JPH1031216A - 反射型ゲストホスト液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 垂直配向を利用した安定的なノーマリホワイ
トモードの反射型ゲストホスト液晶表示装置を実現す
る。 【解決手段】 反射型ゲストホスト液晶表示装置は所定
の間隙を介して互いに接合した一対の基板１，２と二色
性色素５を含有しこの間隙に保持されたゲストホスト液
晶３とを備えている。上側の基板１には少なくとも対向
電極６が形成されている。下側の基板２には下から順に
少なくとも光反射層８、所定の光学軸を有する四分の一
波長板層９及び画素電極１０が積層されている。一対の
基板１，２の片方又は両方でゲストホスト液晶３に接す
る界面に沿ってゲストホスト液晶３を略垂直に配向する
為の配向層７，１１が形成されている。これらの配向層
７，１１は四分の一波長板層９の光学軸と略４５°の角
度で交差する方向に沿ってラビング処理が施されてお
り、略垂直配向したゲストホスト液晶３に対して交差方
向に所望のプレティルトφを付与する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型ゲストホス
ト液晶表示装置に関する。より詳しくはパネル内に四分
の一波長板層及び光反射層を内蔵した集積偏光変換構造
の反射型ゲストホスト液晶表示装置に関する。さらに詳
しくは、ゲストホスト液晶の配向制御技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】四分の一波長板層及び光反射層をパネル
内に集積形成した反射型ゲストホスト液晶表示装置が開
発されており、例えば特開平６−２２２３５１号公報に
開示されている。図７に示す様に、従来の反射型ゲスト
ホスト液晶表示装置１０１は上下一対の基板１０２及び
１０３を用いて組立てられている。一対の基板１０２及
び１０３は例えばガラス、石英、プラスチック等の絶縁
性基材で構成されている。少なくとも下側の基板１０２
は透明性を有する。一対の基板１０２及び１０３間には
ゲストホスト液晶１０４が保持されている。このゲスト
ホスト液晶１０４はネマティック液晶分子１０４ａを主
成分とし二色性色素１０５を含有したものである。この
二色性色素１０５はその分子の長軸に略平行な遷移双極
子モーメントを有するｐ型色素であり、図示の例では白
黒表示を行なう為に黒色の二色性色素が用いられてい
る。入射側となる上方の基板１０２の内表面１０２ａに
は図示しないがＭＩＭ等の二端子素子又はＴＦＴ等の三
端子素子からなるスイッチング素子と、マトリクス状に
配列した画素電極１０６とが形成されている。スイッチ
ング素子と画素電極１０６とが形成された上側の基板１
０２の内表面１０２ａにはさらにポリイミド樹脂等から
なる配向層１０７が形成されている。この配向層１０７
の表面はラビング処理を施されており、液晶分子１０４
ａをラビング方向に沿って水平配向（ホモジニアス配
向）している。一方、下側の基板１０３の内表面１０３
ａには光反射層１０８と四分の一波長板層１０９とがこ
の順に形成される。又、四分の一波長板層１０９の表面
には対向電極１１０と配向層１１１とがこの順に形成さ
れている。配向層１１１は対面する配向層１０７と同様
にポリイミド樹脂等からなりその表面はラビング処理が
施されている。電圧無印加状態では液晶分子１０４ａは
水平配向しており、これに合わせて二色性色素１０５も
水平配向している。この水平配向状態では表示装置は黒
色を呈する。画素電極１０６と対向電極１１０との間に
電圧を印加すると液晶分子１０４ａが立上り、これに応
じて、二色性色素１０５も立上る。所謂垂直配向（ホメ
オトロピック配向）状態となり、表示装置は白色を呈す
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】以上の様に、従来の反
射型ゲストホスト液晶表示装置では印加電圧をオン／オ
フする事で画素毎に白黒表示を切換えている。電圧無印
加では黒表示となり電圧印加では白表示となり、所謂ノ
ーマリブラックモードである。これとは逆に電圧無印加
で白表示となり電圧印加で黒表示となる場合はノーマリ
ホワイトモードと呼ばれる。ノーマリホワイトモードは
ノーマリブラックモードに比べ駆動特性や表示品位の観
点から有利な場合がある。しかしながら、ノーマリホワ
イトモードを得る為には従来困難とされていたゲストホ
スト液晶の垂直配向を精密且つ安定的に制御する必要が
ある。本発明はゲストホスト液晶に対する配向制御を改
善して高品位のノーマリホワイトモードの反射型ゲスト
ホスト液晶表示装置を提供する事を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上述した本発明の目的を
達成する為に以下の手段を講じた。即ち本発明にかかる
反射型ゲストホスト液晶表示装置は基本的な構成とし
て、所定の間隙を介して互いに接合した一対の基板と、
二色性色素を含有し該間隙に保持されたゲストホスト液
晶とを備えている。一方の基板に少なくとも対向電極が
形成されている。他方の基板には下から順に少なくとも
光反射層、所定の光学軸を有する四分の一波長板層及び
画素電極が積層されている。本発明の特徴事項として、
一対の基板の片方又は両方で該ゲストホスト液晶に接す
る界面に沿って該ゲストホスト液晶を略垂直に配向させ
る為の配向層が形成されている。そして、前記配向層は
該四分の一波長板層の光学軸と略４５°の角度で交差す
る方向に沿ってラビング処理が施されており、略垂直配
向した該ゲストホスト液晶に対して該交差方向に所望の
プレティルトを付与する。

