the boosted voltage generating circuit are lowered to suppress the excessive rise of the substrate voltage and the boosted voltage. To ensure stable and high reliability.

【0015】また、バーンイン動作等の高電源電圧時に
は、その高電圧の電源を降圧電圧又は昇圧電圧として使
用することとする。
At the time of a high power supply voltage such as a burn-in operation, the high-voltage power supply is used as a step-down voltage or a step-up voltage.

【0016】更に、本発明では、ダイナミックRAM等
の半導体装置では、通常動作では発生しない信号を発生
させ、この信号を動作切換信号として使用することによ
り、新たなピンを追加することなく、動作状態を切り換
え可能とする。
Further, according to the present invention, in a semiconductor device such as a dynamic RAM, a signal which does not occur in a normal operation is generated, and this signal is used as an operation switching signal. Can be switched.

【0017】すなわち、請求項1記載の発明の半導体装
置は、電源端子と、動作切換信号が入力される入力端子
とを備え、少なくとも2つ以上の動作モードを持つ半導
体装置において、前記電源端子に接続される電源の電圧
が設定値以上のときを検知する電圧検知手段と、前記電
圧検知手段の出力を受け、前記電源端子に接続される電
源の電圧が設定値未満のとき、動作状態を第1の動作モ
ードに切り換え、前記電源端子に接続される電源の電圧
が設定値以上のとき、前記入力端子に入力される動作切
換信号を受け付けて、電源端子に接続される電源の電圧
が設定値未満に低下した後の動作状態を第2の動作モー
ドに切り換える動作切換手段とを備えたことを特徴とす
る。
That is, a semiconductor device according to a first aspect of the present invention includes a power supply terminal and an input terminal to which an operation switching signal is input, and the semiconductor device has at least two or more operation modes. A voltage detecting means for detecting when the voltage of the connected power supply is equal to or higher than a set value; receiving an output of the voltage detecting means; 1, when the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value, an operation switching signal input to the input terminal is received, and the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is changed to the set value. Operation switching means for switching the operation state after the operation state has decreased to less than the second operation mode.

【0018】また、請求項2記載の発明は、前記請求項
1記載の半導体装置において、半導体装置は、電源端子
に接続された電源の電圧を降圧して降圧電圧を生成する
降圧回路を備え、動作切換手段は、電源端子に接続され
る電源の電圧が設定値未満のとき、前記電源端子に接続
される電源の電圧の変化に対する前記降圧回路の降圧電
圧の変化特性を第1の降圧電圧特性に切り換え、前記電
源端子に接続される電源の電圧が設定値以上のとき、前
記入力端子に入力される動作切換信号を受け付けて、前
記電源端子に接続される電源の電圧の変化に対する前記
降圧回路の降圧電圧の変化特性を第2の降圧電圧特性に
切り換えることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, the semiconductor device includes a step-down circuit that steps down a voltage of a power supply connected to a power supply terminal to generate a step-down voltage, When the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is lower than a set value, the operation switching means changes the step-down voltage change characteristic of the step-down circuit with respect to a change in the voltage of the power supply connected to the power supply terminal. When the voltage of a power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value, an operation switching signal input to the input terminal is received, and the step-down circuit responds to a change in the voltage of the power supply connected to the power supply terminal. The change characteristic of the step-down voltage is switched to the second step-down voltage characteristic.

【0019】更に、請求項3記載の発明は、前記請求項
2記載の半導体装置において、第1の降圧電圧特性は、
電源端子に接続された電源の電圧が前記設定値未満の範
囲において、その電源の電圧の変化に対して降圧電圧の
変化が小さい特性であり、第2の降圧電圧特性は、電源
端子に接続された電源の電圧が前記設定値未満の範囲に
おいて、その電源の電圧の変化に応じて降圧電圧が変化
する特性であることを特徴とする。
Further, according to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the second aspect, the first step-down voltage characteristic is:
In a range where the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is less than the set value, the change in the step-down voltage is small with respect to the change in the voltage of the power supply. When the voltage of the power supply is less than the set value, the step-down voltage changes according to the change of the voltage of the power supply.

【0020】加えて、請求項4記載の発明は、前記請求
項1、請求項2又は請求項3記載の半導体装置におい
て、動作切換手段は、電源端子に接続される電源の電圧
が設定値以上のとき、入力端子に動作切換信号が入力さ
れている場合に限り、電源端子に接続される電源の電圧
が設定値以上の状態における動作状態を第2の動作モー
ドに切り換えることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first, second, or third aspect, the operation switching means is such that the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is higher than a set value. In this case, only when the operation switching signal is input to the input terminal, the operation state in which the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than the set value is switched to the second operation mode.

【0021】更に加えて、請求項5記載の発明の半導体
装置は、電源端子と、半導体の基板に供給する基板電圧
を生成する基板電圧生成回路とを備えた半導体装置にお
いて、前記電源端子に接続される電源の電圧が設定値以
上のときを検知する電圧検知手段と、前記電圧検知手段
の出力を受け、前記電源端子に接続される電源の電圧が
設定値未満のとき、前記基板電圧生成回路が生成する基
板電圧の値を第1の基板電圧値に切り換え、前記電源端
子に接続される電源の電圧が設定値以上のとき、前記基
板電圧生成回路が生成する基板電圧の値を第2の基板電
圧値に切り換える基板電圧切換手段とを備えたことを特
徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device having a power supply terminal and a substrate voltage generation circuit for generating a substrate voltage to be supplied to a semiconductor substrate, wherein the semiconductor device is connected to the power supply terminal. Voltage detection means for detecting when the voltage of the power supply to be supplied is equal to or higher than a set value, and when the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is lower than the set value, the substrate voltage generation circuit Is switched to a first substrate voltage value, and when the voltage of a power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value, the substrate voltage value generated by the substrate voltage generation circuit is changed to a second substrate voltage value. Substrate voltage switching means for switching to a substrate voltage value.

【0022】請求項6記載の発明は、前記請求項5記載
の半導体装置において、第2の基板電圧値は第1の基板
電圧値よりも低い(絶対値が大きい負の値)電圧値であ
ることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor device of the fifth aspect, the second substrate voltage value is a voltage value lower than the first substrate voltage value (a negative value having a large absolute value). It is characterized by the following.

【0023】また、請求項7記載の発明は、前記請求項
5又は請求項6記載の半導体装置において、切換信号が
入力される入力端子を備え、基板電圧切換手段は、電源
端子に接続される電源の電圧が設定値以上のとき、前記
入力端子に切換信号が入力されている場合に限り、前記
基板電圧生成回路が生成する基板電圧の値を第2の基板
電圧値に切り換えるものであることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the fifth or sixth aspect, an input terminal to which a switching signal is input is provided, and the substrate voltage switching means is connected to a power supply terminal. When the voltage of the power supply is equal to or higher than a set value, the value of the substrate voltage generated by the substrate voltage generation circuit is switched to the second substrate voltage value only when a switching signal is input to the input terminal. It is characterized by.

【0024】更に、請求項8記載の発明の半導体装置
は、電源端子と、切換信号が入力される入力端子と、前
記電源端子に接続された電源の電圧よりも高い電圧の昇
圧電圧を生成する昇圧電圧生成回路とを備えた半導体装
置において、前記入力端子に切換信号が入力されていな
いとき、前記昇圧電圧生成回路の昇圧電圧特性を第1の
昇圧電圧特性に切り換え、前記入力端子に切換信号が入
力されているとき、前記昇圧電圧生成回路の昇圧電圧特
性を第2の昇圧電圧特性に切り換える昇圧電圧特性切換
手段とを備えたことを特徴とする。
Further, in the semiconductor device according to the present invention, a power supply terminal, an input terminal to which a switching signal is input, and a boosted voltage higher than a voltage of a power supply connected to the power supply terminal are generated. A boosting voltage generation circuit, wherein when a switching signal is not input to the input terminal, a boosting voltage characteristic of the boosting voltage generation circuit is switched to a first boosting voltage characteristic, and a switching signal is input to the input terminal. And a step-up voltage characteristic switching means for switching the step-up voltage characteristic of the step-up voltage generation circuit to the second step-up voltage characteristic.

【0025】加えて、請求項9記載の発明は、前記請求
項8記載の半導体装置において、前記電源端子に接続さ
れる電源の電圧が設定値以上のときを検知する電圧検知
手段を備え、昇圧電圧特性切換手段は、入力端子に切換
信号が入力されているとき、前記電圧検知手段が前記設
定値以上の電源電圧を検出した場合に限り、昇圧電圧生
成回路の昇圧電圧特性を第2の昇圧電圧特性に切り換え
ることを特徴としている。
According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the eighth aspect of the present invention, the semiconductor device further comprises a voltage detecting means for detecting when a voltage of a power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value. The voltage characteristic switching means changes the boosted voltage characteristic of the boosted voltage generation circuit to the second boosted voltage only when the voltage detecting means detects a power supply voltage equal to or higher than the set value when the switching signal is input to the input terminal. It is characterized by switching to voltage characteristics.

