JPH10308376A - ウェーハ洗浄方法およびその装置 - Google Patents

ウェーハ洗浄方法およびその装置

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JPH10308376A
JPH10308376A JP12790197A JP12790197A JPH10308376A JP H10308376 A JPH10308376 A JP H10308376A JP 12790197 A JP12790197 A JP 12790197A JP 12790197 A JP12790197 A JP 12790197A JP H10308376 A JPH10308376 A JP H10308376A
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JP
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cleaning
cleaning liquid
wafer
cassette
tank
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JP12790197A
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Kenji Hori
憲治 堀
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Mitsubishi Materials Silicon Corp
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Mitsubishi Materials Silicon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄時間の短縮化ができ、またウェーハの
洗浄性能の向上が図れ、しかも洗浄時やこれに付随する
カセットハンドリング時におけるカセット内でのウェー
ハの安定性が良好なウェーハ洗浄装置およびその洗浄方
法を提供する。 【解決手段】 カセット12内にウェーハWを水平状態
で上下へ重ね置きし、カセット12内の洗浄液の流れを
水平層流とするので、洗浄液のウェーハW間での層流が
円滑化し、ウェーハ表面のごみを除き易く、除去後のご
みも再付着し難くて洗浄時間が短縮化する。各ウェーハ
Wはカセット12内に水平挿填するので、ウェーハは自
重でカセット12内に安定し易く、洗浄液の流れが速く
てもウェーハWはバタつき難くい。よって洗浄時のウェ
ーハW表面がカセット12内で損傷し難く、洗浄中や取
扱中にウェーハWがカセット12から脱落し難い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はウェーハ洗浄装置
およびその洗浄方法、詳しくは洗浄時間の短縮化がで
き、またウェーハの洗浄性能の向上が図れるとともに、
洗浄時およびこれに付随するカセットハンドリング時に
おけるカセット内でのウェーハの安定性が良好なウェー
ハ洗浄装置およびその洗浄方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、シリコンウェーハのウエット式洗
浄ラインに配備されるウェーハ洗浄装置として、例えば
図4、図5に示すようなものが知られている。図4は従
来手段に係るウェーハ洗浄装置の模式縦断面図であり、
図5は他の従来手段に係るウェーハ洗浄装置の模式縦断
面図である。すなわち、図4に示す従来の洗浄装置10
0では、洗浄槽101の内部に、複数枚のウェーハWが
収納されたカセット102を、ウェーハ出し入れ口10
2aを上向きにして収納し、洗浄槽101の槽底から洗
浄液をバブリングさせながら注入することで、各ウェー
ハWの隙間へ洗浄液を垂直に層流させて、ウェーハ表面
のごみ(パーティクル等)などを除去する。なお、各ウ
ェーハWは、互いに隙間をあけて垂直状態で槽長さ方向
へ整列されている。また、カセット102を収納したオ
ーバーフロー液は、洗浄槽101の上部で回収され、そ
の後、ポンプにより循環使用される。
【0003】また、図5に示す別の従来の洗浄装置20
0は、洗浄槽201の内部に、多数枚のウェーハWを互