【０００５】好ましくは、前記配向層はプレティルトの
角度が４５°以下となる様にラビング処理されている。
又、前記配向層はポリイミドを含有した溶剤を塗工した
ポリイミド膜からなる。この場合、前記四分の一波長板
層は該溶剤に対して耐性を有し且つ該光学軸に沿って配
向した高分子液晶膜からなる。又好ましくは、前記ゲス
トホスト液晶を保持する間隙の寸法が２μｍないし１０
μｍの範囲に設定されている。この場合、前記他方の基
板に形成された光反射層は実質的に鏡面を有し、前記一
方の基板には光散乱層が形成されている。

【０００６】本発明によれば、四分の一波長板層及び光
反射層をパネル内に集積した反射型ゲストホスト液晶表
示装置において、上下の基板間に保持されたゲストホス
ト液晶を基本的に垂直配向に制御している。そして、四
分の一波長板層の光学軸と略４５°の角度で交差する方
向に沿ってゲストホスト液晶に対し所望のプレティルト
を付与している。この様に、基本的に垂直配向とした上
で、所定の方向にプレティルトを付与する事により、電
圧無印加／電圧印加を切換える際液晶分子の整列方向を
安定化させる事ができ、実用的な画素品位を有するノー
マリホワイトモードの反射型ゲストホスト液晶表示装置
を実現するものである。なお、所望のプレティルトを付
与する為には上下一対の基板の内表面の両方に対して配
向層を形成し且つラビング処理を施こす事が好ましい。
但し、片側の基板に対してのみ配向層を形成し且つラビ
ング処理を施してもある程度の表示品位が期待できる。
仮に、プレティルトを付与しないと電圧を印加した瞬間
に垂直方向から水平方向に倒れる液晶分子の方位が十分
規制されない。この為コントラストが低い微細な領域
（ドメイン）が無数に表われる事になる。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の最良
な実施形態を詳細に説明する。図１は本発明にかかる反
射型ゲストホスト液晶表示装置の構造を示す断面図であ
る。図示する様に、本表示装置は所定の間隙を介して互
いに接合した上下一対の基板１，２を用いて組立てられ
ている。上側の基板１は入射側に位置し透明である一
方、下側の基板２は反射側に位置し必ずしも透明基材を
用いる必要はない。一対の基板１，２の間隙にはゲスト
ホスト液晶３が保持されている。このゲストホスト液晶
３はネマティック液晶分子４を主成分とし、二色性色素
５を含有したものである。上側の基板１の内表面には対
向電極６と配向層７が形成されている。下側の基板２に
は下から順に少なくとも光反射層８、所定の光学軸を有
する四分の一波長板層９及び画素電極１０が積層されて
いる。さらに本実施形態ではゲストホスト液晶３に接す
る界面に沿って配向層１１が形成されている。即ち一対
の基板１及び２の両方でゲストホスト液晶３に接する界
面に沿って配向層７及び１１が形成されており、ゲスト
ホスト液晶３を略垂直に配向している。即ち、基板の水
平面と液晶分子４の長軸とのなす角度θは略９０°に近
い。なお、本発明はこれに限られるものではなく一対の
基板１及び２の少なくとも一方に配向層を形成すればよ
