JPH1030184A - フィルム用のプラズマ蒸着装置 - Google Patents
フィルム用のプラズマ蒸着装置Info
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- JPH1030184A JPH1030184A JP19097196A JP19097196A JPH1030184A JP H1030184 A JPH1030184 A JP H1030184A JP 19097196 A JP19097196 A JP 19097196A JP 19097196 A JP19097196 A JP 19097196A JP H1030184 A JPH1030184 A JP H1030184A
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- Japan
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- plasma deposition
- capacitance
- plasma
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Abstract
(57)【要約】
【課題】適切な静電容量をフィルムに付与して原料ガス
をフィルムに対してプラズマ蒸着し易くすること。 【解決手段】チューブ状フィルムＦの送行過程に、原料
ガスを用いてプラズマ蒸着できるプラズマ蒸着処理部Ｂ
を設けるとともに、当該プラズマ蒸着処理部Ｂの前工程
には、電圧印加された一対の電極の間をチューブ状フィ
ルムＦが通過できる静電容量発生部Ａを設けてある。
をフィルムに対してプラズマ蒸着し易くすること。 【解決手段】チューブ状フィルムＦの送行過程に、原料
ガスを用いてプラズマ蒸着できるプラズマ蒸着処理部Ｂ
を設けるとともに、当該プラズマ蒸着処理部Ｂの前工程
には、電圧印加された一対の電極の間をチューブ状フィ
ルムＦが通過できる静電容量発生部Ａを設けてある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フィルム用のプラ
ズマ蒸着装置に関し、より詳しくはチューブ状フィルム
に対して良好なプラズマ蒸着が行えるようにしたもので
ある。
ズマ蒸着装置に関し、より詳しくはチューブ状フィルム
に対して良好なプラズマ蒸着が行えるようにしたもので
ある。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、フィルムに対して種々の特性を発揮させるための蒸
着方法としては種々の提案がなされており、例えばフィ
ルムに対する金属蒸着方法では、蒸着前の工程でコロナ
放電処理を施し濡れ性を高めて後、金属蒸着を行ってい
たが、放電処理が強いとフィルムに細かな孔があいてし
まう問題があるほか、放電処理が弱いと金属蒸着効果が
低く、フィルムに対する充分な特性付与をもたらし得な
いというものであった。そのため、放電処理後にはフィ
ルム表裏面の静電気を除去する方法が提案されているも
のであった（特開平５−１２５５２２号公報参照）。
り、フィルムに対して種々の特性を発揮させるための蒸
着方法としては種々の提案がなされており、例えばフィ
ルムに対する金属蒸着方法では、蒸着前の工程でコロナ
放電処理を施し濡れ性を高めて後、金属蒸着を行ってい
たが、放電処理が強いとフィルムに細かな孔があいてし
まう問題があるほか、放電処理が弱いと金属蒸着効果が
低く、フィルムに対する充分な特性付与をもたらし得な
いというものであった。そのため、放電処理後にはフィ
ルム表裏面の静電気を除去する方法が提案されているも
のであった（特開平５−１２５５２２号公報参照）。
【０００３】そこで本発明においては、鋭意研究の末、
上記コロナ放電処理のように事後的に静電気除去をする
方法でなく、適切な静電容量をフィルムに付与して原料
ガスをフィルムに対してプラズマ蒸着し易くする目的を
以って発明されたものである。
上記コロナ放電処理のように事後的に静電気除去をする
方法でなく、適切な静電容量をフィルムに付与して原料
ガスをフィルムに対してプラズマ蒸着し易くする目的を
以って発明されたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ための本発明におけるフィルム用プラズマ蒸着装置とし
ては、チューブ状フィルムの送行過程に、原料ガスを用
いてプラズマ蒸着できるプラズマ蒸着処理部を設けると
ともに、当該プラズマ蒸着処理部の前工程には、電圧印
加された一対の電極の間をチューブ状フィルムが通過で
きる静電容量発生部を設けてあることを特徴としてい
る。
ための本発明におけるフィルム用プラズマ蒸着装置とし
ては、チューブ状フィルムの送行過程に、原料ガスを用
いてプラズマ蒸着できるプラズマ蒸着処理部を設けると
ともに、当該プラズマ蒸着処理部の前工程には、電圧印
加された一対の電極の間をチューブ状フィルムが通過で
きる静電容量発生部を設けてあることを特徴としてい
る。
【０００５】上記した構成による本発明装置によると、
チューブ状フィルムの上層表面および下層表面に原料ガ
スをプラズマ蒸着する前工程として静電容量発生部を具
有しているため、チューブ状フィルムが電圧印加された
一対の電極間を通過することによって、フィルムには静
電容量が加えられ、プラズマ発生部を通過する際に原料