いに隙間をあけて垂直状態で収納したカセット202を
セットし、洗浄槽201の側方から洗浄液を流して、カ
セット202内のウェーハWを洗浄するものである。す
なわち、洗浄槽201の一側面からカセット202方向
へ向かった洗浄液は、上向きのウェーハ出し入れ口20
2aの一側縁部からカセット202内へと下降流入し、
その後、カセット202の内部で乱流を起こしながら各
ウェーハWを洗浄し、そしてカセット202のウェーハ
出し入れ口202aの他側より洗浄槽201の反対側へ
流れ出る。なお、洗浄液はカセット202の幅狭な奥側
口202bからも出し入れされる。図4および図5にお
いて、103は洗浄後の洗浄液のフィルタ、104は循
環ポンプである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来技術では、以下の不都合があった。すなわち、従
来の洗浄装置100の場合では、各ウェーハWを垂直状
態に並べて槽底から上方へ洗浄液を流すので、いったん
ウェーハWの表面から除去されたごみは、洗浄槽101
の上部に発生した乱流に巻き込まれ、再びそのごみがウ
ェーハWに付着したり、洗い残しが生じたりするおそれ
があった。しかも、比較的長い洗浄時間がかかってい
た。
【0005】また、別の従来洗浄装置200の場合で
は、具体的に洗浄槽201内での洗浄液の流れを調べた
ときに、前述したように洗浄液は、上向き配置されたウ
ェーハ出し入れ口202aよりカセット202内へ潜り
込んだ後、この内部で乱流を起こしながらウェーハWを
洗浄して外部排出されるという、比較的低流速となる流
れになっている。したがって、洗浄に時間がかかり、か
つ、各ウェーハWの洗浄性能も悪く、洗い残しが多くな
る洗浄となっていた。
【0006】
【発明の目的】そこで、この発明は、洗浄時間の短縮化
が図れ、またウェーハの洗浄性能を向上できるととも
に、洗浄時およびこれに付随するカセットハンドリング
時におけるカセット内でのウェーハの安定性が良好なウ
ェーハ洗浄方法およびその洗浄装置を提供することを、
その目的としている。また、洗浄後の洗浄液の再利用が
できるウェーハ洗浄装置およびその洗浄方法を提供する
ことを、その目的としている。さらに、洗浄槽内で洗浄
液の水平層流を容易に現出できるウェーハ洗浄装置を提
供することを、その目的としている。さらにまた、洗浄
槽内でスムーズな水平層流を現出できるとともに、浮遊
ごみを円滑に外部排出できるウェーハ洗浄装置を提供す
ることを、その目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、洗浄槽に収納されて、開口方向を洗浄液の流れ方向
に揃えたカセットの内部に、複数枚のウェーハを互いに
隙間をあけて水平状態で上下に重ね置きし、この各ウェ
ーハ間に洗浄液を水平に層流させて洗浄するウェーハの
洗浄方法である。ここでいう洗浄槽とは、例えばRCA
洗浄におけるAPM(アンモニア/過酸化水素水)槽、
水洗槽(リンス槽)、HF槽などの各種洗浄槽が挙げら
れる。これに付随して洗浄槽で使用される洗浄液には、
例えばAPM、純水、HFなどの各種洗浄液が挙げられ
る。
【0008】請求項2に記載の発明は、上記洗浄後の洗
浄液を循環使用する請求項1に記載のウェーハの洗浄方
法である。
【0009】請求項3に記載の発明は、洗浄槽と、この
洗浄槽に出し入れ可能に配備されて、複数枚のウェーハ
同士を互いに隙間をあけて収納するカセットと、上記洗
浄槽に設けられて、上記カセット内に挿填された各ウェ
ーハの隙間に洗浄液を流す洗浄手段とを備えたウェーハ
洗浄装置において、上記カセットが、水平状態で挿填さ
れる上記ウェーハを上下に重ね置きする収納体であり、
また上記洗浄手段は、上記洗浄槽の一側からその対向側
へ向かって洗浄液を流すことで、この洗浄液の流れ方向
に開口方向を揃えた上記カセットに収納された各ウェー
ハ間に洗浄液を水平に層流させるウェーハ洗浄装置であ
る。
【0010】ここでいう洗浄手段とは、ウェーハ間を通
過する際に水平な層流となり、しかも洗浄液を洗浄槽の
一側からその対向側へ向かって流すことができれば、ど
のような形式のものでもよい。例えば、洗浄槽の一側か
ら槽内へ洗浄液を圧送する形式のものでも、洗浄槽の対
向側から、槽内の洗浄液を外部へ吸引することで洗浄槽
内に洗浄液の流れを起こす形式のものでも、両者を併用
