JPS59150584A - 半導体ウエハの超音波洗浄方法 - Google Patents
半導体ウエハの超音波洗浄方法Info
- Publication number
- JPS59150584A JPS59150584A JP2276783A JP2276783A JPS59150584A JP S59150584 A JPS59150584 A JP S59150584A JP 2276783 A JP2276783 A JP 2276783A JP 2276783 A JP2276783 A JP 2276783A JP S59150584 A JPS59150584 A JP S59150584A
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- Japan
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- cleaning
- ultrasonic
- cleaning liquid
- cleaned
- wafer
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は超音波洗浄方法およびその装置に関する。
周知のように超音波洗浄方法は機械加工部品。
ガラス加工部品等、種々の分野で使用されている。
しかし、従来の超音波洗浄装置では、洗浄槽中の洗浄液
に超音波振動を与え、その超音波振動した洗浄液中に被
洗浄物を入れ、洗浄する方法が主流を占めている。
に超音波振動を与え、その超音波振動した洗浄液中に被
洗浄物を入れ、洗浄する方法が主流を占めている。
しかし、この方法では下記のような難点があることが本
発明者の検討の結果判明した。すなわち従来方法は、超
音波力により、被洗浄物から除去された異物が、洗浄液
中に存在する。このため除去された異物が被洗浄物に再
作用し、激しく衝突した場合には被洗浄物にダメージを
与えたり、除去された洗浄液中の異物が被洗浄物に再付
着した場合には汚染となるため、高清浄度を要求する洗
浄法としては不向きである。
発明者の検討の結果判明した。すなわち従来方法は、超
音波力により、被洗浄物から除去された異物が、洗浄液
中に存在する。このため除去された異物が被洗浄物に再
作用し、激しく衝突した場合には被洗浄物にダメージを
与えたり、除去された洗浄液中の異物が被洗浄物に再付
着した場合には汚染となるため、高清浄度を要求する洗
浄法としては不向きである。
したがって、本発明の目的は被洗浄物にダメージを与え
ることなく高清浄度に被洗浄物を洗浄することかできる
超音波洗浄方法およびその装置を提供することにある。
ることなく高清浄度に被洗浄物を洗浄することかできる
超音波洗浄方法およびその装置を提供することにある。
以下、実施例によって本発明を説明する。
図面は本発明の一実施例による半導体薄膜（ウェハ）の
両面を洗浄する超音波洗浄装置の要部を示す原理的断面
図である。被洗浄物であるウェハ１は駆動プーリ２およ
び３個の従動プーリ３に掛けられた丸ベルト４上に載り
、駆動プーリ２の回転によって搬送される。駆動プーリ
２はモータ５によって回転する。また、前記丸ベルト移
動域には洗浄部が設けられている。この洗浄部にはウェ
ハ１の移動方向に沿って噴流式洗浄液供給機構６を有す
る洗浄Ａステーション７と洗浄Ｂステージ舊ン８が配設
されている。前記噴流式洗浄液供給機構６には丸ベルト
４を挾んで上下に止揚動子９および下振動子１０が配設
されている。また、これら振動子９，１０は超音波発振
電源部１１によって超音波発振するようになっている。
両面を洗浄する超音波洗浄装置の要部を示す原理的断面
図である。被洗浄物であるウェハ１は駆動プーリ２およ
び３個の従動プーリ３に掛けられた丸ベルト４上に載り
、駆動プーリ２の回転によって搬送される。駆動プーリ
２はモータ５によって回転する。また、前記丸ベルト移
動域には洗浄部が設けられている。この洗浄部にはウェ
ハ１の移動方向に沿って噴流式洗浄液供給機構６を有す
る洗浄Ａステーション７と洗浄Ｂステージ舊ン８が配設
されている。前記噴流式洗浄液供給機構６には丸ベルト
４を挾んで上下に止揚動子９および下振動子１０が配設
されている。また、これら振動子９，１０は超音波発振
電源部１１によって超音波発振するようになっている。
また、前記両振動子９，１０は各部に設けた流孔１２か
らフィルタ１３を通って清浄となった洗浄液１４が噴き
出すようになっている。そして、ウエノ・１は丸ベルト
４によって移動する際、洗浄Ａステーション７および洗
浄Ｂステーション８で流孔１２から噴出される洗浄９１
４によって両面（上下面）および周面を勢いよく洗浄さ
れる。この際、洗浄液１４は上・下振動子９，１０によ
って一定の周波数で超音波振動し、洗浄効果を高めるよ
うになっている。また、洗浄Ａステーション７と洗浄Ｂ
ステーション８ではそれぞれ異なる周波数で超音波振動
するようになっている。周波数が低いと異物径の大きな
ものが洗浄除去でき、周波数が高くなるに従って異物径
の小さなものが洗浄除去できる。そこで、洗浄Ａステー
ション７では低い周波数、たとえば２８ＫＨ２で振動さ
せ、洗浄Ｂステーション８では高い周波数、たとえば４
００〜８００ＫＨｚで振動させる。
らフィルタ１３を通って清浄となった洗浄液１４が噴き
出すようになっている。そして、ウエノ・１は丸ベルト
４によって移動する際、洗浄Ａステーション７および洗
浄Ｂステーション８で流孔１２から噴出される洗浄９１
４によって両面（上下面）および周面を勢いよく洗浄さ
れる。この際、洗浄液１４は上・下振動子９，１０によ
って一定の周波数で超音波振動し、洗浄効果を高めるよ
うになっている。また、洗浄Ａステーション７と洗浄Ｂ
ステーション８ではそれぞれ異なる周波数で超音波振動
するようになっている。周波数が低いと異物径の大きな
ものが洗浄除去でき、周波数が高くなるに従って異物径
