JPH10309437A - アンモニア分解処理装置 - Google Patents

アンモニア分解処理装置

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JPH10309437A
JPH10309437A JP9118982A JP11898297A JPH10309437A JP H10309437 A JPH10309437 A JP H10309437A JP 9118982 A JP9118982 A JP 9118982A JP 11898297 A JP11898297 A JP 11898297A JP H10309437 A JPH10309437 A JP H10309437A
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catalyst
ammonia
catalyst layer
concentration
exhaust gas
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JP9118982A
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Inventor
Hiroshi Kawagoe
博 川越
Toshikatsu Mori
利克 森
Yukio Murai
行男 村井
Akio Tanaka
明雄 田中
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Plant Engineering and Construction Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】火力発電所処理設備等のアンモニア含有排ガス
の高効率なアンモニア分解装置の提供する。 【解決手段】アンモニア、酸素および水蒸気を含む排ガ
ス(1)を、前段と後段とからなる二段触媒層(2、
3)で処理するアンモニア分解処理装置において、後段
触媒層(3)の出口に処理ガスの窒素酸化物濃度を検出
する濃度センサ(4)と、前記排ガス(1)の一部を予
め分割して後段の触媒層(3)に分割注入する注入手段
とを設け、前記濃度センサによる窒素酸化物濃度が所定
の濃度となるよう前記排ガスを分割注入できる制御手段
(7)を設けたアンモニア分解処理装置にある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規な、アンモニア
含有排ガス中に含まれるアンモニアを処理して窒素ガス
と水に変換し、無害化するアンモニア分解処理装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】アンモニア含有排ガスとしては、例え
ば、火力発電設備,し尿処理設備,下水処理設備,食品
製造設備,コークス炉ガス製造設備等の排ガスがある。
これらの排ガス中のアンモニアは環境に対して有害物質
であり、また、こうした設備の配管系を腐食するなどの
悪影響を及ぼすため、排ガス中からアンモニアの除去が
研究されている。
【0003】排ガス中のアンモニアを除去するためのシ
ステムとしては、例えば、特開昭54−1978857
号公報に記載されているように、アンモニアストリッピ
ングガス中のアンモニアを触媒により酸化分解する。生
成した窒素酸化物(NO,NO2,N2O)を、残留アン
モニアと共に還元触媒で反応させて、下式で示すように
2とH2Oに変換することが提案されている。
【0004】
【数1】 12NH+13O2 ⇒ 2N2+2NO+2NO2+2N2
O+18HO 4NH3+6O2 ⇒ 2NO+2NO2+6H2O 8NH3+4NO+2NO2+2O2 ⇒ 7N2+12H2
O 8NH3+4NO+4NO2+2N2O+O2 ⇒ 6N2
4N2O+12H2O 上記のように従来用いられてきたアンモニア分解処理方
法は残留アンモニアによりNO,NO2を無害化する
が、N2Oは除去されない。アンモニアとNO,NO2
等モルで反応させる必要がある。従って、これら両者の
濃度比がアンバランスであるとアンモニア(NH3)ま
たはNO,NO2,N2Oが排出されると云う問題があ
る。特に、N2Oは還元触媒で除去されないと云う問題
がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来のア
ンモニア分解処理方法は、複雑な構造のためにアンモニ
アと窒素酸化物が排出されると云う問題があった。
