JPH10296741A - 成形型およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プレス成形によって製造された従来の光素子
固定用部材上における光素子同士の光接続や、光素子を
固定ないし実装した後の従来の光素子固定用部材間での
光素子同士の光接続は、精密ステージを用いたアクティ
ブアライメントによって行われているが、アクティブア
ライメントのみによって光素子同士を光接続させるには
長時間を要する。 【解決手段】 プレス成形によって光素子固定用部材を
得るための成形型にアライメントマーク転写部を設け、
この成形型を用いてアライメントマークを有する光素子
固定用部材を製造し、当該光素子固定用部材に光素子を
固定ないし実装するにあたって前記のアライメントマー
クを利用して光素子の位置決めを行うことにより、当該
位置決めのみによって、または、当該位置決め後に簡単
なアクティブアライメントを行うことによって、光素子
同士を光接続させることができるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、成形型およびその
製造方法ならびに前記の成形型を用いて製造される成形
品に係り、特に、光の送受信や中継を行うため等に使用
されるマイクロレンズ、偏光板，回折格子，波長板，フ
ィルター，光増幅器，光導波路，光ファイバ等の光学素
子や、半導体レーザ，発光ダイオード等の発光素子、フ
ォトダイオード等の受光素子など（以下、これらの素子
を「光素子」と総称する。）が固定ないし実装される基
材（以下、この基材を「光素子固定用部材」という。）
をプレス成形によって得るための成形型として好適な成
形型およびその製造方法ならびに前記の成形型を用いて
製造される成形品（光素子固定用部材）に関する。

【０００２】

【従来の技術】光の送受信や中継を行うためには、光素
子同士が光学的に接続する（以下、「光学的に接続す
る」ことを「光接続」という。）ように、これらを所望
形状の光素子固定用部材の所定位置に高精度に固定ない
し実装する必要がある。また、光素子が固定ないし実装
されている光素子固定用部材同士を、それぞれの部材に
固定ないし実装されている所定の光素子同士が光接続す
るように、高精度に位置合わせする必要がある。

【０００３】例えば、長距離光通信に用いられる石英系
シングルモード光ファイバは、外径１０μｍ程度のコア
部と当該コア部を被覆する外径１２５μｍのクラッド部
とによって構成されており、当該石英系シングルモード
光ファイバ同士を光接続する際には、光接続部分での光
軸のずれによる接続損失を小さくする（例えば０．１ｄ
Ｂ以下にする）うえから、光軸のずれ量が±１μｍ程度
以内という高いアライメント精度が求められる。

【０００４】従来より、上記の光素子固定用部材は所望
の材料を機械加工やプレス成形によって所定形状に成形
することにより作製されおり、当該光素子固定用部材上
における光素子同士の光接続や、光素子を固定ないし実
装した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接続
は、精密ステージを用いたアクティブアライメントによ
って行われている。アクティブアライメントによって例
えば光ファイバ同士を光接続するにあたっては、一方の
光ファイバからの出射光を他方の光ファイバに入射さ
せ、その入射光量が最大となるように精密ステージを広
範囲に亘って駆動させて、両者の位置合わせを行う。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アクテ
ィブアライメントによって光素子同士を光接続するため
には、上述のように精密ステージを広範囲に亘って駆動
させなければならず、長時間を要する。また、自動化す
るためには装置の構造を複雑にしなければならず、所望
の精度でアクティブアライメントすることが可能な装置
を得ることが困難である。

【０００６】本発明の目的は、固定ないし実装しようと
する光素子同士の光接続、または、光素子を固定ないし
実装した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接
続を短時間で行うことが可能な光素子固定用部材をプレ
ス成形によって得ることができる成形型およびその製造
方法ならびに前記の光素子固定用部材を提供することに
ある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明の成形型は、所定形状の転写成形面を有し、成形材
料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用され
る成形型であり、前記の転写成形面内に、アライメント
マークを有するプレス成形品を得るためのアライメント
マーク転写部が設けられていることを特徴とするもので
ある。

【０００８】一方、上記の目的を達成する本発明の成形
型の製造方法は、所定形状の転写成形面を有し、成形材
料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用され
る成形型を製造するにあたり、アライメントマークを有
する光素子固定用部材を得るためのアライメントマーク
転写部が該成形型の転写成形面内に形成されるように、
この成形型の型材料にドライエッチングによって前記の
アライメントマーク転写部用の成形部を形成し、この
後、前記の成形部を被覆するようにして、かつ、離型膜
の表面が前記の転写成形面となるようにして該離型膜を
成膜して、前記の成形部と該成形部の表面を被覆してい
る離型膜とからなるアライメントマーク転写部を有し、
前記の離型膜の表面が転写成形面となっている成形型を
得ることを特徴とするものである（以下、この方法を
「方法Ｉ」という。）。

【０００９】また、上記の目的を達成する本発明の成形
型の他の製造方法は、所定形状の転写成形面を有し、成
形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用
される成形型を製造するにあたり、アライメントマーク
を有する光素子固定用部材を得るためのアライメントマ
ーク転写部が該成形型の転写成形面内に位置することに
なるように、該成形型の型材料にドライエッチングによ
って前記のアライメントマーク転写部を形成することを
特徴とするものである（以下、この方法を「方法II」と
いう。）。

【００１０】そして、上記の目的を達成する本発明の光
素子固定用部材は、他の部材との位置関係を決めるため
のアライメントマークが一体成形されているプレス成形
品からなり、前記のアライメントマークにおける表面粗
さと該アライメントマークの周辺の表面粗さとが異なる
ことを特徴とするものである。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。まず本発明の成形型について説明す
ると、この成形型は、上述したように所定形状の転写成
形面を有し、成形材料を所定形状の光素子固定用部材に
プレス成形するために使用される成形型である。光素子
固定用部材はガラス，樹脂等によって形成することがで
きるので、上記の成形型の型材料は得ようとする光素子
固定用部材の材質に応じて、換言すればプレス成形温度
やプレス成形圧等に応じて、適宜変更可能である。

【００１２】周辺環境の温度変化に対して寸法精度や形
状精度の変動が小さく、かつ、固定ないし実装しようと
する光素子との熱膨張差の小さい光素子固定用部材をプ
レス成形によって得るうえからは、当該光素子固定用部
材をガラスによって形成することが好ましく、中でもＳ
ｉＯ₂ ，Ｂ₂Ｏ₃ およびＺｎＯをガラス成分としている
ガラスによって形成することが好ましい。このようなガ
ラスの具体例としては、例えば下記(1) 〜(4) のものが
挙げられる。

【００１３】(1) ガラス成分としてＳｉＯ₂ を１〜３０
wt％、Ｂ₂Ｏ₃ を１５〜４０wt％、ＺｎＯを４０〜６０w
t％（但し４０wt％は含まない。）、ＭｇＯを０〜１５w
t％、ＣａＯを０〜１０wt％、ＳｒＯを０〜１０wt％、
ＢａＯを０〜１０wt％、ＰｂＯを０〜２０wt％、Ａｌ₂
Ｏ₃ を０〜１０wt％（但し０wt％は含まない 。）含有
し、ＺｎＯ，ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯおよびＰ
ｂＯの合量が４０〜６０wt％（但し４０wt％は含まな
い。）であり、前記ガラス成分の合量が７５wt％以上で
あるガラス（以下、このガラスを「第１のガラス」とい
う。）。

【００１４】(2) 上記第１のガラスにＧｅＯ₂ を０〜１
０wt％（但しＳｉＯ₂ とＧｅＯ₂ との合量は３〜３０wt
％）、Ｌａ₂Ｏ₃ を０〜２０wt％、Ｙ₂Ｏ₃ を０〜１０wt
％、Ｇｄ₂Ｏ₃ を０〜１０wt％（但しＬａ₂Ｏ₃ ，Ｙ₂Ｏ₃
およびＧｄ₂Ｏ₃ の合量は０〜２０wt％）、Ｎｂ₂Ｏ₅
を０〜１０wt％、Ｔａ₂Ｏ₅ を０〜１０wt％（但しＮｂ₂
Ｏ₅ とＴａ₂Ｏ₅ との合量は０〜１０wt％）、ＺｒＯ₂
を０〜５wt％、ＴｉＯ₂を０〜３wt％含有させたガラス
（以下、このガラスを「第２のガラス」という。）。

【００１５】(3) 上記第１のガラスまたは第２のガラス
に、脱泡，着色の改善を目的として、外割りでＡｓ₂Ｏ₃
，Ｓｂ₂Ｏ₃ ，ＳｎＯ，ＳｎＯ₂ のうちの１種以上を添
加したガラス（以下、このガラスを「第３のガラス」と
いう。）。 (4) 上記第１のガラス〜第３のガラスのいずれかに、当
該ガラスの特性を悪化させない範囲で、Ｆ，Ｂｉ₂Ｏ
₃ ，Ｙｂ₂Ｏ₃ ，ＷＯ₃ ，Ｎａ₂Ｏ，Ｋ₂Ｏ等を添加した
ガラス。

【００１６】ガラス製の光素子固定用部材をプレス成形
によって得るための成形型の型材料としては、炭化タン
グステン（ＷＣ）を含有している超硬素材、窒化チタン
（ＴｉＮ），炭化チタン（ＴｉＣ）もしくは酸化アルミ
ニウム（Ａｌ₂Ｏ₃ ）を含有しているサーメット、炭化
ケイ素（ＳｉＣ）、ガラス状炭素等からなるものが好ま
しく、前記のサーメットとしてはＴｉＮ，ＴｉＣもしく
はＡｌ₂Ｏ₃ を概ね９０wt％以上含有しているものが好
ましい。

【００１７】ただし、前記の超硬素材やサーメットから
なる型材料を利用してガラス製の光素子固定用部材を製
造するための成形型を得ようとする場合には、プレス成
形時に成形型と成形材料（ガラス）とが融着するのを防
止するうえから、所望形状に加工した後の型材料（以
下、この型材料を「母材」という。）の所定面を離型膜
によって被覆して、当該離型膜の表面が転写成形面とな
るようにすることが好ましい。

【００１８】上記の離型膜としては、母材の材質，成形
材料の材質等に応じて種々の組成のものが利用される
が、ガラスからなる成形材料と成形型との融着を防止す
るための離型膜としては、例えば、Ｐｔ，Ａｕ，Ｉｒ，
ＰｄおよびＲｈからなる群より選択された少なくとも１
種の成分を含有している膜や、ｉ−カーボンからなる膜
を用いることができる。ＳｉＣやガラス状炭素からなる
型材料を利用してガラス製の光素子固定用部材を製造す
るための成形型を得ようとする場合には、前記の離型膜
を設けてもよいし、設けなくてもよい。