ガスがフィルムの上層表面および下層表面に蒸着し易く
なるものである。
チューブ状フィルムの上層表面および下層表面に原料ガ
スをプラズマ蒸着する前工程として静電容量発生部を具
有しているため、チューブ状フィルムが電圧印加された
一対の電極間を通過することによって、フィルムには静
電容量が加えられ、プラズマ発生部を通過する際に原料
ガスがフィルムの上層表面および下層表面に蒸着し易く
なるものである。
【０００６】しかもフィルムはチューブ状であるゆえ、
上層と下層間には空気層が存在することになり、電圧印
加により静電容量を加える調整も非常に行い易くなるこ
とになる。又、フィルムはチューブ状ゆえに、その上層
内面と下層内面には一切原料ガスによる蒸着が可及しな
いので良好なプラズマ蒸着が実現できることになる。
上層と下層間には空気層が存在することになり、電圧印
加により静電容量を加える調整も非常に行い易くなるこ
とになる。又、フィルムはチューブ状ゆえに、その上層
内面と下層内面には一切原料ガスによる蒸着が可及しな
いので良好なプラズマ蒸着が実現できることになる。
【０００７】
【発明の実施の形態】次いで、本発明の実施形態につい
て図を参照しながら以下に説明する。図１は、フィルム
に対する本発明のプラズマ蒸着装置の概要を示してお
り、真空吸引される処理室Ｒ内の１は、チューブ状のフ
ィルムＦの原反、１０はプラズマ蒸着後におけるチュー
ブ状のフィルムＦの巻反、Ｒ1 は処理室の空気導入口、
Ｒ2 は真空吸引口を示している。処理室Ｒ内には、原反
１からフィルムＦが連続的に巻反１０側へと送行される
過程に、静電容量発生部Ａと、プラズマ蒸着処理部Ｂを
有しており、プラズマ蒸着処理部Ｂとしては、高周波電
源を有すると共に、多数の孔（図示せず）から原料ガス
を供給する筒体２０，２０を上下に有するプラズマ発生
部ｂ1 にて、フィルムＦに蒸着させるもので、ｂ2 はプ
ラズマ蒸着された部分を示している。そしてプラズマ蒸
着処理部Ｂよりも前工程となる静電容量発生部Ａとして
は、電源から電圧印加された一対の電極の間をフィルム
Ｆが通過できるようになっていて、静電容量をフィルム
Ｆの上層と下層に与えてプラズマ発生された場合の原料
ガスの蒸着効果を良好にできるように構成されている。
て図を参照しながら以下に説明する。図１は、フィルム
に対する本発明のプラズマ蒸着装置の概要を示してお
り、真空吸引される処理室Ｒ内の１は、チューブ状のフ
ィルムＦの原反、１０はプラズマ蒸着後におけるチュー
ブ状のフィルムＦの巻反、Ｒ1 は処理室の空気導入口、
Ｒ2 は真空吸引口を示している。処理室Ｒ内には、原反
１からフィルムＦが連続的に巻反１０側へと送行される
過程に、静電容量発生部Ａと、プラズマ蒸着処理部Ｂを
有しており、プラズマ蒸着処理部Ｂとしては、高周波電
源を有すると共に、多数の孔（図示せず）から原料ガス
を供給する筒体２０，２０を上下に有するプラズマ発生
部ｂ1 にて、フィルムＦに蒸着させるもので、ｂ2 はプ
ラズマ蒸着された部分を示している。そしてプラズマ蒸
着処理部Ｂよりも前工程となる静電容量発生部Ａとして
は、電源から電圧印加された一対の電極の間をフィルム
Ｆが通過できるようになっていて、静電容量をフィルム
Ｆの上層と下層に与えてプラズマ発生された場合の原料
ガスの蒸着効果を良好にできるように構成されている。
【０００８】上記静電容量発生部Ａにおける静電容量時
には、図２のごとくチューブ状フィルムＦの上層と上部
電極との間で発生する静電容量をＣ1 、下層と下部電極
の間で発生する静電容量をＣ3 、チューブ両サイドが密
封されている中間の空気層の静電容量をＣ2 とすると、
Ｃ2 を電圧印加による静電容量発生に対する可変因子と
とらえることにより、蒸着条件に強い影響を持つ因子と
して静電容量Ｃ2 の制御調整が可能な構成となり、確実
にフィルムＦの上層表面と下層表面に原料ガスをプラズ
マ蒸着させることができることになる。
には、図２のごとくチューブ状フィルムＦの上層と上部
電極との間で発生する静電容量をＣ1 、下層と下部電極
の間で発生する静電容量をＣ3 、チューブ両サイドが密
封されている中間の空気層の静電容量をＣ2 とすると、
Ｃ2 を電圧印加による静電容量発生に対する可変因子と
とらえることにより、蒸着条件に強い影響を持つ因子と
して静電容量Ｃ2 の制御調整が可能な構成となり、確実
にフィルムＦの上層表面と下層表面に原料ガスをプラズ
マ蒸着させることができることになる。
【０００９】従って、チューブ状でない１枚状のフィル
ムに対してプラズマ蒸着する場合の如く、蒸着面以外の
面に蒸着が可及したりすることはなく、目的となるチュ
ーブ状フィルムの上層表面と下層表面だけに確実な蒸着
が実現できることになる。なお、実施上使用するフィル
ムとしては、合成樹脂フィルムのうち、例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート
および各種の単層又は複層によるフィルムでチューブ状
のものを使用するものであり、原料ガスとしては、ヘキ
サメチルジシロキサン（ＨＭＤＳ）やテトラエトキシシ
ランを用い、静電容量発生部ではＡＣ電圧、ＡＤ電圧の
いずれでもよく、例えば３５，０００Ｖ以下にて適宜調
整すればよく、プラズマ蒸着処理するフィルムの処理速
度は約２００ｍ／分程度で、プラズマ蒸着発生部ｂ1 に
おける高周波としては例えば約２．４ＧＨZ 位が好適範
囲である。
