JPH10310573A - ハロゲン化ビフェニル誘導体およびその製造方法 - Google Patents
ハロゲン化ビフェニル誘導体およびその製造方法Info
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Abstract
て有用な、新規なN−ハロゲン化ビフェニル誘導体およ
びその製法の提供。 【構成】 下記一般式(I)で表わされるN−ハロゲン
化ビフェニル誘導体; 【化1】 (式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、
アルキル基、アルコキシ基を表わす;Zはベンゼン環お
よび窒素原子と一緒になって複素環を形成する残基を表
わし、置換基を有してもよい;Xはハロゲン原子を表
す)。
Description
ン化ビフェニル誘導体およびその製造方法に関する。
複素環化合物のN−ハロゲン化ビフェニル誘導体および
その製造方法を提供することにある。
一般式(I)で示されるN−ハロゲン化ビフェニル誘導
体;
アルキル基、アルコキシ基を表わす;Zはベンゼン環お
よび窒素原子と一緒になって複素環を形成する残基を表
わし、置換基を有してもよい;Xはハロゲン原子を表
す)およびその製造方法に関する。
ゲン化ビフェニル誘導体は、例えばジアリールアミン化
合物等と反応させてアミノ化し、有機エレクトロルミネ
センス(EL)素子や電子写真感光体等の電荷輸送材とし
て使用することができる。また、その他の有機精密化学
品、例えばN−ヒドロキシビフェニル誘導体の合成原料
として使用可能である。
独立して、水素原子、アルキル基(例えばメチル基
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基等)を表わす。
Zはベンゼン環および窒素原子と一緒になって複素環、
例えば
Xはハロゲン原子を表し、ヨウ素原子、臭素原子が好ま
しい。
ゲン化ビフェニル誘導体は下記一般式(II);
Xは同一であっても異なっていてもよい)で表わされる
4,4’−ジハロゲン化ビフェニル誘導体と、下記一般
式(III);
物とを、例えば塩基性化合物または遷移金属化合物触
媒、溶媒の存在下、Ullmann反応を行うにより合
成することができる。
ン化ビフェニル誘導体と、一般式(III)で表わされる含
窒素複素環化合物とはモル比で1:1〜10:1(化合
物(II):化合物(III))、好ましくは1:1〜2:1の割
合で使用される。
は、アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、ア
ルコラートなどが一般的に用いられるが、第4級アンモ
ニウム化合物や脂肪族アミンや芳香族アミンの様な有機
塩基を用いることも可能である。このなかでアルカリ金
属や第4級アンモニウムの炭酸塩や炭酸水素塩が好まし
いものとして用いられる。更に、反応速度および熱安定
性という観点からアルカリ金属の炭酸塩や炭酸水素塩が
最も好ましい。
属化合物としては、例えばCu、Fe、Co、Ni、Cr、
V、Pd、Pt、Ag等の金属およびそれらの化合物が用
いられるが、収率の点から銅およびパラジウムとそれら
の化合物が好ましい。
どの銅化合物が用いられるが、ヨウ化第一銅、塩化第一
銅、酸化第一銅、臭化第一銅、シアン化第一銅、硫酸第
一銅、硫酸第二銅、塩化第二銅、水酸化第二銅、酸化第
二銅、臭化第二銅、リン酸第二銅、硝酸第一銅、硝酸第
二銅、炭酸銅、酢酸第一銅、酢酸第二銅などが好まし
い。その中でも特にCuCl、CuCl2、CuBr、CuB
r、CuI、Cu2O、CuO、CuSO4、Cu(OCOCH3)
2は容易に入手可能である点で好適である。
物、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩、有機酸塩などを用いるこ
とができる。
応させる含窒素複素環化合物の5〜200モル%であ
る。
られる溶媒であれば良いが、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼン、ジクロルベンゼン、ニトロベンゼン等の芳
香族系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒
が好ましく用いられる。
〜 300℃、好ましくは100〜250℃での温度で
3〜50時間行なう。加圧下に反応を行なってももちろ
んかまわない。反応終了は、薄層クロマトグラフィー
(TLC)、液体クロマトグラフィー等の方法により確
認することができる。反応終了後、反応液中に析出した
固形物を除去した後、溶媒を除去し生成物を得ることが
できる。
縮、結晶化、分別蒸留、再結晶化等の通常の分離手段に
より、反応物から本発明の化合物を得ることができる。
また、反応終了後、副生物が得られる場合は、ガスクロ
マトグラフィー、薄層クロマトグラフィーや液体クロマ
トグラフィー、カラムクロマトグラフィー等の手段を用
いて分離精製することができる。
誘導体としては、具体的には以下のものが挙げられる。
ものであって、本発明の化合物は、それらに限定される
ものではない。
4,4’−ジヨードジフェニル48.7g(0.12モ
ル)、カルバゾール16.7g(0.1モル)、無水炭
酸カリウム16.6g(0.12モル)、銅粉1.27
g(0.02モル)、ニトロベンゼン50mlを混合
し、還流温度下で24時間反応させた。
抽出し、不溶分をろ別除去後、濃縮乾固した。これをカ
ラムクロマトによって精製(担体;シリカゲル、溶離