【0026】更に加えて、請求項10記載の発明は、前
記請求項8又は請求項9記載の半導体装置において、第
2の昇圧電圧特性での昇圧電圧の値は、第1の昇圧電圧
特性での昇圧電圧の値よりも低く設定されることを特徴
とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the eighth or ninth aspect, the value of the boosted voltage in the second boosted voltage characteristic is equal to the value of the first boosted voltage characteristic. Is set lower than the value of the boost voltage.

【0027】請求項11記載の発明は、前記請求項2記
載の半導体装置において、他の動作切換信号が入力され
る他の入力端子と、前記他の入力端子に前記他の動作切
換信号が入力されたとき、降圧回路が降圧電圧を出力す
る内部端子と電源端子とを接続する接続手段とを備えた
ことを特徴とする。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the second aspect, another input terminal to which another operation switching signal is input, and the other operation switching signal is input to the other input terminal. In this case, the step-down circuit is provided with connection means for connecting the internal terminal for outputting the step-down voltage and the power supply terminal.

【0028】また、請求項12記載の発明は、前記請求
項8記載の半導体装置において、他の動作切換信号が入
力される他の入力端子と、前記他の入力端子に前記他の
動作切換信号が入力されたとき、昇圧電圧生成回路が昇
圧電圧を出力する内部端子と電源端子とを接続する接続
手段とを備えたことを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the eighth aspect, another input terminal to which another operation switching signal is input, and the other operation switching signal to the other input terminal. Is input, the boosted voltage generation circuit includes connection means for connecting an internal terminal for outputting a boosted voltage and a power supply terminal.

【0029】更に、請求項13記載の発明は、前記請求
項11又は請求項12記載の半導体装置において、電源
端子に接続される電源の電圧が設定値以上のときに限
り、他の入力端子への他の動作切換信号の入力を許容す
る制限回路を有することを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the eleventh or twelfth aspect, only when the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than the set value, the other input terminal And a limiting circuit for allowing input of another operation switching signal.

【0030】加えて、請求項14記載の発明は、前記請
求項1、請求項2、請求項4、請求項5、請求項7、請
求項8、請求項9、請求項11、請求項12又は請求項
13記載の半導体装置において、電源端子に接続される
電圧が設定値未満の通常の動作状態での所定モードに複
数回連続して入ることにより、動作切換信号を発生させ
る切換信号発生回路を別途備えたことを特徴とする。
[0030] In addition, the invention according to claim 14 is based on claim 1, claim 2, claim 4, claim 5, claim 7, claim 8, claim 9, claim 11, or claim 12. 14. A switching signal generating circuit according to claim 13, wherein an operation switching signal is generated by continuously entering a predetermined mode in a normal operation state in which a voltage connected to a power supply terminal is less than a set value a plurality of times. Is provided separately.

【0031】更に加えて、請求項15記載の発明は、前
記請求項14記載の半導体装置において、切換信号発生
回路は、DRAMにおけるCBRセルフリフレッシュモ
ードに複数回連続して入ることにより、動作切換信号を
発生させることを特徴としている。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the fourteenth aspect, the switching signal generating circuit is configured to enter the CBR self-refresh mode in the DRAM a plurality of times in succession, thereby providing an operation switching signal. Is generated.

【0032】以上の構成により、請求項1ないし請求項
4記載の発明では、降圧電圧を微細に変化させながら、
高電圧電源の下でスクリーニング検査等が可能である。
With the above arrangement, according to the first to fourth aspects of the present invention, while the step-down voltage is finely changed,
Screening inspections and the like can be performed under a high-voltage power supply.

【0033】また、請求項5ないし請求項7記載の発明
では、バーンイン動作等の高電源電圧の下での動作時に
は、基板電圧生成回路の基板電圧が通常動作時に比して
低く生成されるので、動作電流の増大に伴う基板電流の
増大によって基板電圧が上昇しても、この基板電圧はラ
ッチアップ現象が生じる電圧値までには至らず、従っ
て、回路の正常な動作を確保できる。
According to the fifth to seventh aspects of the present invention, during operation under a high power supply voltage such as burn-in operation, the substrate voltage of the substrate voltage generation circuit is generated lower than during normal operation. Even if the substrate voltage rises due to the increase in the substrate current accompanying the increase in the operating current, the substrate voltage does not reach the voltage value at which the latch-up phenomenon occurs, so that the normal operation of the circuit can be ensured.

【0034】更に、請求項8ないし請求項10記載の発
明では、バーンイン動作等の高電源電圧の下での動作時
には、昇圧電圧生成回路の昇圧電圧が通常動作時に比し
て低く生成されるので、この昇圧電圧の過昇圧が防止さ
れて、従って、トランジスタの負担の増大が抑制され
て、回路の信頼性が向上する。
Further, according to the present invention, the boosted voltage of the boosted voltage generating circuit is generated lower during the operation under the high power supply voltage such as the burn-in operation than in the normal operation. This prevents the boosted voltage from being excessively boosted, thereby suppressing an increase in the load on the transistor and improving the reliability of the circuit.

【0035】加えて、請求項11ないし請求項13記載
の発明では、降圧回路及び昇圧電圧生成回路を構成する
トランジスタの特性のバラツキが存在しても、バーンイ
ン動作等の高電源電圧時には、この高電圧の電源電圧が
降圧電圧及び昇圧電圧として使用されるので、前記トラ
ンジスタの特性のバラツキに拘らず、これ等の降圧電圧
及び昇圧電圧を安定させて、加速係数の変化を抑制ない
し防止でき、スクリーニング検査等を精度良く行うこと
ができる。
In addition, according to the present invention, even when the characteristics of the transistors forming the step-down circuit and the step-up voltage generation circuit vary, the characteristics of this transistor are high at the time of a high power supply voltage such as burn-in operation. Since the power supply voltage of the voltage is used as the step-down voltage and the step-up voltage, the step-down voltage and the step-up voltage can be stabilized irrespective of the variation in the characteristics of the transistor, and the change in the acceleration coefficient can be suppressed or prevented. Inspection and the like can be performed with high accuracy.

【0036】更に加えて、請求項14及び請求項15記
載の発明では、通常の使用状態では発生しない信号を動
作切換信号とするので、ユーザ等の通常の使用状態では
バーンイン動作等の高電源電圧での特殊モードに移行す
ることが確実に防止されると共に、端子ピンを追加する
必要がない。
In addition, in the inventions according to the fourteenth and fifteenth aspects, a signal that does not occur in a normal use state is used as an operation switching signal. Therefore, in a normal use state of a user or the like, a high power supply voltage such as a burn-in operation is used. In this case, it is possible to reliably prevent the shift to the special mode, and it is not necessary to add a terminal pin.

【0037】[0037]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0038】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施の形態を示す半導体装置、特にその降圧回路の
部分の構成を示す。同図において、1は電源端子Vcc
に接続された電源の電位をノード1に供給する電位供給
回路、T101は前記電位供給回路1を構成し、出力ノ
ード1への電位供給用のPMOSトランジスタである。
2は基準電圧発生回路であって、ノード2に与える基準
電圧を発生する。3は比較器であって、ノード1の電位
とノード2の基準電圧とを比較し、ノード1(内部端
子)の電位(内部回路への供給電圧)の方が低い場合
に、Lowレベルの信号をノード3に出力する。
(First Embodiment) FIG. 1 shows a configuration of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, in particular, a portion of a step-down circuit thereof. In the figure, 1 is a power supply terminal Vcc
A potential supply circuit for supplying the potential of the power supply connected to the node 1 to the node 1. T101 is a PMOS transistor that constitutes the potential supply circuit 1 and supplies a potential to the output node 1.
Reference numeral 2 denotes a reference voltage generation circuit that generates a reference voltage applied to the node 2. Reference numeral 3 denotes a comparator which compares the potential of the node 1 with the reference voltage of the node 2 and, when the potential of the node 1 (internal terminal) (supply voltage to the internal circuit) is lower, a low-level signal Is output to the node 3.

【0039】前記基準電圧発生回路2の内部には、定電
圧源201、高電圧検知回路(電圧検知手段)202、
ANDゲート203、ORゲート204、及びNMOS
トランジスタT201が備えられる。前記定電圧源20
1は、所定の定電圧を発生し、その定電圧をノード2に
出力する。前記高電圧検知回路202は、電源電圧が検
知電圧(設定値)より高い場合にHighレベルの信号
を出力し、この信号はORゲート204を経てノード4
に出力される。入力1(入力端子)は動作切換信号の入
力端子(以下、「入力端子」と呼ぶ場合には外部ピンの
他、内部端子をも含む意味である)であって、この端子
に入力された動作切換信号と、前記ORゲート204の
出力(ノード4の電位)とが入力される。前記トランジ
スタT201は、前記ノード4がゲートに接続され、ノ
ード4の電位がHighレベルのとき(即ち、高電源電
圧時)に、電源端子をノード2に接続し、ノード2の基
準電圧を引き上げる。
Inside the reference voltage generating circuit 2, a constant voltage source 201, a high voltage detecting circuit (voltage detecting means) 202,
AND gate 203, OR gate 204, and NMOS
A transistor T201 is provided. The constant voltage source 20
1 generates a predetermined constant voltage and outputs the constant voltage to the node 2. The high-voltage detection circuit 202 outputs a high-level signal when the power supply voltage is higher than the detection voltage (set value).
Is output to The input 1 (input terminal) is an input terminal of an operation switching signal (hereinafter, when referred to as an “input terminal”, it means not only an external pin but also an internal terminal), and the operation input to this terminal The switching signal and the output of the OR gate 204 (potential of the node 4) are input. In the transistor T201, when the node 4 is connected to the gate, and the potential of the node 4 is at a high level (that is, at the time of a high power supply voltage), the power supply terminal is connected to the node 2 and the reference voltage of the node 2 is raised.