したものでもよい。なお、併用時には、洗浄槽内への洗
浄液の時間当たりの圧送量と、槽外へ洗浄液を吸い出す
時間当たりの吸引量とは略等しくした方が、安定した層
流を発生できて好ましい。
【0011】請求項4に記載の発明は、洗浄手段が、洗
浄液循環式のものである請求項3に記載のウェーハ洗浄
装置である。洗浄液循環式の洗浄手段としては、例えば
洗浄液の循環路途中に循環ポンプ、洗浄液のフィルタな
どが連結されたものが挙げられる。また、洗浄液が薬液
の場合には、必要により濃度センサと、このセンサから
の濃度検知信号に基づいて、薬液の原液タンクから循環
路へ薬液原液を添加する濃度調整手段などを配設しても
よい。
【0012】請求項5に記載の発明は、上記洗浄槽の対
向側の面が、複数のエリアに区分され、この各エリアに
は、洗浄液の流れ方向の奥側へ徐々に先細り化した洗浄
液の吸引ノズルがそれぞれ配設され、この各吸引ノズル
は洗浄液の吸引手段に連結されている請求項3または請
求項4に記載のウェーハ洗浄装置である。このエリアと
しては、どのような寸法および形状のものでもよい。例
えば、一辺5cmの正方形を格子状に配置したものなど
でもよい。格子状にすれば、洗浄槽内に流速がより均等
化した層流を現出でき、各ウェーハの洗浄性能をさらに
向上できる。
【0013】請求項6に記載の発明は、上記洗浄槽の上
部に開閉蓋を設けるとともに、上記洗浄槽の対向側の上
部に、浮遊ごみの排出口を形成させた請求項3〜請求項
5のうちのいずれか1項に記載のウェーハ洗浄装置であ
る。ここでいう開閉蓋は、ヒンジによる回動式、横スラ
イド式などどのような開閉構造の蓋でもよい。また、排
出口は、開閉蓋の一端部を切欠して形成してもよいし、
単に洗浄槽の上縁と開閉蓋との隙間としてもよい。
【0014】
【作用】この発明のウェーハ洗浄装置およびその洗浄方
法によれば、開口方向を洗浄液の流れ方向に揃えて洗浄
槽に収納されたカセットに対して、その開口方向から洗
浄液を流すと、洗浄液はカセット内に水平状態で上下に
重ね置きされた各ウェーハの隙間を層流状態で略水平に
流れる。このように水平層流としたことで、比較的カセ
ット内における洗浄液の乱流が起きにくくなり、洗浄液
の層流が円滑に行われる。よって、各ウェーハ表面から
除去されたごみなどが再付着しにくく、しかも洗い残し
も少なく良好に洗浄できる。この結果、洗浄時間が短縮
できる。
【0015】また、各ウェーハは、カセット内に水平状
態で収納されているので自重により状態が安定し易く、
したがって例えば洗浄時に比較的洗浄液の流速を速めて
も、各ウェーハのバタつきが起きにくく、これを原因と
した洗浄時のウェーハ表面の損傷が防止できたり、洗浄
中にウェーハがカセットから脱落するおそれも減少す
る。しかも、このようにウェーハはカセット内へ水平挿
填されたことで、自重により状態が安定しているので、
例えばロボットハンドを用いて洗浄槽の液面からカセッ
トを出し入れする際にも、収納されたウェーハが脱落し
たり、振動によりウェーハ表面を傷つけたりするおそれ
が少ない。
【0016】特に、請求項2および請求項4に記載の発
明では、洗浄後の洗浄液を回収し、再び洗浄槽へ流して
ウェーハの洗浄液として循環使用するので、資源の再利
用化、洗浄コストの低減、洗浄液の種類によっては無害
化処理にかかる費用の削減が図れる。
【0017】また、請求項5に記載の発明では、洗浄槽
の対向側の面付近まで洗浄液が達すると、吸引手段の負
圧力により、この対向側の面に区分して形成された各エ
リアの、洗浄液の流れ方向の奥側へ徐々に先細り化し
た、いわゆるラッパ状の吸引ノズルから各々吸引される
ので、洗浄槽内に比較的流速が均等化された層流を現出
でき、各ウェーハの洗浄性能を向上できる。
【0018】さらに、請求項6に記載の発明では、洗浄
槽の上部に開閉蓋を設けたので、洗浄槽内を水平方向へ
流れる洗浄液は槽容量に対して流量が多くなってもオー
バーフローすることなく、良好な水平層流を現出でき
る。しかも、流動中の液面付近に浮かぶ浮遊ごみは排出
口からそのまま排出されるので、開閉蓋を設けたにも拘
らず浮遊ごみの処理ができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例を図面を
参照して説明する。なお、ここでは超純水によりウェー
ハを水洗(リンス)するウェーハ洗浄を例に説明する。