液:トルエン/n−ヘキサン=1/2で展開)して、目
的のN−4’−ヨード−4−ビフェニルカルバゾール
(化学式(1))26.7gを得た。収率は60%、融点は
253〜255℃であった。得られた化合物の赤外吸収
スペクトルを図1に示す。
4,4’−ジヨードジフェニル48.7g(0.12モ
ル)、フェノチアジン19.9g(0.1モル)、無水
炭酸カリウム16.6g(0.12モル)、銅粉1.2
7g(0.02モル)、ニトロベンゼン50mlを混合
し、還流温度下で24時間反応させた。
抽出し、不溶分をろ別除去後、濃縮乾固した。これをカ
ラムクロマトによって精製(担体;シリカゲル、溶離
液:トルエン/n−ヘキサン=1/2で展開)して、目
的のN−4’−ヨード−4−ビフェニルフェノチアジン
(化合物(5))29.4gを得た。収率は61.6%、融点
は193〜195℃であった。得られた化合物(5)の赤
外吸収スペクトルを図2に示す。
00mlのジブチルエーテルをとカルバゾール1.67
g(0.01モル)を加えて溶解させ、その溶液に0.
05モルのブチルリチウムのヘキサン溶液をゆっくり滴
下した。その後、4−ブロモ−4’−ヨードジフェニル
3.59g(0.01モル)、ヨウ化銅0.48g(0.
025モル)を加え10時間、還流温度下で反応させ
た。
抽出し、不溶分をろ別除去後、濃縮乾固した。これをカ
ラムクロマトによって精製(担体;シリカゲル、溶離
液:トルエン/n−ヘキサン=1/2で展開)して、目
的のN−4’−ブロモ−4−ビフェニルカルバゾール
(化合物(2))13.5gを得た。収率は67.8%、融
点は252〜254℃であった。
4,4’−ジブロモジフェニル37.4g(0.12モ
ル)、カルバゾール16.7g(0.1モル)、無水炭
酸カリウム16.6g(0.12モル)、銅粉1.27
g(0.02モル)、ニトロベンゼン50mlを混合
し、還流温度下で24時間反応させた。
抽出し、不溶分をろ別除去後、濃縮乾固した。これをカ
ラムクロマトによって精製(担体;シリカゲル、溶離
液:トルエン/n−ヘキサン=1/2で展開)して、目
的のN−4’−ブロモ−4−ビフェニルカルバゾール
(化合物(2))14.7gを得た。収率は36.9%、融点
は252〜254℃であった。
4,4’−ジヨードジフェニル48.7g(0.12モ
ル)、下記式で表される化合物;
g(0.12モル)、銅粉1.27g(0.02モ
ル)、ニトロベンゼン50mlを混合し、還流温度下で
24時間反応させた。
抽出し、不溶分をろ別除去後、濃縮乾固した。これをカ
ラムクロマトによって精製(担体;シリカゲル、溶離
液:トルエン/n−ヘキサン=1/2で展開)して、目
的の化合物(10)24.6gを得た。収率は52%、
融点は283〜285℃であった。
4,4’−ジヨードジフェニル48.7g(0.12モ
ル)、テトラヒドロキノリン13.3g(0.1モ
ル)、無水炭酸カリウム16.6g(0.12モル)、
銅粉1.27g(0.02モル)、ニトロベンゼン50
mlを混合し、還流温度下で24時間反応させた。
抽出し、不溶分をろ別除去後、濃縮乾固した。これをカ
ラムクロマトによって精製(担体:シリカゲル、溶離
液:トルエン/n−ヘキサン=1/2で展開)して、目
的のN−4’−ヨード−4−ビフェニルテトラヒドロキ
ノリン(化合物(17)))22.3gを得た。収率は5
5.9%、融点は280〜282℃であった。
リルアミン9.9g(0.05モル)、無水炭酸カリウム
6.9g(0.05モル)、銅粉0.63g(0.01モ
ル)、ニトロベンゼン100mlを混合し、還流温度下
で24時間反応させた。反応生成物をジクロルメタン2
00mlで抽出し、不溶分をろ別除去後、濃縮乾固し
た。これをカラムクロマトにより精製(担体:シリカゲ
ル、溶離液:トルエン/n−ヘキサン=1/1で展開)
して、目的の化合物(下記)を得た。収量11.5g(収率
44.7%)。
該発光層をはさんだ一対の対向電極から構成されてい
る。発光は、両電極間に電界が印加されると、陰極から
電子が注入され、陽極から正孔が注入される。さらに、
この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー
準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光と
して放出する現象である。以下、上記化合物を用いて有
機EL素子を作製した例について説明する。
上記化合物を真空蒸着し、膜厚60nmの正孔輸送層を
得た。さらに、トリス(8−ヒドロキシキノリン)アル
ミニウム錯体を真空蒸着により50nmの厚さになるよ
うに有機発光層を形成した。次に陰極として10:1の
厚子比のMgおよびAgを蒸着により200nmの厚さ
になるように薄膜を形成した。このようにして、有機E
L(エレクトロルミネセンス)素子(1)を作製した。
Vの直流電圧をかけた時の発光輝度および直流電圧を除
々に上げていった場合の最高輝度を測定した。測定結果
を以下にまとめて示す。
て用いた電荷輸送材は、有機EL素子等への応用が可能
であることがわかる。
ル誘導体およびその製造方法を提供した。本発明のN−
ハロゲン化ビフェニル誘導体は、機能性材料、特に電荷
輸送材料の中間体として有用である。
ルビフェニル誘導体の赤外吸収スペクトルを表す図であ
る。
ルビフェニル誘導体の赤外吸収スペクトルを表す図であ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表わされるN−ハロ