【0040】また、図1において、T4は電圧供給用P
MOSトランジスタ(接続手段)であって、そのゲート
は、他の動作切換信号が入力される入力2(他の入力端
子)に接続され、入力2の電位がLowレベルのとき、
電源端子Vccをノード1に接続する。
In FIG. 1, T4 is a voltage supply P
A MOS transistor (connection means) having a gate connected to an input 2 (another input terminal) to which another operation switching signal is input, and when the potential of the input 2 is at a low level,
Power supply terminal Vcc is connected to node 1.

【0041】次に、本実施の形態の動作を説明する。入
力2の動作切換信号は通常Highレベルにあり、電圧
供給用PMOSトランジスタT4は非導通状態である。
Next, the operation of this embodiment will be described. The operation switching signal of the input 2 is normally at the High level, and the voltage supply PMOS transistor T4 is off.

【0042】この状態で、入力1にLowレベルの動作
切換信号が入力された場合、ANDゲート203の出力
は常にLowレベルであり、従って、ノード4は高電圧
検知回路202の出力により決定される。よって、電源
電圧に対するノード1の電圧特性は、既述の図15に示
した従来例と同じであり、電源電圧に対するノード1の
降圧電圧特性として、図2の第1の降圧電圧特性(第1
の動作モード)が得られる。
In this state, when a low-level operation switching signal is input to input 1, the output of AND gate 203 is always at the low level. Therefore, node 4 is determined by the output of high voltage detection circuit 202. . Therefore, the voltage characteristic of the node 1 with respect to the power supply voltage is the same as that of the conventional example shown in FIG. 15 described above. As the step-down voltage characteristic of the node 1 with respect to the power supply voltage, the first step-down voltage characteristic of FIG.
Operation mode) is obtained.

【0043】次に、入力1にHighレベルの信号が入
力された場合には、ANDゲート203の出力はノード
4の電圧レベルにより決定される。ノード4の電圧の初
期状態はLowレベルである。電源電圧が高電圧検知回
路202の検知レベル未満のとき、ノード4はLowレ
ベルのままであり、入力1の動作切換信号は受け付けら
れず、電源電圧に対するノード1の降圧電圧特性は前記
図2と同一である。一方、電源電圧が高電圧検知回路2
02の検知レベル以上になると、その出力はHighレ
ベルとなり、ノード4もHighレベルとなって、入力
1の動作切換信号が受け付け可能な状態となる。1度で
も動作切換信号が受け付けられると、ANDゲート20
3の出力ノード5は常にHighレベルとなるので、ノ
ード4は、その後に高電圧検知回路202の出力がLo
wレベルとなっても、Highレベルを保持し続ける。
このため、ノード2はトランジスタT201を介して電
源端子に接続され、ノード2の基準電圧は、電源電圧か
らトランジスタT201のしきい値電圧Vtn分を引い
た値となり、電源電圧に対するノード1の電圧特性は図
3に示す降圧電圧特性(第2の動作モード)になる。従
って、基準電圧発生回路のANDゲート203及びOR
ゲート204により請求項1の動作切換手段205を構
成する。
Next, when a high-level signal is input to the input 1, the output of the AND gate 203 is determined by the voltage level of the node 4. The initial state of the voltage of the node 4 is at the low level. When the power supply voltage is lower than the detection level of the high voltage detection circuit 202, the node 4 remains at the Low level, the operation switching signal of the input 1 is not accepted, and the step-down voltage characteristic of the node 1 with respect to the power supply voltage is as shown in FIG. Are identical. On the other hand, when the power supply voltage is
When the detection level becomes equal to or higher than the detection level of 02, the output thereof becomes a high level, the node 4 also becomes a high level, and the operation switching signal of the input 1 can be received. If the operation switching signal is received even once, the AND gate 20
3 is always at the high level, and the output of the high voltage detection circuit 202 is subsequently changed to Lo.
Even when the w level is reached, the High level is maintained.
Therefore, the node 2 is connected to the power supply terminal via the transistor T201, and the reference voltage of the node 2 is a value obtained by subtracting the threshold voltage Vtn of the transistor T201 from the power supply voltage. Becomes the step-down voltage characteristic (second operation mode) shown in FIG. Therefore, the AND gate 203 and OR of the reference voltage generation circuit
The gate 204 constitutes the operation switching means 205 of claim 1.

【0044】よって、電源電圧が高電圧検知回路202
の検知レベル以上の高電圧となるバーンイン動作等で
は、その後に電源電圧が前記検知レベル未満に低下した
後でも、電源電圧の変化に合せてノード1の電位を細か
く変化させる動作状態に切り換え可能にでき、スクリー
ニング検査等を良好に行うことが可能である。
Therefore, if the power supply voltage is high voltage detection circuit 202
In a burn-in operation or the like in which a high voltage is equal to or higher than the detection level, even after the power supply voltage falls below the detection level, it is possible to switch to an operation state in which the potential of the node 1 is finely changed according to the change in the power supply voltage. It is possible to perform a screening test or the like satisfactorily.

【0045】更に、入力2の動作切換信号がLowレベ
ルである場合には、トランジスタT4は導通状態とな
る。そのため、電源端子とノード1とが接続され、ノー
ド1の電圧は、ノード2の基準電位に依存せず、電源電
圧と同電位になり、電源電圧に対するノード1の電圧特
性は、入力2の電位がLowレベルの期間では図4に示
す特性になる。よって、バーンイン動作等では、その後
に電源電圧が前記検知レベル未満に低下した後でも、電
源電圧の変化に合せてノード1の電位を細かく変化させ
ることができ、スクリーニング検査等を良好に行うこと
が可能である。この場合、ノード1の電位は、電源電圧
よりもトランジスタT201のしきい値電圧Vtn分低
い値でなく、電源電圧と等しい。
Further, when the operation switching signal of the input 2 is at the low level, the transistor T4 is turned on. Therefore, the power supply terminal and the node 1 are connected, and the voltage of the node 1 does not depend on the reference potential of the node 2 and becomes the same potential as the power supply voltage. During the period of the low level, the characteristics shown in FIG. Therefore, in the burn-in operation or the like, even after the power supply voltage falls below the detection level, the potential of the node 1 can be finely changed according to the change in the power supply voltage, and the screening test and the like can be performed satisfactorily. It is possible. In this case, the potential of the node 1 is not lower than the power supply voltage by the threshold voltage Vtn of the transistor T201, and is equal to the power supply voltage.

【0046】(基準電圧発生回路の変形例)図5は基準
電圧発生回路2の変形例を示す。同図の基準電圧発生回
路2´では、図1に比較して、他のANDゲート401
及びインバータ402が追加される。前記ANDゲート
(制限回路)401は、高電圧検知回路202の出力
と、入力1の動作切換信号とを受け、電源端子Vccに
接続される電源の電圧が前記高電圧検知回路202の検
知レベル以上の時に限り入力1の動作切換信号の出力を
許容し、その出力はORゲート204に入力される。ま
た、前記インバータ402は前記ORゲート204の出
力を反転して、前記図1の入力2に入力される。他の構
成は前記図1の基準電圧発生回路2と同一であるので、
同一の符号を付して、その説明を省略する。
(Modification of Reference Voltage Generating Circuit) FIG. 5 shows a modification of the reference voltage generating circuit 2. In the reference voltage generation circuit 2 'shown in FIG.
And an inverter 402 are added. The AND gate (restriction circuit) 401 receives the output of the high voltage detection circuit 202 and the operation switching signal of the input 1, and the voltage of the power supply connected to the power supply terminal Vcc is equal to or higher than the detection level of the high voltage detection circuit 202. The output of the operation switching signal of the input 1 is permitted only when the operation is performed, and the output is input to the OR gate 204. Also, the inverter 402 inverts the output of the OR gate 204 and inputs the inverted output to the input 2 of FIG. The other configuration is the same as the reference voltage generation circuit 2 of FIG.
The same reference numerals are given and the description is omitted.