い。但し、実用的には両方の基板１及び２に配向層を形
成する事が好ましい。これらの配向層７及び１１は四分
の一波長板層９の光学軸と略４５°の角度で交差する方
向に沿ってラビング処理が施されている。この結果、略
垂直配向したゲストホスト液晶３の液晶分子４に対して
上述した交差方向（ラビング方向）に所望のプレティル
トを付与している。即ち、基板の垂線と液晶分子４の長
軸とのなす角φがプレティルトであり、本発明では好ま
しくはこのプレティルト角φが４５°以下となる様に上
下の配向層７及び１１がラビング処理されている。この
配向層７及び１１は例えばポリイミドを含有した溶剤を
塗工したポリイミド膜からなる。一方、四分の一波長板
層９は溶剤に対して耐性を有し且つ光学軸に沿って配向
した高分子液晶膜からなる。この様に、耐溶剤性に優れ
た高分子液晶の材料を選択する事により、垂直配向性に
優れたポリイミド膜を配向層として使用する事が可能に
なる。又、このポリイミド膜をラビングする事により所
望のプレティルトを液晶分子４に付与する事ができる。
なお、本発明は配向層としてポリイミド膜に限られるも
のではなく、場合によっては垂直配向を付与可能なシラ
ンカップリング剤を用いる事ができる。なお耐溶剤性に
優れた高分子液晶としては、例えばビフェニルベンゾア
ートをペンダントとして持つ側鎖型液晶性高分子が挙げ
られる。あるいは、この側鎖型液晶性高分子にビフェニ
ルベンゾアートに加えメトキシフェニルをペンダントと
して導入した構造も耐溶剤性に優れている。

【０００８】本反射型ゲストホスト液晶表示装置はアク
ティブマトリクス型であり、下側の基板２には画素電極
１０のスイッチング駆動用に薄膜トランジスタ１２が形
成されている。この薄膜トランジスタ１２はボトムゲー
ト構造を有し、下から順にゲート電極１３、ゲート絶縁
膜１４、半導体薄膜１５、ストッパ１６を積層したもの
である。薄膜トランジスタ１２は層間絶縁膜１７により
被覆されており、薄膜トランジスタ１２に連通するコン
タクトホールが開口している。この層間絶縁膜１７の上
にはソース電極１８及びドレイン電極１９がパタニング
形成されており、上述したコンタクトホールを介して薄
膜トランジスタ１２に電気接続している。さらに、本実
施形態では、層間絶縁膜１７の上に形成された光反射層
８が光散乱タイプである。即ち、この光反射層８は凹凸
が形成された樹脂膜８ａとその表面に成膜されたアルミ
ニウム等の金属膜８ｂとからなる。樹脂膜８ａはフォト
リソグラフィーにより凹凸がパタニングされた感光性樹
脂膜である。この感光性樹脂膜８ａは例えばフォトレジ
ストからなり、層間絶縁膜１７の表面に全面的に塗布さ
れる。これを所定のマスクを介して露光処理し例えば円
柱状にパタニング形成する。次いで加熱してリフローを
施せば凹凸形状が安定的に形成できる。この様にして形
成された凹凸形状の表面に所望の膜厚で良好な光反射率
を有するアルミニウム等の金属膜８ｂを形成する。凹凸
の深さ寸法を数μｍに設定すれば、良好な光散乱特性が
得られ、光反射層８は白色を呈する。なお、本実施形態
では金属膜８ｂはドレイン電極１９と同時にパタニング
加工されこれと同電位に保持される。