【0006】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解決し、効率よくアンモニアおよび窒素酸化物を無害化
するアンモニア分解処理装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の要旨は次のとおりである。
【0008】〔1〕 アンモニア,酸素および水蒸気を
含む排ガスを、前段と後段とからなる二段触媒層で処理
するアンモニア分解処理装置において、後段触媒層出口
に処理ガスの窒素酸化物濃度を検出する濃度センサと、
前記排ガスの一部を予め分割して後段の触媒層に分割注
入する注入手段とを設け、前記濃度センサによる窒素酸
化物濃度が所定の濃度となるよう前記排ガスを分割注入
できる制御手段を設けたアンモニア分解処理装置にあ
る。
【0009】〔2〕 前記二段触媒層の前段がアンモニ
ア酸化触媒であり、後段が窒素酸化還元触媒である前記
アンモニア分解処理装置にある。
【0010】〔3〕 前後段触媒層の触媒がTiおよび
Agと、Fe,Mn,Zn,Mo,V,Wの一種以上を
含む触媒で構成されている前記アンモニア分解処理装置
にある。
【0011】〔4〕 前記の前段触媒層の触媒がTiお
よびAgと、Fe,Mn,Zn,Mo,V,Wの一種以
上を含み、前記の後段触媒層の触媒がTiおよびMo,
V,Wの一種以上を含む触媒で構成されている前記アン
モニア分解処理装置にある。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明は、100〜30,000
ppmのアンモニアと、酸素,水蒸気を含有する排ガス
を前段と後段とからなる二段触媒層で処理するアンモニ
ア分解処理装置において、排ガスの一部を予め前段触媒
層入口で分割して前段と後段の触媒層の中間に分割注入
し、後段の触媒層出口の窒素酸化物濃度をセンサにより
検出し、これに基づき後段に分割注入する排ガスの注入
量を制御するものである。
【0013】本発明の前段触媒層ではTiおよびAg
と、Fe,Mn,Zn,Mo,V,Wの一種以上を含む
アンモニア酸化触媒で処理し、得られた窒素酸化物を後
段のTi,MoおよびVからなる公知の触媒層で還元処
理する。
【0014】前段触媒層では、NH3の酸化分解が進行
して窒素酸化物を生成するが、本発明の前段触媒層では
2Oの生成が少ないのも特徴である。N2Oは後段触媒
層で除去しきれないため、前段触媒層でその発生を抑え
る必要がある。
【0015】また、前記二段触媒層において、前段およ
び後段の触媒層の触媒がTiおよびAgを含み、Fe,
Mn,Zn,Mo,V,Wの一種以上を含むものでもよ
い。
【0016】本発明のアンモニア処理装置は、火力発電
設備、下水処理設備,し尿処理設備,アミン製造設備,
食品製造設備から排出されるアンモニア含有排ガスを効
率良く処理することができる。なお、アンモニア濃度は
100〜30,000ppmの範囲が好ましい。
【0017】また、前記二段触媒層の触媒は、300〜
600℃で熱処理するだけで極めて容易に触媒活性を回
復することができる。
【0018】本発明のアンモニア分解処理装置の前段触
媒層に使用される触媒の好ましい態様は、100〜3
0,000ppmのアンモニア,当量以上の酸素,水蒸
気を含有する排ガスを酸化分解する触媒であって、酸化
物担体としてはチタニア,アルミナ,シリカ,ゼオライ
トの一種以上が用いられる。そしてその表面層に形成し
た触媒活性成分はTiおよびAgと、Fe,Zn,M
o,V,Wの一種以上から構成される。
【0019】次に、アンモニア分解触媒の好ましい態様
は、通常10〜500m2/gの比表面積を有するもの
がよい。なお、比表面積の大きいものほどアンモニア分
解能が増大する傾向がみられる。
【0020】本発明のアンモニア分解処理装置の特徴
は、排ガスを前段触媒層内において酸化分解処理した
後、後段触媒層に導入される。
【0021】後段触媒層では、その出口の窒素酸化物濃
度をセンサにより検出し、窒素酸化物濃度に見合った量
より僅かに少ないアンモニア含有排ガス(原料ガス)を
後段の触媒層に分割注入することによって、窒素酸化物
の流出を防止することにある。
【0022】本発明において、前段および後段の触媒層
を異種触媒で組み合わせたものが好ましいが、同種触媒
で前段と後段の触媒層を形成してもよい。
【0023】排ガスを二段触媒層に接触させる温度は3
00〜600℃、好ましくは350〜500℃である。
この温度範囲外では排ガス中のアンモニアの除去性能並
びに窒素酸化物除去性能が低下するので好ましくない。
【0024】排ガスの二段触媒層に接触させるガス空間