【００１９】本発明の成形型においては、その転写成形
面内に、アライメントマークを有するプレス成形品を得
るためのアライメントマーク転写部が設けられている。
アライメントマーク転写部を除いた転写成形面の形状
は、当該成形型を用いて得ようとする光素子固定用部材
の用途等に応じて適宜選択され、例えば、１つの平面，
境界部が段差となっている２つ以上の平面，平面（前記
１つの平面または前記２つ以上の平面）と所定形状の凹
部とが組み合わされた形状，平面（前記１つの平面また
は前記２つ以上の平面）と所定形状の凸部とが組み合わ
された形状，平面（前記１つの平面または前記２つ以上
の平面）と所定形状の凸部と所定形状の凹部とが組み合
わされた形状等とすることができる。

【００２０】一方、アライメントマーク転写部の平面視
上の形状は、光素子固定用部材に形成しようとするアラ
イメントマークの形状に応じて適宜選択される。また、
一つの転写成形面内に設けられているアライメントマー
ク転写部の数やその形成箇所は、当該成形型を用いて得
ようとする光素子固定用部材の用途や、この光素子固定
用部材に固定ないし実装しようとする光素子の形状およ
び数、あるいは、光素子固定用部材におけるアライメン
トマークの使途等に応じて適宜選択される。

【００２１】アライメントマーク転写部は凸部からなっ
ていてもよいし、凹部からなっていてもよい。ただし、
光素子を高密度に固定ないし実装するための光素子固定
用部材を得ようとする場合には、当該光素子固定用部材
に形成されているアライメントマークについても光素子
を固定ないし実装するための領域の一部として利用する
ことが好ましいので、アライメントマークの一部または
全部を覆うようにして光素子を安定かつ容易に固定ない
し実装することができるよう、当該アライメントマーク
を凹部によって形成することが好ましい。また、光素子
固定用部材に固定ないし実装した光素子を更に堅固に固
定すること等を目的として当該光素子固定用部材に所望
の部材を載置する場合があるが、このような場合におい
ても、光素子固定用部材に形成されているアライメント
マークが凹部によって形成されていれば、前記の部材を
安定かつ容易に載置することができる。

【００２２】したがって、光素子を高密度に固定ないし
実装するための光素子固定用部材や、光素子以外の部材
をもが載置される光素子固定用部材を得ようとする場合
には、本発明の成形型におけるアライメントマーク転写
部を凸部によって形成することが好ましい。

【００２３】光素子固定用部材上には通常複数個の光素
子が固定ないし実装され、光素子同士の機械的な位置決
めのみによってこれらの光素子同士を光素子固定用部材
上において光接続させるためには、少なくとも２次元方
向の位置合わせが必要である。また、光素子が固定ない
し実装されている光素子固定用部材同士の機械的な位置
決めのみによって、それぞれの光素子固定用部材に固定
ないし実装されている所定の光素子同士を光接続させる
場合においても、少なくとも２次元方向の位置合わせが
必要である。

【００２４】したがって、アライメントマーク転写部の
平面視上の形状はＬ字状，十文字状，三角形枠，矩形枠
状等、２つ以上の直線部を有し、これらの直線部が互い
に所定の角度をなしている形状であることが好ましい。
当該形状を有するアライメントマーク転写部によって形
成されたアライメントマークは、２つ以上の直線部を有
し、これらの直線部が互いに所定の角度をなしている形
状となるので、光素子同士または光素子固定用部材同士
の２次元方向の位置合わせが容易な光素子固定用部材を
得ることができる。

【００２５】上記のアライメントマーク転写部は、成形
型が離型膜を有しているものである場合には、離型膜に
よって被覆されてアライメントマーク転写部となる成形
部（母材に形成されているもの。以下、この成形部を単
に「成形部」という。）と当該成形部を被覆する離型膜
とによって形成されているか、または、離型膜自体に形
成されている。また、成形型が離型膜を有していないも
のである場合には、型材料自体に形成されている。

【００２６】型材料への前記成形部の形成や型材料自体
へのアライメントマーク転写部の形成は、例えば機械加
工やエッチング等の方法によっても行うことができる
が、機械加工では直線状の凸部同士が交差する部分にバ
イトの先端が入らないことから、このような交差部を有
するアライメントマーク転写部もしくは成形部を精密に
形成することができない。また、転写成形面内に段差
（アライメントマーク転写部とその周囲との段差を除
く。）を有する成形型を得ようとした場合、前記の段差
によって区分された下段側の領域における前記の段差近
傍へは機械加工用のバイトの先端を入れることができな
いので、機械加工によってアライメントマーク転写部も
しくは前記の成形部を形成することができる領域が制限
される。さらに、前述した超硬素材，サーメット，Ｓｉ
Ｃ，ガラス状炭素等からなる型材料に精度の高いアライ
メントマーク転写部もしくは前記の成形部をウエットエ
ッチングによって形成することは困難である。

【００２７】このため、型材料に形成される前記の成形
部や型材料自体に形成される前記のアライメントマーク
転写部、特に、２つ以上の直線部を有し、これらの直線
部が互いに所定の角度をなしている形状の成形部もしく
はアライメントマーク転写部は、ドライエッチングによ
って形成されたものであることが特に好ましい。ドライ
エッチングによれば、目的とする形状の成形部もしくは
アライメントマーク転写部を所望の箇所に高精度に形成
することができる。

【００２８】アライメントマークを目視や画像認識装置
によって容易に識別することができる光素子固定用部材
を得るうえからは、アライメントマークにおける表面粗
さと当該アライメントマークの周辺における表面粗さと
を異ならせることが好ましいので、成形型についても、
アライメントマーク転写部における表面粗さと当該アラ
イメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面
粗さとを異ならせることが好ましい。アライメントマー
ク転写部における表面最大粗さと当該アライメントマー
ク転写部の周辺の転写成形面における表面最大粗さとが
概ね２００オングストローム以上異なっている成形型を
用いれば、成形材料として例えば透明ガラスを用いた場
合でも、目視や画像認識装置によってアライメントマー
クを容易に識別することが可能な光素子固定用部材をプ
レス成形によって得ることができる。

【００２９】以上説明した本発明の成形型は、上述した
アライメントマーク転写部を有しているので、当該本発
明の成形型同士を組み合わせて、または、当該本発明の
成形型と従来の成形型とを組み合わせてプレス成形に必
要な一組の成形型（上型と下型からなるもの、または、
上型と下型と胴型からなるもの等。下型または上型が平
板であるものを含む。）を構成し、当該一組の成形型を
用いて成形材料をプレス成形を行うことにより、アライ
メントマークを有する光素子固定用部材を得ることがで
きる。このとき、前記一組の成形型を構成する成形型そ
れぞれの型材料は、同じ材質であってもよいし異なって
いてもよい。また、当該一組の成形型を構成する成形型
のそれぞれは、離型膜を有しているものであってもよい
し有していないものであってもよい。

【００３０】光素子固定用部材の全体形状は、その用途
等に応じて、平板状，１または複数の段差を有する板状
等、種々異なるので、目的とする形状の光素子固定用部
材が得られるように、上記一組の成形型を構成する各成
形型の形状（各成形型における転写成形面の形状）を適
宜選択する。

【００３１】本発明の成形型を用いたプレス成形によっ
て得られる光素子固定用部材には所定のアライメントマ
ークが形成されているので、当該光素子固定用部材に複
数の光素子を固定ないし実装しようとする場合には、こ
れらの光素子の位置決めを前記のアライメントマークを
利用して行うことにより、当該位置決めのみによって光
素子同士を光接続することや、当該位置決めによって光
素子同士をほぼ光接続することが可能になる。したがっ
て、この後に仮にアクティブアライメントによって更に
高精度の光接続を行ったとしても、光接続の作業を短時
間で行うことができる。同様に、光素子を固定ないし実
装した後の光素子固定用部材同士の間で光素子同士を光
接続する場合でも、それぞれの光素子固定用部材に形成
されている前記のアライメントマークを利用してこれら
の光素子固定用部材を位置決めすることにより、前記の
光接続に要する時間を短縮することができる。

【００３２】すなわち、上記の光素子固定用部材を用い
ることにより、固定ないし実装しようとする光素子同士
の光接続、または、光素子を固定ないし実装した後の光
素子固定用部材間での光素子同士の光接続をアクティブ
アライメントのみによって行う場合に比べて短時間で行
うことが可能になる。また、これらの光接続を自動化す
ることも容易になる。上述した利点を有する光素子固定
用部材を得ることができる本発明の成形型は、例えば以
下に述べる本発明の方法Ｉまたは方法IIによって製造す
ることができる。

【００３３】本発明の方法Ｉは、前述したように、所定
形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材
にプレス成形するために使用される成形型を製造するに
あたり、アライメントマークを有する光素子固定用部材
を得るためのアライメントマーク転写部が当該成形型の
転写成形面内に形成されるように、この成形型の型材料
にドライエッチングによって前記のアライメントマーク
転写部用の成形部を形成し、この後、前記の成形部を被
覆するようにして、かつ、離型膜の表面が前記の転写成
形面となるようにして当該離型膜を成膜して、前記の成
形部と当該形部の表面を被覆している離型膜とからなる
アライメントマーク転写部を有し、前記の離型膜の表面
が転写成形面となっている成形型を得ることを特徴とす
るものである。

【００３４】方法Ｉは、所望形状に加工した後の型材料
（母材）の所定面を離型膜によって被覆して、当該離型
膜の表面が転写成形面（この転写成形面内にはアライメ
ントマーク転写部が形成されている。）となっている成
形型を得る方法であるので、ガラス製のプレス成形品
（光素子固定用部材）を得るための成形型を方法Ｉによ
って製造しようとする場合には、当該成形型の型材料と
して超硬素材やサーメット（本発明の成形型についての
説明の中で既に述べたもの）からなるものを用いること
が好ましい。勿論、この場合でもＳｉＣやガラス状炭素
からなる型材料を用いることができる。

【００３５】ドライエッチングによってアライメントマ
ーク転写部用の成形部を型材料に形成するにあたって
は、型材料の表面のうちで少なくとも前記の成形部を形
成しようとする箇所を予め平面に加工し、この後、当該
平面上に所望形状のレジストパターンを設け、このレジ
ストパターンをマスクとして利用してドライエッチング
を行うことが好ましい。

【００３６】アライメントマーク転写部の平面視上の形
状，数，形成箇所等は、本発明の成形型についての説明
の中で既に述べたように、当該成形型を用いて得ようと
する光素子固定用部材の用途等に応じて適宜選択される
ので、前記の成形部の平面視上の形状，数，形成箇所等
についても、当該成形型を用いて得ようとする光素子固
定用部材の用途等に応じて適宜選択される。

【００３７】また、本発明の成形型についての説明の中
で既に述べたように、転写成形面のうちでアライメント
マーク転写部以外の部分（以下、この部分を「周辺部」
という。）の形状は、当該成形型を用いて得ようとする
光素子固定用部材の用途等に応じて適宜選択されるの
で、前記の周辺部を形成している離型膜の下地となって
いる箇所の型材料表面の形状についても、当該成形型を
用いて得ようとする光素子固定用部材の用途等に応じて
適宜選択される。