【０００９】薄膜トランジスタ１２及び光反射層８の凹
凸を埋める様に平坦化層２０が形成されている。この平
坦化層２０はアクリル樹脂等透明な有機物を用いる事が
望ましい。平坦化層２０の表面に下地配向層２１が成膜
されている。この下地配向層２１は所定の方向に沿って
ラビング処理されている。四分の一波長板層９を構成す
る高分子液晶膜はこのラビング方向に沿って一軸配向す
る。従って、このラビング方向が四分の一波長板層９の
光学軸を規定する事になる。この様に、平坦化層２０を
介在させる事で下地配向層２１の成膜及びラビング処理
が安定に行なえる。この結果、四分の一波長板層９が精
度よく形成できる。

【００１０】四分の一波長板層９、下地配向層２１及び
平坦化層２０を貫通してコンタクトホール２２が形成さ
れている。このコンタクトホール２２は薄膜トランジス
タ１２のドレイン電極１９に連通している。前述した画
素電極１０は四分の一波長板層９の上にパタニング形成
されており、コンタクトホール２２を介してドレイン電
極１９に電気接続している。図１に示した状態は画素電
極１０に電圧が印加されておらずゲストホスト液晶３は
略垂直配向（ホメオトロピック配向）している。従っ
て、このオフ状態では表示装置は白色を呈し、所謂ノー
マリホワイトモードである。

【００１１】図２は薄膜トランジスタ１２を介して画素
電極１０に電圧を印加した状態を表わしている。このオ
ン状態では液晶分子４が垂直方向から水平方向に倒れ略
水平配向（ホモジニアス配向）している。この結果、本
表示装置は黒表示となる。アクティブマトリクス型の表
示装置では白／黒の切換えは画素単位で行なう事ができ
る。

【００１２】図３は配向層のラビング方向と四分の一波
長板層の光学軸との関係を示す模式図である。図示する
様に、四分の一波長板層９の光学軸９ａは下地配向層の
ラビング方向に沿って一定方位に規定されている。これ
に対し、上側の基板１に形成された配向層７のラビング
方向７ａは光学軸９ａに対して４５°の角度で交差して
いる。同様に、下側の基板２に形成された配向層１１の
ラビング方向１１ａも光学軸９ａに対して４５°の角度
で交差している。なお、ラビング方向７ａと１１ａは互
いに反対である。かかるラビング処理により、略垂直配
向したゲストホスト液晶３の液晶分子４に対して光学軸
９ａと４５°の交差方向（ラビング方向）に所望のプレ
ティルト（図１のφ）を付与する事ができる。このプレ
ティルトにより、電圧印加状態では全ての液晶分子４が
光学軸９ａと４５°の角度をなす交差方向に倒れ込む事
になり、一様な黒表示状態が得られる。

【００１３】引続き図１〜図３を参照して、本発明にか
かる反射型ゲストホスト液晶表示装置の動作を詳細に説
明する。前述した様に、ゲストホスト液晶３は印加電圧
に応じて黒状態（吸収状態）と白状態（等価状態）に変
化する。図２は電圧印加に応じた吸収状態を表わしてい
る。図示する様に、この吸収状態ではネマティック液晶
分子４は水平配向しており、これに応じて二色性色素５
も水平配向している。本発明では電圧印加で図示の吸収
状態を実現している。この為、ネマティック液晶分子４
は負の誘電異方性を有するものを用いる。この吸収状態
ではゲストホスト液晶３は入射光に含まれる第１振動成
分Ｘを略吸収する一方、これと直交する第２振動成分Ｙ
を略透過する。この際、四分の一波長板層９は図３に示
した様にその光学軸９ａが吸収状態にあるゲストホスト
液晶３の水平配向方向と４５°の角度で交差している。
吸収状態を透過した第２振動成分Ｙ（直線偏光成分）の
振動方向はこのゲストホスト液晶３の水平配向方向と直
交している。又、この第２振動成分Ｙは四分の一波長板
層９の光学軸９ａと４５°の角度で交差している。第２
振動成分Ｙ（直線偏光）は四分の一波長板層９を通過す
ると円偏光に変換される。この円偏光は光反射層８で反
射された後再び四分の一波長板層９に入射すると、元の
第２振動成分Ｙと直交する直線偏光（第１振動成分Ｘ）
に変換される。この様にして変換された第１振動成分Ｘ
は吸収状態にあるゲストホスト液晶３により吸収される
事になる。

