JPH103039A5 - - Google Patents

Description

【発明の名称】反射屈折光学系、投影露光装置及び投影露光方法

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体素子、または液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際に使用される投影露光装置で用いられる光学系、特に、光学系の要素として反射鏡を用いることにより、紫外線波長域でクオーターミクロン単位の解像度を有する反射屈折光学系、該反射屈折光学系を用いた投影露光装置及び該反射屈折光学系を用いた投影露光方法に関する。

【０００７】
本発明は斯かる点に鑑み、紫外線波長域で大きな開口数を達成し、光学系全体が実用的な大きさで、クオーターミクロン単位の解像度を有し、光学系の各構成部材を小型化した反射屈折光学系、該反射屈折光学系を用いた投影露光装置及び該反射屈折光学系を用いた投影露光方法を提供することを目的とする。

【００２１】
【発明の効果】
以上のように、本発明では、紫外線波長域で大きな開口数を達成し、光学系全体が実用的な大きさで、クオーターミクロン単位の解像度を有し、更に製造も容易な反射屈折光学系、該反射屈折光学系を用いた投影露光装置及び該反射屈折光学系を用いた投影露光方法を提供することが可能となった。

Claims (16)

1. 光線が進行する順に、屈折部材によって構成された第１結像光学系と、凹面鏡と、屈折部材によって構成された第２結像光学系とを含み、半導体素子のパターンを基板上へ投影する反射屈折光学系において、
   前記第１結像光学系を構成する屈折部材及び前記第２結像光学系を構成する屈折部材のうち、少なくとも１つの屈折部材は非球面を有することを特徴とする反射屈折光学系。
2. 前記第１結像光学系は、光線が一度だけ通過する第１レンズ群と、光線が往復する第２レンズ群とからなり、
   該第２レンズ群の最も凹面鏡に近いレンズは、負レンズであり、
   前記第２レンズ群を射出した光線は、前記第２結像光学系に入射する前に前記半導体素子のパターンを一度結像することを特徴とする請求項１記載の反射屈折光学系。
3. 前記第１結像光学系と前記第２結像光学系との間に光路偏向部材を配置したことを特徴とする請求項１又は２記載の反射屈折光学系。
4. 前記第１結像光学系を構成する屈折部材及び前記第２結像光学系を構成する屈折部材は、石英及び蛍石、またはその何れか１つの硝材により構成されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項記載の反射屈折光学系。
5. 前記凹面鏡は非球面形状であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項記載の反射屈折光学系。
6. レチクルのパターン像を基板上に露光する反射屈折光学系において、
   屈折部材と凹面鏡とを有する第１結像光学系と、
   前記第１結像光学系と前記基板との間の光路中に配置されて、屈折部材を有する第２結像光学系とを備え、
   前記第１及び第２結像光学系を構成する屈折部材のうち、少なくとも１つの屈折部材は非球面を有することを特徴とする反射屈折光学系。
7. 前記第１結像光学系は、前記レチクルと前記凹面鏡との間の光路中に配置された第１レンズ群と、該第１レンズ群と前記凹面鏡との間の光路中に配置された第２レンズ群とを備え、
   前記第１レンズ群には光線が一度だけ通過し、かつ前記第２レンズ群には光線が往復通過し、
   前記第２レンズ群は、最も前記凹面鏡に近接配置される負レンズを備え、
   前記第１結像光学系と前記第２結像光学系との間の光路中には前記レチクルの中間像が形成されることを特徴とする請求項６記載の反射屈折光学系。
8. 前記第２レンズ群は、少なくとも２つの異なる負屈折力を持つ屈折部材と、少なくとも２つの異なる正屈折力を持つ屈折部材とを備えていることを特徴とする請求項７記載の反射屈折光学系。
9. 前記第１レンズ群は、少なくとも３つの異なる屈折力を持つ屈折部材を備えていることを特徴とする請求項８記載の反射屈折光学系。
10. 前記第１レンズ群中の前記少なくとも３つの異なる屈折力を持つ屈折部材は、調整用のレンズを備えていることを特徴とする請求項９記載の反射屈折光学系。
11. 前記第１結像光学系と前記第２結像光学系との間の光路中に配置された光路偏向部材をさらに備えていることを特徴とする請求項６乃至１０の何れか一項記載の反射屈折光学系。
12. 前記第１及び第２結像光学系を構成する屈折部材は、石英及び蛍石、またはその何れか１つの材料により構成されることを特徴とする請求項６乃至１１の何れか一項記載の反射屈折光学系。
13. 前記凹面鏡は非球面形状を有することを特徴とする請求項６乃至１２の何れか一項記載の反射屈折光学系。
14. 前記第２結像光学系は、可変絞りを備えていることを特徴とする請求項６乃至１３の何れか一項記載の反射屈折光学系。
15. 投影光学系を介してレチクルの像を基板上に露光する投影露光装置において、
    前記レチクルの像を前記基板上に転写するための請求項１乃至１４の何れか一項記載の反射屈折光学系を備えていることを特徴とする投影露光装置。
16. 投影光学系を介してレチクルの像を基板上に露光する投影露光方法において、
    請求項１乃至１４の何れか一項記載の反射屈折光学系を用いて前記レチクルの像を基板上に転写することを特徴とする投影露光方法。