【００３８】したがって、方法Ｉによって成形型を得る
にあたっては、離型膜を成膜する前に予めアライメント
マーク転写部用の前記成形部をドライエッチングによっ
て形成しておく他に、型材料表面のうちで前記周辺部の
下地となる箇所についても予め所望形状に加工して、所
定形状の母材を得ておく。ドライエッチングによる前記
の成形部の形成と、型材料表面のうちで前記周辺部の下
地となる箇所の成形とは、同時に行ってもよいし別々に
行ってもよい。型材料表面のうちで前記周辺部の下地と
なる箇所の成形は、その形状に応じて、ドライエッチン
グや機械加工等の方法により、またはドライエッチング
と機械加工を併用した方法等により、行うことができ
る。

【００３９】アライメントマーク転写部はできるだけ高
精度に形成することが好ましく、そのためにはアライメ
ントマーク転写部用の前記の成形部をできるだけ高精度
に形成することが好ましい。そして、前記の成形部をで
きるだけ高精度に形成するうえからは、型材料の材質に
応じてそのドライエッチング条件を適宜選択する。型材
料が前述した超硬素材やサーメットからなるものである
場合には、ドライエッチング用のエッチングガスとし
て、希ガス（Ａｒガス等），フッ化炭素系の単体ガス
（ＣＦ₄ ガス等）および塩素系の単体ガス（Ｃｌ₂ ガス
等）からなる群より選択された１種または複数種を用い
ることが好ましい。また、型材料がＳｉＣまたはガラス
状炭素からなるものである場合には、ドライエッチング
用のエッチングガスとして、上記の希ガス，上記フッ化
炭素系の単体ガスまたは上記塩素系の単体ガスを用いる
ことが好ましい。

【００４０】上述したドライエッチングによって形成さ
れた成形部を覆うようにして、かつ、その表面が転写成
形面となるようにして母材に成膜される離型膜として
は、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたよ
うに、母材の材質，成形材料の材質等に応じて種々の組
成のものが利用される。成形型とガラスからなる成形材
料との融着を防止するための離型膜としては、例えば、
Ｐｔ，Ａｕ，Ｉｒ，ＰｄおよびＲｈからなる群より選択
された少なくとも１種の成分を含有している膜や、ｉ−
カーボンからなる膜を用いることができる。これらの離
型膜は、例えばスパッタリング法，イオンプレーティン
グ法，ＣＶＤ法等の方法によって成膜することができ
る。

【００４１】アライメントマークを目視や画像認識装置
によって容易に識別することができる光素子固定用部材
を得るうえからは、本発明の成形型についての説明の中
で既に述べたように、アライメントマーク転写部におけ
る表面粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺の転
写成形面における表面粗さとを異ならせることが好まし
いわけであるが、方法Ｉによって製造される成形型にお
いては、前述したように離型膜の表面が転写成形面とな
っている。そして、離型膜の表面粗さは、離型膜の成膜
条件，離型膜の下地となっている型材料表面における表
面粗さ，離型膜の膜厚等に応じて変化する。

【００４２】したがって、アライメントマーク転写部に
おける表面粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺
の転写成形面（前記の周辺部）における表面粗さとが異
なる成形型を方法Ｉによって得ようとする場合には、離
型膜の成膜条件，離型膜の下地となっている型材料表面
における表面粗さ，離型膜の膜厚等を適宜選択する。た
だし、離型膜の膜厚は最低でも概ね０．０３μｍ以上と
することが実用上好ましい。

【００４３】以上説明した本発明の方法Ｉでは、アライ
メントマーク転写部用の成形部をドライエッチングによ
って形成するので、型材料が超硬素材，サーメット，炭
化ケイ素（ＳｉＣ），ガラス状炭素等からなる場合で
も、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたよ
うに、機械加工やウエットエッチングによる加工よりも
精密でかつ精度の高い成形部（アライメントマーク転写
部用の成形部）を所望箇所に形成することができる。そ
して、方法Ｉによって製造された成形型においては、前
記の成形部を覆うようにして成膜された離型膜の表面が
転写成形面となっているので、精度の高いアライメント
マークを有する光素子固定用部材を得ることが可能な成
形型が得られる。

【００４４】次に、本発明の方法IIについて説明する。
本発明の方法IIは、前述したように、所定形状の転写成
形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形
するために使用される成形型を製造するにあたり、アラ
イメントマークを有する光素子固定用部材を得るための
アライメントマーク転写部が当該成形型の転写成形面内
に位置することになるように、当該成形型の型材料にド
ライエッチングによって前記のアライメントマーク転写
部を形成することを特徴とするものである。

【００４５】方法IIは型材料自体にアライメントマーク
転写部を形成して目的とする成形型を得る方法であるの
で、方法IIによってガラス製のプレス成形品（光素子固
定用部材）を得るための成形型を製造しようとする場合
には、当該成形型の型材料としてＳｉＣやガラス状炭素
からなるものを用いることが好ましい。勿論、前述した
超硬素材やサーメットからなる型材料を用いることもで
きる。

【００４６】ドライエッチングによる型材料自体へのア
ライメントマーク転写部の形成は、型材料の表面のうち
で少なくともアライメントマーク転写部を形成しようと
する箇所を予め平面に加工した後、当該平面上に所望形
状のレジストパターンを設け、このレジストパターンを
マスクとして利用してドライエッチングを行うことによ
り行うことができる。

【００４７】上述したように、アライメントマーク転写
部の形成は当該アライメントマーク転写部が成形型の転
写成形面内に位置することになるように行えばよく、本
発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、
アライメントマーク転写部の平面視上の形状，数，形成
箇所あるいはアライメントマーク転写部以外の転写成形
面の形状等は、当該成形型を用いて得ようとする光素子
固定用部材の用途等に応じて適宜選択される。

【００４８】したがって、ドライエッチングによるアラ
イメントマーク転写部の形成と当該アライメントマーク
転写部以外の転写成形面の形成とは、同時に行ってもよ
いし別々に行ってもよい。アライメントマーク転写部以
外の転写成形面の形成は、その形状に応じて、ドライエ
ッチングや機械加工等の方法により、またはドライエッ
チングと機械加工を併用した方法等により、行うことが
できる。アライメントマーク転写部はできるだけ高精度
に形成することが好ましく、そのためには型材料の材質
に応じてそのエッチング条件を適宜選択する。

【００４９】アライメントマークを目視や画像認識装置
によって容易に識別することができる光素子固定用部材
を得るうえからは、本発明の成形型についての説明の中
で既に述べたように、アライメントマーク転写部におけ
る表面粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺の転
写成形面における表面粗さとを異ならせることが好まし
いので、このような成形型が得られるように、アライメ
ントマーク転写部を形成する際のドライエッチング条件
や型材料の材質、アライメントマーク転写部以外の転写
成形面の形成方法等を勘案して、型材料の表面のうちで
少なくともアライメントマーク転写部を形成しようとす
る箇所の表面粗さを予め調整しておくことが好ましい。

【００５０】以上説明した本発明の方法IIでは、アライ
メントマークをドライエッチングによって形成するの
で、型材料が超硬素材，サーメット，炭化ケイ素（Ｓｉ
Ｃ），ガラス状炭素等からなる場合でも、本発明の成形
型についての説明の中で既に述べたように、機械加工や
ウエットエッチングによる加工よりも精密でかつ精度の
高いアライメントマークを所望箇所に形成することがで
きる。したがって、精度の高いアライメントマークを有
する光素子固定用部材を得ることが可能な成形型が得ら
れる。

【００５１】次に、本発明の光素子固定用部材について
説明する。本発明の光素子固定用部材は、前述したよう
に、他の部材との位置関係を決めるためのアライメント
マークが一体成形されているプレス成形品からなり、前
記のアライメントマークにおける表面粗さと当該アライ
メントマークの周辺の表面粗さとが異なることを特徴と
するものである。

【００５２】上記のアライメントマークの平面視上の形
状は、その使途等に応じて適宜選択可能であり、当該ア
ライメントマークの数やその形成箇所は、光素子固定用
部材の用途や、この光素子固定用部材に固定ないし実装
しようとする光素子の形状および数、あるいは、光素子
固定用部材におけるアライメントマークの使途等に応じ
て適宜選択される。また、アライメントマークは凸部か
らなっていてもよいし凹部からなっていてもよいが、本
発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、
光素子を高密度に固定ないし実装するための光素子固定
用部材や、光素子以外の部材をもが載置される光素子固
定用部材を得るうえからは、凹部からなるアライメント
マークが好ましい。

【００５３】固定ないし実装しようとする光素子同士の
光接続、または、光素子を固定ないし実装した後の光素
子固定用部材間での光素子同士の光接続を図るうえか
ら、アライメントマークの平面視上の形状はＬ字状，十
文字状，三角形枠，矩形枠状等、２つ以上の直線部を有
し、これらの直線部が互いに所定の角度をなしている形
状とすることが好ましい。

【００５４】アライメントマークにおける表面粗さの値
は特に限定されるものではないが、アライメントマーク
を目視や画像認識装置によって容易に識別するうえから
は、アライメントマークにおける表面最大粗さと当該ア
ライメントマークの周辺における表面最大粗さとを概ね
２００オングストローム以上異ならせることが好まし
い。

【００５５】上記のアライメントマークを有している本
発明の光素子固定用部材は、ガラス，樹脂等、プレス成
形が可能な無機材料もしくは有機材料からなっている。
周辺環境の温度変化に対して寸法精度や形状精度の変動
が小さく、かつ、固定ないし実装しようとする光素子と
の熱膨張差の小さい光素子固定用部材を得るうえから
は、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたよ
うに、当該光素子固定用部材をガラスによって形成する
ことが好ましい。また、本発明の光素子固定用部材を透
明体とした場合には、当該光素子固定用部材に形成され
ているアライメントマークを種々の方向から識別するこ
とが可能になることから、不透明体あるいは半透明体と
した場合に比べて例えば下記(A) 〜(B) の利点が得られ
る。

【００５６】(A) 光素子固定用部材の側面や背面（光素
子を固定ないし実装しようとする面とは反対側の面を意
味する。以下同じ。）等からアライメントマークを識別
しつつ当該アライメントマークを覆うようにして不透明
の光素子を固定ないし実装すること、換言すれば、不透
明の光素子を固定ないし実装するための領域の一部とし
てアライメントマークを利用することが可能になるの
で、光素子を高密度に固定ないし実装することが容易に
なる。

【００５７】(B) 光素子や当該光素子を更に堅固に固定
するための部材等を固定ないし実装した後の光素子固定
用部材においてもその側面や背面等からアライメントマ
ークを識別することができるので、光素子や前記の部材
等が不透明体であったとしても、当該光素子固定用部材
と他の光素子固定用部材（光素子を固定ないし実装した
後のもの）との間で所望の光素子同士を光接続する際
に、各光素子固定用部材に形成されているアライメント
マークを利用することが可能になる。