【００１４】これに対し図１はゲストホスト液晶３の透
過状態を表わしており、ネマティック液晶分子４は略垂
直配向している。これに合わせて二色性色素５も垂直配
向している。従って、第１振動成分Ｘ及び第２振動成分
Ｙともにゲストホスト液晶３を略全面的に透過する。反
射光は第１振動成分と第２振動成分が互いに入れ換わる
だけであり、何ら光変調を受けない。本発明では、前述
した様に電圧無印加でネマティック液晶分子４の垂直配
向を実現している。即ち、配向層７及び１１の材料等を
適宜選択する事により、ネマティック液晶分子４を垂直
配向（ホメオトロピック配向）する事ができる。この場
合には、誘電異方性が負のネマティック液晶分子４を用
い、電圧印加に応じて水平配向に切換える。この時、水
平配向方向を一定とする為、本発明では垂直配向状態で
予めネマティック液晶分子４に所定のプレティルトφを
付けておく。この場合、プレティルトを持った液晶分子
４の余弦方向に対して４５°の角度を持つ様に、四分の
一波長板層９の光学軸が設定されていることは前述した
通りである。

【００１５】以上の動作説明をまとめると以下の様にな
る。図２に示した水平配向状態で、外部から光が入射し
た場合を考える。先ず、入射光は互いに直交する偏光成
分である第１振動成分Ｘと第２振動成分Ｙに別けて考え
る事ができる。第１振動成分Ｘは液晶分子４の水平配向
方向と同一である為、同じ方向に配向している二色性色
素５によって吸収される。しかし、第２振動成分Ｙは色
素分子の配向方向と直交している為全く吸収されない。
従って、第２振動成分Ｙはゲストホスト液晶３を通過
し、さらに四分の一波長板層９に進入する。さらに、光
反射層８で反射され、再び四分の一波長板層９を通過す
る。第２振動成分Ｙは四分の一波長板層９を往復で２回
通った事になり、偏光方向が９０°回転する。そうする
と、今度は液晶分子４の配向方向と一致する為光は吸収
される。この様にして入射光に含まれる全ての振動成分
が往路あるいは復路のどちらかで吸収される為、偏光板
なしで偏光板つきの透過型ゲストホスト液晶表示装置並
のコントラストが得られる。一方、図１に示した透過状
態では全ての二色性色素５が略液晶分子４に習って垂直
配向している。従って、入射光に含まれる第１振動成分
Ｘ及び第２振動成分Ｙはそのまま透過し且つ光反射層８
で反射された後出射する。

【００１６】図４は、本発明にかかる反射型ゲストホス
ト液晶表示装置の他の実施形態を示しており、図１に示
した先の実施形態と対応する部分には対応する参照番号
を付して理解を容易にしている。異なる点は、下側の基
板２に形成された光反射層８ｃが実質的に鏡面を有する
一方、上側の基板１には光散乱層が形成されている事で
ある。この光散乱層は上側の基板１に形成されたカラー
フィルタ層２３に一体的に作り込まれている。なお、こ
のカラーフィルタ層２３は個々の画素電極１０に対応し
て例えば赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）毎にセグメント
化して着色されている。この場合、上下一対の基板１及
び２の間隙寸法は２μｍないし１０μｍに設定する事が
好ましい。この間隙寸法は一対の基板１及び２の間に介
在するスペーサの厚みによって決定され、ゲストホスト
液晶３の厚みと一致とする。図４に示した構造では光散
乱層（光拡散層）が上側の基板１にある為、入射光に対
し若干の後方散乱成分が存在し、黒表示時の沈み込みが
小さくなる。この為、間隙寸法を厚めに設定する方がよ
い。これに対し、図１の構造ではこの様な問題はない
が、金属膜８ｂの下地として凹凸を有する樹脂膜８ａを
形成するプロセスを追加する必要が生じる。