ゲン化ビフェニル誘導体; 【化1】 (式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、
アルキル基、アルコキシ基を表わす;Zはベンゼン環お
よび窒素原子と一緒になって複素環を形成する残基を表
わし、置換基を有してもよい;Xはハロゲン原子を表
す)。 - 【請求項2】 下記一般式(II); 【化2】 (式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、
アルキル基、アルコキシ基を表わす;Xはハロゲン原子
を表す)で表わされる4,4’−ジハロゲン化ビフェニ
ル誘導体と、下記一般式(III); 【化3】 (式中、Zはベンゼン環および窒素原子と一緒になって
複素環を形成する残基を表わし、置換基を有してもよ
い)で表される含窒素複素環化合物とを反応させること
を特徴とする下記一般式(I); 【化4】 (式中、R1およびR2、Z、およびXは上記と同義)で
表されるN−ハロゲン化ビフェニル誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9119199A JPH10310573A (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | ハロゲン化ビフェニル誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9119199A JPH10310573A (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | ハロゲン化ビフェニル誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10310573A true JPH10310573A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=14755384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9119199A Pending JPH10310573A (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | ハロゲン化ビフェニル誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10310573A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000302756A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-10-31 | Mitsui Chemicals Inc | アミン化合物 |
| KR20020096025A (ko) * | 2002-09-30 | 2002-12-28 | 건설화학공업(주) | 알데하이드와 하이디로퀴놀린을 갖는 바이페닐 유도체와이를 발색재료로서 채용하고 있는 유기전기 발광소자 |
| JP2013516408A (ja) * | 2009-12-30 | 2013-05-13 | ドゥーサン コーポレイション | トリフェニレン系化合物及びこれを含む有機電界発光素子 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1059943A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ベンゾアゼピン構造を有する芳香族三級アミン化合物 |
| JPH10312073A (ja) * | 1997-02-27 | 1998-11-24 | Xerox Corp | Elデバイス、光導電性画像形成部材、及びスターバースト芳香族アミン化合物の製造方法 |
-
1997
- 1997-05-09 JP JP9119199A patent/JPH10310573A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1059943A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ベンゾアゼピン構造を有する芳香族三級アミン化合物 |
| JPH10312073A (ja) * | 1997-02-27 | 1998-11-24 | Xerox Corp | Elデバイス、光導電性画像形成部材、及びスターバースト芳香族アミン化合物の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000302756A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-10-31 | Mitsui Chemicals Inc | アミン化合物 |
| KR20020096025A (ko) * | 2002-09-30 | 2002-12-28 | 건설화학공업(주) | 알데하이드와 하이디로퀴놀린을 갖는 바이페닐 유도체와이를 발색재료로서 채용하고 있는 유기전기 발광소자 |
| JP2013516408A (ja) * | 2009-12-30 | 2013-05-13 | ドゥーサン コーポレイション | トリフェニレン系化合物及びこれを含む有機電界発光素子 |
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