【００５８】以上説明した本発明の光素子固定用部材は
上述のアライメントマークを有しているので、この光素
子固定用部材に複数の光素子を固定ないし実装しようと
する場合には、これらの光素子の位置決めを前記のアラ
イメントマークを利用して行うことにより、当該位置決
めのみによって光素子同士を光接続することや、当該位
置決めによって光素子同士をほぼ光接続することが可能
になる。したがって、この後に仮にアクティブアライメ
ントによって更に高精度の光接続を行ったとしても、光
接続の作業を短時間で行うことができる。同様に、光素
子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材同士の間
で光素子同士を光接続する場合でも、それぞれの光素子
固定用部材に形成されている前記のアライメントマーク
を利用してこれらの光素子固定用部材を位置決めするこ
とにより、前記の光接続に要する時間を短縮することが
できる。

【００５９】すなわち、本発明の光素子固定用部材を用
いることにより、固定ないし実装しようとする光素子同
士の光接続、または、光素子を固定ないし実装した後の
光素子固定用部材間での光素子同士の光接続を、これら
の光接続をアクティブアライメントのみによって行う場
合に比べて短時間で行うことが可能になる。また、これ
らの光接続を自動化することも容易になる。さらに、本
発明の光素子固定用部材は後述するプレス成形によって
得ることができるので、大量に、かつ、安価に製造する
ことができる。

【００６０】なお、本発明の光素子固定用部材の全体形
状は、その用途等に応じて、平板状，１または複数の段
差（アライメントマークとその周囲との段差を除く。）
を有する板状等、適宜選択可能である。

【００６１】上述した利点を有している本発明の光素子
固定用部材は、前述した本発明の成形型の中で好ましい
ものの１つとして例示した成形型、すなわち、アライメ
ントマーク転写部における表面粗さと当該アライメント
マーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さとが
異なる成形型と、他の成形型（本発明の成形型または従
来の成形型）とを組み合わせて一組の成形型（上型と下
型からなるもの、または、上型と下型と胴型からなるも
の等。下型または上型が平板であるものを含む。）を構
成し、当該一組の成形型を用いたプレス成形によって製
造することができる。

【００６２】プレス成形にあたっては、平面視上の形状
を目的とする光素子固定用部材の平面視上の形状に近似
させた成形材料（プリフォーム）を用いることが好まし
い。成形材料としては、ガラス，樹脂等、プレス成形が
可能な所望の無機材料もしくは有機材料からなるものを
用いる。周辺環境の温度変化に対して寸法精度や形状精
度の変動が小さく、かつ、固定ないし実装しようとする
光素子との熱膨張差の小さい光素子固定用部材を得るう
えからは、前述したように成形材料としてガラスを用い
ることが好ましい。プレス成形品を得ることが可能で、
かつ、上記の特性を有する光素子固定用部材を得ること
ができるガラスとしては、本発明の成形型についての説
明の中で例示したものが挙げられる。

【００６３】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。 実施例１ （１）方法Ｉによる第１の成形型の作製 まず、ＷＣを含有している超硬素材からなる型材料を用
意した。当該型材料は縦２０．０ｍｍ，横１０．０ｍ
ｍ，厚さ２．０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングストロ
ームの平板状を呈する。次に、この型材料の片面にスピ
ンコート法によってポジ型フォトレジスト（ヘキスト社
製のＡＺ１３５０）を塗布して、図１（ａ）に示すよう
に、当該型材料１の片面に膜厚２．０μｍのレジスト膜
２を形成した。

【００６４】次いで、このレジスト膜２上に所定形状の
フォトマスク、すなわち、平面視上の形状が２０×１０
ｍｍの矩形である紫外線透過性基板の四隅に線幅３．０
μｍのＣｒ膜からなる十文字形の遮光部（全長１０μ
ｍ，全幅１０μｍ）が設けられているフォトマスクを前
記の遮光部がレジスト膜２側に位置するようにして密着
させた。そして、上記のフォトマスク側から前記のレジ
スト膜２へ紫外線を照射（照射量は２５ｍＷ／ｃｍ² ）
することによって当該レジスト膜２を露光し、露光後の
レジスト膜２を所定の現像液（ヘキスト社製のＡＺデベ
ロッパー液）に９０秒間浸漬することによって現像し
た。

【００６５】上記の現像によりレジスト膜２のうちで露
光された部分が溶解除去され、図１（ｂ）に示すよう
に、露光されなかった部分（フォトマスクに形成されて
いる遮光部によって紫外線が遮られた部分）からなる十
文字状のレジストパターン３が型材料１の片面の四隅そ
れぞれに形成された。レジストパターン３それぞれの平
面視上の形状は、全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅
３．０μｍの十文字状であり、その膜厚は２．０μｍで
ある。

【００６６】各レジストパターン３を１２０℃で６０分
間ポストベークした後、これらのレジストパターン３を
マスクとして利用して、型材料１の片面を１分間ドライ
エッチングした。このドライエッチングは誘導放電型リ
アクティブエッチング装置を用いて行い、エッチングガ
スとしてはＣｌ₂ ガスを用いた。また、エッチング条件
はコイルバイアス６００Ｗ，基板バイアス３００Ｗ，エ
ッチングガス（Ｃｌ₂ガス）流量２０．０ｓｃｃｍ，圧
力５．０ｍTorrとした。

【００６７】上記条件のドライエッチングにより、各レ
ジストパターン３は０．１４μｍ／分のエッチング速度
でエッチングされ、その膜厚は１．８６μｍまで減少し
た（以下、ドライエッチングされた後のレジストパター
ン３を「レジストパターン４」という。図１（ｃ）参
照）。また、レジストパターン３を設けた側の型材料１
の表面は、レジストパターン３（レジストパターン４）
によって保護されている部分を除いて０．０３μｍ／分
のエッチング速度でエッチングされた。その結果とし
て、図１（ｃ）に示すように、ドライエッチングされた
後の型材料１（以下、このものを「母材５」という。）
の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が全長１０
μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状で高さ
が０．０３μｍの凸部６が形成された。これらの凸部６
は、後述するアライメントマーク転写部用の成形部とし
て利用されるものであるので、以下、「アライメントマ
ーク転写部用の成形部６」という。

【００６８】この後、所定の剥離液を用いて上記のレジ
ストパターン４を剥離して、目的とする第１の成形型用
の母材５を得た。図２（ａ），図２（ｂ）に示すよう
に、この母材５の片面の四隅それぞれにはアライメント
マーク転写部用の成形部６が形成されており、各成形部
６の上面（図２中での上面。以下の実施例においても同
様。）６ａにおける表面最大粗さは１００オングストロ
ームである。また、これらの成形部６が形成されている
側の母材５の表面（成形部６の形成箇所を除く）５ａは
実質的に平面となっており、当該表面５ａにおける表面
最大粗さは１０００オングストロームである。

【００６９】次に、上記の母材５においてアライメント
マーク転写部用の成形部６が形成されている側の外表面
全体に、ＲＦスパッタリング装置を用いてＡｕ，Ｐｔ，
ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングストローム
（母材５の表面５ａまたは成形部６の上面６ａでの膜
厚）の離型膜を成膜した。このとき、雰囲気ガス（Ａｒ
ガス）流量を２０．０ｓｃｃｍとし、雰囲気圧を１．０
Ｐａ、ＲＦバイアスを３００Ｗとしてスパッタリングを
行った。

【００７０】上記の離型膜まで成膜することにより、目
的とする第１の成形型が得られた。図３（ａ），（ｂ）
に示すように、上記第１の成形型１０は、前述した母材
５と、この母材５においてアライメントマーク転写部用
の成形部６が形成されている側の外表面全体に形成され
た上記の離型膜７とを具備しており、当該第１の成形型
１０においては、前記の離型膜７の表面が転写成形面１
０ａとなっている。そして、この転写成形面１０ａ内に
は、アライメントマーク転写部用の成形部６と離型膜７
のうちで当該成形部６の外表面を覆っている部分とによ
って構成された４つのアライメントマーク転写部８が形
成されている。

【００７１】各アライメントマーク転写部８の上面（図
３（ｂ）中での上面。以下の実施例においても同様。）
８ａにおける表面最大粗さは１００オングストロームで
ある。また、転写成形面１０ａのうちでアライメントマ
ーク転写部８の形成箇所を除いた部分（周辺部）は実質
的に平面となっており、当該部分（周辺部）における表
面最大粗さは１０００オングストロームである。

【００７２】（２）第２の成形型の作製 まず、第２の成形型用の母材として、ＷＣを含有してい
る超硬素材からなる縦２０ｍｍ，横１０ｍｍ，厚さ２．
０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングストロームの平板状
物を用意した。次に、この母材の片面に、上記第１の成
形型を得る場合と同条件のスパッタリング法によってＡ
ｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オング
ストロームの離型膜を成膜した。この離型膜を成膜する
ことにより、目的とする第２の成形型が得られた。上記
第２の成形型においては、母材の片面に設けられている
離型膜の表面が転写成形面として機能する。前述した第
１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせるこ
とにより、これら２つの成形型からなるサイドフリー型
の成形型を得ることができる。

【００７３】（３）第３の成形型の作製 ＷＣを含有している超硬素材からなるブロックを所定の
大きさの筒状物に切削・研磨加工して母材を得た後、こ
の母材の内側表面に、上記第１の成形型を得る場合と同
条件のスパッタリング法によってＡｕ，Ｐｔ，Ｐｄおよ
びＲｈからなる膜厚１５００オングストロームの離型膜
を成膜して、目的とする第３の成形型を得た。当該第３
の成形型は、上記第１の成形型および第２の成形型を所
定のクリアランスの下に挿入することができるだけの内
寸を有しており、この成形型においては、母材の内側表
面に設けられている離型膜の表面が転写成形面として機
能する。前述した第１の成形型および第２の成形型と上
述した第３の成形型とを組み合わせることにより、上型
（第１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成
形型または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）
の３つの成形型からなる一組の成形型を得ることができ
る。

【００７４】（４）プレス成形 まず、前記（１）で作製した第１の成形型と上記（２）
で作製した第２の成形型とによって一組の成形型を構成
し、第１の成形型をその転写成形面が下面となるように
してプレス成形機の上型ホルダーに、また、第２の成形
型をその転写成形面が上面となるようにしてプレス成形
機の下型ホルダーにそれぞれ固定した。そして、下型
（第２の成形型）上に２０．０×１０．０×２．０ｍｍ
の青板ガラスからなるプリフォームを置き、真空中にお
いて上型（第１の成形型）温度６６０℃，下型（第２の
成形型）温度６３０℃，プレス圧力１７０ｋｇ／ｃｍ
² ，プレス時間１２０秒の条件でプレス成形を行って、
平面視上の形状が２０．５×１０．３ｍｍの矩形である
板状の光素子固定用部材を得た。

【００７５】図４に示すように、上記の光素子固定用部
材１５の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が全
長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状
で深さが０．０３μｍの凹部からなるアライメントマー
ク１６が形成されており、各アライメントマーク１６の
底面１６ａにおける表面最大粗さは８０オングストロー
ムである。また、これらのアライメントマーク１６が形
成されている側の光素子固定用部材１５の表面（アライ
メントマーク１６を除く。）１５ａは実質的に平面とな
っており、当該表面１５ａにおける表面最大粗さは８０
０オングストロームである。各アライメントマーク１６
の底面１６ａにおける表面最大粗さと、これらのアライ
メントマーク１６の周辺における表面最大粗さとが異な
ることから、前記のアライメントマーク１６は容易に視
認することができた。