【００１７】次に図５を参照して、四分の一波長板層の
形成方法を具体的に説明する。なお、この図では理解を
容易にする為基板５１の表面に四分の一波長板層５３を
形成している。先ず（Ａ）に示す配向工程を行ない、ガ
ラス等の絶縁性基板５１の表面を所定の配向方向に沿っ
て配向処理する。例えば、基板５１の表面にポリイミド
フィルムを下地配向層として成膜した後、配向方向に沿
ってこのポリイミドフィルムをラビングすればよい。場
合によっては基板５１の表面を直にラビングしてもよ
い。次に（Ｂ）に示す成膜工程を行ない、高分子液晶５
２からなる成膜材料を所定の膜厚で基板５１の上に成膜
する。この高分子液晶は所定の転移点を境にして高温側
のネマティック液晶相と低温側のガラス固体相との間を
相転移可能な材料である。例えば、この高分子液晶５２
は室温でガラス状態であり、好ましくは１００℃以上に
転移点を持つ主鎖型もしくは側鎖型である。この高分子
液晶は光学的には可視領域に吸収のない透明物質であ
る。この高分子液晶を有機溶媒（例えばシクロヘキサノ
ンとｎ−ブタノンの混合溶液）に溶解させた後、スピン
コーティングによって基板５１の表面に塗布する。な
お、スピンコーティングに変え、ディッピング又はスク
リーン印刷等を用いて基板５１の表面に塗布してもよ
い。スピンコーティングを行なう場合、溶液の濃度やス
ピン回転数等の条件を適宜設定して、形成される薄膜の
膜厚が可視光領域でλ／４の位相差を生じさせる様にす
る（λは入射光の波長を示す）。最後に（Ｃ）に示す温
度処理工程を行ない、基板５１を一旦転移点以上に加熱
した後、転移点以下の室温まで徐冷し、成膜された高分
子液晶５２を配向方向に整列させて所望の一軸光学軸を
有する四分の一波長板層５３を形成する。例えば、１０
０℃以上の転移点を有し高分子の主鎖又は側鎖に液晶分
子を導入した高分子液晶材料に対して加熱及び徐冷を行
なう。図示する様に、成膜段階では高分子液晶５２に含
まれる液晶分子はランダムな整列状態にあるのに対し、
徐冷後では液晶分子は配向方向に沿って整列し、所望の
一軸光学異方性が得られる。具体的には、高分子液晶５
２を成膜した基板５１を予めネマティック相温度又はイ
ソトロピック相温度に設定されたオーブンに投入して加
熱する。その後徐冷して室温まで戻す。これによってコ
ーティングされた高分子液晶５２が予め配向処理してお
いた基板５１の配向方向に整列する。

【００１８】続いて図６を参照して配向層の形成方法を
説明する。（Ａ）に示す塗工工程を行ない、予め少なく
とも電極７２が形成された基板７１の表面に有機配向剤
７３を塗布する。この塗工工程は例えば回転塗布法もし
くは印刷塗布法によって行なう。なお、この塗工工程に
先立って基板７１は予め洗浄されている。有機配向剤７
３としては例えばポリイミド樹脂を所定の溶媒に溶かし
たものを用いる。次に（Ｂ）に示す乾燥工程を行なう。
即ち、比較的低い温度で基板７１を加熱し、その表面に
塗布された有機配向剤を乾燥して有機配向膜７３ａを形
成する。ここではポリイミド樹脂を溶媒に溶かした有機
配向剤を加熱処理し溶媒を飛ばしている。さらに（Ｃ）
に示すラビング工程を行なう。即ち、有機配向膜７３ａ
を回転ローラ７４に巻付けられたバフ材７５で一定の方
向（矢印で示す）にラビングして液晶分子に対する配向
能を付与する。具体的には、ネマティック液晶分子を略
垂直配向すると共に、ラビング方向に沿って４５°以下
のプレティルトを付与する。なお、有機配向剤はポリイ
ミドに限られるものではなく、垂直配向用のシランカッ
プリング剤を用いてもよい。