図1はこの発明の一実施例に係るウェーハ洗浄装置の模
式縦断面図であり、図2は洗浄槽の対向側の面にエリア
区分させて形成された吸引ノズルの拡大正面図であり、
図3は洗浄槽内に収納されたカセットの拡大斜視図であ
る。
【0020】図1において、10はウェーハ洗浄装置で
あり、このウェーハ洗浄装置10は、超純水である洗浄
液を貯液する横長な洗浄槽11と、洗浄槽11に出し入
れ可能に配備されて、複数枚のウェーハW同士を互いに
隙間をあけて収納するカセット12と、洗浄槽11に設
けられて、カセット12内に挿填された各ウェーハWの
隙間に洗浄液を流す洗浄液循環式の洗浄手段13とを備
えている。洗浄槽11の上部には、この一端から他端付
近までを閉蓋できる横スライド式の開閉蓋11cが設け
られている。開閉蓋11cの長さは、洗浄槽11の開口
部の全長より若干短い。これにより、開口部の他端と開
閉蓋11cの先端との間に浮遊ごみ14の排出口15が
形成される。なお、洗浄槽11の開口部の他端は、若干
反り上がっている。
【0021】洗浄槽11の一側板11aには、所定ピッ
チで洗浄液の流入孔111aが形成されている。また、
この一側板11aの外面には、洗浄液をいったん貯液す
るウォータジャケット16が取り付けられている。洗浄
槽11の他側板11bは、一辺5cmの正方形を格子状
に配置した複数のエリアに区分されている。各エリアに
は、洗浄液の流れ方向の奥側へ徐々に先細り化した洗浄
液の吸引ノズル17が形成されている(図2も参照)。
洗浄槽11の下流側に配設された各吸引ノズル17と、
洗浄槽11の上流側に配設されたウォータジャケット1
6とは、洗浄手段13の洗浄液循環路18を介して連結
されている。
【0022】洗浄手段13は、洗浄液循環路18の途中
に順次連結されたフィルタ19、吸引手段を兼務する循
環ポンプ20を有している。なお、洗浄液循環路18の
各吸引ノズル17付近には開閉弁21が連結されてい
る。循環ポンプ20を作動させると、洗浄槽11内の洗
浄液が各吸引ノズル17から洗浄液循環路18へと吸引
される。洗浄液は途中でフィルタ19により濾過された
後、ウォータジャケット16へと流れ込み、一側板11
aに形成された流入口111aを介して、再び洗浄槽1
1内へ流れ込む。洗浄液はこの循環を連続的に繰り返
す。図3に示すように、カセット12は、水平配置され
たウェーハWを出し入れするウェーハ出し入れ口12a
が一側面(前側面)に形成され、しかもこの面に対向す
る他側部は徐々に先細り化して、縦長な奥側口12bが
形成されている。
【0023】次に、このウェーハ洗浄装置10を用いた
この発明の一実施例に係るウェーハ洗浄方法を説明す
る。図1に示すように、開閉蓋11cを開けて、洗浄液
が貯液された洗浄槽11内に、複数枚のウェーハWが水
平状態で上下に重ね置きされたカセット12を、ロボッ
トハンドにより槽内の所定位置にセットして、再び開閉
蓋11cを閉じる。なお、このときのカセット12は、
開口方向を洗浄液の流れ方向に揃えられている。すなわ
ち、カセット出し入れ口12aを洗浄槽11の一側板1
1a方向へ向け、また奥側口12bを他側板11c側へ
向けて、洗浄槽11の中央部にセットされている。
【0024】その後、各開閉弁21を開弁して循環ポン
プ20を作動させると、洗浄槽11内の洗浄液が他側板
11b付近において各吸引ノズル17を介して洗浄液循
環路18へ吸引される。吸引された洗浄液は、フィルタ
19を通過して異物などが除去され、それから洗浄槽1
1の上流側に設けられたウォータジャケット16に一旦
貯留される。ウォータジャケット16内の濾過された洗
浄液は、一側板11aに穿孔された多数個の流入口11
1aを介して洗浄槽11内へ流れ込む。
【0025】流れ込んだ洗浄液は、各吸引ノズル17か
らの吸引作用をも受けて、洗浄槽11内を図1、図2の
矢印方向へ流れる。洗浄槽11の内部には、ウェーハW
を収めたカセット12が、各開口部12a、12bの方
向を洗浄液の流れ方向に揃えてセットされている。すな
わち、他側板11b側へ向かって流入された洗浄液は、
カセット12のウェーハ出し入れ口12aからカセット
12内へ流れ込み、その後、洗浄液はカセット12内に
水平状態で上下に重ね置きされた各ウェーハWの隙間を
層流状態で水平に流れる。この際、ウェーハWに付着し