ムに対してプラズマ蒸着する場合の如く、蒸着面以外の
面に蒸着が可及したりすることはなく、目的となるチュ
ーブ状フィルムの上層表面と下層表面だけに確実な蒸着
が実現できることになる。なお、実施上使用するフィル
ムとしては、合成樹脂フィルムのうち、例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート
および各種の単層又は複層によるフィルムでチューブ状
のものを使用するものであり、原料ガスとしては、ヘキ
サメチルジシロキサン（ＨＭＤＳ）やテトラエトキシシ
ランを用い、静電容量発生部ではＡＣ電圧、ＡＤ電圧の
いずれでもよく、例えば３５，０００Ｖ以下にて適宜調
整すればよく、プラズマ蒸着処理するフィルムの処理速
度は約２００ｍ／分程度で、プラズマ蒸着発生部ｂ1 に
おける高周波としては例えば約２．４ＧＨZ 位が好適範
囲である。
【００１０】
【発明の効果】以上のように本発明によると、チューブ
状のフィルムに対して静電容量発生部にてプラズマ蒸着
前に静電気を与えておき、原料ガスをプラズマ蒸着処理
部にてチューブ状のフィルムの上層表面と下層表面とに
確実にプラズマ蒸着できることになり、しかもチューブ
状フィルムを用いての蒸着装置ゆえ、静電容量の調整も
し易く、適切なプラズマ蒸着が実現できることになる。
状のフィルムに対して静電容量発生部にてプラズマ蒸着
前に静電気を与えておき、原料ガスをプラズマ蒸着処理
部にてチューブ状のフィルムの上層表面と下層表面とに
確実にプラズマ蒸着できることになり、しかもチューブ
状フィルムを用いての蒸着装置ゆえ、静電容量の調整も
し易く、適切なプラズマ蒸着が実現できることになる。
【図１】概要図である。
【図２】チューブ状フィルムの断面図である。
１ フィルム原反 １０ フィルム巻反 Ｒ 処理室 Ｆ チューブ状のフィルム Ｃ1 フィルム上層と上部電極との間で発生する静電
容量 Ｃ2 空気層の静電容量 Ｃ3 フィルム下層と下部電極との間で発生する静電
容量 Ａ 静電容量発生部 Ｂ プラズマ蒸着処理部 ｂ1 プラズマ発生部 ２０，２０ 原料ガスを供給する筒体 ｂ2 プラズマ蒸着された部分
容量 Ｃ2 空気層の静電容量 Ｃ3 フィルム下層と下部電極との間で発生する静電
容量 Ａ 静電容量発生部 Ｂ プラズマ蒸着処理部 ｂ1 プラズマ発生部 ２０，２０ 原料ガスを供給する筒体 ｂ2 プラズマ蒸着された部分
Claims (1)
- 【請求項１】チューブ状フィルムの送行過程に、原料ガ
スを用いてプラズマ蒸着できるプラズマ蒸着処理部を設
けるとともに、 当該プラズマ蒸着処理部の前工程には、電圧印加された
一対の電極の間をチューブ状フィルムが通過できる静電
容量発生部を設けてあることを特徴とするフィルム用の
プラズマ蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19097196A JPH1030184A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | フィルム用のプラズマ蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19097196A JPH1030184A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | フィルム用のプラズマ蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1030184A true JPH1030184A (ja) | 1998-02-03 |
Family
ID=16266728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19097196A Pending JPH1030184A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | フィルム用のプラズマ蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1030184A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100336508B1 (ko) * | 1999-03-06 | 2002-05-15 | 정명호 | 혈관용 맥 스텐트의 헤타린 코팅방법 |
| KR100438941B1 (ko) * | 2001-10-12 | 2004-07-03 | 주식회사 엘지이아이 | 플라즈마를 이용한 내식성 및 친수성을 가지는 다층막형성방법 |
-
1996
- 1996-07-19 JP JP19097196A patent/JPH1030184A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100336508B1 (ko) * | 1999-03-06 | 2002-05-15 | 정명호 | 혈관용 맥 스텐트의 헤타린 코팅방법 |
| KR100438941B1 (ko) * | 2001-10-12 | 2004-07-03 | 주식회사 엘지이아이 | 플라즈마를 이용한 내식성 및 친수성을 가지는 다층막형성방법 |
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