【００７６】また、前記（１）で作製した第１の成形型
と前記（２）で作製した第２の成形型と上記（３）で作
製した第３の成形型とによって一組の成形型を構成し、
第１の成形型をその転写成形面が下面となるようにして
プレス成形機の上型ホルダーに、また、第２の成形型を
その転写成形面が上面となるようにしてプレス成形機の
下型ホルダーにそれぞれ固定し、かつ、第３の成形型を
胴型として用いた以外は上記と同様にしてプレス成形を
行ったところ、図４に示した光素子固定用部材１５と同
様の光素子固定用部材を得ることができた。

【００７７】実施例２ （１）方法Ｉによる第１の成形型の作製 まず、ＷＣを含有している超硬素材からなる型材料を用
意した。この型材料は縦３０．０ｍｍ，横２０．０ｍ
ｍ，厚さ１．０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングストロ
ームの平板状を呈する。次に、実施例１（１）における
のと全く同じ要領で、前記の型材料の片面の四隅それぞ
れに平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線
幅３．０μｍの十文字状で、膜厚が２．０μｍであるレ
ジストパターンを形成した。

【００７８】各レジストパターン３を１２０℃で６０分
間ポストベークした後、これらのレジストパターン３を
マスクとして利用して、型材料の片面を１０分間ドライ
エッチングした。このドライエッチングは誘導放電型リ
アクティブエッチング装置を用いて行い、エッチングガ
スとしてはＡｒガスとＣＦ₄ ガスとを用いた。また、エ
ッチング条件はコイルバイアス６００Ｗ，基板バイアス
６００Ｗ，Ａｒガス流量２０．０ｓｃｃｍ，ＣＦ₄ ガス
流量１０．０ｓｃｃｍ，圧力５．０ｍTorrとした。

【００７９】上記条件のドライエッチングにより各レジ
ストパターンは０．０８μｍ／分のエッチング速度でエ
ッチングされ、その膜厚は１．２μｍまで減少した。ま
た、レジストパターンを設けた側の型材料の表面は、レ
ジストパターンによって保護されている部分を除いて
０．０３μｍ／分のエッチング速度でエッチングされ
た。その結果として、ドライエッチングされた後の型材
料（以下、このものを「母材」という。）の片面の四隅
それぞれには、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１
０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状で高さが０．３μｍ
の凸部が形成された。これらの凸部はアライメントマー
ク転写部用の成形部として利用されるので、以下、「ア
ライメントマーク転写部用の成形部」という。

【００８０】この後、所定の剥離液を用いて上記のレジ
ストパターンを剥離して、目的とする第１の成形型用の
母材を得た。次に、上記の母材において前記アライメン
トマーク転写部用の成形部が形成されている側の外表面
全体に、実施例１（１）におけるのと全く同じ要領でＡ
ｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オング
ストロームの離型膜を成膜した。

【００８１】上記の離型膜まで成膜することにより、目
的とする第１の成形型が得られた。当該第１の成形型
は、前述した母材と、この母材においてアライメントマ
ーク転写部用の成形部が形成されている側の外表面全体
に形成された上記の離型膜とを具備しており、当該第１
の成形型においては、前記の離型膜の表面が転写成形面
となっている。そして、この転写成形面内には、前記ア
ライメントマーク転写部用の成形部と離型膜のうちで当
該成形部の外表面を覆っている部分とによって構成され
た４つのアライメントマーク転写部が形成されている。

【００８２】各アライメントマーク転写部の上面におけ
る表面最大粗さは１００オングストロームである。ま
た、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部の形
成箇所を除いた部分（周辺部）は実質的に平面となって
おり、当該部分における表面最大粗さは３００オングス
トロームである。

【００８３】（２）第２の成形型の作製 第２の成形型用の母材として、ＷＣを含有している超硬
素材からなる縦３０ｍｍ，横２０ｍｍ，厚さ１．０ｍ
ｍ，表面最大粗さ１００オングストロームの平板状物を
用いた以外は実施例１（２）におけるのと全く同じ要領
で、第２の成形型を得た。当該第２の成形型において
も、母材の片面に設けられている離型膜の表面が転写成
形面として機能する。前述した第１の成形型と上述した
第２の成形型とを組み合わせることにより、これら２つ
の成形型からなるサイドフリー型の成形型を得ることが
できる。

【００８４】（３）第３の成形型の作製 実施例１（３）におけるのと同様にして第３の成形型を
得た。当該第３の成形型においても、母材の内側表面に
設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能す
る。前述した第１の成形型および第２の成形型と上述し
た第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第
１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型
または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３
つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。

【００８５】（４）プレス成形 上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形
型を構成し、かつ、成形材料として２０．０×１０．０
×３．０ｍｍの無アルカリガラス板を用いた以外は実施
例１（４）におけるのと全く同じ要領でプレス成形を行
って、平面視上の形状が２０．０×１０．０ｍｍの矩形
である光素子固定用部材を得た。

【００８６】上記の光素子固定用部材の片面の四隅それ
ぞれには、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μ
ｍ，線幅３．０μｍの十文字状で深さが０．３μｍの凹
部からなるアライメントマークが形成されており、各ア
ライメントマークの底面における表面最大粗さは８０オ
ングストロームである。また、これらのアライメントマ
ークが形成されている側の光素子固定用部材の表面（ア
ライメントマークを除く。）は実質的に平面となってお
り、当該表面における表面最大粗さは８００オングスト
ロームである。各アライメントマークの底面における表
面最大粗さと、これらのアライメントマークの周辺にお
ける表面最大粗さとが異なることから、前記のアライメ
ントマークは容易に視認することができた。

【００８７】また、上記第１の成形型，第２の成形型お
よび第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１
の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として
用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同
様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマー
クを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることが
できた。

【００８８】実施例３ （１）方法IIによる第１の成形型の作製 まず、ガラス状炭素からなる型材料を用意した。この型
材料は縦２０．０ｍｍ，横１０．０ｍｍ，厚さ３．０ｍ
ｍ，表面最大粗さ２００オングストロームの平板状を呈
する。次に、この型材料の片面にスピンコート法によっ
てネガ型電子線レジスト（日本ゼオン社製のＺＥＰ７０
００）を塗布して、当該型材料の片面に膜厚１．５μｍ
の樹脂層を形成した。

【００８９】次いで、電子ビーム（照射量は５５μＣ／
ｃｍ² ）によって前記の樹脂層の平面視上の四隅それぞ
れに一辺の長さが５０μｍの正三角（各辺の線幅は５．
０μｍ）を描画し、電子ビーム描画した後の樹脂層を所
定の現像液（日本ゼオン社製のＺＥＰ５００）に９０秒
間浸漬することによって現像した。

【００９０】上記の現像により樹脂層のうちで電子ビー
ム描画されなかった部分が溶解除去され、電子ビーム描
画された部分からなるレジストパターンが型材料の四隅
それぞれに形成された。レジストパターンそれぞれの平
面視上の形状は、一辺の長さが５０μｍ，線幅が５．０
μｍの正三角形枠状であり、その膜厚は１．５μｍであ
る。

【００９１】各レジストパターンを２００℃で３０分間
ポストベークした後、これらのレジストパターンをマス
クとして利用して型材料の片面を１０分間ドライエッチ
ングした。このドライエッチングは誘導放電型リアクテ
ィブエッチング装置を用いて行い、エッチングガスとし
てはＡｒガスを用いた。また、エッチング条件はコイル
バイアス６００Ｗ，基板バイアス３００Ｗ，エッチング
ガス（Ａｒガス）流量２０．０ｓｃｃｍ，圧力５．０ｍ
Torrとした。

【００９２】上記条件のドライエッチングにより各レジ
ストパターンは０．１１μｍ／分のエッチング速度でエ
ッチングされ、その膜厚は０．４μｍまで減少した。ま
た、レジストパターンを設けた側の型材料の表面は、レ
ジストパターンによって保護されている部分を除いて
０．０９μｍ／分のエッチング速度でエッチングされ
た。その結果として、ドライエッチングされた後の型材
料の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が一辺５
０μｍ，線幅５．０μｍの正三角形枠状で高さが０．９
μｍの凸部からなるアライメントマーク転写部が形成さ
れた。

【００９３】この後、所定の剥離液を用いて上記の樹脂
層を剥離して、目的とする第１の成形型を得た。当該第
１の成形型は平面視上の形状が２０．０×１０．０ｍｍ
の矩形である平板状のガラス状炭素からなり、前記のア
ライメントマーク転写部が形成されている側の外表面全
体が転写成形面となっている。

【００９４】各アライメントマーク転写部の上面におけ
る表面最大粗さは２００オングストロームである。ま
た、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部の形
成箇所を除いた部分（周辺部）は実質的に平面となって
おり、当該部分における表面最大粗さは５００オングス
トロームである。

【００９５】（２）第２の成形型の作製 ガラス状炭素のブロックを縦２０ｍｍ，横１０ｍｍ，厚
さ３．０ｍｍ，表面最大粗さ２００オングストロームの
平板状物に切削・研磨して、目的とする第２の成形型を
得た。当該第２の成形型においては、一方の主表面が転
写成形面として機能する。前述した第１の成形型と上述
した第２の成形型とを組み合わせることにより、これら
２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を得るこ
とができる。

【００９６】（３）第３の成形型の作製 ガラス状炭素からなるブロックを所定の大きさの筒状物
に切削・研磨加工して、目的とする第３の成形型を得
た。当該第３の成形型は、上記第１の成形型および第２
の成形型を所定のクリアランスの下に挿入することがで
きるだけの内寸を有しており、この成形型においては内
側表面が転写成形面として機能する。前述した第１の成
形型および第２の成形型と上述した第３の成形型とを組
み合わせることにより、上型（第１の成形型または第２
の成形型），下型（第２の成形型または第１の成形型）
および胴型（第３の成形型）の３つの成形型からなる一
組の成形型を得ることができる。

【００９７】（４）プレス成形 上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形
型を構成し、かつ、プリフォームとして１５．０×１
０．０×３．０ｍｍの青板ガラスを用いた以外は実施例
１（４）におけるのと全く同じ要領でプレス成形を行っ
て、平面視上の形状が１５．０×１０．０ｍｍの矩形で
ある板状の光素子固定用部材を得た。

【００９８】上記の光素子固定用部材の片面の四隅それ
ぞれには、平面視上の形状が一辺５０μｍ，線幅５．０
μｍの正三角形枠状で深さが０．９μｍの凹部からなる
アライメントマークが形成されており、各アライメント
マークの底面における表面最大粗さは１８０オングスト
ロームである。また、これらのアライメントマークの周
辺が形成されている側の光素子固定用部材の表面（アラ
イメントマークを除く。）は実質的に平面となってお
り、当該表面における表面最大粗さは４５０オングスト
ロームである。各アライメントマークの底面における表
面最大粗さと、これらのアライメントマークの周辺にお
ける表面最大粗さとが異なることから、前記のアライメ
ントマークは容易に視認することができた。