の小さなものが洗浄除去できる。そこで、洗浄Ａステー
ション７では低い周波数、たとえば２８ＫＨ２で振動さ
せ、洗浄Ｂステーション８では高い周波数、たとえば４
００〜８００ＫＨｚで振動させる。
一方、洗浄に関与した洗浄液は排出機構の漏斗状の排液
カバー１５で集められ、排出口１６から外部に排出され
るようになっている。
カバー１５で集められ、排出口１６から外部に排出され
るようになっている。
次に超音波洗浄法について説明する。被洗浄物であるウ
ェハ１が丸ベルト４上にセットされると、モータ５によ
り丸ベルト４が回転し、ウェハ１が洗浄Ａステーション
７に搬送されセットされる。
ェハ１が丸ベルト４上にセットされると、モータ５によ
り丸ベルト４が回転し、ウェハ１が洗浄Ａステーション
７に搬送されセットされる。
ウェハ１が洗浄Ａステーション７にセットされると、前
述のごとくフィルタ１３によって清浄化され、かつ超音
波振動する洗浄液１４がウェハ１両面に供給され、噴流
力および超音波力により、ウェハ１両面が同時に洗浄さ
れる。
述のごとくフィルタ１３によって清浄化され、かつ超音
波振動する洗浄液１４がウェハ１両面に供給され、噴流
力および超音波力により、ウェハ１両面が同時に洗浄さ
れる。
洗浄Ａステージ１ン７では低い領域の超音波周波数を作
用させウニ八両面の大きい付着異物を除去する。
用させウニ八両面の大きい付着異物を除去する。
洗浄Ａステーション７での洗浄が完了すると再びウェハ
１は丸ベルト４により、洗浄Ｂステーション８に搬送さ
れセットされる。
１は丸ベルト４により、洗浄Ｂステーション８に搬送さ
れセットされる。
洗浄Ｂステーシコン８では、前述洗浄Ａステー・シロン
７同様にウェハ１両面が洗浄される。洗浄Ｂステーショ
ン８では、洗浄Ａステーション７より高い周波数の超音
波を作用させ洗浄Ａステーション７では除去出来なかっ
た微小付着異物を除去する。
７同様にウェハ１両面が洗浄される。洗浄Ｂステーショ
ン８では、洗浄Ａステーション７より高い周波数の超音
波を作用させ洗浄Ａステーション７では除去出来なかっ
た微小付着異物を除去する。
このように本発明によれば、超音波振動によ−・てウェ
ハを洗浄する場合、振動数の異なる２つの洗浄ステージ
目ンで洗浄を行なうことから、小さな異物から大きな異
物布をも洗浄除去することができる。また、洗浄液は噴
流で常に清浄なものが供給され、ウェハ１から脱離した
異物は再びウェハ１に接触することなく排出される。こ
の結果、脱離した異物が激しくウェハ１に衝突すること
はないのでウェハ表面にダメージを受けることはない。
ハを洗浄する場合、振動数の異なる２つの洗浄ステージ
目ンで洗浄を行なうことから、小さな異物から大きな異
物布をも洗浄除去することができる。また、洗浄液は噴
流で常に清浄なものが供給され、ウェハ１から脱離した
異物は再びウェハ１に接触することなく排出される。こ
の結果、脱離した異物が激しくウェハ１に衝突すること
はないのでウェハ表面にダメージを受けることはない。
また、異物の再付着も防止できることから、高清浄度の
洗浄が行なえるようになる。また、本発明では、洗浄液
の噴流式供給９周波数の異なる超音波洗浄によることか
ら、洗浄時間が短縮される。さらに、本発明装置は機構
が簡素であることから装置の小型化も図れる。
洗浄が行なえるようになる。また、本発明では、洗浄液
の噴流式供給９周波数の異なる超音波洗浄によることか
ら、洗浄時間が短縮される。さらに、本発明装置は機構
が簡素であることから装置の小型化も図れる。
なお、本発明は前記実施例に限定されない。すなわち、
洗浄ステーションをさらに多くしたり、同一洗浄ステー
ションにおいても、側方等振動方向を交差させたりする
ことによって、さらに洗浄効果の増大を図るようにして
もよい。
洗浄ステーションをさらに多くしたり、同一洗浄ステー
ションにおいても、側方等振動方向を交差させたりする
ことによって、さらに洗浄効果の増大を図るようにして
もよい。
図面は本発明の一実施例による超音波洗浄装置の要部を
示す概略的断面図である。 １・・・ウェハ、４・・・丸ベルト、６・・・噴流式洗
浄液供給機構、７・・・洗浄Ａステーション、８・・・
洗浄Ｂステーション、９・・・上根動子、１０・・・下
振動子、１１・・・超音波発振電源部、１３・・・フィ
ルタ、１４・・・洗浄液、１５・・・排液カバー、１６
・・・排出口。
示す概略的断面図である。 １・・・ウェハ、４・・・丸ベルト、６・・・噴流式洗
浄液供給機構、７・・・洗浄Ａステーション、８・・・
洗浄Ｂステーション、９・・・上根動子、１０・・・下
振動子、１１・・・超音波発振電源部、１３・・・フィ
ルタ、１４・・・洗浄液、１５・・・排液カバー、１６
・・・排出口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、移動する被洗浄物に対して複数の方向から超音波振
動させた洗浄液を供給して作用させ、被洗浄物を超音波
洗浄することを特徴とする超音波洗浄方法。 ２、前記超音波振動の周波数は被洗浄物の移動方向に沿
って各領域で異なっていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の超音波洗浄方法。 ３、被洗浄物を移動させる搬送機構と、前記移動する被
洗浄物に対して複数の方向から超音波振動子によって振
動させられる清浄な洗浄液を供給する少なくとも１つの
噴流式洗浄液供給機構と、前記洗浄に関与した洗浄液を
排出する排出機構と、を有することを特徴とする超音波
洗浄装置。 ４、前記噴流式洗浄液供給機構は複数配設されかつ各洗
浄液供給機構の超音波振動子は噴流式洗浄液供給機構毎
に異なることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の