【0047】したがって、本変形例では、図6に示すよ
うに、入力1の動作切換信号がLowレベルである限
り、ノード4の電位はLowレベルを維持する。従っ
て、電源電圧が高電圧検知回路202の検知レベル以上
になっても、トランジスタT201は導通せず、ノード
2の基準電圧は定電圧源201の定電圧に固定され、ノ
ード1の電圧はこの定電圧に保持される。
Therefore, in this modification, as shown in FIG. 6, as long as the operation switching signal of input 1 is at the low level, the potential of node 4 is maintained at the low level. Therefore, even when the power supply voltage exceeds the detection level of the high voltage detection circuit 202, the transistor T201 does not conduct, the reference voltage of the node 2 is fixed to the constant voltage of the constant voltage source 201, and the voltage of the node 1 Held at voltage.

【0048】一方、図7に示すように、電源電圧が高電
圧検知回路202の検知レベル以上のとき、ANDゲー
ト401の出力(即ち、ノード402)は初めて入力1
の動作切換信号を受け付け可能になり、この時、Hig
hレベルの動作切換信号が入力1に入力されると、ノー
ド402及びノード4もHighレベルとなる。以後
は、前記第1の実施の形態と同様に、ANDゲート20
3の出力(ノード5の電位)がHighレベルに固定さ
れるので、一旦、電源電圧が高電圧検知回路202の検
知レベル以上になった後に前記検知レベル未満に低下し
ても、ノード4は、入力1の動作切換信号がLowレベ
ルにならない限り、Highレベルを保持する。その結
果、ノード2がNMOSトランジスタT201を介して
電源端子に接続された状態が保持されるので、電源電圧
の変化に合せてノード1の電位を細かく変化させること
ができ、スクリーニング検査等を良好に行うことができ
る。
On the other hand, as shown in FIG. 7, when the power supply voltage is equal to or higher than the detection level of the high voltage detection circuit 202, the output of the AND gate 401 (that is, the node 402) is input 1 for the first time.
Can be received, and at this time, Hig
When the h level operation switching signal is input to the input 1, the nodes 402 and 4 also become High level. Thereafter, as in the first embodiment, the AND gate 20
3 is fixed to the High level, so that even if the power supply voltage once drops above the detection level of the high voltage detection circuit 202 and then falls below the detection level, the node 4 The high level is maintained as long as the operation switching signal of the input 1 does not become the low level. As a result, the state in which the node 2 is connected to the power supply terminal via the NMOS transistor T201 is maintained, so that the potential of the node 1 can be finely changed according to the change in the power supply voltage, and the screening test and the like can be performed satisfactorily. It can be carried out.

【0049】ここに、電源電圧が高電圧検知回路202
の検知レベル以上になった高電源電圧時であっても、入
力1の動作切換信号がHighレベルにならない限り、
ノード1の電位は電源電圧に応じて変化せず、従ってス
クリーニング検査等ができないので、操作者が入力1へ
の動作切換信号の電位変化を制御すれば、バーンイン動
作等への特殊モードへの移行を了解及びチェックできる
機能を奏する。また、高電圧検知回路202の電圧検知
レベルを低く設定することが可能になる。
Here, when the power supply voltage is high voltage detection circuit 202
Even when the power supply voltage is equal to or higher than the detection level, unless the operation switching signal of the input 1 becomes High level,
Since the potential of the node 1 does not change in accordance with the power supply voltage, and thus a screening test or the like cannot be performed, if the operator controls a change in the potential of the operation switching signal to the input 1, a transition to a special mode such as a burn-in operation is made. A function to understand and check is provided. Further, the voltage detection level of the high voltage detection circuit 202 can be set low.

【0050】また、インバータ402の出力が図1の入
力2に入力されるので、図8に示すように、電源電圧が
高電圧検知回路202の検知レベル以上の状態で入力1
の動作切換信号をHighレベルに制御すれば、バーン
イン等の特殊モードへの移行を了解して、初めて、図1
のPMOSトランジスタT4を導通させて、ノード1の
電圧を電源電圧の変化に合せて変化させることができ
る。
Since the output of the inverter 402 is input to the input 2 of FIG. 1, the input 1 is input when the power supply voltage is equal to or higher than the detection level of the high voltage detection circuit 202 as shown in FIG.
Is controlled to a high level, the shift to a special mode such as burn-in is understood, and only when the operation mode of FIG.
Of the PMOS transistor T4, the voltage of the node 1 can be changed according to the change of the power supply voltage.

【0051】(第2の実施の形態)次に、本発明の第2
の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to the drawings.

【0052】図9は、半導体装置の基板電圧生成回路の
構成を示す。同図において、5は半導体の基板の電圧
(基板電圧)を生成するためのチャージポンプ回路、6
は電源電圧が検知レベルよりも高電圧の時にLowレベ
ルを出力する高電圧検知回路、7は前記チャージポンプ
回路5を駆動する信号を生成するインバータである。ま
た、T5、T7は抵抗用PMOSトランジスタ、T8、
T9は抵抗用NMOSトランジスタである。
FIG. 9 shows a configuration of a substrate voltage generation circuit of a semiconductor device. In FIG. 1, reference numeral 5 denotes a charge pump circuit for generating a semiconductor substrate voltage (substrate voltage);
Is a high voltage detection circuit that outputs a low level when the power supply voltage is higher than the detection level, and 7 is an inverter that generates a signal for driving the charge pump circuit 5. T5 and T7 are PMOS transistors for resistance, T8,
T9 is a resistance NMOS transistor.

【0053】また、T6は前記高電圧検知回路6のLo
wレベルの出力信号を受けて導通して、電源端子Vcc
とノード6とを接続し、抵抗として機能するPMOSト
ランジスタより成るスイッチ(基板電圧切換手段)であ
る。前記トランジスタT5、T8、T9は電源端子Vc
cと基板電圧端子VBB(以下、VBB端子という)と
の間に直列に接続され、2個のトランジスタT5、T8
の接続点(ノード6)は前記インバータ7の入力側に接
続される。前記トランジスタ7及びスイッチT6は直列
に接続され、この直列回路が前記トランジスタT5と並
列に接続される。VBB端子の電位(基板電圧)が高く
なると、ノード6の電位が高くなって、チャージポンプ
回路5が動作し、基板電圧(負電位)を下げる一方、V
BB端子の電位が低くなると、ノード6の電位が低くな
って、チャージポンプ回路5が停止する。
T6 is Lo of the high voltage detection circuit 6.
Upon receiving the w-level output signal, it becomes conductive, and the power supply terminal Vcc
A switch (substrate voltage switching means) composed of a PMOS transistor that connects the transistor and the node 6 and functions as a resistor. The transistors T5, T8 and T9 are connected to a power supply terminal Vc
c and a substrate voltage terminal VBB (hereinafter referred to as a VBB terminal) in series, and two transistors T5 and T8
(Node 6) is connected to the input side of the inverter 7. The transistor 7 and the switch T6 are connected in series, and this series circuit is connected in parallel with the transistor T5. When the potential of the VBB terminal (substrate voltage) increases, the potential of the node 6 increases, and the charge pump circuit 5 operates to lower the substrate voltage (negative potential).
When the potential of the BB terminal decreases, the potential of the node 6 decreases, and the charge pump circuit 5 stops.

【0054】次に、本実施の形態の動作を説明する。電
源電圧が高電圧検知回路6の検知レベルよりも低い場
合、その出力はHighレベルであり、PMOSトラン
ジスタT6は非導通状態にある。従って、ノード6の電
圧は、トランジスタT5の抵抗値と、トランジスタT8
及びT9の合計抵抗値との分圧値で決定される。一方、
電源電圧が高電圧検知回路6の検知レベルよりも高い場
合、その出力はLowレベルとなり、PMOSトランジ
スタT6は導通状態となる。従って、ノード6の電圧は
トランジスタT5及びT6の合成抵抗値と、トランジス
タT8及びT9の合計抵抗値との分圧値で決定される。
つまり、電源電圧が高電圧検知回路6の検知レベルより
も高い場合と低い場合とでは、ノード6の電位が変更さ
れ、その結果、チャージポンプ回路5を動作させる基板
電圧の検知レベルが切り換えられて、高電源電圧時に
は、基板電圧の検知レベルが低く変更され、基板電圧V
BBは通常動作時の電位(第1の基板電圧値)(例えば
-1.5v)よりも低い値(第2の基板電圧値)(例え
ば -1.8v)に保持される。その結果、この高電源電
圧時であるバーンイン等の動作時に、消費電流の増加に
より基板電流が増大して基板電圧が上昇しても、その基
板電圧の最大値はさほど高くなく、従って、消費電流の
増加に起因する回路動作の不安定化を防ぐことが可能で
ある。
Next, the operation of this embodiment will be described. When the power supply voltage is lower than the detection level of the high voltage detection circuit 6, the output is at the High level, and the PMOS transistor T6 is off. Therefore, the voltage of the node 6 is determined by the resistance of the transistor T5 and the resistance of the transistor T8.
And the divided voltage value with the total resistance value of T9. on the other hand,
When the power supply voltage is higher than the detection level of the high voltage detection circuit 6, its output goes to the low level, and the PMOS transistor T6 becomes conductive. Therefore, the voltage at the node 6 is determined by the divided voltage of the combined resistance of the transistors T5 and T6 and the total resistance of the transistors T8 and T9.
That is, depending on whether the power supply voltage is higher or lower than the detection level of the high voltage detection circuit 6, the potential of the node 6 is changed, and as a result, the detection level of the substrate voltage for operating the charge pump circuit 5 is switched. When the power supply voltage is high, the detection level of the substrate voltage is changed to a low level, and the substrate voltage V
BB is a potential during normal operation (first substrate voltage value) (for example,
(1.5 V) (for example, -1.8 V). As a result, during operation such as burn-in at a high power supply voltage, even if the substrate current increases due to an increase in the current consumption and the substrate voltage rises, the maximum value of the substrate voltage is not so high. It is possible to prevent instability of the circuit operation due to the increase in the number.