たごみなどが除去され、カセット12の幅狭な奥側口1
2bから外部へ排出される。
【0026】このように、カセット12内での洗浄液の
流れは、各ウェーハWの隙間を通過することで水平な層
流となるので、例えば図4に示す洗浄槽の槽底から上方
へ洗浄液を流して垂直置きのウェーハを洗浄する従来の
洗浄装置、および、図5に示すウェーハ出し入れ口を上
向きにしたカセットに対して洗浄槽の側方向から洗浄液
を流す他の洗浄装置に比べ、カセット12内や液面付近
での洗浄液の乱流が起きにくく、洗浄液の層流が円滑化
する。これにより、各ウェーハWの表面から除去された
ごみなどが再付着しにくく、しかも洗い残しも少なく良
好に洗浄できる。この結果、洗浄時間が短縮される。
【0027】また、カセット21に収納された各ウェー
ハWは、カセット12内に水平状態で収納されているの
で自重によって状態が安定し易い。これにより、例えば
洗浄時に比較的洗浄液の流速を速めても、各ウェーハW
が流速の速い洗浄液によりバタつくおそれが少なく、ま
たこれを原因とした洗浄時のウェーハWの表面の損傷を
も防止できる。加えて、洗浄中、ウェーハWがカセット
12から脱落するおそれも減少する。しかも、このよう
にカセット12内に水平挿填されたウェーハWは、自重
で状態が安定しているので、ロボットハンドにより洗浄
槽11内へカセット12を出し入れする際にも、ロボッ
トハンド側から伝わる振動などにより、ウェーハ12が
脱落するおそれが少ない。
【0028】カセット12の奥側口12bから排出され
た洗浄液は、洗浄槽11の他側板11b側において、循
環ポンプ20の作動により各吸引ノズル17を介して吸
引され、洗浄手段13によって、フィルタ19により濾
過後、ウェーハWの洗浄液として循環使用される。これ
により、資源の再利用化、洗浄コストの低減、洗浄液の
種類によっては無害化処理にかかる費用の削減が図れ
る。また、このように洗浄槽11の対向側の面付近まで
洗浄液が達すると、循環ポンプ20の負圧力により、こ
の対向側の面に区分して形成された各エリアのラッパ状
の吸引ノズル17を介して、各々洗浄液循環路18へ吸
引されるので、比較的流速が均等化した層流を洗浄槽1
1内に作ることができる。これにより、各ウェーハWの
洗浄性能を向上できる。各エリアは5cmの格子状であ
るので、洗浄槽11内に、より均等化した流速の層流を
現出でき、各ウェーハWの洗浄性能をさらに向上でき
る。しかも、洗浄液11の上流側には、一側板11aに
洗浄液の流入口111aが所定ピッチで多数個形成され
ているので、流速を均等化した層流をさらに現出し易
い。
【0029】さらに、洗浄槽11の上部に開閉蓋11c
が設けられたので、洗浄槽11内を水平方向へ流れる洗
浄液は槽容量に対して流量が多くなってもオーバーフロ
ーすることなく、良好な水平層流が現出できる。しか
も、液面付近の浮遊ごみ14は洗浄槽11の下流側の排
出口15からそのまま排出されるので、開閉蓋11cを
設けたにも拘らず浮遊ごみ14の処理ができる。以上、
実施例を説明したが、この発明はこの実施例に限定され
るものではなく、要旨を逸脱しない範囲での設計変更な
どがあってもこの発明に含まれる。例えば、実施例で
は、吸引ノズルから洗浄槽内の洗浄液を吸い出す吸引手
段を、洗浄液の循環手段の循環ポンプと兼用したが、こ
れに限定しなくても、各々別個のものとしてもよい。
【0030】
【発明の効果】この発明に係るウェーハ洗浄装置および
その洗浄方法によれば、カセット内にウェーハを水平状
態で上下へ重ね置きして、カセット内の洗浄液の流れを
水平層流としたので、洗浄液のウェーハ間での層流が円
滑となり、各ウェーハ表面からごみが除去し易く、しか
も除去されたごみなども再付着しにくくなり、この結
果、洗浄時間が短縮できる。また、このように各ウェー
ハをカセット内に水平挿填させたので、ウェーハは自重
によりカセット内で状態が安定し易く、したがって例え
ば洗浄液の流速が速くなっても各ウェーハのバタつきが
起きにくい。これにより、洗浄時のウェーハ表面がカセ
ット内で損傷しにくいとともに、この洗浄中やこれに付
随するカセットハンドリング時などに、ウェーハがカセ
ットから脱落するおそれが減少する。
【0031】特に、請求項2および請求項4に記載の発
明では、洗浄後の洗浄液を循環使用するようにしたの
で、資源の再利用化、洗浄コストの低減、洗浄液の種類
