JPH10296199A - 超音波洗浄装置 - Google Patents

超音波洗浄装置

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JPH10296199A
JPH10296199A JP11253097A JP11253097A JPH10296199A JP H10296199 A JPH10296199 A JP H10296199A JP 11253097 A JP11253097 A JP 11253097A JP 11253097 A JP11253097 A JP 11253097A JP H10296199 A JPH10296199 A JP H10296199A
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JP
Japan
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cleaning
flow path
liquid
ultrasonic
main body
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Application number
JP11253097A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuki Matsuzaki
伸樹 松崎
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Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Engineering Works Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明はわずかな設置スペ−スで液晶用ガ
ラス基板に洗浄とリンスとを行うことができる超音波洗
浄装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 超音波振動が付与された洗浄液で液晶用
ガラス基板2を洗浄するための超音波洗浄装置におい
て、装置本体5と、この装置本体に形成され先端が装置
本体の下面に開口した第1のノズル口8をなし内部に供
給された上記洗浄液を上記第1のノズル口から噴出させ
る第1の流路6と、上記装置本体に上記第1の流路に一
側面を露出させて設けられ他側面に超音波振動する超音
波振動子12が設けられていて、上記第1の流路に供給
された洗浄液に超音波振動を付与する振動板11と、先
端が上記装置本体の下面に開口した第2のノズル口16
をなし内部にリンス液が供給されそのリンス液を上記第
2のノズル口から噴出させる第2の流路7とを具備した
ことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は被洗浄物を洗浄す
る洗浄液に超音波振動を付与する超音波洗浄装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】たとえば液晶製造装置や半導体製造装置
には、被洗浄物としての液晶用ガラス基板や半導体ウエ
ハを高い清浄度で洗浄する工程がある。このような被洗
浄物を洗浄する方式としては、洗浄液中に複数枚の被洗
浄物を浸漬するデイップ方式や被洗浄物に向けて洗浄液
を噴射して一枚づつ洗浄する枚葉方式があり、最近では
高い清浄度が得られるとともに、コスト的に有利な枚葉
方式が採用されることが多くなってきている。
【0003】枚葉方式の1つとして被洗浄物に噴射され
る洗浄液に超音波振動を付与し、その振動作用によって
上記被洗浄物から微粒子を効率よく除去するようにした
洗浄方式が実用化されている。
【0004】洗浄液に超音波振動を付与する洗浄方式に
おいて、従来は20〜50kHz程度の超音波が用いられて
いたが、最近では600 〜2000kHz程度の極超音波帯域
の音波を用いる超音波洗浄装置が開発されている。
【0005】超音波振動が付与された洗浄液を被洗浄物
に噴射すると、その超音波振動の作用によって被洗浄物
に付着した微粒子の結合力が低下するため、超音波振動
を付与しない場合に比べて洗浄効果を向上させることが
できる。
【0006】しかしながら、被洗浄物を超音波振動が付
与された洗浄液で洗浄するだけでは、その洗浄液によっ
て被洗浄物から剥離された微粒子が残留し、確実に除去
されないことがある。
【0007】そこで、被洗浄物の洗浄効果を高めるため
に、被洗浄物を超音波振動が付与された洗浄液で洗浄す
るだけでなく、超音波洗浄後にリンス液でリンス洗浄す
ることで、被洗浄物の洗浄された面から微粒子を確実に
除去するということが行われている。
【0008】従来、被洗浄物に対する超音波洗浄とリン
ス洗浄とは、超音波洗浄ノズル体とリンス洗浄ノズル体
とを被洗浄物の搬送方向に沿って所定間隔で順次配置す
ることで行うようにしていた。そのため、一対のノズル
体を配置するためのスペ−スを確保しなければならない
から、その分、設置スペ−スを確保しなければならない
ということがあったり、十分な設置スペ−スを確保でき
ない場合には一対のノズル体を設置できなくなるという