【0055】尚、図9において、高電圧検知回路6に代
え、前記第1の実施の形態の変形例で示した図5の基準
電圧発生回路2´のうち高電圧検知回路202、AND
ゲート203、401及びORゲート204を設け、そ
のORゲート204の出力側(即ち、ノード4)をノー
ド7に接続することも可能である。この場合には、特
に、高電源電圧時で且つ入力1の動作切換信号がHig
hレベルの時にのみ、基板電圧VBBの検知レベルを切
り換えて、基板電圧VBBを通常動作時よりも低い値に
保持できる。
In FIG. 9, the high voltage detection circuit 202 is replaced with the high voltage detection circuit 202 of the reference voltage generation circuit 2 'of FIG. 5 shown in the modification of the first embodiment in place of the high voltage detection circuit 6.
It is also possible to provide the gates 203 and 401 and the OR gate 204, and connect the output side (that is, the node 4) of the OR gate 204 to the node 7. In this case, in particular, the operation switching signal of input 1 at the time of the high power supply voltage and the input 1 is High.
Only at the time of the h level, the detection level of the substrate voltage VBB is switched, so that the substrate voltage VBB can be maintained at a lower value than in the normal operation.

【0056】(第3の実施の形態)続いて、本発明の第
3の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0057】図10は半導体装置の昇圧電圧生成回路を
示す。同図において、8は昇圧電圧を生成するためのチ
ャージポンプ回路、9は前記チャージポンプ回路8の駆
動信号を生成するインバータ、10はANDゲート、入
力5は動作切換信号が入力される入力端子、入力4は他
の動作切換信号が入力される他の入力端子、T10、T
12は抵抗用PMOSトランジスタ、T13は抵抗用N
MOSトランジスタである。前記トランジスタT10及
びT13は直列に接続され、この直列回路が昇圧端子V
ppと接地端子Vssとの間に配置される。前記両トラ
ンジスタT10、T13の接続点(即ち、ノード8)の
電位は、基準電圧として前記インバータ9に入力され
る。前記インバータ9の出力及び前記入力4の動作切換
信号は前記ANDゲート10に入力され、このANDゲ
ート10の出力は駆動信号として前記チャージポンプ回
路8に入力される。
FIG. 10 shows a boosted voltage generation circuit of a semiconductor device. In the figure, 8 is a charge pump circuit for generating a boosted voltage, 9 is an inverter for generating a drive signal for the charge pump circuit 8, 10 is an AND gate, input 5 is an input terminal to which an operation switching signal is input, Input 4 is another input terminal to which another operation switching signal is input, T10, T
12 is a PMOS transistor for resistance, T13 is N for resistance
It is a MOS transistor. The transistors T10 and T13 are connected in series, and this series circuit
pp and the ground terminal Vss. The potential at the connection point of the transistors T10 and T13 (that is, the node 8) is input to the inverter 9 as a reference voltage. The output of the inverter 9 and the operation switching signal of the input 4 are input to the AND gate 10, and the output of the AND gate 10 is input to the charge pump circuit 8 as a drive signal.

【0058】また、同図において、T11はPMOSト
ランジスタより成るスイッチ(昇圧電圧特性切換手段)
であって、前記入力5のLowレベルの動作切換信号を
受けて導通することにより、前記昇圧端子Vppとノー
ド8とを接続し、抵抗として機能する。
In the figure, T11 is a switch composed of a PMOS transistor (step-up voltage characteristic switching means).
By receiving the low-level operation switching signal of the input 5 and conducting it, the boosting terminal Vpp is connected to the node 8 and functions as a resistor.

【0059】更に、T14はPMOSトランジスタより
成るスイッチ(接続手段)であって、前記入力4の他の
動作切換信号を受け、この動作切換信号がLowレベル
の時に導通して、電源端子20(この端子には外部電源
Vcc又は専用の内部電源が接続される)を昇圧端子V
ppに接続する。
Further, T14 is a switch (connection means) composed of a PMOS transistor, which receives another operation switching signal of the input 4 and becomes conductive when this operation switching signal is at a low level, so that the power supply terminal 20 (this An external power supply Vcc or a dedicated internal power supply is connected to the terminal).
Connect to pp.

【0060】昇圧端子Vppの電位が低くなると、ノー
ド8の電位も低くなって、チャージポンプ回路8が動作
する一方、昇圧端子Vppの電位が高くなると、ノード
8の電位も高くなって、チャージポンプ回路8が停止す
る。尚、前記PMOSトランジスタT10及びT12の
ゲートには、前記図1に示した降圧回路の出力電圧Vi
ntが印加される。
When the potential of the boosting terminal Vpp decreases, the potential of the node 8 also decreases and the charge pump circuit 8 operates. On the other hand, when the potential of the boosting terminal Vpp increases, the potential of the node 8 also increases and the charge pump circuit 8 operates. The circuit 8 stops. The output voltages Vi of the step-down circuit shown in FIG. 1 are connected to the gates of the PMOS transistors T10 and T12.
nt is applied.

【0061】次に、本実施の形態の動作を説明する。入
力4の動作切換信号は通常Highレベルに制御され
る。従って、PMOSトランジスタT14は非導通状態
にあり、電源端子Vccと昇圧端子Vppとは切り離さ
れている。前記入力5のHighレベルの動作切換信号
はANDゲート10に入力される。
Next, the operation of this embodiment will be described. The operation switching signal of the input 4 is normally controlled to a high level. Therefore, the PMOS transistor T14 is off, and the power supply terminal Vcc and the boost terminal Vpp are disconnected. The high-level operation switching signal of the input 5 is input to the AND gate 10.

【0062】前記の状態で、入力5の動作切換信号がH
ighレベルに制御される場合には、PMOSトランジ
スタT11は非導通状態である。このため、ノード8の
電位は、2個のトランジスタT10、T13の抵抗の分
圧値で決定される。一方、入力5の動作切換信号がLo
wレベルに制御される場合には、PMOSトランジスタ
T11は導通状態である。このため、ノード8の電位
は、3個のトランジスタT10、T11及びT12の合
成抵抗と、トランジスタT13の抵抗との分圧値で決定
される。従って、バーンイン等の高電源電圧時には、入
力5の動作切換信号をLowレベルに制御すれば、ノー
ド8の電位を通常動作時よりも高く変更できて、チャー
ジポンプ回路8を駆動する昇圧電圧の検知レベルを低く
変更でき、生成される昇圧電圧は、通常動作時の第1の
昇圧電圧特性の昇圧電圧に比べて、低い昇圧電圧の第2
の昇圧電圧特性となり、よって、過昇圧を防止でき、信
頼性が向上する。
In the above state, the operation switching signal of the input 5 becomes H
When controlled to the high level, the PMOS transistor T11 is off. Therefore, the potential of the node 8 is determined by the divided voltage value of the resistance of the two transistors T10 and T13. On the other hand, the operation switching signal of input 5 is Lo.
When controlled to the w level, the PMOS transistor T11 is in a conductive state. Therefore, the potential of the node 8 is determined by the divided voltage of the combined resistance of the three transistors T10, T11, and T12 and the resistance of the transistor T13. Therefore, at the time of a high power supply voltage such as burn-in, if the operation switching signal of the input 5 is controlled to the Low level, the potential of the node 8 can be changed to be higher than that in the normal operation, and the detection of the boosted voltage for driving the charge pump circuit 8 is performed. The level can be changed to a low level, and the generated boosted voltage is lower than the boosted voltage of the first boosted voltage characteristic in the normal operation.
, The over-boosting can be prevented, and the reliability is improved.