【００１９】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、一
対の基板の片方又は両方でゲストホスト液晶に接する界
面に沿ってゲストホスト液晶を略垂直に配向する為の配
向層を形成し、ノーマリホワイトモードの反射型ゲスト
ホスト液晶表示装置を得ている。この配向層は四分の一
波長板層の光学軸と略４５°の角度で交差する方向に沿
ってラビング処理が施こされており、略垂直配向したゲ
ストホスト液晶に対して交差方向に所望のプレティルト
を付与している。これにより電圧の印加をオン／オフし
た場合に安定した液晶分子の応答特性が得られる。この
為、ホメオトロピック配向を利用したノーマリホワイト
モードの反射型ゲストホスト液晶表示装置を高品位化す
る事が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる反射型ゲストホスト液晶表示装
置の基本的な構成を示す断面図である。

【図２】電圧印加状態における反射型ゲストホスト液晶
表示装置の液晶分子配向を示す断面図である。

【図３】四分の一波長板層の光学軸と配向層のラビング
方向との関係を示す模式図である。

【図４】本発明にかかる反射型ゲストホスト液晶表示装
置の他の実施形態を示す部分断面図である。

【図５】四分の一波長板層の形成方法を示す工程図であ
る。

【図６】配向層の形成方法を示す工程図である。

【図７】従来の反射型ゲストホスト液晶表示装置の一例
を示す断面図である。

【符号の説明】

１…基板、２…基板、３…ゲストホスト液晶、４…液晶
分子、５…二色性色素、６…対向電極、７…配向層、８
…光反射層、９…四分の一波長板層、１０…画素電極、
１１…配向層、１２…薄膜トランジスタ、２０…平坦化
層、２１…下地配向層、２２…コンタクトホール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 占部 哲夫 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 宗像 昌樹 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の間隙を介して互いに接合した一対
   の基板と二色性色素を含有し該間隙に保持されたゲスト
   ホスト液晶とを備え、一方の基板には少なくとも対向電
   極が形成されており、他方の基板には下から順に少なく
   とも光反射層、所定の光学軸を有する四分の一波長板層
   及び画素電極が積層されている反射型ゲストホスト液晶
   表示装置であって、 一対の基板の片方又は両方で該ゲストホスト液晶に接す
   る界面に沿って該ゲストホスト液晶を略垂直に配向する
   為の配向層が形成されており、 前記配向層は該四分の一波長板層の光学軸と略４５°の
   角度で交差する方向に沿ってラビング処理が施されてお
   り、略垂直配向した該ゲストホスト液晶に対して該交差
   方向に所望のプレティルトを付与する事を特徴とする反
   射型ゲストホスト液晶表示装置。
2. 【請求項２】 前記配向層はプレティルトの角度が４５
   °以下となる様にラビング処理されている事を特徴とす
   る請求項１記載の反射型ゲストホスト液晶表示装置。
3. 【請求項３】 前記配向層はポリイミドを含有した溶剤
   を塗工したポリイミド膜からなり、前記四分の一波長板
   層は該溶剤に対して耐性を有し且つ該光学軸に沿って配
   向した高分子液晶膜からなる事を特徴とする請求項１記
   載の反射型ゲストホスト液晶表示装置。
4. 【請求項４】 前記ゲストホスト液晶を保持する間隙の
   寸法が２μｍないし１０μｍの範囲に設定されている事
   を特徴とする請求項１記載の反射型ゲストホスト液晶表
   示装置。
5. 【請求項５】 前記他方の基板に形成された光反射層は
   実質的に鏡面を有し、前記一方の基板には光散乱層が形
   成されている事を特徴とする請求項４記載の反射型ゲス
   トホスト液晶表示装置。