ことがある。
【0009】さらに、十分な設置スペ−スを確保できな
い場合には超音波洗浄ノズル体とリンス洗浄ノズル体と
を近接させて配置することもある。しかしながら、一対
のノズル体を近接させて配置すると、超音波振動が付与
された洗浄液にリンス液が干渉して洗浄液に付与された
超音波振動が減衰し、洗浄液による洗浄効果が低下する
ということがある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】このように、被洗浄物
を超音波洗浄とリンス洗浄する場合、従来は被洗浄物の
搬送方向に沿って超音波ノズル体とリンスノズル体とを
所定間隔で配置するようにしていたので、2つのノズル
体を配置するために十分なスペ−スを確保できないとい
うことがあった。
【0011】また、十分な設置スペ−スが確保できない
場合に、2つのノズル体を近接させて配置すると、超音
波振動が付与された洗浄液にリンス液が干渉し、洗浄液
に付与された超音波振動が減衰するということがあっ
た。
【0012】この発明の目的は、設置スペ−スの増大を
招くことなく、被洗浄物に対して超音波洗浄とリンス洗
浄とを行うことができるようにした超音波洗浄装置を提
供することにある。この発明の目的は、超音波振動が付
与された洗浄液に対してリンス液が干渉することがない
ようにした超音波洗浄装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、超音
波振動が付与された洗浄液で被洗浄物を洗浄するための
超音波洗浄装置において、装置本体と、この装置本体に
形成され先端が装置本体の下面に開口した第1のノズル
口をなし内部に供給された上記洗浄液を上記第1のノズ
ル口から噴出させる第1の流路と、上記装置本体に上記
第1の流路に一側面を露出させて設けられ他側面に超音
波振動する超音波振動子が設けられていて、上記第1の
流路に供給された洗浄液に超音波振動を付与する振動板
と、先端が上記装置本体の下面に開口した第2のノズル
口をなし内部にリンス液が供給されそのリンス液を上記
第2のノズル口から噴出させる第2の流路とを具備した
ことを特徴とする。
【0014】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、上記第1の流路と第2の流路とは、洗浄液とリンス
液とを互いに干渉し合うことのない方向に向けて噴射さ
せる構成であることを特徴とする。
【0015】請求項3の発明は、請求項2の発明におい
て、上記第1のノズル口と第2のノズル口とは、洗浄液
とリンス液とが平行もしくは互いに離れる方向に噴射す
る構成であることを特徴とする。
【0016】請求項1の発明によれば、装置本体に、先
端が洗浄液を噴出する第1のノズル口に形成された第1
の流路と、先端がリンス液を噴出する第2のノズル口に
形成された第2の流路とを設けたので、1つの装置本体
を設置するだけで、被洗浄物に対して超音波洗浄とリン
ス洗浄を行うことができる。
【0017】請求項2と請求項3の発明によれば、第1
の流路と第2の流路から洗浄液とリンス液とを互いに干
渉し合うことがないよう噴出させるため、洗浄液に付与
された超音波振動がリンス液によって弱められることが
防止される。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。図1はこの発明の第1の実施の
形態で、同図中1は被洗浄物としての液晶用ガラス基板
2を超音波洗浄およびリンス洗浄するための超音波洗浄
装置1である。上記液晶用ガラス基板2は、回転駆動さ
れる複数の搬送ロ−ラ3を所定間隔で配置してなる搬送
機構4によって図中矢印で示す方向に搬送されるように
なっている。
【0019】上記搬送機構4の上方には上記超音波洗浄
装置1が配置されている。この超音波洗浄装置1は紙面
に対して直交する方向に細長い装置本体5を有する。こ
の装置本体5は上記搬送機構4によって搬送される液晶
用ガラス基板2の幅寸法よりも長い角柱状をなしてい
て、その内部には第1の流路6と第2の流路7とが形成
されている。
【0020】上記第1の流路6は、先端が装置本体5の
下端面に開口した第1のノズル口8に形成され、後端は
上記装置本体5の上面側に形成された凹部9に開放させ
ている。上記凹部9には、上記第1の流路6の後端を液
密に閉塞する振動板11が設けられている。つまり、振
動板11は一側面(下面)を第1の流路6に露出させて
いる。
【0021】上記振動板11の他側面となる上面には超
音波振動子12が接合固定されている。この超音波振動
子12は超音波発振器13に接続され、この超音波発振
器13からの駆動信号によって超音波振動し、それによ
って振動板11を超音波振動させるようになっている。
【0022】上記装置本体5には一端を上記第1の流路
6に連通させた洗浄液供給路13が形成されている。こ
の洗浄液供給路13の他端は上記装置本体5の一側面に
開口し、そこには洗浄液L1 を供給するための洗浄液供
給管14の一端が接続されている。この洗浄液供給管1
4の他端は洗浄液L1 の図示しない第1の供給源に接続
されている。
【0023】したがって、上記洗浄液供給管14から第
1の流路6に供給された洗浄液L1は、超音波振動する