【0063】また、入力4の動作切換信号がLowレベ
ルの場合には、ANDゲート10の出力は常にLowレ
ベルとなり、ノード8の基準電圧の影響を受けないの
で、チャージポンプ回路8は動作しない。同時に、PM
OSトランジスタT14が導通状態であるので、昇圧端
子Vppは電源端子Vccに接続され、昇圧電圧は電源
電圧に等しくなる。従って、バーンイン等の高電源電圧
時に、入力4の動作切換信号をLowレベルに制御すれ
ば、その高電源電圧を昇圧端子Vppに印加して、スク
リーニング検査を行うことができる。この場合、電源端
子Vccを昇圧端子Vppに接続するので、消費電力が
大きい動作状態であっても、その電力を供給できる。
When the operation switching signal of the input 4 is at the low level, the output of the AND gate 10 is always at the low level and is not affected by the reference voltage of the node 8, so that the charge pump circuit 8 does not operate. At the same time, PM
Since the OS transistor T14 is conductive, the boost terminal Vpp is connected to the power terminal Vcc, and the boost voltage becomes equal to the power voltage. Therefore, when the operation switching signal of the input 4 is controlled to a low level at the time of a high power supply voltage such as burn-in, the screening test can be performed by applying the high power supply voltage to the boosting terminal Vpp. In this case, since the power supply terminal Vcc is connected to the boosting terminal Vpp, the power can be supplied even in an operation state where power consumption is large.

【0064】尚、図示しないが、入力5には、前記第1
の実施の形態の変形例の基準電圧発生回路2´のノード
4を接続してもよい。この場合には、特に、高電源電圧
時で且つ入力1の動作切換信号がHighレベルの時に
のみ、昇圧電圧の検知レベルを切り換えて、昇圧電圧を
通常動作時よりも低い値に保持でき、高電源電圧時での
昇圧電圧の過昇圧を防止でき、昇圧電圧生成回路の信頼
性を向上させることができる。
Although not shown, the input 5 includes the first
The node 4 of the reference voltage generation circuit 2 'of the modification of the embodiment may be connected. In this case, in particular, only when the power supply voltage is high and the operation switching signal of the input 1 is at the High level, the detection level of the boosted voltage can be switched to maintain the boosted voltage at a lower value than in the normal operation. Excessive boosting of the boosted voltage at the time of the power supply voltage can be prevented, and the reliability of the boosted voltage generation circuit can be improved.

【0065】更に、図示しないが、入力4には、前記基
準電圧発生回路2´のインバータ402の出力(即ち、
ノード403)を接続してもよい。この場合には、特
に、高電源電圧時で且つ入力1の動作切換信号がHig
hレベルの時にのみ、トランジスタT14が導通状態に
なって、電源端子Vccを昇圧端子Vppに接続できる
ので、外部から任意の電圧(電源電圧)を昇圧端子Vp
pに与えることを確認した上でこの動作に移行すること
が可能になる。
Further, although not shown, the input 4 is connected to the output of the inverter 402 of the reference voltage generating circuit 2 '(ie,
(Node 403) may be connected. In this case, in particular, the operation switching signal of input 1 at the time of the high power supply voltage and the input 1 is High.
Only at the time of the h level, the transistor T14 becomes conductive and the power supply terminal Vcc can be connected to the boosting terminal Vpp. Therefore, an arbitrary voltage (power supply voltage) can be externally applied to the boosting terminal Vp.
It is possible to shift to this operation after confirming that p is given.

【0066】(第4の実施の形態)以下、本発明の第4
の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
(Fourth Embodiment) Hereinafter, a fourth embodiment of the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to the drawings.

【0067】図11は、前記第1の実施の形態を示した
図1の回路の入力1、及びその変形例を示した図5の入
力1、並びに第3の実施の形態を示した図10の入力5
に与える動作切換信号の発生回路を示す。同図の発生回
路はDRAMのセルフリフレッシュ信号を利用するもの
である。
FIG. 11 shows the input 1 of the circuit of FIG. 1 showing the first embodiment, the input 1 of FIG. 5 showing a modification thereof, and FIG. 10 showing the third embodiment. Input 5
1 shows a circuit for generating an operation switching signal applied to the circuit. The generating circuit shown in FIG. 1 utilizes a self-refresh signal of a DRAM.

【0068】同図において、11は電源電圧が検知レベ
ルよりも高電圧の時にノード9にHighレベルの信号
を出力する高電圧検知回路、12は/RAS信号及び/
CAS信号に基いてCBR(CAS Before RAS)セルフリフ
レッシュ信号を生成する信号生成回路、13はカウンタ
回路であって、前記高電圧検知回路11からのHigh
レベルの信号を受けて初めて活性化状態となって、前記
信号生成回路12からのCBRセルフリフレッシュ信号
の出力数をカウントする。15はカウント数検知用のA
NDゲートであって、前記カウンタ回路13の出力及び
前記信号生成回路12からのCBRセルフリフレッシュ
信号を受ける。14は前記ANDゲート13の出力をラ
ッチするラッチ回路であって、2個のインバータ60
1、602より成っており、このラッチ回路14はノー
ド11から動作切換信号(Highレベルの信号)を出
力する。
In the figure, reference numeral 11 denotes a high voltage detection circuit which outputs a high level signal to the node 9 when the power supply voltage is higher than the detection level, and 12 denotes the / RAS signal and /
A signal generation circuit for generating a CBR (CAS Before RAS) self-refresh signal based on the CAS signal;
Only when it receives a level signal, it is activated, and the number of outputs of the CBR self-refresh signal from the signal generation circuit 12 is counted. 15 is A for counting number detection
The ND gate receives an output of the counter circuit 13 and a CBR self-refresh signal from the signal generation circuit 12. A latch circuit 14 latches the output of the AND gate 13 and includes two inverters 60.
The latch circuit 14 outputs an operation switching signal (high-level signal) from the node 11.

【0069】次に、本実施の形態の動作を説明する。先
ず、電源電圧が高電圧検知回路11の検知電圧よりも低
い電圧の場合には、図12に示すように、カウンタ回路
13は非活性状態にあるので、カウンタ回路13の出力
(ノード12)はLowレベルであり、従って、信号生
成回路12からCBRセルフリフレッシュ信号が複数回
出力されても、ノード11はLowレベルを保持し、ノ
ード11からは動作切換信号は出力されない。
Next, the operation of this embodiment will be described. First, when the power supply voltage is lower than the detection voltage of the high voltage detection circuit 11, the output (node 12) of the counter circuit 13 becomes inactive since the counter circuit 13 is inactive as shown in FIG. Therefore, even if the CBR self-refresh signal is output a plurality of times from the signal generation circuit 12, the node 11 keeps the Low level and the node 11 does not output the operation switching signal.

【0070】一方、電源電圧が高電圧検知回路11の検
知レベルよりも高電圧の場合には、図13に示すよう
に、ノード9がHighレベルとなり、カウンタ回路1
3は活性化状態となるので、信号生成回路12からのC
BRセルフリフレッシュ信号のカウントが可能な状態と
なる。この状態でCBRセルフリフレッシュ信号がカウ
ンタ回路13に複数回(同図では2回)入力されれば、
ANDゲート15の出力(ノード13の電位)がHig
hレベルとなり、ノード11からHighレベル信号
(動作切換信号)が出力される。一旦、ノード13の電
位がHighレベルになると、ラッチ回路14によりノ
ード11のレベルが固定されるので、電源を切らない限
り、ノード11は動作切換信号の出力を保持する。
On the other hand, when the power supply voltage is higher than the detection level of the high voltage detection circuit 11, the node 9 goes high as shown in FIG.
3 is in an activated state.
It becomes possible to count the BR self-refresh signal. In this state, if the CBR self-refresh signal is input to the counter circuit 13 a plurality of times (twice in the figure),
The output of the AND gate 15 (potential of the node 13) is High.
At this time, the node 11 outputs a high-level signal (operation switching signal). Once the potential of the node 13 becomes High level, the level of the node 11 is fixed by the latch circuit 14, so that the node 11 holds the output of the operation switching signal unless the power is turned off.

【0071】ここで、CBRセルフリフレッシュ信号が
複数回連続して出力されることは、DRAMの仕様上許
されないので、通常の使用状態ではノード11がHig
hレベルになって動作切換信号が出力されることはな
い。従って、本実施の形態では、電源電圧が高電圧検知
回路11の検知レベル以上になった高電圧時であって
も、CBRセルフリフレッシュ信号を複数回出力して初
めて、バーンイン動作等の特殊モードに移行させて、ス
クリーニング検査等を行うことができ、従ってユーザー
等の使用による通常の使用状態で誤ってバーンイン動作
に移行することを確実に防止できる。しかも、新たな端
子を用いる必要がない。
Here, the continuous output of the CBR self-refresh signal a plurality of times is not allowed due to the specification of the DRAM.
The operation switching signal is not output at the h level. Therefore, in the present embodiment, even when the power supply voltage is higher than the detection level of the high voltage detection circuit 11, the CBR self-refresh signal is output a plurality of times before the special mode such as the burn-in operation is performed. By performing the transition, a screening test or the like can be performed, and therefore, it is possible to reliably prevent the transition to the burn-in operation by mistake in the normal use state by the use of the user or the like. Moreover, there is no need to use a new terminal.

【0072】[0072]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1ないし請
求項4記載の発明によれば、降圧電圧を微細に変化させ
ながら、高電圧電源の下でスクリーニンング検査等が可
能である。
As described above, according to the first to fourth aspects of the present invention, it is possible to perform a screening test or the like under a high voltage power supply while finely changing the step-down voltage.