【００９９】また、上記第１の成形型，第２の成形型お
よび第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１
の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として
用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同
様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマー
クを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることが
できた。

【０１００】実施例４ （１）方法Ｉによる第１の成形型の作製 まず、実施例１で用いた超硬素材と同じ組成の超硬素材
からなる型材料を用意した。この型材料は縦２０．０ｍ
ｍ，横１０．０ｍｍ，厚さ２．０ｍｍの平板状を呈す
る。次に、この型材料の片面における長手方向の一方の
縁部を所定の幅および厚みに亘って切削除去して平面を
形成した（以下、この平面について後述の研磨を行った
後の研磨面を「第１の転写部形成用平面」という。）。
また、この型材料の前記の片面における短手方向の両方
の縁部（ただし、第１の転写部形成用平面となる平面を
除く。）を所定の幅および厚みに亘ってそれぞれ切削除
去して平面を形成し（以下、これらの平面について後述
の研磨を行った後の研磨面を「第２の転写部形成用平
面」と総称する。）、これらの平面を先に切削加工を行
って得た平面と共にその表面最大粗さが１００オングス
トロームとなるように研磨した。第１の転写部形成用平
面と第２の転写部形成用平面とは、実質的に１つの平面
上に位置している。

【０１０１】次いで、アライメントマーク転写部用の成
形部の数を２とし、かつ、これらの成形部の形成位置が
前記第１の転写部形成用平面における２つの隅（これら
の隅は、上記２つの転写部形成用平面まで形成した後の
型材料の長手方向の一方の端部に位置している。）それ
ぞれの近傍となるようにした以外は実施例１（１）にお
けるのと全く同じ要領で型材料（上記２つの転写部形成
用平面まで形成した後のもの）をドライエッチングし
て、当該型材料にアライメントマーク転写部用の成形部
を形成した。

【０１０２】次に、上記の型材料において第１の転写部
形成用平面（上記の成形部まで形成した後のもの）と第
２の転写部形成用平面とによって平面視上囲まれている
部分（以下、この部分を「Ｖ溝用凸部形成領域」とい
う。）を研削加工して、当該Ｖ溝用凸部形成領域に短手
方向の垂直断面形状が二等辺三角形の凸部を２条形成し
た。

【０１０３】上記の凸部は、上記アライメントマーク転
写部用の成形部と所定の位置関係になるようにして、か
つ、長手方向の一方の端部が型材料における長手方向の
一方の端部に達するようにして形成されている。また、
これらの凸部は、最終的に得られた第１の成形型を利用
して光素子固定用部材を得たときに、当該光素子固定用
部材に光ファイバを固定するための深さ１２０μｍのＶ
溝（短手方向の垂直断面形状がＶ字状を呈する溝を意味
する。以下同じ。）が２本形成されるように設計されて
いる（以下、これらの凸部を「Ｖ溝用凸部」とい
う。）。そして、これら２つのＶ溝用凸部の周辺は平面
となっており、当該平面は前記第１の転写部形成用平面
および第２の転写部形成用平面とほぼ同じ平面上に位置
している。

【０１０４】前記アライメントマーク転写部用の成形部
と上記のＶ溝用凸部とを型材料に形成することにより、
目的とする第１の成形型用の母材が得られた。この後、
上記の母材においてアライメントマーク転写部用の成形
部およびＶ溝用凸部が形成されている側の外表面全体
に、実施例１（１）におけるのと全く同じ要領でＡｕ，
Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングスト
ロームの離型膜を成膜して、目的とする第１の成形型を
得た。

【０１０５】このようにして得た第１の成形型は、母材
と、この母材においてアライメントマーク転写部用の成
形部およびＶ溝用凸部が形成されている側の外表面全体
に形成された上記の離型膜とを具備しており、当該第１
の成形型においては、前記の離型膜の表面が転写成形面
となっている。そして、この転写成形面内には、(1)ア
ライメントマーク転写部用の成形部と、離型膜のうちで
当該成形部の外表面を覆っている部分とによって構成さ
れた２つのアライメントマーク転写部、および、(2) Ｖ
溝用凸部と、離型膜のうちで当該Ｖ溝用凸部の外表面を
覆っている部分とによって構成された２つのＶ溝用転写
部が形成されている。

【０１０６】各アライメントマーク転写部の上面におけ
る表面最大粗さは１００オングストロームである。ま
た、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部およ
びＶ溝用転写部それぞれの形成箇所を除いた部分は実質
的に平面となっており、アライメントマーク転写部の周
辺の転写成形面における表面最大粗さは１０００オング
ストロームである。

【０１０７】（２）第２の成形型の作製 実施例１（２）におけるのと全く同じ要領で、第２の成
形型を得た。前述した第１の成形型と上述した第２の成
形型とを組み合わせることにより、これら２つの成形型
からなるサイドフリー型の成形型を得ることができる。

【０１０８】（３）第３の成形型の作製 実施例１（３）におけるのと同様にして第３の成形型を
得た。当該第３の成形型においても、母材の内側表面に
設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能す
る。前述した第１の成形型および第２の成形型と上述し
た第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第
１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型
または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３
つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。

【０１０９】（４）プレス成形 上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形
型を構成した以外は実施例１（４）におけるのと全く同
じ要領でプレス成形を行って、平面視上の形状が矩形で
ある光素子固定用部材を得た。

【０１１０】図５に示すように、上記の光素子固定用部
材２０の片面には、その長手方向の一方の端部における
２つの隅それぞれの近傍にアライメントマーク２１ａ，
２１ｂが形成されており、これらのアライメントマーク
２１ａ，２１ｂは、第１の成形型に形成されているアラ
イメントマーク転写部によって形成された凹部からなっ
ている。また、当該光素子固定用部材２０における前記
の片面には、第１の成形型に形成されているＶ溝用転写
部によって形成され２本のＶ溝２２ａ，２２ｂも形成さ
れている。これらのＶ溝２２ａ，２２ｂは、当該光素子
固定用部材２０に光ファイバを固定するためのものであ
る。そして、アライメントマーク２１ａ，２１ｂおよび
Ｖ溝２２ａ，２２ｂが形成されている側の光素子固定用
部材２０の表面は、各アライメントマーク２１ａ，２１
ｂおよび各Ｖ溝２２ａ，２２ｂそれぞれの形成箇所を除
いて実質的に平面となっている。

【０１１１】アライメントマーク２１ａとＶ溝２２ａと
は、アライメントマーク２３ａを有している所定の光素
子２３（フォトダイオードやレーザダイオード等；図５
参照）を当該光素子２３に形成されている前記のアライ
メントマーク２３ａと光素子固定用部材２０に形成され
ているアライメントマーク２１ａとを利用して光素子固
定用部材２０上に固定し、かつ、Ｖ溝２２ａに光ファイ
バを固定したときに、光素子２３と前記の光ファイバと
が光接続するように形成されている。

【０１１２】また、アライメントマーク２１ｂとＶ溝２
２ｂとは、アライメントマーク２４ａを有している所定
の光素子２４（フォトダイオードやレーザダイオード
等；図５参照）を当該光素子２４に形成されている前記
のアライメントマーク２４ａと光素子固定用部材２０に
形成されているアライメントマーク２１ｂとを利用して
光素子固定用部材２０上に固定し、かつ、Ｖ溝２２ｂに
光ファイバを固定したときに、光素子２４と前記の光フ
ァイバとが光接続するように形成されている。

【０１１３】そして、各アライメントマーク２１ａ，２
１ｂの底面における表面最大粗さが８０オングストロー
ムで、これらのアライメントマーク２１ａ，２１ｂの周
辺における表面最大粗さが８００オングストロームであ
ることから、前記の各アライメントマーク２１ａ，２１
ｂは容易に視認することができた。

【０１１４】また、上記第１の成形型，第２の成形型お
よび第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１
の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として
用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同
様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマー
クを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることが
できた。

【０１１５】実施例５ （１）方法Ｉによる第１の成形型の作製 まず、ＳｉＣからなる型材料を用意した。この型材料は
直径５０．０ｍｍ，厚さ３．０ｍｍの円板状を呈する。
次いで、この型材料の片面の所定箇所にＶ溝用凸部形成
領域を設定し、当該Ｖ溝用凸部形成領域以外の部分を所
定の厚みに亘って切削除去して平面を形成した後、この
平面をその表面最大粗さが１００オングストロームとな
るように研磨した（以下、研磨後の面を「転写部形成用
平面」という。）。なお、上記のＶ溝用凸部形成領域の
大きさは、実施例４（１）におけるＶ溝用凸部形成領域
と同じ大きさである。

【０１１６】次に、上記の転写部形成用平面にスピンコ
ート法によってネガ型電子線レジスト（日本ゼオン社製
のＺＥＰ７０００）を塗布して、当該型材料の片面に膜
厚１．５μｍの樹脂層を形成した。そして、電子ビーム
（照射量は５５μＣ／ｃｍ²）によって前記の樹脂層の
所定位置（計２箇所）に所定の大きさの十文字を描画
し、電子ビーム描画した後の樹脂層を所定の現像液（日
本ゼオン社製のＺＥＰ５００）に９０秒間浸漬すること
によって現像した。

【０１１７】上記の現像により樹脂層のうちで電子ビー
ム描画されなかった部分が溶解除去され、電子ビーム描
画された部分からなるレジストパターンが所定の２箇所
にそれぞれ形成された。レジストパターンそれぞれの平
面視上の形状は、全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅
３．０μｍの十文字状であり、その膜厚は１．５μｍで
ある。

【０１１８】各レジストパターンを２００℃で３０分間
ポストベークした後、これらのレジストパターンをマス
クとして利用して、型材料の片面を１０分間ドライエッ
チングした。このドライエッチングは誘導放電型リアク
ティブエッチング装置を用いて行い、エッチングガスと
してはＣＦ₄ ガスを用いた。また、エッチング条件は、
コイルバイアス３００Ｗ，基板バイアス３００Ｗ，エッ
チングガス（ＣＦ₄ ガス）流量３０．０ｓｃｃｍ，圧力
１０．０ｍTorrとした。

【０１１９】上記条件のドライエッチングにより、各レ
ジストパターンは０．０７μｍ／分のエッチング速度で
エッチングされた。また、レジストパターンを設けた側
の型材料の表面は、レジストパターンによって保護され
ている部分を除いて０．０７μｍ／分のエッチング速度
でエッチングされた。その結果として、ドライエッチン
グされた後の型材料の片面の所定箇所（計２箇所）に
は、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線
幅３．０μｍの十文字状で高さが０．７μｍの凸部から
なるアライメントマーク転写部用の成形部がそれぞれ形
成された。