速度は、1,000〜100,000h~1の範囲が好まし
い。また、排ガスの気圧は大気圧でよいが、特に限定さ
れない。
【0025】本発明のアンモニア分解触媒は、熱処理を
施すことによって触媒活性を回復する。そして、回復後
は初期と同等のアンモニア除去性能が得られる。なお、
熱処理温度は300〜600℃が好ましい。
【0026】本発明の前段触媒層のアンモニア分解触媒
の反応は酸化分解反応である。また、後段触媒層は窒素
酸化物の反応は分割注入したアンモニアとによる還元反
応である。
【0027】上記のNO,NO2はアンモニアと1/1
で反応し、酸素の存在下で、
【0028】
【数2】4NH3+4NO+O2 ⇒ 4N2+6H2O のように無害なN2とH2Oに変換される。
【0029】
【実施例】本発明を実施例に基づき説明する。
【0030】〔実施例 1〕図1は本発明の一実施例で
あるアンモニア分解処理システムの概略図である。
【0031】アンモニア含有排ガス1(NH3濃度10,
000ppm、スチーム40%,残空気)は、触媒層温
度350℃で前段触媒層2に導入される。この場合、ア
ンモニア含有排ガス1は、予め前段触媒層2の入口で分
割される。
【0032】アンモニア含有排ガスは前段触媒層2(酸
化物担体と、AgおよびFe触媒)にSV20,000
/hで導入されると、酸化分解反応が進行して生成ガス
中に窒素およびH2Oと、それ以外に大気汚染物質の未
反応NH310ppmおよび窒素酸化物(NO+NO2
1,000ppm、N2O:20ppm)が生成する。
【0033】前段触媒層2の生成ガスは、反応温度35
0℃で後段触媒層3(Ti担体と、MoおよびV触媒)
にSV20,000/hで導入される。
【0034】後段触媒層3出口には窒素酸化物濃度セン
サ4が設けられており、該センサにより生成したNO,
NO2に見合う量(NH3:9500ppm)より僅かに
少ない量のアンモニア含有排ガスを制御装置7で制御し
て、注入口5から分割注入される。
【0035】生成ガス中の窒素酸化物は、NH3と反応
してH2Oと窒素に変換される。変換後の排ガスは、N
3:5ppm、NO+NO2:30ppm、N2O:2
5ppm、残空気からなる無害化ガスとなって、無害化
ガス排出口6から大気中に放出される。
【0036】以上のように本実施例は後述の比較例に比
べて、後段触媒層出口のNH3、NO2濃度が低い、特
に、N2O濃度の生成は格段に低いことが分かる。
【0037】〔比較例 1〕アンモニア濃度8000p
pm,スチーム濃度30%,残空気からなるアンモニア
含有ガスを、反応温度270℃,Pt/Al23触媒か
らなる酸化触媒層に導入してSV10,000/hで触
媒層を通過させて酸化させたところ、未反応NH3:2
50ppm,NO+NO2:360ppm,N2O:4,
900ppm,残空気のガスが得られた。
【0038】このガスにアンモニア含有ガスを添加して
NH3:370ppmとしてFe/Al23を含む反応
温度350℃の触媒層にSV5,000/hで通過させ
還元したところ、NH3:20ppm,NO+NO2:2
0ppm,N2O:4,500ppmの処理ガスが得られ
た。
【0039】〔実施例 2〕0.5〜1.0mmに破砕し
たチタニア担体粉末を500℃で焼成したもの10g
に、硝酸銀(AgNO3)3.2gを10mlの蒸留水に
溶解した溶液を含浸した。これを120℃,1時間乾燥
後、500℃で1時間焼成した。
【0040】焼成後のAg付きチタニア担体に硫酸第一
鉄(FeSO4・7H2O)0.29gを蒸留水に溶解し
た溶液を含浸した。これを120℃,1時間乾燥、50
0℃で2時間焼成して完成触媒とした。
【0041】この触媒はTi−Ag−Feであり、Ti
/Ag(モル比=1/0.15),Ti/Fe(モル比
=1/0.05)である。この触媒をAとする。
【0042】前記焼成後のチタニア担体の粉末10gに
AgNO3の3.6gを10mlの蒸留水に溶解した溶液
を含浸し、前記と同様に乾燥,焼成した。
【0043】焼成後のAg付きチタニア担体に硫酸亜鉛
(ZnSO4・7H2O)0.3gを蒸留水に溶解した溶
液を含浸し、前記と同様に乾燥,焼成して完成触媒とし
た。この触媒はTi−Ag−Znであり、Ti/Ag
(モル比=1/0.15),Ti/Zn(モル比=1/
0.05)である。この触媒をBとする。
【0044】前記焼成後のチタニア担体の粉末10gに
AgNO3の3.2gを10mlの蒸留水に溶解した溶液
を含浸し、前記と同様に乾燥,焼成した。
【0045】焼成後のAg付きチタニア担体にモリブデ
ン酸アンモニウム〔(NH4)6Mo724・5H2O〕の3.