振動板11で超音波振動が付与されて上記第1のノズル
口8から液晶用ガラス基板2に向けて噴出されるように
なっている。
【0024】上記装置本体5に形成された上記第2の流
路7はL字状に屈曲していて、先端が上記装置本体5の
下面に開口した第2のノズル口16に形成され、後端は
上記装置本体5の他側面に開口させている。
【0025】上記第2の流路7の後端にはリンス液供給
管17の一端が接続されている。このリンス液供給管1
7の他端はリンス液L2 の図示しない第2の供給源に接
続されている。したがって、第2の供給源からリンス液
供給管17に供給されたリンス液L2 は上記第2のノズ
ル口16から液晶用ガラス基板2に向けて噴出されるよ
うになっている。
【0026】上記第1の流路6の第1のノズル口8から
噴出される洗浄液L1 と、第2の流路7の第2のノズル
口16から噴出されるリンス液L2 とは互いに干渉し合
うことのない方向に向けて噴出されるようになってい
る。
【0027】この実施の形態では、第1の流路6の軸線
O1 と、第2の流路7の先端側の部分の軸線O2 とが平
行になるように設定されている。それによって、第1の
ノズル口8から噴出される洗浄液L1 に対し、第2のノ
ズル口16から噴出されるリンス液L2 が干渉しないよ
うになっている。
【0028】そして、上記装置本体5は、液晶用ガラス
基板2の搬送方向に対して第2のノズル口16が第1の
ノズル口8よりも下流側に位置し、かつ液晶用ガラス基
板2の板面に対して各流路6、7の軸線O1 、O2 が搬
送方向上流側に向かって所定の角度で傾斜して配置され
ている。
【0029】上記構成の超音波洗浄装置1を用いて液晶
用ガラス基板2を洗浄する場合、まず、超音波発振器1
3に通電して超音波振動子12を発振させ、これに振動
板11を連動させるとともに、第1の流路6に洗浄液L
1 を供給し、この洗浄液L1に超音波振動を付与して第
1のノズル口8から噴出させる。さらに、第2の流路7
にリンス液L2 を供給し、第2のノズル口16から噴出
させる。
【0030】各ノズル口8、16からそれぞれ洗浄液L
1 とリンス液L2 とを噴出させたなら、搬送機構4によ
って液晶用ガラス基板2を矢印方向に搬送する。液晶用
ガラス基板2が超音波洗浄装置1の下方を通過すると、
このガラス基板2は洗浄液L1 で洗浄されたのち、リン
ス液L2 でリンスされることになる。
【0031】上記超音波洗浄装置1の装置本体5には第
1の流路6と第2の流路7とが形成されている。そのた
め、搬送機構4の上方に1つの装置本体5を配置するだ
けで、液晶用ガラス基板2に対して超音波洗浄とリンス
洗浄とを順次行うことができるから、2つのノズル体を
別々に配置する従来に比べて設置スペ−スが少なくてす
む。
【0032】上記装置本体5に第1の流路6と第2の流
路7とを形成しているため、これら流路の先端の第1の
ノズル口8と第2のノズル口16との間隔をあまり大き
く取ることができなくなる。
【0033】しかしながら、上記第1の流路6と第2の
流路7との軸線O1 、O2 を平行に設定したことで、第
2のノズル口16から噴出されるリンス液L2 が第1の
ノズル口8から噴出される洗浄液L1 に干渉するのが防
止される。そのため、洗浄液L1 に付与された超音波振
動がリンス液L2 によって減衰されることがなくなるか
ら、上記洗浄液L1 による洗浄効果が低下することがな
い。
【0034】すなわち、装置本体5に第1のノズル口8
と第2のノズル口16とを比較的小さな間隔で設けるよ
うにしても、各ノズル口8、16から噴出される洗浄液
L1とリンス液L2 とが互いに干渉し合うのを防止でき
る。
【0035】また、装置本体5は液晶用ガラス基板2の
板面に対して所定の角度で傾斜して配置されている。そ
のため、各ノズル口8、16から液晶用ガラス基板2の
板面に噴出された洗浄液L1 とリンス液L2 は装置本体
5の傾斜方向、この実施の形態では液晶用ガラス基板2
の搬送方向に沿って流れるから、そのことによっても、
リンス液L2 が洗浄液L1 に干渉するのが防止され、洗
浄効果を高めることが可能となる。
【0036】この発明は上記第1の実施の形態に限定さ
れず、種々変形可能である。たとえば、上記第1の実施
の形態では洗浄液L1 がリンス液L2 に干渉するのを防
止するため、第1の流路6と第2の流路7とを平行に形
成したが、図2に示すように第1の流路6の軸線O1 に
対して第2の流路7の軸線O2 を、第1の流路6から離
れる方向に傾斜させるようにしてもよい。つまり、第2
の流路7の軸線O2 を第1の流路6の軸線O1 に対して
角度θで傾斜させてもよい。
【0037】このような構成によれば、第2のノズル口
16からのリンス液L2 は、第1のノズル口8からの洗
浄液L1 に対して離れる方向に噴出されるから、各流路
6、7の軸線O1 、O2 が平行な場合に比べ、第2のノ
ズル口16から噴出されるリンス液L2 を第1のノズル
口8から噴出される洗浄液L1 に干渉しにくくすること
ができる。
【0038】なお、この第2の実施の形態においては、
上記第1の実施の形態と同一部分には同一記号を付して
説明を省略する。また、液晶用ガラス基板2の搬送方向