【０１２０】この後、実施例４（１）におけるのと同じ
要領でＶ溝用凸部形成領域を研削加工して２条のＶ溝用
凸部を形成し、これによって目的とする第１の成形型用
の母材を得た。そして、この母材の片面（アライメント
マーク転写部用の成形部およびＶ溝用凸部が形成されて
いる側の面）に実施例４（１）におけるのと同じ要領で
Ａｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オン
グストロームの離型膜を成膜して、目的とする第１の成
形型を得た。

【０１２１】このようにして得た第１の成形型は、実施
例４（１）で得た第１の成形型と同様に、母材と、この
母材においてアライメントマーク転写部用の成形部およ
びＶ溝用凸部が形成されている側の外表面全体に形成さ
れた上記の離型膜とを具備しており、当該第１の成形型
においては、前記の離型膜の表面が転写成形面となって
いる。そして、この転写成形面内には、(1) アライメン
トマーク転写部用の成形部と離型膜のうちで当該成形部
の外表面を覆っている部分とによって構成された２つの
アライメントマーク転写部、および、(2) Ｖ溝用凸部と
離型膜のうちで当該Ｖ溝用凸部の外表面を覆っている部
分とによって構成された２つのＶ溝用転写部が形成され
ている。

【０１２２】各アライメントマーク転写部と各Ｖ溝用転
写部とは実施例４（１）で得た第１の成形型におけるの
と全く同じ位置関係で形成されており、各アライメント
マーク転写部の上面における表面最大粗さは１００オン
グストロームである。また、転写成形面のうちでアライ
メントマーク転写部およびＶ溝用転写部それぞれの形成
箇所を除いた部分は実質的に平面となっており、アライ
メントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面最
大粗さは１０００オングストロームである。

【０１２３】（２）第２の成形型の作製 第２の成形型用の母材としてＳｉＣからなる直径５０．
０ｍｍ，厚さ３．０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングス
トロームの円板状物を用いた以外は実施例４（２）にお
けるのと全く同じ要領で、第２の成形型を得た。前述し
た第１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせ
ることにより、これら２つの成形型からなるサイドフリ
ー型の成形型を得ることができる。

【０１２４】（３）第３の成形型の作製 ＳｉＣからなるブロックを用いた以外は実施例１（３）
におけるのと同様にして第３の成形型を得た。当該第３
の成形型においても、母材の内側表面に設けられている
離型膜の表面が転写成形面として機能する。前述した第
１の成形型および第２の成形型と上述した第３の成形型
とを組み合わせることにより、上型（第１の成形型また
は第２の成形型），下型（第２の成形型または第１の成
形型）および胴型（第３の成形型）の３つの成形型から
なる一組の成形型を得ることができる。

【０１２５】（４）プレス成形 上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形
型を構成した以外は実施例４（４）におけるのと全く同
じ要領でプレス成形を行って、実施例４（４）で得た光
素子固定用部材と同じ形状および大きさを有する光素子
固定用部材を得た。なお、プレス成形にあたっては、目
的とする形状の光素子固定用部材が得られるようにして
プリフォームを配置した。

【０１２６】このようにして得られた光素子固定用部材
においては、各アライメントマークの底面における表面
最大粗さが８０オングストロームで、アライメントマー
クの周辺における表面最大粗さが８００オングストロー
ムであることから、前記の各アライメントマークを容易
に視認することができた。

【０１２７】また、上記第１の成形型，第２の成形型お
よび第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１
の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として
用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同
様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマー
クを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることが
できた。

【０１２８】実施例６ （１）方法Ｉによる第１の成形型の作製 まず、アライメントマーク転写部の平面視上の形状およ
び形成位置を変えた以外は実施例２（１）におけるのと
全く同じ要領で、成形型を得た。この成形型には、平面
視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０
μｍのＬ字状である計８つのアライメントマーク転写部
が形成されている。これら８つのアライメントマーク転
写部のうちの４つは、所定の大きさを有している第１の
矩形の４つの角部のいずれかに重なるように形成されて
おり、当該４つのアライメントマーク転写部は第１のア
ライメントマーク転写部群を形成している。また、残り
の４つのアライメントマーク転写部は、前記第１の矩形
と同じ大きさで当該第１の矩形から所定の間隔をあけて
成形型の幅方向に整列している第２の矩形の４つの角部
のいずれかに重なるように形成されており、当該４つの
アライメントマーク転写部は第２のアライメントマーク
転写部群を形成している。

【０１２９】第１のアライメントマーク転写部群および
第２のアライメントマーク転写部群を構成している各ア
ライメントマーク転写部の上面における表面最大粗さは
１００オングストロームである。また、上記の成形型に
おける転写成形面のうちで前記のアライメントマーク転
写部それぞれの形成箇所を除いた部分（周辺部）は実質
的に平面となっており、当該部分（周辺部）における表
面最大粗さは１０００オングストロームである。この成
形型は、次に説明する成形型と一体化されて第１の成形
型を形成するものであるので、以下、「第１ａの成形
型」という。

【０１３０】上記第１ａの成形型の型材料と同じ組成の
超硬素材からなり、平面視上の形状が矩形である平板状
物を型材料として用い、この型材料の片面における短手
方向の両方の縁部を所定の幅および厚みに亘ってそれぞ
れ切削除去して平面（計２つ）を形成した後、これらの
平面をその表面最大粗さが１００オングストロームとな
るように研磨した（以下、研磨後のこれらの面を「転写
部形成用平面」と総称する。）。

【０１３１】次いで、アライメントマーク転写部用の成
形部の数を２とし、かつ、これらの成形部の形成位置が
上記の転写部形成用平面における所定箇所となるように
した以外は実施例１（１）におけるのと全く同じ要領で
型材料（転写部形成用平面まで形成した後のもの）をド
ライエッチングして、当該型材料にアライメントマーク
転写部用の成形部を形成した。

【０１３２】次に、型材料において上記２つの転写部形
成用平面によって平面視上挟まれている部分を実施例４
（１）におけるのと同様にして研削加工して、当該部分
にＶ溝用凸部を２条形成し、これにより目的とする成形
型（以下、「第１ｂの成形型」という。）用の母材を得
た。上記のＶ溝用凸部は、この母材に形成されている前
記アライメントマーク転写部用の成形部と所定の位置関
係になるようにして、かつ、母材の長手方向の一方の端
部から他方の端部に達するようにして形成されている。
また、これらのＶ溝用凸部は、最終的に得られた第１の
成形型を利用して光素子固定用部材を得たときに、当該
光素子固定用部材に光ファイバを固定するための深さ１
２０μｍのＶ溝が２本形成されるように設計されてい
る。

【０１３３】次いで、上記の母材においてアライメント
マーク転写部用の成形部およびＶ溝用凸部が形成されて
いる側の外表面全体に、実施例１（１）におけるのと全
く同じ要領でＡｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚
１５００オングストロームの離型膜を成膜して、目的と
する第１ｂの成形型を得た。当該第１ｂの成形型の転写
成形面内には、アライメントマーク転写部とＶ溝用転写
部とが形成されており、各アライメントマーク転写部の
上面における表面最大粗さは１００オングストロームで
ある。また、第１ｂの成形型における転写成形面のうち
で前記のアライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部
それぞれの形成箇所を除いた部分は実質的に平面となっ
ており、アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面
における表面最大粗さは１０００オングストロームであ
る。

【０１３４】この後、前述した第１ａの成形型と上述し
た第１ｂの成形型とを、それぞれの成形型に形成されて
いる転写成形面が同一方向を向くようにして固定枠によ
って一体化して、目的とする第１の成形型を得た。当該
第１の成形型においては、第１ａの成形型における転写
成形面（ただし、アライメントマーク転写部を除く。）
の方が第１ｂの成形型における転写成形面（ただし、ア
ライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部を除く。）
よりも突出しており、かつ、第１ｂの成形型に形成され
ているアライメントマーク転写部は当該第１の成形型の
長手方向の一方の端部側に位置している。第１の成形型
は、平面視上、矩形を呈する。

【０１３５】（２）第２の成形型の作製 ＷＣを含有している超硬素材からなり、平面視上の形状
が所定の大きさの矩形である平板状物を第２の成形型用
の母材として用いて、実施例１（２）におけるのと全く
同じ要領で第２の成形型を得た。前述した第１の成形型
と上述した第２の成形型とを組み合わせることにより、
これら２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を
得ることができる。

【０１３６】（３）第３の成形型の作製 実施例１（３）におけるのと同様にして第３の成形型を
得た。当該第３の成形型においても、母材の内側表面に
設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能す
る。前述した第１の成形型および第２の成形型と上述し
た第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第
１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型
または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３
つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。

【０１３７】（４）プレス成形 上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形
型を構成し、かつ、平面視上の形状が所定の大きさの矩
形である無アルカリガラス板をプリフォームとして用い
た以外は実施例１（４）におけるのと全く同じ要領でプ
レス成形を行って、平面視上の形状が矩形である光素子
固定用部材を得た。

【０１３８】図６に示すように、上記の光素子固定用部
材３０は、第１ａの成形型によって形成された台座部３
１と、第１ｂの成形型によって形成された光ファイバ係
合部３２とを有している。台座部３１は光ファイバ係合
部より一段低くなっている。当該台座部３１の上面にお
ける平面視上のほぼ中央には、第１ａの成形型に形成さ
れている第１のアライメントマーク転写部群によって形
成された凹部からなる４つのアライメントマーク３３
ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄと、第１ａの成形型に形成
されている第２のアライメントマーク転写部群によって
形成された凹部からなる４つのアライメントマーク３４
ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄとが形成されており、これ
らのアライメントマークの周辺は実質的に平面となって
いる。

【０１３９】一方、光ファイバ係合部３２には、第１ｂ
の成形型に形成されているＶ溝用転写部によって形成さ
れた２本のＶ溝３４ａ，３４ｂと、第１ｂの成形型に形
成されているアライメントマーク転写部によって形成さ
れ凹部からなる２つのアライメントマーク３５ａ，３５
ｂとが形成されている。前記のＶ溝３４ａ，３４ｂはそ
れぞれ光ファイバを固定するためのものであり、各Ｖ溝
３４ａ，３４ｂの深さは１２０μｍである。また、各ア
ライメントマーク３５ａ，３５ｂは光素子固定用部材３
０の長手方向における一方の端部に形成されている。そ
して、Ｖ溝３４ａ，３４ｂおよびアライメントマーク３
５ａ，３５ｂが形成されている側の光ファイバ係合部３
２の表面は、各Ｖ溝３４ａ，３４ｂおよび各アライメン
トマーク３５ａ，３５ｂを除いて実質的に平面となって
いる。

【０１４０】アライメントマーク３３ａ，３３ｂ，３３
ｃ，３３ｄ（以下、これらのアライメントマークを「第
１のアライメントマーク群」ということがある。）とＶ
溝３４ａとは、平面視上の形状が所定の大きさの矩形で
ある光素子３６（フォトダイオードやレーザダイオード
等；図６参照）の位置決めを前記第１のアライメントマ
ーク群を利用して行って当該光学素子３６を光素子固定
用部材３０上に固定し、かつ、Ｖ溝３４ａに光ファイバ
を固定したときに、光素子３６と前記の光ファイバとが
光接続するように形成されている。