0gを蒸留水に溶解した溶液を含浸し、前記と同様に乾
燥,焼成し完成触媒とした。この触媒はTi−Ag−M
oであり、Ti/Ag(モル比=1/0.15),Ti
/Mo(モル比=1/0.05)である。この触媒をC
とする。
【0046】前記焼成後のチタニア担体の粉末10gに
AgNO3の3.2gを10mlの蒸留水に溶解した溶液
を含浸し、前記と同様に乾燥,焼成した。
【0047】焼成後のAg付きチタニア担体にバナジン
酸アンモニウム(NH4VO3)の0.12gを蒸留水に
溶解した溶液を含浸し、前記と同様に乾燥,焼成して完
成触媒とした。
【0048】この触媒はTi−Ag−Vであり、Ti/
Ag(モル比=1/0.15),Ti/V(モル比=1
/0.05)である。この触媒をDとする。
【0049】前記焼成後のチタニア担体の粉末10gに
AgNO3の3.2gを10mlの蒸留水に溶解した溶液
を含浸し、前記と同様に乾燥,焼成した。
【0050】焼成後のAg付きチタニア担体にタングス
テン酸アンモニウム〔(NH4)101 241・5H2O〕の
0.25gを蒸留水に溶解した溶液を含浸し、前記と同
様に乾燥,焼成して完成触媒とした。この触媒はTi−
Ag−Vであり、Ti/Ag(モル比=1/0.1
5),Ti/V(原子比=1/0.05)である。この
触媒をEとする。
【0051】前記焼成後のチタニア担体の粉末10g
を、ジアミンニトロ白金〔Pt(NO3)2(NH3)2〕の溶
液を用い、Pt量が1重量%になるよう浸漬した。前記
と同様に乾燥,焼成した。
【0052】この触媒はPt−Al(公知例触媒)であ
る。この触媒を比較例触媒Xとする。
【0053】前記の触媒A〜Dおよび比較例触媒Xにつ
いて、内径19mmφ×長300mmの石英反応管内の
中央部に設置し、アンモニアの模擬排ガスとして、ヘリ
ウム中にアンモニアを混合して希釈したガスを、上記石
英反応管内に導入し、触媒と接触させた。
【0054】触媒性能の指標として反応前後のアンモニ
ア濃度の変化を測定した。アンモニア濃度の測定には、
アンモニア検知管(硫酸吸収剤)を用いた。また、反応
条件は次のとおりである。
【0055】アンモニア濃度:10,000ppm、水
蒸気濃度:40%、残り空気で反応温度:400℃、ガ
ス空間速度:30,000h~1(単位時間当たり、単位
触媒体積当たりのガスの供給量)、触媒量:10mlで
ある。
【0056】表1に触媒A〜Eと比較例触媒Xの性能を
示す。表からも明らかなように、触媒A〜Eは比較例触
媒Xに比べて触媒層出口のアンモニア(NH3)濃度が
低いことが分かる。
【0057】また、NO,NO2濃度は触媒Xに比べて
高いが、これは後段触媒層で除去される。一方、N2
は後段触媒層で除去されないため、前段触媒層で生成抑
制する必要があり、触媒A〜Eは触媒Xに比べて格段に
抑制効果があることが分かった。
【0058】
【表1】
【0059】〔実施例 3〕TiO2スラリ10gおよ
びモリブデン酸アンモニウム〔(NH4)6Mo724・4
2O〕の0.78gおよびメタバナジン酸アンモニウム
(NH4VO3)の0.21gの混合スラリを120℃,
2時間乾燥し、次いで500℃で2時間焼成して酸化物
粉末を得る。この粉末にグラファイトを2%添加してよ
く混錬し、打錠機により5mmφ×5mm高さに打錠し
完成触媒とした。
【0060】実験に際しては本触媒を0.5〜1mmに
破砕して使用した。この触媒はTi−Mo−Vであり、
Ti/Mo(モル比=1/0.12),Ti/V(モル
比=1/0.05)である。この触媒をFとする。
【0061】TiO2スラリ10gおよびモリブデン酸
アンモニウムの0.78gおよびタングステン酸アンモ
ニウム〔(NH4)101241・5H2O〕の0.5gの混
合スラリを120℃,2時間乾燥し、次いで500℃で
2時間焼成して酸化物粉末を得る。この粉末にグラファ
イトを2%添加してよく混錬し、5mmφ×5mm高さ
に打錠し完成触媒とした。
【0062】実験に際しては本触媒を0.5〜1.0mm
に破砕して使用した。この触媒はTi−Mo−Wであ
り、Ti/Mo(モル比=1/0.12),Ti/W
(モル比=1/0.05)である。この触媒をGとす
る。
【0063】TiO2スラリ10gおよび硝酸鉄(Fe