は、上記第1の実施の形態で示された方向と逆方向に搬
送するようにしてもよい。
【0039】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、装置本体に、
先端が洗浄液を噴出する第1のノズル口に形成された第
1の流路と、先端がリンス液を噴出する第2のノズル口
に形成された第2の流路とを設けるようにした。
【0040】そのため、1つの装置本体を設置するだけ
で、被洗浄物に対して超音波洗浄とリンス洗浄を行うこ
とができるから、2つのノズル体を設置して超音波洗浄
とリンス洗浄を行なう従来に比べて設置スペ−スを少な
くすることができる。
【0041】請求項2と請求項3の発明によれば、第1
の流路と第2の流路から噴出される洗浄液とリンス液と
を互いに干渉し合うことがないよう噴出するようにし
た。そのため、洗浄液に付与された超音波振動がリンス
液によって弱められるのが防止されるから、洗浄液によ
る洗浄効果が低下することがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態の装置本体を示す
断面図。
【図2】この発明の第2の実施の形態を示す装置本体の
断面図。
【符号の説明】
2…液晶用ガラス基板 5…装置本体 6…第1の流路 7…第2の流路 8…第1のノズル口 11…振動板 12…超音波振動子 16…第2のノズル口 L1 …洗浄液 L2 …リンス液

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 超音波振動が付与された洗浄液で被洗浄
    物を洗浄するための超音波洗浄装置において、 装置本体と、 この装置本体に形成され先端が装置本体の下面に開口し
    た第1のノズル口をなし内部に供給された上記洗浄液を
    上記第1のノズル口から噴出させる第1の流路と、 上記装置本体に上記第1の流路に一側面を露出させて設
    けられ他側面に超音波振動する超音波振動子が設けられ
    ていて、上記第1の流路に供給された洗浄液に超音波振
    動を付与する振動板と、 先端が上記装置本体の下面に開口した第2のノズル口を
    なし内部にリンス液が供給されそのリンス液を上記第2
    のノズル口から噴出させる第2の流路とを具備したこと
    を特徴とする超音波洗浄装置。
  2. 【請求項2】 上記第1の流路と第2の流路とは、洗浄
    液とリンス液とを互いに干渉し合うことのない方向に向
    けて噴射させる構成であることを特徴とする請求項1記
    載の超音波洗浄装置。
  3. 【請求項3】 上記第1のノズル口と第2のノズル口と
    は、洗浄液とリンス液とが平行もしくは互いに離れる方
    向に噴射する構成であることを特徴とする請求項2記載
    に超音波洗浄装置。
JP11253097A 1997-04-30 1997-04-30 超音波洗浄装置 Pending JPH10296199A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001179190A (ja) * 1999-12-28 2001-07-03 Tokyo Electron Ltd 基板洗浄方法及び基板洗浄装置
JP2008080292A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Hitachi Plant Technologies Ltd 洗浄装置
WO2019082483A1 (ja) * 2017-10-25 2019-05-02 株式会社カイジョー 超音波洗浄装置及び超音波洗浄システム
CN112007905A (zh) * 2020-09-24 2020-12-01 徐州振丰超声电子有限公司 一种非均布式超声波清洗装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001179190A (ja) * 1999-12-28 2001-07-03 Tokyo Electron Ltd 基板洗浄方法及び基板洗浄装置
JP2008080292A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Hitachi Plant Technologies Ltd 洗浄装置
WO2019082483A1 (ja) * 2017-10-25 2019-05-02 株式会社カイジョー 超音波洗浄装置及び超音波洗浄システム
JP2019076847A (ja) * 2017-10-25 2019-05-23 株式会社カイジョー 超音波洗浄装置及び超音波洗浄システム
US11618060B2 (en) 2017-10-25 2023-04-04 Kaijo Corporation Ultrasonic cleaning apparatus and ultrasonic cleaning system
CN112007905A (zh) * 2020-09-24 2020-12-01 徐州振丰超声电子有限公司 一种非均布式超声波清洗装置

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