【０１４１】また、アライメントマーク３４ａ，３４
ｂ，３４ｃ，３４ｄ（以下、これらのアライメントマー
クを「第２のアライメントマーク群」ということがあ
る。）とＶ溝３４ｂとは、平面視上の形状が所定の大き
さの矩形である光素子３７（フォトダイオードやレーザ
ダイオード等；図６参照）の位置決めを前記第２のアラ
イメントマーク群を利用して行って当該光学素子３６を
光素子固定用部材３０上に固定し、かつ、Ｖ溝３４ｂに
光ファイバを固定したときに、光素子３７と前記の光フ
ァイバとが光接続するように形成されている。

【０１４２】そして、第１のアライメントマーク群を構
成している各アライメントマーク３３ａ，３３ｂ，３３
ｃ，３３ｄの底面における表面最大粗さが８０オングス
トロームで、第２のアライメントマーク群を構成してい
る各アライメントマーク３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４
ｄの底面における表面最大粗さも８０オングストローム
で、かつ、これらのアライメントマークの周辺部（ただ
し、台座部３１の表面。）における表面最大粗さが８０
０オングストロームであることから、各アライメントマ
ーク３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄ，３４ａ，３４
ｂ，３４ｃ，３４ｄは容易に視認することができた。同
様に、アライメントマーク３５ａ，３５ｂの底面におけ
る表面最大粗さが８０オングストロームで、これらのア
ライメントマークの周辺（ただし、光ファイバ係合部３
２の表面。）における表面最大粗さが８００オングスト
ロームであることから、これらのアライメントマーク３
５ａ，３５ｂも容易に視認することができた。

【０１４３】また、上記第１の成形型，第２の成形型お
よび第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１
の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として
用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同
様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマー
クを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることが
できた。

【０１４４】実施例７ （１）方法IIによる第１の成形型の作製 まず、縦２０．０ｍｍ，横１０．０ｍｍ，厚さ３．０ｍ
ｍ，表面最大粗さ２００オングストロームのガラス状炭
素からなる平板状物を型材料として用い、この型材料の
片面に実施例４（１）におけるのと全く同じ要領で第１
の転写部形成用平面および第２の転写部形成用平面を形
成した。

【０１４５】次に、アライメントマーク転写部の数を２
とすると共にその平面視上の形状を十文字状とし、か
つ、これらのアライメントマーク転写部の形成位置が前
記第１の転写部形成用平面における２つの隅（これらの
隅は、上記２つの転写部形成用平面まで形成した後の型
材料の長手方向の一方の端部に位置している。）それぞ
れの近傍となるようにした以外は実施例３（１）におけ
るのと全く同じ要領で型材料（上記２つの転写部形成用
平面まで形成した後のもの）をドライエッチングして、
当該型材料にアライメントマーク転写部を形成した。

【０１４６】また、上記第２の転写部形成用平面を実施
例４（１）と同じ要領で研削加工して、短手方向の垂直
断面形状が二等辺三角形の凸部からなるＶ溝用転写部を
２条形成した。上記のアライメントマーク転写部および
Ｖ溝用転写部を形成することにより、目的とする第１の
成形型が得られた。

【０１４７】当該第１の成形型は平面視上の形状が２
０．０×１０．０ｍｍの矩形である平板状のガラス状炭
素からなり、前記のアライメントマーク転写部およびＶ
溝用転写部が形成されている側の外表面全体が転写成形
面となっている。上記のＶ溝用転写部は、上記のアライ
メントマーク転写部と所定の位置関係になるようにし
て、かつ、長手方向の一方の端部が第１の成形型におけ
る長手方向の一方の端部に達するようにして形成されて
いる。また、これらのＶ溝用転写部は、成形型を利用し
て光素子固定用部材を得たときに当該光素子固定用部材
に光ファイバを固定するための深さ１２０μｍのＶ溝が
２本形成されるように設計されている。

【０１４８】各アライメントマーク転写部の上面におけ
る表面最大粗さは１００オングストロームである。ま
た、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部およ
びＶ溝用転写部それぞれの形成箇所を除いた部分は実質
的に平面となっており、アライメントマーク転写部の周
辺の転写成形面における表面最大粗さは１０００オング
ストロームである。

【０１４９】（２）第２の成形型の作製 実施例３（２）におけるのと同じ要領で第２の成形型を
得た。前述した第１の成形型と上述した第２の成形型と
を組み合わせることにより、これら２つの成形型からな
るサイドフリー型の成形型を得ることができる。

【０１５０】（３）第３の成形型の作製 実施例３（３）におけるのと同様にして第３の成形型を
得た。当該第３の成形型においては内側表面が転写成形
面として機能する。前述した第１の成形型および第２の
成形型と上述した第３の成形型とを組み合わせることに
より、上型（第１の成形型または第２の成形型），下型
（第２の成形型または第１の成形型）および胴型（第３
の成形型）の３つの成形型からなる一組の成形型を得る
ことができる。

【０１５１】（４）プレス成形 上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形
型を構成した以外は実施例３（４）におけるのと同じ要
領でプレス成形を行って、実施例４（４）で得た光素子
固定用部材とほぼ同じ形状を有する光素子固定用部材を
得た。このようにして得られた光素子固定用部材におい
ては、各アライメントマークの底面における表面最大粗
さが８０オングストロームで、これらのアライメントマ
ークの周辺における表面最大粗さが８００オングストロ
ームであることから、前記の各アライメントマークを容
易に視認することができた。

【０１５２】また、上記第１の成形型，第２の成形型お
よび第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１
の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として
用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同
様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマー
クを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることが
できた。

【０１５３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の成形型を
用いれば所望箇所にアライメントマークを有する光素子
固定用部材をプレス成形によって得ることができる。し
たがって、本発明によれば固定ないし実装しようとする
光素子同士の光接続、または、光素子を固定ないし実装
した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接続を
短時間で行うことができる光素子固定用部材を大量に、
かつ、安価に提供することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は実施例１において第１の成形型用の型材
料にアライメントマーク転写部用の成形部を形成する過
程の概略を示す断面図であり、図１（ａ）はドライエッ
チング用のレジストパターンの材料となるレジスト膜を
形成した後の型材料の概略を示す断面図、図１（ｂ）は
レジストパターンを形成した後の型材料の概略を示す断
面図、図１（ｃ）はアライメントマーク転写部用の成形
部を形成した後の型材料の概略を示す断面図である。

【図２】図２（ａ）は実施例１で作製した第１の成形型
用の母材を当該母材においてアライメントマーク転写部
用の成形部が形成されている側からみたときの概略を示
す平面図であり、図２（ｂ）は前記の母材の概略を示す
断面図である。

【図３】図３（ａ）は実施例１で作製した第１の成形型
を当該第１の成形型においてアライメントマーク転写部
が形成されている側からみたときの概略を示す平面図で
あり、図２（ｂ）は前記第１の成形型の概略を示す断面
図である。

【図４】図４は実施例１で作製した光素子固定用部材を
当該光素子固定用部材においてアライメントマークが形
成されている側からみたときの概略を示す平面図であ
る。

【図５】図５は実施例４で作製した光素子固定用部材を
当該光素子固定用部材においてアライメントマークが形
成されている側からみたときの概略を示す平面図であ
る。

【図６】図６は実施例６で作製した光素子固定用部材の
概略を示す斜視図である。

【符号の説明】

１…型材料、 ５…母材、 ６…アライメントマーク転
写部用の成形部、 ７…離型膜、 ８…アライメントマ
ーク転写部、 １０ａ…転写成形面、 １０…第１の成
形型、 １５，２０，３０…光素子固定用部材、 １
６，２１ａ，２１ｂ，３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３
ｄ，３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ，３５ａ，３５ｂ
…アライメントマーク。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定形状の転写成形面を有し、成形材料
   を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される
   成形型において、 前記の転写成形面内に、アライメントマークを有するプ
   レス成形品を得るためのアライメントマーク転写部が設
   けられていることを特徴とする成形型。
2. 【請求項２】 母材と該母材の表面に形成されている離
   型膜とからなり、前記の母材が(1) ＷＣを含有している
   超硬素材、または、(2) ＴｉＮ，ＴｉＣもしくはＡｌ₂
   Ｏ₃ を含有しているサーメットからなり、前記の離型膜
   の表面が転写成形面となっている、請求項１に記載の成
   形型。
3. 【請求項３】 母材自体にアライメントマーク転写部用
   の成形部が形成されており、この成形部と該成形部の表
   面を被覆している離型膜とによってアライメントマーク
   転写部が形成されている、請求項２に記載の成形型。
4. 【請求項４】 ＳｉＣまたはガラス状炭素からなる、請
   求項１に記載の成形型。
5. 【請求項５】 アライメントマーク転写部が凸部からな
   る、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の成形
   型。
6. 【請求項６】 アライメントマーク転写部における表面
   粗さと該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面
   における表面粗さとが異なる、請求項１〜請求項５のい
   ずれか１項に記載の成形型。
7. 【請求項７】 所定形状の転写成形面を有し、成形材料
   を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される
   成形型を製造するにあたり、 アライメントマークを有する光素子固定用部材を得るた
   めのアライメントマーク転写部が該成形型の転写成形面
   内に形成されるように、この成形型の型材料にドライエ
   ッチングによって前記のアライメントマーク転写部用の
   成形部を形成し、この後、前記の成形部を被覆するよう
   にして、かつ、離型膜の表面が前記の転写成形面となる
   ようにして該離型膜を成膜して、前記の成形部と該成形
   部の表面を被覆している離型膜とからなるアライメント
   マーク転写部を有し、前記の離型膜の表面が転写成形面
   となっている成形型を得ることを特徴とする成形型の製
   造方法。
8. 【請求項８】 アライメントマーク転写部における表面
   粗さが該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面
   における表面粗さと異なる値になるようにして前記のア
   ライメントマーク転写部用の成形部を形成する、請求項
   ７に記載の方法。
9. 【請求項９】 所定形状の転写成形面を有し、成形材料
   を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される
   成形型を製造するにあたり、 アライメントマークを有する光素子固定用部材を得るた
   めのアライメントマーク転写部が該成形型の転写成形面
   内に位置することになるように、該成形型の型材料にド
   ライエッチングによって前記のアライメントマーク転写
   部を形成することを特徴とする成形型の製造方法。
10. 【請求項１０】 アライメントマーク転写部における表
    面粗さが該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形
    面における表面粗さと異なる値になるようにして前記の
    アライメントマーク転写部を形成する、請求項９に記載
    の方法。
11. 【請求項１１】 他の部材との位置関係を決めるための
    アライメントマークが一体成形されているプレス成形品
    からなり、前記のアライメントマークにおける表面粗さ
    と該アライメントマークの周辺の表面粗さとが異なるこ
    とを特徴とする光素子固定用部材。
12. 【請求項１２】 ガラスからなる、請求項１１に記載の
    光素子固定用部材。