超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2276783A JPS59150584A (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | 半導体ウエハの超音波洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2276783A JPS59150584A (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | 半導体ウエハの超音波洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59150584A true JPS59150584A (ja) | 1984-08-28 |
| JPH0581314B2 JPH0581314B2 (ja) | 1993-11-12 |
Family
ID=12091820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2276783A Granted JPS59150584A (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | 半導体ウエハの超音波洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59150584A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01259536A (ja) * | 1988-04-11 | 1989-10-17 | Hitachi Ltd | 超音波洗浄スプレイノズルを用いた基板両面の洗浄方法及び洗浄装置 |
| JPH06106144A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-19 | Kokusai Denki Erutetsuku:Kk | 超音波洗浄方式及び超音波洗浄装置 |
| JP2006334482A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Aisawa Construction Co Ltd | 洗浄設備 |
| JP2009268948A (ja) * | 2008-05-01 | 2009-11-19 | Dainippon Printing Co Ltd | フィルム洗浄方法及びフィルム洗浄装置 |
| JP2010244627A (ja) * | 2009-04-07 | 2010-10-28 | Alphana Technology Co Ltd | ディスク駆動装置の生産方法及びディスク駆動装置 |
| JP2011123984A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-06-23 | Alphana Technology Co Ltd | ディスク駆動装置の生産方法及びその生産方法により生産されたディスク駆動装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4711772U (ja) * | 1971-03-04 | 1972-10-12 | ||
| JPS5153766A (ja) * | 1974-11-07 | 1976-05-12 | Kaijo Denki Kk | Nozurugatachoonpasenjosochi |
-
1983
- 1983-02-16 JP JP2276783A patent/JPS59150584A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4711772U (ja) * | 1971-03-04 | 1972-10-12 | ||
| JPS5153766A (ja) * | 1974-11-07 | 1976-05-12 | Kaijo Denki Kk | Nozurugatachoonpasenjosochi |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH06106144A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-19 | Kokusai Denki Erutetsuku:Kk | 超音波洗浄方式及び超音波洗浄装置 |
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| JP2010244627A (ja) * | 2009-04-07 | 2010-10-28 | Alphana Technology Co Ltd | ディスク駆動装置の生産方法及びディスク駆動装置 |
| US8516685B2 (en) | 2009-04-07 | 2013-08-27 | Samsung Electro-Mechanics Japan Advanced Technology Co., Ltd. | Method of manufacturing a disk drive device for reducing adhesive amount of particles |
| JP2011123984A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-06-23 | Alphana Technology Co Ltd | ディスク駆動装置の生産方法及びその生産方法により生産されたディスク駆動装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0581314B2 (ja) | 1993-11-12 |
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