【0073】また、請求項5ないし請求項7記載の発明
によれば、バーンイン動作等の高電源電圧の下での動作
時には、基板電流の増大によって基板電圧が上昇して
も、この基板電圧がラッチアップ現象の生じる電圧値ま
で上昇することを防止でき、回路の正常な動作を確保で
きる。
According to the fifth to seventh aspects of the present invention, during operation under a high power supply voltage such as burn-in operation, even if the substrate voltage increases due to an increase in the substrate current, this substrate voltage is not increased. It is possible to prevent the voltage from rising to the value at which the latch-up phenomenon occurs, and to ensure the normal operation of the circuit.

【0074】更に、請求項8ないし請求項10記載の発
明によれば、バーンイン動作等の高電源電圧の下での動
作時には、昇圧電圧の過昇圧を防止したので、トランジ
スタの負担の増大を抑制して、回路の信頼性を向上させ
ることができる。
Further, according to the invention as set forth in claims 8 to 10, during operation under a high power supply voltage such as burn-in operation, excessive boosting of the boosted voltage is prevented, thereby suppressing an increase in the load on the transistor. Thus, the reliability of the circuit can be improved.

【0075】加えて、請求項11ないし請求項13記載
の発明によれば、バーンイン動作等の高電源電圧時に
は、電源電圧を降圧電圧及び昇圧電圧として使用したの
で、トランジスタの特性のバラツキに拘らず、これ等の
降圧電圧及び昇圧電圧を安定させて、加速係数の変化を
抑制ないし防止でき、スクリーニング検査等を精度良く
行うことができる。
In addition, according to the present invention, the power supply voltage is used as the step-down voltage and the step-up voltage at the time of a high power supply voltage such as a burn-in operation. By stabilizing the step-down voltage and the step-up voltage, a change in the acceleration coefficient can be suppressed or prevented, and a screening test or the like can be performed with high accuracy.

【0076】更に加えて、請求項14及び請求項15記
載の発明によれば、通常の使用状態では発生しない信号
を動作切換信号としたので、ユーザ等の通常の使用状態
ではバーンイン動作等の高電源電圧での特殊モードに移
行することを確実に防止できると共に、端子ピンの追加
を不要にできる。
In addition, according to the present invention, a signal which does not occur in a normal use state is used as an operation switching signal. It is possible to reliably prevent a transition to the special mode using the power supply voltage, and it is not necessary to add a terminal pin.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の半導体装置の降圧
回路を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a step-down circuit of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態の降圧回路による第1(通常)の
動作モードでの電源電圧に対する出力ノードの電圧特性
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a voltage characteristic of an output node with respect to a power supply voltage in a first (normal) operation mode by the step-down circuit of the embodiment.

【図3】同実施の形態の降圧回路による第2(特殊)の
動作モードでの電源電圧に対する出力ノードの電圧特性
を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a voltage characteristic of an output node with respect to a power supply voltage in a second (special) operation mode by the step-down circuit of the embodiment.

【図4】同実施の形態の降圧回路による電源端子と内部
端子(降圧端子)とを接続した場合の電源電圧に対する
出力ノードの電圧特性を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a voltage characteristic of an output node with respect to a power supply voltage when a power supply terminal and an internal terminal (step-down terminal) are connected by the step-down circuit of the embodiment.

【図5】同実施の形態の基準電圧発生回路の変形例を示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a modification of the reference voltage generation circuit of the embodiment.

【図6】同実施の形態の基準電圧発生回路の変形例にお
いて動作切換信号がLowレベルの場合の動作を示す図
である。
FIG. 6 is a diagram showing an operation when an operation switching signal is at a low level in a modification of the reference voltage generation circuit of the embodiment.

【図7】同実施の形態の基準電圧発生回路の変形例にお
いて第2の動作モードでの電源電圧に対する出力ノード
の電圧特性を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a voltage characteristic of an output node with respect to a power supply voltage in a second operation mode in a modification of the reference voltage generation circuit of the embodiment.

【図8】同実施の形態の基準電圧発生回路の変形例にお
いて電源端子と内部端子(降圧端子)とを接続した場合
の電源電圧に対する出力ノードの電圧特性を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a voltage characteristic of an output node with respect to a power supply voltage when a power supply terminal and an internal terminal (step-down terminal) are connected in a modification of the reference voltage generation circuit of the embodiment.

【図9】本発明の第2の実施の形態の基板電圧生成回路
を示す図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a substrate voltage generation circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第3の実施の形態の昇圧電圧生成回
路を示す図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a boosted voltage generation circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第4の実施の形態の動作切換信号発
生回路を示す図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating an operation switching signal generation circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図12】同実施の形態の動作切換信号発生回路におい
て電源電圧が高電圧検知回路の検知レベル未満の場合の
タイミングチャートを示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a timing chart when the power supply voltage is lower than the detection level of the high-voltage detection circuit in the operation switching signal generation circuit of the embodiment.

【図13】同実施の形態の動作切換信号発生回路におい
て電源電圧が高電圧検知回路の検知レベル以上の場合の
タイミングチャートを示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a timing chart in the case where the power supply voltage is equal to or higher than the detection level of the high voltage detection circuit in the operation switching signal generation circuit of the embodiment.

【図14】従来の半導体装置の降圧回路を示す図であ
る。
FIG. 14 is a diagram showing a step-down circuit of a conventional semiconductor device.

【図15】従来の半導体装置の降圧回路の外部電源電圧
に対する降圧電圧特性を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a step-down voltage characteristic of a step-down circuit of a conventional semiconductor device with respect to an external power supply voltage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電位供給回路 2、2´ 基準電圧発生回路 Vcc 電源端子 3 比較器 5、8 チャージポンプ回路 201 定電圧源 11、202 高電圧検知回路 12 信号生成回路 13 カウンタ回路 14 ラッチ回路 203 ANDゲート 204 ORゲート 205 動作切換手段 T4、T14 PMOSトランジスタ(接続手
段) T6 スイッチ(基板電圧切換手段) T11 スイッチ(昇圧電圧特性切換手
段) 401 他のANDゲート(制限回路) 402 インバータ T6、T12、T14 PMOSトランジスタ
Reference Signs List 1 potential supply circuit 2, 2 'reference voltage generation circuit Vcc power supply terminal 3 comparator 5, 8 charge pump circuit 201 constant voltage source 11, 202 high voltage detection circuit 12 signal generation circuit 13 counter circuit 14 latch circuit 203 AND gate 204 OR Gate 205 Operation switching means T4, T14 PMOS transistor (connection means) T6 switch (substrate voltage switching means) T11 switch (boost voltage characteristic switching means) 401 Other AND gate (limit circuit) 402 Inverter T6, T12, T14 PMOS transistor