によっては無害化処理にかかる費用の削減が図れる。
【0032】また、請求項5に記載の発明では、洗浄槽
内の洗浄液の循環時において、複数にエリア化された吸
引ノズルを用いて洗浄後の洗浄液を循環系へ吸引するの
で、洗浄槽内に比較的流速が均等化された層流を現出で
き、各ウェーハの洗浄性能を向上できる。
【0033】さらに、請求項6に記載の発明では、洗浄
槽の上部に開閉蓋を設けたので、洗浄槽内の洗浄液の流
量が増加してもオーバーフローすることなく、良好な水
平層流を現出できる。しかも、流動中における液面付近
の浮遊ごみは排出口から排出されるので、開閉蓋を設け
たにも拘らず浮遊ごみの処理ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係るウェーハ洗浄装置の
模式縦断面図である。
【図2】洗浄槽の対向側の面にエリア区分させて形成さ
れた吸引ノズルの拡大正面図である。
【図3】洗浄槽内に収納されたカセットの拡大斜視図で
ある。
【図4】従来手段に係るウェーハ洗浄装置の模式縦断面
図である。
【図5】他の従来手段に係るウェーハ洗浄装置の模式縦
断面図である。
【符号の説明】
10 ウェーハ洗浄装置、 11 洗浄槽、 11c 開閉蓋、 12 カセット、 13 洗浄手段、 14 浮遊ごみ、 15 排出口、 17 吸引ノズル、 20 循環ポンプ(吸引手段)、 Wウェーハ。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄槽に収納されて、開口方向を洗浄液
    の流れ方向に揃えたカセットの内部に、複数枚のウェー
    ハを互いに隙間をあけて水平状態で上下に重ね置きし、
    これらの各ウェーハ間に洗浄液を水平に層流させて洗浄
    するウェーハの洗浄方法。
  2. 【請求項2】 上記洗浄後の洗浄液を循環使用する請求
    項1に記載のウェーハの洗浄方法。
  3. 【請求項3】 洗浄槽と、この洗浄槽に出し入れ可能に
    配備されて、複数枚のウェーハ同士を互いに隙間をあけ
    て収納するカセットと、上記洗浄槽に設けられて、上記
    カセット内に挿填された各ウェーハの隙間に洗浄液を流
    す洗浄手段とを備えたウェーハ洗浄装置において、 上記カセットが、水平状態で挿填される上記ウェーハを
    上下に重ね置きする収納体であり、また上記洗浄手段
    は、上記洗浄槽の一側からその対向側へ向かって洗浄液
    を流すことで、この洗浄液の流れ方向に開口方向を揃え
    た上記カセットに収納された各ウェーハ間に洗浄液を水
    平に層流させるウェーハ洗浄装置。
  4. 【請求項4】 上記洗浄手段が、洗浄液循環式のもので
    ある請求項3に記載のウェーハ洗浄装置。
  5. 【請求項5】 上記洗浄槽の対向側の面が、複数のエリ
    アに区分され、これらの各エリアには、洗浄液の流れ方
    向の奥側へ徐々に先細り化した洗浄液の吸引ノズルがそ
    れぞれ配設され、これらの各吸引ノズルは洗浄液の吸引
    手段に連結されている請求項3または請求項4に記載の
    ウェーハ洗浄装置。
  6. 【請求項6】 上記洗浄槽の上部に開閉蓋を設けるとと
    もに、上記洗浄槽の対向側の上部に、浮遊ごみの排出口
    を形成させた請求項3〜請求項5のうちのいずれか1項
    に記載のウェーハ洗浄装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8707971B2 (en) * 2008-05-16 2014-04-29 Xyratex Corporation Laminated walls for uniform fluid flow
CN108010870A (zh) * 2017-11-28 2018-05-08 北京创昱科技有限公司 衬底加工设备和衬底加工方法
CN118988851A (zh) * 2024-09-15 2024-11-22 南通友拓新能源科技有限公司 一种基于多层平流硅料的清洗装置
CN119388400A (zh) * 2024-12-02 2025-02-07 英木精工科技(苏州)有限公司 一种自动化硅片清洗桁架机械手

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