NO3・9H2O)の1.84gの混合スラリを120
℃,2時間乾燥し、次いで500℃で2時間焼成して酸
化物粉末を得る。この粉末にグラファイトを2%添加し
てよく混錬し、5mmφ×5mm高さに打錠し完成触媒
とした。
【0064】実験に際しては本触媒を0.5〜1mmに
破砕して使用した。この触媒はTi−Feであり、Ti
/Fe(モル比=1/0.12)である。これを比較例
触媒Yとする。
【0065】前記の触媒F,Gおよび比較例触媒Yにつ
いて、実施例2と同様に石英反応管内の中央部に設置
し、アンモニア模擬排ガスおよびNO模擬排ガスを混合
し、これにH2Oを添加してガスを上記石英反応管内に
導入し、触媒と接触させた。
【0066】触媒性能の指標として反応前後のアンモニ
ア濃度およびNO濃度の変化を測定した。アンモニア濃
度の測定には、アンモニア検知管(硫酸吸収剤)を、ま
た、NO濃度の測定にはNO検知管(3.3'−ジメチル
ベンジジン吸収剤)を用いた。反応条件は以下の通りで
ある。
【0067】アンモニア濃度:960ppm、NO濃
度:1,000ppm、水蒸気濃度:40%、残り空
気、反応温度:400℃、ガス空間速度:30,000
h~1、触媒量:10mlである。
【0068】表2に触媒F,Gと比較例触媒Yの性能を
示す。表2からも明らかなように触媒F,Gは比較例触
媒Yに比べて後段触媒層出口のアンモニア濃度,NO,
NO2濃度およびN2O濃度が低いことが認められた。
【0069】
【表2】
【0070】
【発明の効果】本発明によれば、アンモニア含有排ガス
を前段と後段とからなる二段触媒層に導入して分解反応
させ、後段触媒層出口に設けた窒素酸化物センサにより
その濃度を検出し、該濃度に見合う量よりも僅かに少な
い量のアンモニア含有排ガスを後段触媒層に分割注入す
ることにより、アンモニアおよび窒素酸化物等の大気汚
染物質を効率よく除去し、排ガスによる環境汚染を防止
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のアンモニア分解処理システムの概略図
である。
【符号の説明】 1…アンモニア含有排ガス、2…前段触媒層、3…後段
触媒層、4…窒素酸化物濃度センサ、5…注入口、6…
無害化ガス排出口、7…制御装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 行男 東京都千代田区内神田一丁目1番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 田中 明雄 東京都千代田区内神田一丁目1番14号 日 立プラント建設株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アンモニア,酸素および水蒸気を含む排
    ガスを、前段と後段とからなる二段触媒層で処理するア
    ンモニア分解処理装置において、 後段触媒層出口に処理ガスの窒素酸化物濃度を検出する
    濃度センサと、前記排ガスの一部を予め分割して後段の
    触媒層に分割注入する注入手段とを設け、前記濃度セン
    サによる窒素酸化物濃度が所定の濃度となるよう前記排
    ガスを分割注入できる制御手段を設けたことを特徴とす
    るアンモニア分解処理装置。
  2. 【請求項2】 前記二段触媒層の前段がアンモニア酸化
    触媒であり、後段が窒素酸化還元触媒である請求項1に
    記載のアンモニア分解処理装置。
  3. 【請求項3】 前後段触媒層の触媒が、(1)Tiおよ
    びAgと、(2)Fe,Mn,Zn,Mo,V,Wの一
    種以上、を含む触媒で構成されている請求項1に記載の
    アンモニア分解処理装置。
  4. 【請求項4】 前記の前段触媒層の触媒が、(1)Ti
    およびAgと、(2)Fe,Mn,Zn,Mo,V,W
    の一種以上を含み、前記の後段触媒層の触媒が、(3)
    Tiと、(4)Mo,V,Wの一種以上、を含む触媒で
    構成されている請求項1に記載のアンモニア分解処理装
    置。
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