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電源端子と、動作切換信号が入力される
入力端子とを備え、少なくとも2つ以上の動作モードを
持つ半導体装置において、 前記電源端子に接続される電源の電圧が設定値以上のと
きを検知する電圧検知手段と、 前記電圧検知手段の出力を受け、前記電源端子に接続さ
れる電源の電圧が設定値未満のとき、動作状態を第1の
動作モードに切り換え、前記電源端子に接続される電源
の電圧が設定値以上のとき、前記入力端子に入力される
動作切換信号を受け付けて、電源端子に接続される電源
の電圧が設定値未満に低下した後の動作状態を第2の動
作モードに切り換える動作切換手段とを備えたことを特
徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device having a power supply terminal and an input terminal to which an operation switching signal is input, and having at least two or more operation modes, wherein a voltage of a power supply connected to the power supply terminal is higher than a set value. A voltage detecting means for detecting a time, receiving an output of the voltage detecting means, and when a voltage of a power supply connected to the power supply terminal is lower than a set value, switching an operation state to a first operation mode; When the voltage of the connected power supply is equal to or higher than the set value, the operation switching signal input to the input terminal is received, and the operation state after the voltage of the power supply connected to the power supply terminal falls below the set value is changed to the second state. And an operation switching means for switching to the operation mode.
【請求項2】 半導体装置は、電源端子に接続された電
源の電圧を降圧して降圧電圧を生成する降圧回路を備
え、 動作切換手段は、電源端子に接続される電源の電圧が設
定値未満のとき、前記電源端子に接続される電源の電圧
の変化に対する前記降圧回路の降圧電圧の変化特性を第
1の降圧電圧特性に切り換え、前記電源端子に接続され
る電源の電圧が設定値以上のとき、前記入力端子に入力
される動作切換信号を受け付けて、前記電源端子に接続
される電源の電圧の変化に対する前記降圧回路の降圧電
圧の変化特性を第2の降圧電圧特性に切り換えることを
特徴とする請求項1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising: a step-down circuit for stepping down a voltage of a power supply connected to the power supply terminal to generate a step-down voltage. At this time, the change characteristic of the step-down voltage of the step-down circuit with respect to the change of the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is switched to the first step-down voltage characteristic, and the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value. When receiving the operation switching signal input to the input terminal, the step-down circuit changes the step-down voltage change characteristic of the step-down circuit with respect to a change in the voltage of the power supply connected to the power terminal to the second step-down voltage characteristic. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein
【請求項3】 第1の降圧電圧特性は、電源端子に接続
された電源の電圧が前記設定値未満の範囲において、そ
の電源の電圧の変化に対して降圧電圧の変化が小さい特
性であり、 第2の降圧電圧特性は、電源端子に接続された電源の電
圧が前記設定値未満の範囲において、その電源の電圧の
変化に応じて降圧電圧が変化する特性であることを特徴
とする請求項2記載の半導体装置。
3. The first step-down voltage characteristic is a characteristic in which, when the voltage of a power supply connected to a power supply terminal is less than the set value, a change in the step-down voltage is small with respect to a change in the voltage of the power supply. The second step-down voltage characteristic is a characteristic in which the step-down voltage changes according to a change in the voltage of the power supply when the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is less than the set value. 3. The semiconductor device according to 2.
【請求項4】 動作切換手段は、 電源端子に接続される電源の電圧が設定値以上のとき、
入力端子に動作切換信号が入力されている場合に限り、
電源端子に接続される電源の電圧が設定値以上の状態に
おける動作状態を第2の動作モードに切り換えることを
特徴とする請求項1、請求項2又は請求項3記載の半導
体装置。
4. The operation switching means, when a voltage of a power supply connected to a power supply terminal is higher than a set value,
Only when the operation switching signal is input to the input terminal
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein an operation state when a voltage of a power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value is switched to a second operation mode.
【請求項5】 電源端子と、半導体の基板に供給する基
板電圧を生成する基板電圧生成回路とを備えた半導体装
置において、 前記電源端子に接続される電源の電圧が設定値以上のと
きを検知する電圧検知手段と、 前記電圧検知手段の出力を受け、前記電源端子に接続さ
れる電源の電圧が設定値未満のとき、前記基板電圧生成
回路が生成する基板電圧の値を第1の基板電圧値に切り
換え、前記電源端子に接続される電源の電圧が設定値以
上のとき、前記基板電圧生成回路が生成する基板電圧の
値を第2の基板電圧値に切り換える基板電圧切換手段と
を備えたことを特徴とする半導体装置。
5. A semiconductor device comprising a power supply terminal and a substrate voltage generation circuit for generating a substrate voltage to be supplied to a semiconductor substrate, wherein a detection is made when a voltage of a power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value. Receiving the output of the voltage detecting means, and when the voltage of a power supply connected to the power supply terminal is lower than a set value, the value of the substrate voltage generated by the substrate voltage generating circuit is changed to a first substrate voltage. Substrate voltage switching means for switching the substrate voltage value generated by the substrate voltage generation circuit to a second substrate voltage value when the voltage of the power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value. A semiconductor device characterized by the above-mentioned.
【請求項6】 第2の基板電圧値は第1の基板電圧値よ
りも低い電圧値であることを特徴とする請求項5記載の
半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 5, wherein said second substrate voltage value is lower than said first substrate voltage value.
【請求項7】 切換信号が入力される入力端子を備え、 基板電圧切換手段は、電源端子に接続される電源の電圧
が設定値以上のとき、前記入力端子に切換信号が入力さ
れている場合に限り、前記基板電圧生成回路が生成する
基板電圧の値を第2の基板電圧値に切り換えるものであ
ることを特徴とする請求項5又は請求項6記載の半導体
装置。
7. An input terminal to which a switching signal is input, wherein the substrate voltage switching means is provided when the voltage of a power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value and the switching signal is input to the input terminal. 7. The semiconductor device according to claim 5, wherein a value of the substrate voltage generated by said substrate voltage generation circuit is switched to a second substrate voltage value.
【請求項8】 電源端子と、切換信号が入力される入力
端子と、前記電源端子に接続された電源の電圧よりも高
い電圧の昇圧電圧を生成する昇圧電圧生成回路とを備え
た半導体装置において、 前記入力端子に切換信号が入力されていないとき、前記
昇圧電圧生成回路の昇圧電圧特性を第1の昇圧電圧特性
に切り換え、前記入力端子に切換信号が入力されている
とき、前記昇圧電圧生成回路の昇圧電圧特性を第2の昇
圧電圧特性に切り換える昇圧電圧特性切換手段とを備え
たことを特徴とする半導体装置。
8. A semiconductor device comprising: a power supply terminal; an input terminal to which a switching signal is input; and a boosted voltage generation circuit that generates a boosted voltage higher than a voltage of a power supply connected to the power supply terminal. When the switching signal is not input to the input terminal, the boosted voltage characteristic of the boosted voltage generation circuit is switched to the first boosted voltage characteristic, and when the switching signal is input to the input terminal, the boosted voltage generation circuit A semiconductor device comprising: boosted voltage characteristic switching means for switching a boosted voltage characteristic of a circuit to a second boosted voltage characteristic.
【請求項9】 前記電源端子に接続される電源の電圧が
設定値以上のときを検知する電圧検知手段を備え、 昇圧電圧特性切換手段は、入力端子に切換信号が入力さ
れているとき、前記電圧検知手段が前記設定値以上の電
源電圧を検出した場合に限り、昇圧電圧生成回路の昇圧
電圧特性を第2の昇圧電圧特性に切り換えることを特徴
とする請求項8記載の半導体装置。
9. A voltage detecting means for detecting when a voltage of a power supply connected to the power supply terminal is equal to or higher than a set value, wherein the boosted voltage characteristic switching means, when a switching signal is input to an input terminal, 9. The semiconductor device according to claim 8, wherein the boosted voltage generation circuit switches the boosted voltage characteristic to the second boosted voltage characteristic only when the voltage detection means detects a power supply voltage equal to or higher than the set value.
【請求項10】 第2の昇圧電圧特性での昇圧電圧の値
は、第1の昇圧電圧特性での昇圧電圧の値よりも低く設
定されることを特徴とする請求項8又は請求項9記載の
半導体装置。
10. The boosted voltage value in the second boosted voltage characteristic is set lower than the boosted voltage value in the first boosted voltage characteristic. Semiconductor device.
【請求項11】 他の動作切換信号が入力される他の入
力端子と、 前記他の入力端子に前記他の動作切換信号が入力された
とき、降圧回路が降圧電圧を出力する内部端子と電源端
子とを接続する接続手段とを備えたことを特徴とする請
求項2記載の半導体装置。
11. An input terminal to which another operation switching signal is input, an internal terminal for outputting a step-down voltage by the step-down circuit when the another operation switching signal is input to the other input terminal, and a power supply. 3. The semiconductor device according to claim 2, further comprising connection means for connecting the terminal.
【請求項12】 他の動作切換信号が入力される他の入
力端子と、 前記他の入力端子に前記他の動作切換信号が入力された
とき、昇圧電圧生成回路が昇圧電圧を出力する内部端子
と電源端子とを接続する接続手段とを備えたことを特徴
とする請求項8記載の半導体装置。
12. An input terminal to which another operation switching signal is input, and an internal terminal to which the boosted voltage generation circuit outputs a boosted voltage when the another operation switching signal is input to the other input terminal. 9. The semiconductor device according to claim 8, further comprising connection means for connecting the power supply terminal to the power supply terminal.
【請求項13】 電源端子に接続される電源の電圧が設
定値以上のときに限り、他の入力端子への他の動作切換
信号の入力を許容する制限回路を有することを特徴とす
る請求項11又は請求項12記載の半導体装置。
13. A limiting circuit which permits input of another operation switching signal to another input terminal only when a voltage of a power supply connected to a power supply terminal is equal to or higher than a set value. The semiconductor device according to claim 11 or 12.
【請求項14】 電源端子に接続される電圧が設定値未
満の通常の動作状態での所定モードに複数回連続して入
ることにより、動作切換信号を発生させる切換信号発生
回路を別途備えたことを特徴とする請求項1、請求項
2、請求項4、請求項5、請求項7、請求項8、請求項
9、請求項11、請求項12又は請求項13記載の半導
体装置。
14. A switching signal generating circuit for generating an operation switching signal by continuously entering a predetermined mode in a normal operation state in which a voltage connected to a power supply terminal is lower than a set value a plurality of times, and The semiconductor device according to claim 1, 2, 4, 5, 5, 7, 8, 9, 9, 11, 12, or 13, characterized in that:
【請求項15】 切換信号発生回路は、 DRAMにおけるCBRセルフリフレッシュモードに複
数回連続して入ることにより、動作切換信号を発生させ
ることを特徴とする請求項14記載の半導体装置。
15. The semiconductor device according to claim 14, wherein the switching signal generating circuit generates an operation switching signal by continuously entering a CBR self-refresh mode in the DRAM a plurality of times.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002334923A (en) * 2001-05-09 2002-11-22 Achilles Corp Storage container for electronic components
JP2007279949A (en) * 2006-04-05 2007-10-25 Toshiba Corp Reference voltage generation circuit

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